具有單獨(dú)構(gòu)圖的各向異性的元件的快速生成的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及允許生產(chǎn)具有單獨(dú)構(gòu)圖的各向異性性能的元件的裝置，其中該圖像在不同元件上發(fā)生變化。根據(jù)本發(fā)明的裝置包括基底用載體和提供具有第一偏振面的空間調(diào)制的配向光的曝光單元，其中該曝光單元含有光源，可電子控制，例如通過(guò)計(jì)算機(jī)控制的空間光調(diào)制器，和投影透鏡。本發(fā)明此外涉及使用這一裝置，快速生產(chǎn)具有單獨(dú)構(gòu)圖的各向異性性能的元件的方法。
【專利說(shuō)明】具有單獨(dú)構(gòu)圖的各向異性的元件的快速生成

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及快速生產(chǎn)具有單獨(dú)構(gòu)圖的各向異性性能的元件的方法與裝置。

【背景技術(shù)】
[0002] 具有構(gòu)圖的各向異性性能的元件例如稱為光學(xué)元件，它包括具有局部不同光軸方 向的含聚合或交聯(lián)的液晶的層。這些層例如通過(guò)施加可交聯(lián)的液晶材料到配向?qū)又隙?備，所述配向?qū)语@示出局部不同的配向方向。液晶材料采用下面的配向?qū)拥木植颗湎蚍较颍?然后交聯(lián)，以固定該取向。
[0003] 可容易地通過(guò)光配向技術(shù)制備具有局部不同配向方向的配向?qū)?，其中?duì)光的偏振 敏感的材料層將暴露于線性偏振光下。通過(guò)改變光的偏振方向，實(shí)現(xiàn)構(gòu)圖的配向以供暴露 于光配向?qū)拥牟煌瑓^(qū)域下。例如，在US7'375'888中，這通過(guò)在隨后的曝光步驟中，通過(guò)不 同的光掩模覆蓋一部分光配向?qū)觼?lái)進(jìn)行。
[0004] 原則上可以采用以上方法，通過(guò)使用具有各自信息的單獨(dú)的光掩模，生產(chǎn)具有單 獨(dú)構(gòu)圖的各向異性性能的元件，例如以上所述的光學(xué)元件。然而，這一方法幾乎不可應(yīng)用到 大體積的生產(chǎn)上。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0005] 本發(fā)明的一個(gè)目的是提供允許生產(chǎn)具有單獨(dú)構(gòu)圖的各向異性性能的元件的裝置， 其中該圖案在元件上可以彼此不同。本發(fā)明的另一目的是提供快速生產(chǎn)這種元件的方法。
[0006] 各向異性可以例如是光吸收，雙折射，導(dǎo)電率，分子取向，其他材料，例如液晶的配 向性能，或者機(jī)械性能，例如彈性模量。在本申請(qǐng)的上下文中，術(shù)語(yǔ)"配向方向"應(yīng)當(dāng)是指各 向異性性能的對(duì)稱軸。
[0007] 在本申請(qǐng)的上下文中，可光配向的材料是對(duì)光的偏振敏感的材料，且當(dāng)暴露于合 適波長(zhǎng)的偏振光下時(shí)，可在其內(nèi)誘導(dǎo)各向異性性能。另外，使用術(shù)語(yǔ)光配向材料是指通過(guò)暴 露于配向光下而已經(jīng)配向的可光配向的材料。
[0008] 在可光配向材料內(nèi)誘導(dǎo)的各向異性可進(jìn)一步轉(zhuǎn)移到與可光配向材料接觸的從屬 材料（slave material)上。結(jié)果，從屬材料也可顯示出各向異性性能?？苫旌蠌膶俨牧吓c 可光配向材料，之后將其暴露于偏振光下或者使之與光配向材料的表面接觸。
[0009] 在本申請(qǐng)的上下文中，〃從屬材料〃應(yīng)當(dāng)是指當(dāng)與光配向材料接觸時(shí)具有建立各 向異性能力的任何材料。光配向材料內(nèi)和從屬材料內(nèi)的各向異性的性質(zhì)可以彼此不同。例 如，從屬材料可顯示出對(duì)于可見(jiàn)光的光吸收的各向異性和因此可充當(dāng)偏振器，而光配向材 料的各向異性可僅僅與分子取向有關(guān)。例如在共聚物內(nèi)也可存在對(duì)配向光不敏感但由于與 光敏部分相互作用導(dǎo)致產(chǎn)生各向異性性能的可光配向的材料的部分，所述光敏部分當(dāng)暴露 于配向光下時(shí)經(jīng)歷光反應(yīng)。這一材料顯示出可光配向的材料和從屬材料的性能，但應(yīng)當(dāng)包 括在可光配向的材料的含義內(nèi)。
[0010] 從屬材料可包括可聚合和/或不可聚合的化合物。在本申請(qǐng)的上下文中，術(shù)語(yǔ)"可 聚合"和"聚合的"應(yīng)當(dāng)分別包括"可交聯(lián)"和"已交聯(lián)"的含義。同樣，"聚合"應(yīng)當(dāng)包括"交 聯(lián)"的含義。
[0011] 優(yōu)選地，從屬材料是自組裝材料。更優(yōu)選的是從屬材料是液晶材料，和尤其優(yōu)選的 是，從屬材料是液晶聚合物材料。
[0012] 在本申請(qǐng)的上下文中使用的液晶聚合物（LCP)材料應(yīng)當(dāng)是指液晶材料，它包括液 晶單體和/或液晶低聚物和/或液晶聚合物和/或已交聯(lián)的液晶。在液晶材料包括液晶 單體的情況下，可聚合這些單體，典型地在由于與光配向材料接觸導(dǎo)致LCP材料內(nèi)產(chǎn)生各 向異性之后?？赏ㄟ^(guò)熱處理或者通過(guò)暴露于光化光（它優(yōu)選包括UV-光）下，引發(fā)聚合。 LCP-材料可由單一類型的液晶化合物組成，但也可以是不同的可聚合和/或不可聚合化合 物的組合物，其中并非所有化合物必須是液晶化合物。進(jìn)一步地，LCP材料可含有添加劑， 例如光引發(fā)劑或各向同性或各向異性熒光和/或非熒光染料。
[0013] 在本申請(qǐng)的上下文中，含可光配向的材料的層也稱為光控制的分子取向（LCMO) 層，不管它是否已經(jīng)暴露于偏振光下與否。因此，在本文中使用的LCMO層可不具有各向異 性性能，只要它沒(méi)有暴露于偏振光下，且在暴露于偏振光下之后具有各向異性性能即可。典 型地，LCMO層可以是施加到基底上的薄層。也可能的是LCMO層是厚的且足夠機(jī)械穩(wěn)定，使 得它可在沒(méi)有額外基底的情況下可被操控。在后一情況下，LCMO層還具有基底的功能。
[0014] 在本申請(qǐng)的上下文中，術(shù)語(yǔ)〃配向光〃應(yīng)當(dāng)是指可在可光配向的材料內(nèi)誘導(dǎo)各向 異性且至少部分線性或橢圓偏振的光。優(yōu)選地，配向光是偏振度大于5:1的線性偏振光。配 向光的波長(zhǎng)、強(qiáng)度和能量隨可光配向的材料的光敏度而選擇。典型地，波長(zhǎng)在UV-A，UV-B和 /或UV-C范圍內(nèi)或者在可見(jiàn)光范圍內(nèi)。優(yōu)選地，配向光包括波長(zhǎng)小于450nm的光。更優(yōu)選 配向光包括波長(zhǎng)小于420nm的光。
[0015] 若配向光線性偏振，則配向光的偏振面應(yīng)當(dāng)是指由配向光的傳播方向和偏振方向 確定的平面。在配向光橢圓偏振的情況下，偏振面應(yīng)當(dāng)是指由光的傳播方向和由偏振橢圓 的主軸確定的平面。
[0016] 根據(jù)本發(fā)明的第一方面，提供生產(chǎn)具有單獨(dú)地構(gòu)圖的各向異性性能的元件用裝 置，該裝置包括：
[0017] -基底用載體和
[0018] -提供具有第一偏振面的空間調(diào)制的配向光的曝光單元，其中該曝光單元含有
[0019] -光源
[0020] -空間光調(diào)制器，它可通過(guò)電子，例如通過(guò)計(jì)算機(jī)控制和
[0021] -投影透鏡（projection lens)。
[0022] 這一裝置允許按序提供空間調(diào)制的配向光用不同圖案以供輻照LCMO層，以便在 沒(méi)有使用光掩模的情況下生成構(gòu)圖的各向異性。由于空間光調(diào)制器可通過(guò)電子控制，因此 可能的是快速提供空間調(diào)制的配向光的不同圖案，從而使得快速且自動(dòng)生成具有單獨(dú)構(gòu)圖 的信息的元件變得可行。
[0023] 優(yōu)選地，基底用載體可或者逐步或者連續(xù)或者用這兩種方式移動(dòng)基底?？衫玑?對(duì)單片基底設(shè)計(jì)載體以供間歇加工，或者它可傳輸撓性基底以供連續(xù)加工，例如卷到卷地 (from reel to reel)加工。連續(xù)加工的裝置可配有緩沖器系統(tǒng)，所述緩沖器系統(tǒng)允許在曝 光單元的位置處局部終止移動(dòng)基底，而基底仍然在裝置的其他部分內(nèi)移動(dòng)。
[0024] 在本申請(qǐng)的上下文中所使用的術(shù)語(yǔ)基底平面（substrate plane)應(yīng)當(dāng)是指在其中 它暴露于曝光單元中空間調(diào)制的配向光下的位置處，引入到基底頂表面內(nèi)的平面。當(dāng)基底 不是裝置的一部分時(shí)，該基底平面是對(duì)于當(dāng)要輻照期望的基底時(shí)的情形而言的假想平面。
[0025] 在本申請(qǐng)的上下文中，光的空間調(diào)制是指光強(qiáng)度的調(diào)制。
[0026] 可使用任何種類的空間光調(diào)制器（SLM)，空間調(diào)制配向光。優(yōu)選地，SLM是透射 式液晶顯示器（IXD)或反射式IXD，例如在硅上的液晶（LC0S-)顯示器，數(shù)字鏡像器件 (digital mirror device) (DMD)或有機(jī)發(fā)光二極管（OLED)顯示器。
[0027] 本申請(qǐng)中所使用的SLM應(yīng)當(dāng)包括生成空間調(diào)制的光要求的任何光學(xué)或電子構(gòu)件 (means)。例如，若使用IXD或LCOS-顯示器作為SLM，則SLM還包括合適的偏振器以供入射 光偏振并分別分析透射或反射的光，以便生成所需強(qiáng)度的調(diào)制。
[0028] 術(shù)語(yǔ)"SLM-光〃應(yīng)當(dāng)是指通過(guò)SLM空間調(diào)制過(guò)且沿著所需的投影方向傳播的光。 換句話說(shuō)，SLM-光包括僅僅輻照可光配向的材料所需的光。例如，從DMD的微鏡偏轉(zhuǎn)到吸 收器上的光不包括在"SLM-光〃的含義內(nèi)。
[0029] 可在光源和待輻照的基底位置之間的光路上的任何點(diǎn)處進(jìn)行光的偏振。偏振或者 改變光的偏振狀態(tài)的構(gòu)件可以位于光源和空間光調(diào)制器之間和/或空間光調(diào)制器和基底 之間的任何地方。還可能的是光源發(fā)射偏振光。
[0030] 原則上，可使用提供所需波長(zhǎng)范圍內(nèi)的光的任何類型的光源，只要光源的物理尺 寸使得它們與曝光單元的光學(xué)系統(tǒng)相容即可。優(yōu)選地，光源是高壓或超高壓汞燈或發(fā)光二 極管（LED)?？臻g光調(diào)制器可以自發(fā)射且可基于有機(jī)發(fā)光二極管（OLED)。在這一情況下， 光源被視為空間光調(diào)制器的一部分。優(yōu)選地，光源發(fā)射波長(zhǎng)小于450nm的光。更優(yōu)選的是 光源發(fā)射波長(zhǎng)范圍為350nm-420nm的光。
[0031] 優(yōu)選地，SLM具有可尋址（addressable)單元的矩陣，例如在商業(yè)數(shù)字顯示器或投 影儀中使用的那些。這些單元通常稱為像素。然而，根據(jù)本發(fā)明的SLM應(yīng)當(dāng)不限于矩陣類 型的SLMs，但SLM可包括可尋址單元的任何形狀和排列。在本申請(qǐng)的上下文中，共同地使用 術(shù)語(yǔ)〃像素〃指代這些可尋址單元，而與它們的形狀或排列無(wú)關(guān)。
[0032] 在本申請(qǐng)的上下文中，術(shù)語(yǔ)"SLM曝光單元〃應(yīng)當(dāng)是指可提供空間調(diào)制的配向光且 含有光源，投影透鏡和空間光調(diào)制器的曝光單元。
[0033] SLM曝光單元不應(yīng)當(dāng)限于其中諸如光源，SLM，投影透鏡和偏振構(gòu)件之類的組件位 于共同的外殼內(nèi)的構(gòu)造。這些組件可物理地分離，但其排列使得它們一起提供SLM曝光單 元的功能，而不是位于共同的外殼內(nèi)。例如，提供配向光偏振的偏振器應(yīng)當(dāng)被視為SLM曝光 單兀的一部分，即使光源和SLM排列在一個(gè)外殼內(nèi)，和偏振器在該外殼的外側(cè)，且例如靠近 基底平面定位。
[0034] 在優(yōu)選的實(shí)施方案中，該裝置包括提供具有第二偏振面的配向光用構(gòu)件。可通過(guò) 額外的偏振光源（它也可以是SLM曝光單元），提供具有第二偏振面的配向光，和/或SLM 曝光單元可提供具有第一和具有第二偏振面的配向光。
[0035] 根據(jù)本發(fā)明的裝置可進(jìn)一步包括施加LCMO-層和/或從屬材料（它優(yōu)選是LCP-材 料）層的涂布或印刷單元。理想地，該裝置包括兩個(gè)涂布或印刷單元，其中一個(gè)用于施加 LCMO-層和另一個(gè)用于施加從屬材料（它優(yōu)選是LCP-材料）。
[0036] 根據(jù)本發(fā)明的裝置可進(jìn)一步包括基底操控系統(tǒng)，它拾起（pick up)并運(yùn)輸基底到 不同的加工段。
[0037] 優(yōu)選地，根據(jù)本發(fā)明的裝置包括增加基底溫度和在其頂部上的涂層的加熱段。
[0038] 該裝置可進(jìn)一步含有光源，光源提供光化光以供例如在從屬材料內(nèi)引發(fā)聚合反 應(yīng)。
[0039] 根據(jù)本發(fā)明的第二方面，提供快速生產(chǎn)具有單獨(dú)構(gòu)圖的各向異性性能的光學(xué)元件 的方法，該方法包括：
[0040] -提供LCMO層，和
[0041] -將該LCMO層暴露于SLM曝光單元中的空間調(diào)制的配向光下，其中通過(guò)電子控制 的空間光調(diào)制器生成光的空間調(diào)制。
[0042] 優(yōu)選地，可光配向的材料對(duì)300_450nm波長(zhǎng)范圍內(nèi)的光敏感，更優(yōu)選它對(duì) 350-420nm波長(zhǎng)范圍內(nèi)和最優(yōu)選范圍為380-410nm的光敏感。
[0043] 在本發(fā)明的優(yōu)選方法中，LCMO層包括從屬材料，其中通過(guò)與可光配向的材料接觸， 可產(chǎn)生各向異性。優(yōu)選地，從屬材料是LCP材料。在暴露于配向光之中和/或之后，加熱 LCMO層有助于在從屬材料內(nèi)產(chǎn)生各向異性。任選地，該方法還包括在從屬材料內(nèi)通過(guò)熱處 理或者暴露于光化光下，引發(fā)聚合的步驟。
[0044] 在本發(fā)明的另一優(yōu)選方法中，施加從屬材料到輻照過(guò)的LCMO層的頂部。優(yōu)選地， 從屬材料是LCP材料。加熱從屬材料層有助于在從屬材料內(nèi)產(chǎn)生各向異性。任選地，該方 法還包括在從屬材料內(nèi)通過(guò)熱處理或者暴露于光化光下，引發(fā)聚合的步驟。
[0045] 若轉(zhuǎn)換SLM中的所有像素使得相應(yīng)的SLM-光具有針對(duì)每一像素最大的強(qiáng)度，則投 影到基底表面上的配向光的強(qiáng)度的空間分布可能不均勻。這例如可通過(guò)光源或者投影光學(xué) 系統(tǒng)的幾何形狀引起。為了使強(qiáng)度分布均勻，與最大發(fā)射相比，來(lái)自SLM的每一像素的發(fā)射 可能下降。為了補(bǔ)償不均勻度，通過(guò)尋址SLM，由光學(xué)裝置和空間調(diào)制光引起的空間強(qiáng)度變 化不應(yīng)當(dāng)被視為在本發(fā)明意義上光的調(diào)制。因此，對(duì)于每一像素來(lái)說(shuō)，定義了接通狀態(tài)和斷 開(kāi)狀態(tài)，這分別對(duì)應(yīng)于在操作中使用的最高和最低強(qiáng)度水平。因此，接通狀態(tài)應(yīng)當(dāng)定義為 100%的光強(qiáng)度，盡管它沒(méi)有對(duì)應(yīng)于例如由于校正導(dǎo)致的最大可能的光強(qiáng)度。
[0046] 在本申請(qǐng)的上下文中，措辭〃投影面積（project ion area) 〃應(yīng)當(dāng)是指在SLM曝 光單元的焦平面內(nèi)照亮的區(qū)域，當(dāng)SLM的所有像素被尋址處于接通狀態(tài)下時(shí)。

【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0047] 通過(guò)附圖，進(jìn)一步闡述本發(fā)明。要強(qiáng)調(diào)，各種特征不必然按照比例畫(huà)出。
[0048] 圖Ia顯示出處于斷開(kāi)狀態(tài)下的具有像素的SLM。
[0049] 圖Ib顯示出處于接通狀態(tài)和處于斷開(kāi)狀態(tài)下的具有像素的SLM。
[0050] 圖2a示出了具有IXD作為SLM的SLM曝光單元。
[0051] 圖2b示出了具有DMD作為SLM的SLM曝光單元。
[0052] 圖2c示出了具有IXD作為SLM和具有額外的偏振面的提供配向光的元件的SLM 曝光單元。
[0053] 圖3是根據(jù)本發(fā)明的裝置，其中載體可沿著一個(gè)方向移動(dòng)。
[0054] 圖4示出了對(duì)于自動(dòng)的盒到盒生產(chǎn)（cassette to cassette production)來(lái)說(shuō)， 具有機(jī)械手的裝置。
[0055] 圖5示出了對(duì)于卷到卷的生產(chǎn)（reel to reel production)來(lái)說(shuō)，根據(jù)本發(fā)明的 裝直。
[0056] 圖6示出了另外配有涂布單元的卷到卷的生產(chǎn)裝置。
[0057] 圖7示出了另外配有凈化單元的卷到卷的生產(chǎn)裝置。
[0058] 圖8示出了生成移動(dòng)圖像效果的例舉圖案。

【具體實(shí)施方式】
[0059] 根據(jù)本發(fā)明的方法與裝置允許通過(guò)在LCMO層的表面上投影空間調(diào)制的配向光， 快速生成具有單獨(dú)構(gòu)圖的各向異性性能的元件。
[0060] 根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，提供配有基底用載體，曝光單元的裝置，所述曝光單元包 括空間光調(diào)制器用以提供具有第一偏振面的空間調(diào)制的配向光。該曝光單元包括光源，投 影透鏡，和可通過(guò)電子，例如通過(guò)計(jì)算機(jī)控制的空間光調(diào)制器。
[0061] 在本申請(qǐng)的上下文中基底用載體可以是任何機(jī)械部件，它可攜帶，操控或運(yùn)輸基 底。例如，它可以是簡(jiǎn)單的基底保持器，在所述基底保持器上可放置一個(gè)或更多個(gè)基底，為 的是在間歇工藝中，將基底暴露于SLM曝光單元中的空間調(diào)制的配向光下。該載體也可以 是可移動(dòng)的基底保持器，所述可移動(dòng)的基底保持器可移動(dòng)到該裝置的不同加工段中。載體 的高級(jí)版本，例如機(jī)械手可另外拾起基底且可移動(dòng)基底到不同的加工段，優(yōu)選電子控制，例 如通過(guò)計(jì)算機(jī)控制。術(shù)語(yǔ)載體還包括基底運(yùn)輸系統(tǒng)，例如連續(xù)生產(chǎn)裝置的卷，例如在卷到卷 的生產(chǎn)設(shè)備中。
[0062] 圖1示出了具有以矩陣排列的像素2的SLM1。在圖Ia中的像素處于斷開(kāi)狀態(tài)，這 意味著相應(yīng)的SLM光強(qiáng)度最低和相應(yīng)地所有像素用黑色描繪。
[0063] 在圖Ib中，SLMl的像素2被尋址，以顯示黑白格圖像，其中像素3轉(zhuǎn)換成接通狀 態(tài)，和像素4處于斷開(kāi)狀態(tài)。
[0064] 一般地，像素可具有任何形式，且不必須在矩陣內(nèi)排列。圖Ia和Ib中的SLM代表 任何類型的SLM。它可例如是透射式或反射式IXD，例如在硅上的液晶（LC0S-)顯示器，DMD 或OLED顯示器。為了簡(jiǎn)單起見(jiàn)，僅僅示出了 SLM中的像素，和沒(méi)有示出SLM中的其他部分， 例如電路或偏振元件，在LCD-SLMs情況下后者是要求的，以便提供偏振光并將偏振狀態(tài)的 空間變化轉(zhuǎn)化成光強(qiáng)度的空間變化。
[0065] 為了使從光源中發(fā)射的光產(chǎn)生偏振，可使用適合于所需波長(zhǎng)范圍的任何類型的偏 振器，例如線柵偏振器，棱鏡偏振器，Brewster型偏振器，多層干涉偏振器或吸收偏振器，例 如染料型或碘基偏振層板。光源本身可發(fā)射偏振光，使得取決于SLM的類型，可能不要求額 外的偏振器。
[0066] 圖2a示出了 SLM曝光單元10的第一實(shí)例，它包括光源11，透射式IXD作為SLM12 和投影透鏡13。操作IXD作為SLM所要求的偏振元件被認(rèn)為是SLM的一部分且沒(méi)有顯示。 盡管被視為SLM的一部分，但偏振元件不一定與IXD物理接觸。IXD的入口偏振片（entrance polarizer)可以在光源11和IXD 12之間的任何地方，但也可層壓到IXD上。還可能的是， 替代單獨(dú)的偏振器，光源發(fā)射偏振光。出口偏振片可以在LCD和SLM曝光單元的焦平面之 間的任何地方。例如，出口偏振片可以連接到LCD上，但它也可在SLM曝光單元的任選外殼 的外側(cè)，甚至靠近待輻照的基底的位置。
[0067] 若反射式IXD用作SLM，則與圖2a中闡述的相比，改變光源的位置，和偏振元件作 為SLM的一部分可以是對(duì)于反射式LCDs，例如偏振光分光鏡來(lái)說(shuō)更加特異的。
[0068] 在IXD用作SLM的情況下，SLM光已經(jīng)被偏振，結(jié)果SLM曝光單元提供具有第一偏 振面的空間調(diào)制的配向光。
[0069] 圖2b示出了 SLM曝光單元20的第二實(shí)例，它包括DMD作為SLM21，光源22,投影 透鏡23和偏振器24。偏振器可以是以上所述的任何類型且可以位于從光源到待暴露于配 向光下的基底的光路上的任何地方。圖2b的SLM曝光單元提供具有第一偏振面的空間調(diào) 制的配向光。
[0070] 在優(yōu)選的實(shí)施方案中，SLM曝光單元可按序提供具有第一和具有第二偏振面的配 向光。更優(yōu)選的是可按序提供具有多個(gè)偏振面的配向光的SLM曝光單元。可通過(guò)可在不同 方向上調(diào)節(jié)的偏振元件，或者通過(guò)可改變偏振光的偏振面的無(wú)源或有源光學(xué)元件，例如無(wú) 源光學(xué)延遲器或IXDs，實(shí)現(xiàn)提供大于一個(gè)偏振面。第一偏振面和第二或進(jìn)一步的偏振面之 間的角度的優(yōu)選范圍是35° -55°和80° -100°，但同樣可使用任何其他角度，這取決于 待生成的所需的配向圖案。優(yōu)選地，可以例如通過(guò)計(jì)算機(jī)自動(dòng)控制提供第二或多個(gè)偏振面 的這一構(gòu)件。這允許自動(dòng)進(jìn)行第一，第二和甚至多次輻照，其中每一次采用不同的偏振面和 配向光的不同的空間調(diào)制圖案，優(yōu)選通過(guò)計(jì)算機(jī)來(lái)控制。
[0071] 對(duì)于提供第二或多個(gè)偏振面的配向光來(lái)說(shuō)，偏振器可以是可移動(dòng)和/或可旋轉(zhuǎn) 的。例如，可存在兩種或更多種偏振器，其中調(diào)節(jié)每一個(gè)以提供不同的偏振方向，或者可使 偏振器移動(dòng)出入待偏振的光的光路。不同的偏振器可以是單獨(dú)的小片或者可一體化成單一 的器件，使得兩個(gè)或更多個(gè)區(qū)域顯示出不同的偏振方向。例如，顯示出具有不同偏振方向的 偏振區(qū)域的撓性基底的末端可被固定在一起，形成無(wú)端回線。可以定位并旋轉(zhuǎn)具有偏振區(qū) 域的這一無(wú)端基底，使得不同的偏振區(qū)域例如周期性移動(dòng)出入光路，以便按序提供具有不 同偏振平面的配向光。與移動(dòng)不同偏振器和/或偏振區(qū)域不同，可在可旋轉(zhuǎn)段上安裝偏振 器。這允許旋轉(zhuǎn)偏振器，按序提供不同的偏振平面。作為一個(gè)實(shí)例，在圖2b中描繪的SLM 曝光單元中的偏振器24可以是可旋轉(zhuǎn)的，以便改變偏振方向。因此，SLM曝光單元20也可 提供具有第二或多個(gè)偏振面的光。優(yōu)選地，移動(dòng)和/或旋轉(zhuǎn)偏振器和/或偏振區(qū)域通過(guò)電 動(dòng)機(jī)驅(qū)動(dòng)。有利地，電動(dòng)機(jī)可通過(guò)電子控制。優(yōu)選地，移動(dòng)和/或旋轉(zhuǎn)偏振器與SLM生成圖 像電子同步。
[0072] 若LCD用作SLM，例如在圖2a中的SLM12,則對(duì)于將空間調(diào)制的偏振狀態(tài)轉(zhuǎn)化成空 間調(diào)制的光強(qiáng)度來(lái)說(shuō)，要求SLM的出口偏振片。當(dāng)然可能的是旋轉(zhuǎn)出口偏振片，以便改變配 向光的偏振面，但這可能負(fù)面影響配向光的空間調(diào)制和/或強(qiáng)度。因此，優(yōu)選的是，相對(duì)于 LCD，固定偏振元件的偏振方向，所述偏振元件就功能來(lái)說(shuō)是SLM的一部分。
[0073] 為了提供具有第二偏振面的光，可在IXD-SLM后，在光路內(nèi)引入額外的偏振器。然 而，由于來(lái)自SLM的光已經(jīng)被偏振，因此，配向光的強(qiáng)度下降，若SLM出口偏振片的偏振方向 和額外的偏振器的偏振方向不一致的話。若額外的偏振器的偏振方向垂直于SLM出口偏振 片的偏振方向，則來(lái)自于SLM的光甚至完全被阻止。根據(jù)本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方案，具有透射 式或反射式LCD作為SLM的SLM曝光單元進(jìn)一步包括消偏振元件和額外的偏振器。本文中 所使用的消偏振元件在與SLM光的傳播方向垂直的平面內(nèi)應(yīng)當(dāng)具有減少或除去偏振各向 異性的功能。消偏振元件可以例如是光學(xué)延遲器，尤其四分之一波延遲器，它將線性偏振光 轉(zhuǎn)化成圓形偏振光，后者在與SLM光的傳播方向垂直的平面內(nèi)不具有偏振各向異性。消偏 振元件的其他實(shí)例是光學(xué)擴(kuò)散器，多晶材料，或隨機(jī)取向的液晶。額外的偏振器在沒(méi)有降低 配向光的強(qiáng)度的情況下，然后可設(shè)定為不同的偏振方向，優(yōu)選通過(guò)電子控制，以便提供如上 所述的具有第二或多個(gè)偏振面的配向光。
[0074] 在圖2c中闡述了一個(gè)實(shí)例，其中SLM曝光單元10中的SLM12是透射式IXD。除了 圖2a的曝光單元以外，圖2c的曝光單元包括消偏振元件15和額外的偏振器14。偏振器 14可設(shè)定為不同方向，以便提供空間調(diào)制的配向光。
[0075] 正如以上已經(jīng)提及的，SLM曝光單元不要求外殼。因此，在圖2a_2c中所示的外殼 不應(yīng)當(dāng)暗含任何限制。
[0076] 根據(jù)本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方案，SLM曝光單兀包括光學(xué)或光電兀件，它可改變偏振光 的偏振面。這一元件可定位在偏振光到待暴露的基底的路徑內(nèi)的任何地方。例如，在圖2a 中的曝光單元內(nèi)，它可位于SLM12之后的光路內(nèi)，和在圖2b中的曝光單元內(nèi)，它可位于偏振 器24之后的光路內(nèi)。因此，可在沒(méi)有設(shè)定偏振元件的偏振方向?yàn)椴煌较虻那闆r下，按序 提供具有第二或多個(gè)偏振面的光。
[0077] 對(duì)于這一目的來(lái)說(shuō)，無(wú)源光學(xué)元件可以例如是光學(xué)延遲器，它是可移動(dòng)和/或可 旋轉(zhuǎn)的。例如，光學(xué)延遲器可移動(dòng)出入偏振光的路徑內(nèi)，以便改變其偏振平面。還可能的是 使用兩個(gè)或更多個(gè)具有不同配向的光軸方向的光學(xué)延遲器，所述光學(xué)延遲器或者可移動(dòng)到 偏振光的路徑之內(nèi)。這一延遲器可以是單獨(dú)的小片或者可以一體化成單一的器件，使得兩 個(gè)或更多個(gè)區(qū)域顯示出具有不同光軸方向的光學(xué)延遲。例如，顯示出具有不同光軸方向的 延遲區(qū)域的撓性基底的末端可被固定在一起，形成無(wú)端回線?？梢远ㄎ徊⑿D(zhuǎn)具有不同延 遲區(qū)域的這一無(wú)端基底，使得不同的延遲區(qū)域例如周期性移動(dòng)出入光路，以便按序提供具 有不同偏振平面的配向光。與移動(dòng)不同延遲器和/或延遲區(qū)域不同，可在可旋轉(zhuǎn)段上安裝 延遲器。這允許旋轉(zhuǎn)延遲器，按序提供不同的偏振平面。優(yōu)選地，移動(dòng)和/或旋轉(zhuǎn)延遲器和 /或延遲區(qū)域通過(guò)電動(dòng)機(jī)驅(qū)動(dòng)。有利地，電動(dòng)機(jī)可通過(guò)電子控制。優(yōu)選地，移動(dòng)和/或旋轉(zhuǎn) 延遲器與SLM生成圖像電子同步。優(yōu)選地，無(wú)源光學(xué)元件包括串聯(lián)的半波延遲器或四分之 二波延遲器，它們優(yōu)選相對(duì)于彼此是可移動(dòng)和/或可旋轉(zhuǎn)的。
[0078] 改變偏振光的偏振面的合適的光電元件例如是不具有偏振器的液晶（LC)單元， 其中通過(guò)施加電壓到液晶單元的電極上，改性液晶的構(gòu)造和/或有效的雙折射。取決于 液晶單元的類型和構(gòu)造，偏振光的偏振狀態(tài)和/或偏振方向二者均通過(guò)穿過(guò)液晶單元而改 變。例如，若液晶單元為扭曲向列型和入射光線性偏振，則穿過(guò)液晶單元的偏振方向沒(méi)有變 化，只要通過(guò)施加電壓到該單元上，液晶轉(zhuǎn)換成垂直構(gòu)造即可。然而，若沒(méi)有施加電壓到液 晶單元上，則液晶形成扭曲構(gòu)造，所述扭曲構(gòu)造使入射的偏振光的偏振方向旋轉(zhuǎn)扭曲角，條 件是該單元滿足波導(dǎo)條件且該單元相對(duì)于入射光的偏振方向合適地配向。類似地，可使用 垂直配向（VA)類型的LC-單元。VA-LC-單元沒(méi)有影響光的偏振狀態(tài)，只要沒(méi)有施加電壓到 該單元上即可。一旦施加電壓到該單元上，則液晶轉(zhuǎn)換成不同的構(gòu)造，使得液晶單元變?yōu)槿?射偏振光的雙折射。若合適地選擇該單元參數(shù)和電壓，則偏振光的偏振面在穿過(guò)該單元時(shí) 會(huì)變化。優(yōu)選地，VA LC-單元充當(dāng)半波延遲器，當(dāng)施加電壓改變光的偏振面時(shí)。
[0079] 可使用其他電子或磁可控的構(gòu)件替代液晶單元，例如使用磁-光學(xué)法拉第效應(yīng)， 以改性光的偏振方向。
[0080] 若光電元件用于改變偏振光的偏振面，則可避免機(jī)械調(diào)節(jié)偏振器或者無(wú)源偏振旋 轉(zhuǎn)元件，例如延遲器，且在不同偏振面之間的轉(zhuǎn)換快速得多。
[0081] 在本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方案中，SLM曝光單元包括DMD作為SLM和兩個(gè)光源，從而提 供SLM照明的光，其中來(lái)自于兩個(gè)光源的光分別在兩個(gè)不同的偏振面內(nèi)偏振，之后它到達(dá) SLM處。對(duì)于該目的來(lái)說(shuō)，光源本身可提供偏振光或者可在光源和SLM之間的光路內(nèi)排列偏 振器。兩個(gè)光源的光可以例如按序照明SLM。施加到SLM上的圖案可以同步地變化，使得曝 光單元可按序提供具有不同圖案和偏振方向的空間調(diào)制的配向光。優(yōu)選地，用于SLM照明 的來(lái)源（origin)在第一和第二光源之間周期性變化，使得在到達(dá)SLM處的光的偏振方向周 期性變化。這可例如通過(guò)交替地阻斷來(lái)自第一和來(lái)自第二光源的光，例如通過(guò)機(jī)械或光電 遮光器來(lái)進(jìn)行。替代交替阻斷來(lái)自兩個(gè)光源的光，可交替，例如周期性地轉(zhuǎn)換光源為接通和 斷開(kāi)狀態(tài)。優(yōu)選地，LEDs用于兩個(gè)光源。
[0082] 在本發(fā)明的另一優(yōu)選實(shí)施方案中，該裝置包括額外的偏振光源，從而提供第二偏 振面配向光。
[0083] 優(yōu)選地，額外的偏振光源也是SLM曝光單元。從兩個(gè)SLM曝光單元中發(fā)射的配向 光的偏振面可以彼此相同或不同。優(yōu)選地，排列SLM曝光單元，使得兩個(gè)曝光單元的投影 (projection)區(qū)域彼此重疊，且可以是相同的。這允許同時(shí)或按序暴露一層在兩個(gè)曝光單 元的配向光下，且沒(méi)有移動(dòng)基底或基底用載體。
[0084] 在本發(fā)明的另一優(yōu)選的實(shí)施方案中，該裝置包括兩個(gè)SLM曝光單元，其中排列它 們中的一個(gè)或二者，使得各自的配向光以斜角投影在基底平面上，以便在LCMO層內(nèi)誘導(dǎo)傾 斜角。優(yōu)選地，這兩個(gè)曝光單元的配向光以斜角投影在基底平面上，且來(lái)自兩個(gè)曝光單元的 配向光的入射面彼此平行或者彼此一致。對(duì)于這一實(shí)施方案來(lái)說(shuō)，優(yōu)選的是斜角與基底平 面的法向?qū)ΨQ。以上使用的入射面應(yīng)當(dāng)是指通過(guò)配向光的平均傳播方向和基底平面的法向 確定的平面。
[0085] 或者在輻照之前，設(shè)定配向光的偏振面到某一角度，偏振面可連續(xù)旋轉(zhuǎn)，同時(shí)配向 光的空間調(diào)制隨著時(shí)間變化。因此，根據(jù)本發(fā)明裝置的SLM曝光單元可包括偏振器14或24 或者能改變配向光的偏振面的光學(xué)元件（它可連續(xù)旋轉(zhuǎn)）。
[0086] 在針對(duì)間歇操作基底而設(shè)計(jì)的裝置中，可例如通過(guò)與基底的某一邊緣平行的線定 義的基底方向可以相對(duì)于配向光的偏振面，調(diào)節(jié)到不同的角度。這將是提供具有第二偏振 面的配向光的替代方案。對(duì)于這一目的來(lái)說(shuō)，優(yōu)選的是，基底用載體是可旋轉(zhuǎn)的。
[0087] 根據(jù)本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方案，該裝置包括一個(gè)或更多個(gè)SLM曝光單元和任選地以 上所述的額外的偏振光源，和施加 LCMO層和/或從屬材料層用的進(jìn)一步的涂層或印刷單 元。理想地，該裝置包括用于涂布和/或印刷的兩個(gè)單元，其中一個(gè)用于施加 LCMO層，另一 個(gè)用于施加從屬材料。原則上，可使用任何類型的涂布或印刷方法，只要它與裝置的尺寸 相配合即可。可用的涂布技術(shù)包括，但不限于，旋涂，刮板涂覆（blade coating),刮刀涂覆 (knife coating)，吻棍涂覆，逆向甜涂，流鑄涂布，口模式涂覆，浸漬，刷涂，棍涂，流涂，注 塑，線涂，噴涂，浸涂，幕涂，氣刀涂覆，逆輥涂覆，凹版式涂覆，狹縫模涂覆，熱熔涂覆，輥涂， 或柔性版涂布?？捎玫挠∷⒓夹g(shù)包括，但不限于，絲網(wǎng)印刷，凸版印刷，膠版印刷，噴墨印刷， 凹版印刷，直接凹版印刷，膠輥凹版印刷，平版印刷，膠印。優(yōu)選的方法是輥涂，狹縫模涂覆， 膠印和噴墨印刷。
[0088] 根據(jù)本發(fā)明的裝置可進(jìn)一步包括一個(gè)或更多個(gè)加熱段，所述加熱段可用于加熱涂 層到預(yù)定溫度，以便除去殘留的溶劑和/或降低LCMO-和/或從屬材料的粘度以供更加容 易取向。進(jìn)一步地，加熱段可用于在從屬材料內(nèi)引發(fā)聚合。加熱段可例如使用紅外加熱器、 熱空氣鼓風(fēng)機(jī)、烘箱、微波或熱板，利用已知的構(gòu)件生成并轉(zhuǎn)移熱量。在該裝置針對(duì)間歇加 工操作而設(shè)計(jì)的情況下，載體本身可以是可加熱的。
[0089] 該裝置可進(jìn)一步包括額外的光源作為固化單元，它提供光化光以供在從屬材料 內(nèi)引發(fā)聚合。優(yōu)選地，光源提供波長(zhǎng)范圍低于420nm的光。優(yōu)選的光源類型是LEDs，例如 UV-LEDs，和高壓汞燈。
[0090] 優(yōu)選地，根據(jù)本發(fā)明的裝置包括移動(dòng)基底到裝置的不同段，例如SLM曝光單元，額 外的偏振光源，涂布或印刷單元和加熱段處的所需位置內(nèi)的構(gòu)件，直到它們存在于該裝置 內(nèi)。優(yōu)選的是基底的移動(dòng)可通過(guò)電子，例如通過(guò)計(jì)算機(jī)控制，以便使得自動(dòng)加工成為可能。
[0091] 在圖3中闡述的根據(jù)本發(fā)明裝置30的實(shí)例包括第一涂布或印刷單元33,第二涂 布或印刷單元34, SLM曝光單元31，加熱器35,固化單元36,基底39用載體37和滑動(dòng)型材 (profile) 38。載體37可沿著滑動(dòng)型材38移動(dòng)，以便將載體上的基底定位到裝置的不同單元 上。優(yōu)選地，通過(guò)計(jì)算機(jī)控制載體的移動(dòng)，然而所述計(jì)算機(jī)在圖3中未示出。SLM曝光單元 31可以是以上所述的任何一種，它帶有提供具有第一和具有第二偏振面的配向光的構(gòu)件。 在曝光單元內(nèi)的SLM優(yōu)選通過(guò)計(jì)算機(jī)控制，再者所述計(jì)算機(jī)沒(méi)有在圖3中示出。加熱器35 可例如是紅外加熱器或者熱空氣鼓風(fēng)機(jī)。固化單元36包括光源，所述光源提供光化光以供 在從屬材料內(nèi)引發(fā)聚合。
[0092] 在圖3所示的裝置中，第一涂布或印刷單元33可用于施加 LCMO層到基底上，而第 二涂布或印刷單元34可用于涂布或印刷從屬材料。生產(chǎn)方法然后可例如如下所述：定位基 底39在載體37上，在第一涂布或印刷單元33下方移動(dòng)載體和基底，涂布或印刷含可光配 向的材料的溶液到基底上，移動(dòng)載體到加熱器35,以除去殘留的溶劑，移動(dòng)載體到曝光單元 31中，設(shè)定曝光單元的偏振面到第一方向上，在曝光單元內(nèi)尋址SLM，提供所需圖案，用曝 光單元的空間調(diào)制的配向光輻照在基底上的LCMO層，設(shè)定曝光單元的偏振面到第二方向， 在曝光單元內(nèi)尋址SLM，提供或者所需的圖案或者轉(zhuǎn)換所有的像素成接通狀態(tài)，用曝光單元 的配向光輻照基底，移動(dòng)載體到第二涂布或印刷單元34中，施加從屬材料到基底上的LCMO 層頂部，在加熱器35下部移動(dòng)載體，以增加基底的溫度，移動(dòng)載體與基底到固化單元中并 提供光化光以供聚合從屬材料。取決于液晶材料的類型，可必須在惰性氛圍下進(jìn)行聚合。使 用根據(jù)圖3的裝置的上述方法可通過(guò)計(jì)算機(jī)來(lái)控制且可以是完全自動(dòng)化的。
[0093] 在也是針對(duì)間歇加工而設(shè)計(jì)的根據(jù)本發(fā)明的備選實(shí)施方案中，該裝置包括機(jī)械手 或任何其他合適的操控系統(tǒng)，以傳輸基底到裝置的不同段中。除了內(nèi)部基底傳輸以外，操控 系統(tǒng)也可用于從裝置內(nèi)部或外部放置的一堆基底中拾起待加工的基底和/或傳輸加工過(guò) 的基底到界面操控系統(tǒng)中或者在所需的位置處沉積它。基底操控系統(tǒng)，例如機(jī)械手優(yōu)選通 過(guò)計(jì)算機(jī)來(lái)控制。這一構(gòu)造例如允許自動(dòng)加工基底，其中包括所有基底傳輸和調(diào)節(jié)步驟，輻 照，涂布和或印刷，干燥各層，聚合從屬材料并管理基底的輸入和輸出。作為一個(gè)實(shí)例，自動(dòng) 盒到盒的加工是可行的。
[0094] 在圖4中示出了具有機(jī)械手作為基底操控系統(tǒng)的裝置40的一個(gè)實(shí)例。它包括第 一涂布或印刷單元43,第二涂布或印刷單元44,提供具有第一偏振面的空間調(diào)制的配向光 的SLM曝光單兀41，提供具有第二偏振面的配向光的偏振光源42,烘箱45,固化單兀46,基 底47用載體，機(jī)械手48和用于儲(chǔ)存輸入和輸出基底用的盒子49和50。與機(jī)械手48相連 的載體47具有拾起和固定基底51的構(gòu)件，所述操作可例如通過(guò)經(jīng)由孔隙或通道施加的真 空來(lái)進(jìn)行。機(jī)械手移動(dòng)載體到不同的加工單元中。機(jī)械手以及不同的加工單元通過(guò)計(jì)算機(jī) 控制，結(jié)果可進(jìn)行從盒到盒的具有單獨(dú)構(gòu)圖的各向異性性能的元件的完全自動(dòng)化生產(chǎn)。為 了簡(jiǎn)單起見(jiàn)的原因，在該附圖中沒(méi)有示出計(jì)算機(jī)以及電和機(jī)械連接。SLM曝光單元41可以 是以上所述的任何一種SLM曝光單元。偏振光源42提供具有均勻光強(qiáng)度，但與SLM曝光單 元41提供的配向光相比，具有不同偏振面的配向光。固化單元46包括光源，從而提供光化 光以供在從屬材料內(nèi)引發(fā)聚合反應(yīng)。
[0095] 在圖4所示的裝置中，第一涂布或印刷單元43可用于施加 LCMO層到基底上，而第 二涂布或印刷單元44可用于涂布或印刷從屬材料。在提供待加工的基底到盒子49內(nèi)之 后，自動(dòng)化生產(chǎn)工藝然后例如可以是下述：從盒子49中拾起基底51和與機(jī)械手48相連的 載體47,在第一涂布或印刷單元43下方移動(dòng)載體與基底，涂布含可光配向的材料的溶液到 基底51上，在烘箱45內(nèi)定位載體與涂布的基底，除去殘留的溶劑，移動(dòng)載體與基底到曝光 單元41中，在曝光單元內(nèi)尋址SLM，提供所需的圖案，用曝光單元的空間調(diào)制的配向光輻照 在基底上的LCMO層，移動(dòng)載體與基底到偏振光源42下，將LCMO層暴露于偏振光源42的配 向光下，移動(dòng)載體到第二涂布或印刷單元44中，施加從屬材料到基底上的輻照過(guò)的LCMO層 頂部，在烘箱45內(nèi)定位載體與基底，移動(dòng)載體與基底到固化單元中并提供光化光以供在從 屬材料內(nèi)引發(fā)聚合。取決于從屬材料的類型，可必須在惰性氛圍下進(jìn)行聚合。
[0096] 圖5示出了根據(jù)本發(fā)明的裝置的一個(gè)實(shí)例，它被設(shè)計(jì)為以卷到卷生產(chǎn)的方式，用 具有第一偏振面的空間調(diào)制的配向光和具有第二偏振面的配向光，在撓性基底之內(nèi)或之上 按序輻照可光配向的材料。圖5的裝置60包括SLM曝光單元61 (它提供具有第一偏振面 的空間調(diào)制的配向光），提供具有第二偏振面的配向光的偏振光源62,以及基底63用載體 64和65。載體64和65使得它們可從卷到卷地移動(dòng)基底。在簡(jiǎn)單的實(shí)施方案中，這通過(guò)手 動(dòng)進(jìn)行，例如通過(guò)使用曲柄，旋轉(zhuǎn)一個(gè)或兩個(gè)載體來(lái)進(jìn)行。優(yōu)選地，載體64和65中的一個(gè) 或兩個(gè)通過(guò)電動(dòng)機(jī)驅(qū)動(dòng)，基底可以從載體64到載體65中或者以相反的方向移動(dòng)。由于裝 置60不包括涂布單元，因此該基底可包括LCMO層，所述LCMO層例如預(yù)涂布在基底上，或者 LCMO層本身形成為基底。SLM曝光單元61可以是以上所述的任何一種SLM曝光單元。偏 振光源62提供具有均勻光強(qiáng)度，但與由SLM曝光單元61提供的配向光相比，具有不同偏振 面的配向光。且不需要包括SLM。
[0097] 從卷到卷地生產(chǎn)的裝置可包括額外的單元，例如涂布或印刷可光配向的材料的單 元和/或涂布或印刷從屬材料的單元和任選地局部增加基底溫度的構(gòu)件，例如烘箱，紅外 加熱器或熱空氣鼓風(fēng)機(jī)。圖6示出了仍然根據(jù)本發(fā)明的裝置70的一個(gè)實(shí)例，它包括用于基 底73的載體74和75,第一涂布或印刷單元76,烘箱78, SLM曝光單元71 (它提供具有第一 偏振面的空間調(diào)制的配向光），提供具有第二偏振面的配向光的偏振光源72,第二涂布或 印刷單元77,烘箱79,固化單元80和導(dǎo)引并支持待加工的撓性基底用的輥81。SLM曝光單 元71可以是以上所述的任何一種曝光單元。偏振光源72提供具有均勻光強(qiáng)度，但與由曝 光單元71提供的配向光相比，具有不同偏振面的配向光。固化單元80包括光源，從而提供 光化光以供在從屬材料內(nèi)引發(fā)聚合。載體74和75使得它們可將基底從載體74上的一卷 移動(dòng)到載體75上的一卷。優(yōu)選地，載體74和75中的一個(gè)或二者通過(guò)電動(dòng)機(jī)驅(qū)動(dòng)。裝置70 允許完全自動(dòng)化生產(chǎn)具有構(gòu)圖的各向異性性能的元件。
[0098] 在卷到卷加工用的裝置，例如圖5和6的實(shí)例中，基底可或者連續(xù)移動(dòng)，或者可 至少在曝光單元61，71的位置處停下以供用空間調(diào)制的配向光輻照。若基底在曝光單元 61，71的投影區(qū)域內(nèi)連續(xù)移動(dòng)，則可能重要的是小心由空間調(diào)制的光提供的圖案在LCMO層 的層內(nèi)再現(xiàn)且沒(méi)有運(yùn)動(dòng)模糊。這可例如通過(guò)提供空間調(diào)制的光作為閃光（flash)來(lái)進(jìn)行， 每一次具有該圖案的待輻照的基底區(qū)域接近SLM曝光單元的投影區(qū)域，使得該圖案在LCMO 層內(nèi)在單次閃光的短時(shí)間內(nèi)再現(xiàn)?；蛘撸ㄟ^(guò)SLM提供的圖案滾動(dòng)與基底的移動(dòng)同步。對(duì) 于這一目的來(lái)說(shuō)，基底的速度或載體64, 65, 74, 75或?qū)б?1的旋轉(zhuǎn)速度可通過(guò)合適的構(gòu) 件來(lái)監(jiān)控，提供電子信號(hào)用以控制SLM用的滾動(dòng)圖案生成。在矩陣類型的SLM中，滾動(dòng)優(yōu)選 通過(guò)逐行進(jìn)行，這意味著SLM周期性移動(dòng)所施加的圖案一行，使得配向光的空間調(diào)制與基 底同步移動(dòng)。
[0099] 使用裝置，例如圖6的裝置，生產(chǎn)具有單獨(dú)構(gòu)圖的各向異性性能的元件的方法可 包括下述步驟：在載體74之上的卷上提供在裝置內(nèi)的撓性基底73以供卷到卷地生產(chǎn)，并操 作該裝置，使得該基底移動(dòng)并在載體75之上的卷上卷起，采用涂布或印刷單元76,涂布或 印刷含可光配向的材料的溶液到基底73上，在烘箱78內(nèi)加熱該基底，除去殘留的溶劑，在 曝光單元71內(nèi)尋址SLM，以便提供單獨(dú)信息的滾動(dòng)圖案（scrolling pattern),使得投影的 圖案在SLM曝光單元71的投影區(qū)域內(nèi)以與基底73相同的速度和方向移動(dòng)，采用來(lái)自曝光 單元71的第一偏振面的空間調(diào)制的配向光，輻照在基底上的LCMO層，用來(lái)自偏振光源72 的第二偏振面的配向光，輻照在基底上的LCMO層，用涂布或印刷單元77在輻照過(guò)的LCMO 層頂部上涂布或印刷從屬材料，任選地在烘箱79內(nèi)加熱該基底，通過(guò)暴露于固化單元80的 光化光下，在從屬材料內(nèi)引發(fā)聚合，并在載體75上的卷上，卷起加工過(guò)的基底。取決于從屬 材料的類型，可必須在惰性氛圍下進(jìn)行聚合。
[0100] 圖7示出了裝置90,它是圖6的裝置70的變體，且另外包括未聚合的化合物可在 其內(nèi)從加工過(guò)的層中除去的凈化單元82。凈化單元典型地含有溶劑，所述溶劑能溶解未聚 合的化合物。
[0101] 由于LCMO層可以或者首先暴露于SLM曝光單元61，71的空間調(diào)制的配向光下，然 后暴露于來(lái)自偏振光源62, 72的第二偏振面的配向光下，因此，相對(duì)于基底移動(dòng)的方向，可 以互換SLM曝光單元61，71和偏振光源62, 72的按序排列。
[0102] 盡管圖5的實(shí)施例中的裝置僅僅針對(duì)在預(yù)制備的LCMO層內(nèi)卷到卷地生成單獨(dú)的 圖案而設(shè)計(jì)和圖6的裝置允許自動(dòng)化生產(chǎn)具有單獨(dú)構(gòu)圖的各向異性性能的元件，其中包括 所要求的涂布步驟，但根據(jù)本發(fā)明的卷到卷的生產(chǎn)裝置可僅僅包括一個(gè)涂布步驟。例如，該 裝置可包括涂布單元76和烘箱78用于施加含可光配向的材料的層，但沒(méi)有涂布單元77， 烘箱79和固化單元80。采用這一裝置，可施加 LCMO層，且可在LCMO層內(nèi)生成單獨(dú)的圖案。 然后從屬材料的任選層必須被涂布且任選地在獨(dú)立的裝置中聚合。同樣，根據(jù)本發(fā)明的卷 到卷的裝置可包括涂布單元77,烘箱79和固化單元80以供在輻照過(guò)的LCMO層的頂部上生 成從屬材料層。對(duì)于在這一裝置中使用來(lái)說(shuō)，可用LCMO層預(yù)涂布基底，或者LCMO層可形成 為基底。在通過(guò)暴露于SLM曝光單元71和偏振光源72生成所要求的取向圖案之后，用涂 布或印刷單元77涂布或印刷從屬材料，在烘箱79內(nèi)干燥并取向，并在固化單元80內(nèi)聚合， 這導(dǎo)致具有單獨(dú)構(gòu)圖的各向異性性能的所需元件。
[0103] 根據(jù)上述實(shí)施方案中任何一個(gè)的裝置可包括進(jìn)一步的單元，例如印刷永久信息的 構(gòu)件或者層壓在該裝置內(nèi)生產(chǎn)的元件到其他基底或器件上的構(gòu)件。
[0104] 根據(jù)本發(fā)明的裝置不應(yīng)當(dāng)限于某些實(shí)施方案，例如單元的某種組合。相反，可在裝 置中隨意地組合不同類型的曝光單元，涂布或印刷單元，加熱段，光化光源，基底用載體和 基底操控系統(tǒng)。
[0105] 本發(fā)明此外涉及快速生產(chǎn)具有單獨(dú)構(gòu)圖的各向異性性能的元件的方法。根據(jù)本發(fā) 明的方法包括下述步驟：
[0106] -提供LCMO層和
[0107]-將LCMO層暴露于具有第一偏振面的SLM曝光單元中的空間調(diào)制的配向光下。
[0108] 可通過(guò)涂布和/或印刷，施加LCMO層，且可在基底的全部區(qū)域上或者僅僅在它的 一部分上提供LCMO層。
[0109] 若在以上所述的方法中，LCMO層沒(méi)有進(jìn)行過(guò)進(jìn)一步的配向處理，則LCMO層僅僅在 其中暴露于配向光下的那些區(qū)域內(nèi)顯示出各向異性性能。因此，包括在LCMO層內(nèi)或者其頂 部上的從屬材料因僅僅在暴露于配向光下的LCMO層內(nèi)的那些區(qū)域中與LCMO材料接觸導(dǎo) 致將建立各向異性性能，而在那些區(qū)域外部將不產(chǎn)生各向異性性能。若LCP材料用作從屬 材料，則按照這一方式生產(chǎn)的具有構(gòu)圖的各向異性性能的元件因此包括其中液晶材料被配 向的區(qū)域和其中液晶材料沒(méi)有被配向的區(qū)域。按照這一方式生成的圖案可以在偏振光中看 到。
[0110] 可尋址SLM，使得每一像素或者處于接通狀態(tài)或者處于斷開(kāi)狀態(tài)，其結(jié)果是配向光 的空間變化使得強(qiáng)度具有或者最低或者最高的水平。這一 SLM-尋址方案在以下中被稱為 數(shù)字尋址?；蛘撸赡艿氖菍ぶ废袼氐浇橛诮油ê蛿嚅_(kāi)狀態(tài)之間的中間狀態(tài)，其結(jié)果是配向 光的空間變化還包括灰度水平。這一 SLM-尋址方案在以下中被稱為灰度尋址。
[0111] 在本發(fā)明的優(yōu)選方法中，數(shù)字尋址用作SLM-尋址方案。在本發(fā)明的另一優(yōu)選方法 中，灰度尋址用作SLM-尋址方案。
[0112] 在優(yōu)選的方法中，在暴露于第一偏振面的空間調(diào)制的配向光之前或之后，另外暴 露LCMO層與第二偏振面配向。第二偏振面的配向光可僅僅針對(duì)沒(méi)有用第一偏振面的配向 光輻照過(guò)的那些區(qū)域提供。這可例如也是通過(guò)SLM曝光單元，通過(guò)提供第二偏振面的配向 光來(lái)進(jìn)行。
[0113] 或者，兩個(gè)暴露步驟可以使得LCMO層中的至少一些區(qū)域以任何順序，按序暴露于 第一和第二偏振面的配向光下。這可在暴露于SLM曝光單元的空間調(diào)制的配向光之前或之 后，例如通過(guò)將LCMO層暴露于偏振光源的配向光下來(lái)進(jìn)行。
[0114] 在另一優(yōu)選的方法中，將LCMO層暴露于具有多個(gè)偏振面的配向下。第二和進(jìn)一步 的偏振面的配向光可以僅僅針對(duì)尚未用配向光輻照的那些區(qū)域提供。優(yōu)選地，這也是通過(guò) SLM曝光單元，通過(guò)提供第二和/或進(jìn)一步的偏振面的配向光來(lái)進(jìn)行。
[0115] 取決于可光配向的材料的性質(zhì)，光譜強(qiáng)度分布，和配向光的曝光劑量，在暴露于兩 個(gè)或更多個(gè)偏振面的配向光下的區(qū)域內(nèi)所得局部配向方向可以不同于在僅僅暴露于配向 光的任何一個(gè)偏振面下的區(qū)域內(nèi)產(chǎn)生的配向方向。因此可能的是，在第一，第二或額外的曝 光步驟中，通過(guò)局部曝光劑量，在兩個(gè)或更多個(gè)曝光區(qū)域內(nèi)，控制所得配向方向。
[0116] 根據(jù)本發(fā)明的優(yōu)選方法，灰度尋址用作用具有第一偏振面的配向光輻照的 SLM-尋址方案，且將LCMO層暴露于具有第二偏振面的配向光下，使得存在暴露于第一和第 二偏振面的配向光下和第一偏振面的配向光的曝光劑量彼此不同的區(qū)域。
[0117] 在優(yōu)選的方法中，還通過(guò)其中使用灰度尋址的SLM曝光單元，提供第二偏振面的 配向光。相同的SLM曝光單?？捎糜谔峁┑谝缓偷诙衩娴目臻g調(diào)制的光。根據(jù)這一方 法的優(yōu)選變體，SLM的尋址使得具有第一偏振面的投影的SLM光至少代表在某些區(qū)域內(nèi)在 LCMO層上的灰度圖案和第二偏振面中投影的SLM光代表在LCMO層上在相同的位置處但具 有不同灰度強(qiáng)度梯度的相同圖案。在攝影術(shù)中所使用的術(shù)語(yǔ)用第二偏振面投影的灰度圖案 是與用第一偏振面投影的相同圖案，但被Y校正。在該方法的優(yōu)選變體中，Y校正使得與 用第一偏振面投影的圖案的灰度相比，用第二偏振面投影的圖案的灰度顛倒（inverse)。這 對(duì)應(yīng)于投影灰度圖像和它的負(fù)片到LCMO層的相同區(qū)域上，但用于該圖像和負(fù)像的配向光 的偏振面彼此不同。
[0118] 在以上所述的方法中，在LCMO層的輻照過(guò)程中，SLM曝光單元和基底可保持它們 彼此的相對(duì)位置，或者SLM曝光單元和基底可相對(duì)于彼此移動(dòng)。例如，可在以上所述的卷到 卷的生產(chǎn)裝置中使用該方法，其中該基底在輻照過(guò)程中移動(dòng)。另一實(shí)例是在輻照過(guò)程中， SLM曝光單元在固定的基底上連續(xù)移動(dòng)。對(duì)于SLM曝光單元和基底相對(duì)于彼此移動(dòng)的情況 來(lái)說(shuō)，SLM曝光單元的投影區(qū)域和基底因此也相對(duì)于彼此移動(dòng)。在根據(jù)本發(fā)明的優(yōu)選方法 中，在LCMO層暴露于SLM曝光單元的配向光的過(guò)程中，SLM曝光單元的投影區(qū)域相對(duì)于基 底移動(dòng)，和使SLM尋址，使得投影到LCMO層上的圖案橫跨SLM的像素滾動(dòng)。優(yōu)選地，SLM包 括在矩陣內(nèi)排列的像素，所述矩陣形成行和欄的線，且圖案逐行滾動(dòng)。例如，通過(guò)SLM的行 形成線，和待顯示的圖案周期性地移位一行。當(dāng)移位時(shí)，第一行的內(nèi)容移動(dòng)到第二行，第二 行的內(nèi)容移動(dòng)到第三行，如此類推。最后一行的內(nèi)容可以再次移位到第一行，若將再次再現(xiàn) 相同的圖像的話。若將再現(xiàn)備選的圖案，則SLM的第一行將顯示該圖像的相應(yīng)線。
[0119] 由于滾動(dòng)，投影的圖案在SLM曝光單元的投影區(qū)域內(nèi)移動(dòng)。選擇滾動(dòng)速度，例如減 少投影的圖案和基底之間的相對(duì)速度。理想地，滾動(dòng)速度使得投影圖案的每一部分維持它 在基底上的位置，只要被投影即可。
[0120] 同樣針對(duì)其中SLM曝光和基底在輻照過(guò)程中沒(méi)有移動(dòng)的情況，可改性滾動(dòng)方法， 提供兩個(gè)或更多個(gè)偏振面的空間調(diào)制的配向光。例如，在滾動(dòng)圖案的時(shí)間框架內(nèi)，空間調(diào)制 的配向光的偏振面可按序設(shè)定為不同值。采用如上所述的單一 SLM曝光單元提供具有不同 偏振面的光的任何構(gòu)件可用于該目的。優(yōu)選地，自動(dòng)化控制偏振面的變化，且與滾動(dòng)圖案同 步。在該方法的優(yōu)選變體中，待投影的圖案是灰度圖案，和通過(guò)SLM提供的圖案周期性顛 倒，以便如上所述交替提供正和負(fù)像，并與配向光的偏振面在兩個(gè)值之間轉(zhuǎn)換同步。
[0121] 為了使?jié)L動(dòng)速度與基底速度同步，可使用合適的監(jiān)控構(gòu)件，測(cè)量基底速度并提供 適合于觸動(dòng)滾動(dòng)算法以供SLM尋址的信號(hào)。
[0122] 只要僅僅期望在不采用基底平面外的優(yōu)選方向生成各向異性性能，則配向光的平 均入射方向典型地垂直于基底。為了采用平面外的優(yōu)選方向，例如用于配向從屬材料，例如 液晶材料的斜角，生成各向異性性能，優(yōu)選的是用傾斜入射的光輻照LCMO層。它可以是具 有第一偏振面的SLM曝光單元的配向光和/或進(jìn)一步的曝光步驟（或者空間調(diào)制或者未調(diào) 制）的配向光，或者它可以是非偏振的光化光。例如，可能的是通過(guò)暴露LCMO層于SLM曝光 單元的垂直入射的調(diào)制配向光下，和另外暴露于具有相同或不同偏振面的傾斜入射的非調(diào) 制的配向光下，或者甚至暴露于傾斜入射的非調(diào)制、非偏振的光化光下，生成具有構(gòu)圖的傾 斜各向異性性能的元件。暴露于垂直和傾斜入射的光下可以是或者按序且也可同時(shí)進(jìn)行。 在該方法的另一變體中，將LCMO層的相同區(qū)域暴露于兩個(gè)SLM曝光單元的空間調(diào)制的配向 光下，其中至少一個(gè)傾斜輻照配向光于LCMO層的表面上。若兩個(gè)SLM曝光單元均傾斜輻照 LCMO層的表面，則通過(guò)從兩個(gè)SLM曝光單元發(fā)射的光線確定的入射平面可以是共平面或者 交叉的。同樣，相應(yīng)的偏振面可以是相同或不同的。
[0123] 對(duì)于以上所述的任何方法來(lái)說(shuō)，在LCMO層內(nèi)的可光配向的材料可以是其中通過(guò) 暴露于配向光下，則可生成各向異性性能的任何種類的光敏材料，而與光反應(yīng)機(jī)理無(wú)關(guān)。因 此，合適的可光配向的材料例如是其中當(dāng)暴露于配向光下時(shí)，通過(guò)光-二聚，光-解聚，反 式-順式轉(zhuǎn)變或者光-Fries重排誘導(dǎo)各向異性的材料。優(yōu)選的可光配向的材料是其中當(dāng)暴 露于配向光下時(shí)所產(chǎn)生的各向異性使得與光配向材料接觸的從屬材料可以被取向的那些。 優(yōu)選地，這些從屬材料是液晶材料，尤其LCP-材料。
[0124] 可光配向的材料，例如以上所述的那些引入可光配向的部分，所述可光配向的部 分當(dāng)暴露于配向光下時(shí)能形成優(yōu)選的方向并因此產(chǎn)生各向異性性能。這種光-可配向的 部分優(yōu)選具有各向異性吸收性能。典型地，這些部分在230-500nm波長(zhǎng)范圍內(nèi)顯示出吸 收。優(yōu)選地，可-光配向的部分在300-450nm的波長(zhǎng)范圍內(nèi)顯示出光的吸收，更優(yōu)選的是在 350-420nm的波長(zhǎng)范圍內(nèi)顯示出吸收的部分，和最優(yōu)選的是在380-410nm的波長(zhǎng)范圍內(nèi)顯 示出吸收的部分。
[0125] 優(yōu)選地，可光配向的部分具有碳-碳，碳-氮，或氮-氮雙鍵。
[0126] 例如，可光配向的部分是取代或未取代的偶氮染料，蒽醌，香豆素，部花青素 (mericyanine),甲燒，2-苯基偶氮噻唑，2-苯基偶氮苯并噻唑，苗（stilbene)，氰基苗，查 耳酮，肉桂酸酯，苯乙烯基吡啶鹽，1，4-雙（2-苯基乙烯基）苯，4, 4'-雙（芳基偶氮）芪， 茈，4, 8-二氨基-1，5-萘醌染料，具有與兩個(gè)芳環(huán)共軛的酮部分或酮衍生物的二芳基酮，例 如取代的二苯甲酮類，二苯甲酮亞胺，苯基腙和半卡巴腙。
[0127] 以上列舉的各向異性吸收材料的制備是熟知的，正例如Hoffman等人的美國(guó) 專利No. 4, 565, 424, Jones等人的美國(guó)專利No. 4, 401，369, Cole, Jr.等人的美國(guó)專利 No. 4, 122, 027, Etzbach等人的美國(guó)專利No. 4, 667, 020,和Shannon等人的美國(guó)專利 No. 5, 389, 285 中所示。
[0128] 優(yōu)選地，可光配向的部分包括芳基偶氮，聚（芳基偶氮），芪（stilbene)，氰基芪， 肉桂酸酯或查耳酮。
[0129] 可光配向的材料可以具有單體，低聚物或聚合物形式。可光配向的部分可在聚合 物或低聚物的主鏈內(nèi)部或者在聚合物或低聚物的側(cè)鏈內(nèi)部共價(jià)鍵合，或者它們可以是單體 的一部分。
[0130] 聚合物是指例如聚丙烯酸酯，聚甲基丙烯酸酯，聚酰亞胺，聚酰胺酸，聚馬來(lái)酰亞 胺，聚-2-氯丙烯酸酯，聚-2-苯基丙烯酸酯；未取代或者被C 1-C6烷基取代的聚丙烯酰胺， 聚甲基丙烯酰胺，聚-2-氯丙烯酰胺，聚-2-苯基丙烯酰胺，聚乙烯醚，聚乙烯酯，聚苯乙烯 衍生物，聚硅氧烷，聚丙烯酸或聚甲基丙烯酸的直鏈或支鏈烷基酯；聚苯氧基烷基丙烯酸 醋，聚苯氧基燒基甲基丙稀酸醋，聚苯基燒基甲基丙稀酸醋，其中燒基具有1 _20個(gè)碳原子； 聚丙烯腈，聚甲基丙烯腈，聚苯乙烯，聚-4-甲基苯乙烯或其混合物。
[0131] 可光配向的材料也可以是含具有不同類型可光配向部分的化合物的組合物。例 如，對(duì)于不同的可光配向的部分來(lái)說(shuō)，最大吸收波長(zhǎng)可以是不同的。優(yōu)選的組合物包括具有 主要對(duì)UV-A波長(zhǎng)范圍內(nèi)的光具有反應(yīng)性的可光配向部分的化合物，和具有主要對(duì)UV-B波 長(zhǎng)范圍內(nèi)的光具有反應(yīng)性的可光配向部分的化合物。可光配向的材料也可以是含具有可光 配向部分的化合物和光敏劑的組合物。合適的光敏劑例如是酮基香豆素和二苯甲酮類。
[0132] 進(jìn)一步地，優(yōu)選的可光配向的單體或低聚物或聚合物公開(kāi)于美國(guó)專利 No. 5, 539, 074,美國(guó)專利 No. 6, 201，087,美國(guó)專利 No. 6, 107, 427,美國(guó)專利 No. 6, 632, 909 和美國(guó)專利No. 7, 959, 990中。
[0133] 對(duì)于本發(fā)明的方法來(lái)說(shuō)，為了選擇優(yōu)選的可光配向的材料，含可光配向的材料的 LCMO層的特征可在于其吸收系數(shù)α (λ)，其中吸收涉及光反應(yīng)機(jī)理，它可在LCMO層內(nèi)誘導(dǎo) 各向異性。吸收系數(shù)α (λ)通常定義且可衍生于根據(jù)Lambert定律，未-輻照LCMO層的 吸收A ( λ ):

【權(quán)利要求】
1. 用于生產(chǎn)具有單獨(dú)構(gòu)圖的各向異性性能的元件的裝置（30,40,60,70,90)，它包括： -基底用載體（37,47, 64,65, 74, 75)和 -提供具有第一偏振面的空間調(diào)制的配向光的曝光單元（10, 20, 31，41，61，71)，其中 該曝光單元含有 -光源（11，22)， -可電子控制的空間光調(diào)制器（12,21)，和 -投影透鏡（13, 23)。
2. 權(quán)利要求1的裝置，它包括提供具有第二偏振面的配向光的構(gòu)件（14, 24,42,62， 72)。
3. 權(quán)利要求2的裝置，其中SLM曝光單元（10, 20, 31)可提供具有第一和第二偏振面的 配向光。
4. 權(quán)利要求3的裝置，其中可電子控制偏振面的改變。
5. 前述任何一項(xiàng)權(quán)利要求的裝置，它包括提供偏振光的額外光源（42,62, 72)。
6. 前述任何一項(xiàng)權(quán)利要求的裝置，它另外包括涂布或印刷單元（33,34,43,44,76， 77)。
7. 前述任何一項(xiàng)權(quán)利要求的裝置，它另外包括加熱基底的構(gòu)件（35,45, 78, 79)。
8. 前述任何一項(xiàng)權(quán)利要求的裝置，它另外包括凈化單元（82)。
9. 前述任何一項(xiàng)權(quán)利要求的裝置用于生產(chǎn)具有構(gòu)圖的各向異性性能的元件的用途。
10. 快速生產(chǎn)具有單獨(dú)構(gòu)圖的各向異性性能的元件的方法，該方法包括下述步驟： -提供LCMO層和 -將LCMO層暴露于SLM曝光單元（10, 20, 31，41，61，71)的具有第一偏振面的空間調(diào)制 的配向光下。
11. 權(quán)利要求10的方法，其中另外暴露LCMO層與第二偏振面配向。
12. 權(quán)利要求10-11任何一項(xiàng)的方法，其中在LCMO層暴露于SLM曝光單元的配向光下 的過(guò)程中，SLM曝光單元（61，71)的投影區(qū)域和基底（63, 73)相對(duì)于彼此移動(dòng)，且讓SLM(l) 尋址，使得待投影到LCMO層上的圖案橫跨SLM的像素滾動(dòng)。
13. 權(quán)利要求10-12任何一項(xiàng)的方法，其中SLM曝光單元的空間調(diào)制的配向光傾斜入射 在LCMO層上。
14. 權(quán)利要求10-13任何一項(xiàng)的方法，其中LCMO層另外暴露于傾斜入射的偏振或未偏 振的光化光下。
15. 權(quán)利要求10-14任何一項(xiàng)的方法，其中存在LCMO層的吸收系數(shù)大于200 [1/cm]，更 優(yōu)選大于2000[l/cm]和最優(yōu)選大于20000[l/cm]的在350nm-420nm范圍內(nèi)的至少一個(gè)波 長(zhǎng)。
16. 權(quán)利要求10-15任何一項(xiàng)的方法，其中在隨后的步驟中，在輻照過(guò)的LCMO層之上施 加從屬材料。
17. 權(quán)利要求16的方法，其中從屬材料是液晶聚合物材料。
18. 權(quán)利要求16或17的方法，其中在額外的步驟中，由從屬材料中除去非聚合的材料。
19. 權(quán)利要求10-18任何一項(xiàng)的方法生產(chǎn)的元件在光學(xué)和/或光電器件中的用途。
20. 權(quán)利要求9-18任何一項(xiàng)的方法生產(chǎn)的元件用作光學(xué)安全元件的用途。
【文檔編號(hào)】G02B5/30GK104364682SQ201380028208
【公開(kāi)日】2015年2月18日 申請(qǐng)日期:2013年5月13日 優(yōu)先權(quán)日:2012年5月30日
【發(fā)明者】K·施米特, H·塞伯勒 申請(qǐng)人:羅利克有限公司