致動器、光學(xué)反射元件及利用該光學(xué)反射元件的成像裝置制造方法
【專利摘要】光學(xué)反射元件(1)具備：框體(6)；一端連接于所述框體的內(nèi)側(cè)的驅(qū)動部(5)；連接于驅(qū)動部的另一端的可動部(4)；設(shè)置于所述可動部的表面的反射部(2)；和設(shè)置于所述可動部的電極。所述驅(qū)動部構(gòu)成為通過驅(qū)動信號而被驅(qū)動來使所述可動部振動。所述電極構(gòu)成為被輸入比所述驅(qū)動信號高的頻率的高頻信號。該光學(xué)反射元件高速且以大偏轉(zhuǎn)角被驅(qū)動，能夠防止塵埃向所述可動部的附著。
【專利說明】致動器、光學(xué)反射元件及利用該光學(xué)反射元件的成像裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及致動器、光學(xué)反射元件及利用該光學(xué)反射元件的成像裝置。

【背景技術(shù)】
[0002]近年來，正在研究利用Micro Electro Mechanical Systems (MEMS,微機電系統(tǒng))技術(shù)的致動器。而且，作為該致動器的有效利用，正在開發(fā)對激光進行掃描并向屏幕等投影圖像的光學(xué)反射元件。為了投影圖像，需要利用該光學(xué)反射元件高速且大偏轉(zhuǎn)角地掃描激光。
[0003]若使包含光學(xué)反射元件的反射部的可動部高速且以大偏轉(zhuǎn)角進行驅(qū)動，則在反射部的外周部附著大氣中的塵埃，反射部受到污染。因污染而產(chǎn)生反射部的反射率下降所導(dǎo)致的反射光強度的下降、或者向污染部的激光照射所導(dǎo)致的光散射等，將會引起圖像的亮度下降、圖像的劣化。
[0004]為了解決這些問題，專利文獻1公開了一種光學(xué)反射元件，用光透過構(gòu)件覆蓋反射部，防止反射部的污染。此外，專利文獻2公開了一種在反射部的外周設(shè)置塵埃附著部來防止反射部的污染的光學(xué)反射元件。進而，專利文獻3公開了一種對反射部的側(cè)面進行加工來設(shè)置塵埃附著部從而防止反射部的污染的光學(xué)反射元件。進而，專利文獻4公開了一種將具有低電阻率的導(dǎo)電性材料用于反射部的透明保護膜來防止帶電所引起的塵埃附著的方法。
[0005]在先技術(shù)文獻
[0006]專利文獻
[0007]專利文獻1:JP特開2005-173435號公報
[0008]專利文獻2:JP特開2010-097099號公報
[0009]專利文獻3:JP特開2010-102147號公報
[0010]專利文獻4:JP特開2011-033754號公報


【發(fā)明內(nèi)容】

[0011]致動器具備:框體；一端連接于框體的內(nèi)側(cè)的驅(qū)動部；連接于驅(qū)動部的另一端的可動部；和設(shè)置于可動部的電極。驅(qū)動部構(gòu)成為通過驅(qū)動信號而被驅(qū)動來使可動部振動。電極構(gòu)成為被輸入比驅(qū)動信號高的頻率的高頻信號。
[0012]該致動器高速且以大偏轉(zhuǎn)角被驅(qū)動，能夠防止塵埃向可動部的附著。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0013]圖1是本發(fā)明的實施方式1中的光學(xué)反射元件的立體圖。
[0014]圖2是實施方式1中的光學(xué)反射元件的放大圖。
[0015]圖3是比較例的光學(xué)反射元件的放大圖。
[0016]圖4是實施方式1中的光學(xué)反射元件所連接的驅(qū)動電路的框圖。
[0017]圖5是實施方式I中的光學(xué)反射元件的放大圖。
[0018]圖6是表示實施方式I中的光學(xué)反射元件的驅(qū)動時間與諧振頻率的關(guān)系的圖。
[0019]圖7是實施方式I中的其他光學(xué)反射元件的立體圖。
[0020]圖8是本發(fā)明的實施方式2中的光學(xué)反射元件的放大圖。
[0021]圖9是表示實施方式2中的光學(xué)反射元件的驅(qū)動時間與諧振頻率的關(guān)系的圖。
[0022]圖1OA是實施方式2中的其他光學(xué)反射元件的放大圖。
[0023]圖1OB是圖1OA所示的光學(xué)反射元件的放大圖。
[0024]圖11是實施方式2中的另一光學(xué)反射元件的放大圖。
[0025]圖12是本發(fā)明的實施方式3中的光學(xué)反射元件的立體圖。
[0026]圖13是利用了實施方式3中的光學(xué)反射元件的成像裝置的構(gòu)成圖。

【具體實施方式】
[0027](實施方式I)
[0028]圖1是本發(fā)明的實施方式I中的致動器的一例即光學(xué)反射元件I的立體圖。光學(xué)反射元件I具有:以轉(zhuǎn)動軸3為中心而轉(zhuǎn)動的可動部4 ;與可動部4連接的驅(qū)動部5 ;與驅(qū)動部5連接的框體6 ;和設(shè)置于可動部4的反射部2。
[0029]圖2是特別示出可動部4的周邊的光學(xué)反射元件I的放大圖?？蓜硬?具有表面4A、和表面4A的相反側(cè)的背面4B。反射部2由設(shè)置于可動部4的表面4A的金屬(Ag系材料)等對光進行反射的材料所構(gòu)成的膜而形成，對照射到可動部4的光束進行反射。電極7設(shè)置于可動部4的表面4A的外周部，與驅(qū)動部5連接而被輸入對驅(qū)動部5進行驅(qū)動的驅(qū)動信號。
[0030]驅(qū)動部5具有:由硅形成的基板；形成在基板上的下部電極；形成在下部電極上的PZT(鋯鈦酸鉛)等的壓電體所構(gòu)成的壓電體層；和形成在壓電體層上的上部電極。
[0031]通過干法蝕刻或濕法蝕刻將下部電極、壓電體層、上部電極圖案形成為希望的形狀之后，通過ICP干法蝕刻對基板進行加工，由此能夠形成可動部4、驅(qū)動部5、框體6。
[0032]若在下部電極與上部電極之間施加電場，則壓電體層因逆壓電效應(yīng)而在平面方向上伸縮。此時，在壓電體層產(chǎn)生的力作為驅(qū)動部5的厚度方向的力矩而發(fā)揮作用，驅(qū)動部5撓曲。由此，與驅(qū)動部5連接的可動部4的傾斜發(fā)生變動，可動部4以轉(zhuǎn)動軸3為中心而轉(zhuǎn)動。
[0033]圖3是除了不具備電極7這一點以外與光學(xué)反射元件I具有相同構(gòu)造的比較例的光學(xué)反射元件的放大圖，是在大氣中以驅(qū)動頻率30kHz、偏轉(zhuǎn)角±8度進行了 300小時以上的長時間驅(qū)動的情況下的可動部4的顯微鏡照片。黑色的部分是附著于光學(xué)反射元件的異物8。如圖3所示，在以高速、大偏轉(zhuǎn)角使可動部4進行了驅(qū)動的情況下，在可動部4以及驅(qū)動部5的外周附著異物8，且附著部位發(fā)生了變色。將比較例的光學(xué)反射元件放入封裝內(nèi)，用氮氣等進行氣密密封并在相同條件下進行了驅(qū)動的情況下，在可動部未附著異物8，因此能夠確認(rèn)附著于可動部4的異物8是大氣中的塵埃。由于像這樣在可動部4附著塵埃，因而可動部4的反射部2的反射率下降，或者比較例的光學(xué)反射元件的諧振頻率下降。
[0034]如圖3所示，塵埃特別容易附著在位移大的可動部4的外周部附近。因可動部4的位移而在可動部4的外周產(chǎn)生氣流，因空氣與塵埃的沖撞、摩擦而產(chǎn)生的靜電對塵埃向可動部4的附著產(chǎn)生很大影響。因此，使得在可動部4不產(chǎn)生靜電對于防止塵埃的附著很有效。
[0035]實施方式1中的光學(xué)反射元件1通過防止靜電的產(chǎn)生來抑制塵埃的附著。對抑制光學(xué)反射元件1的靜電產(chǎn)生的方法進行敘述。
[0036]圖4是產(chǎn)生向光學(xué)反射兀件1輸入的信號的驅(qū)動電路1001的框圖。驅(qū)動電路1001具有驅(qū)動信號產(chǎn)生器9、高頻信號產(chǎn)生器10和合成器11。驅(qū)動信號產(chǎn)生器9產(chǎn)生通過使驅(qū)動部5驅(qū)動振動來以規(guī)定的驅(qū)動頻率使可動部4以轉(zhuǎn)動軸3為中心而轉(zhuǎn)動的驅(qū)動信號。在實施方式1中驅(qū)動信號是具有30紐2的驅(qū)動頻率的正弦波電壓。高頻信號產(chǎn)生器10產(chǎn)生具有比驅(qū)動信號的驅(qū)動頻率高的頻率的高頻信號。合成器11在驅(qū)動信號上疊加高頻信號來產(chǎn)生合成驅(qū)動信號并輸入到電極7。即，驅(qū)動信號產(chǎn)生器9經(jīng)由合成器11將驅(qū)動信號輸入到電極7，高頻信號產(chǎn)生器10經(jīng)由合成器11將高頻信號輸入到電極7。在實施方式1中高頻信號的頻率為0.51取?21取。高頻信號的電壓被調(diào)整為:即使在驅(qū)動信號上疊加高頻信號，可動部4也以規(guī)定的驅(qū)動頻率(實施方式1中為30--)、規(guī)定的偏轉(zhuǎn)角(實施方式1中為±8度)進行轉(zhuǎn)動振動。通過將高頻信號輸入到電極7，從而具有高的頻率的電荷在驅(qū)動部5、可動部4的外周附近產(chǎn)生。該電荷與產(chǎn)生于可動部4的靜電相抵消，由此能夠抑制可動部4外周的帶電，能夠防止塵埃向可動部4、驅(qū)動部5的附著。
[0037]圖5是光學(xué)反射元件1的放大圖，表示與圖2所示的比較例的光學(xué)反射元件一樣，以驅(qū)動頻率30紐2、偏轉(zhuǎn)角±8度進行了 300小時以上的長時間驅(qū)動的情況下的可動部4的顯微鏡照片。在圖5所示的光學(xué)反射元件1中沒有觀察到在圖3所示的比較例的光學(xué)反射元件中所見的塵埃附著，通過在驅(qū)動信號上疊加高頻信號后輸入到電極7，能夠獲得對塵埃附著的高抑制效果。
[0038]圖6將光學(xué)反射元件1的可動部4固有的機械諧振頻率和驅(qū)動時間的關(guān)系與比較例的光學(xué)反射元件的所述關(guān)系一起示出。在圖6中，橫軸表示驅(qū)動時間，縱軸表示諧振頻率。如圖6所示，在比較例的光學(xué)反射元件中，伴隨驅(qū)動時間的經(jīng)過，塵埃附著于可動部4從而可動部4變重、諧振頻率下降。相對于此，實施方式1中的光學(xué)反射元件1即使長時間驅(qū)動，諧振頻率也沒怎么下降，表現(xiàn)出塵埃附著的高抑制效果。
[0039]另外，若疊加于驅(qū)動信號的高頻信號的電壓過大則光學(xué)反射元件1的高頻振動模式變大，有偏轉(zhuǎn)角下降的可能性。此外，若高頻信號的電壓過小，則通過高頻信號的施加而產(chǎn)生的具有高頻率分量的電荷變少，無法獲得充分的防塵效果。在實施方式1中的光學(xué)反射元件1中，將驅(qū)動電壓的5?10%的電壓的高頻信號疊加于驅(qū)動電壓，若處于該范圍則不會使光學(xué)反射元件1的偏轉(zhuǎn)角下降，并且，能夠獲得塵埃附著的充分的抑制效果。不過，根據(jù)光學(xué)反射元件1的構(gòu)造、使用環(huán)境，即使為驅(qū)動信號的電壓的5?10%的范圍之外的施加電壓也能夠獲得同樣的效果。
[0040]此外，雖然在實施方式1中的光學(xué)反射元件1中高頻信號的頻率為0.5冊12?2冊12，但也可以使高頻信號的頻率在0.51--21?的范圍內(nèi)進行掃頻。此時，由于產(chǎn)生具有不同頻率分量的電荷，因此與不進行掃頻而輸入了具有固定頻率的高頻信號時相比能夠獲得更高的塵埃附著的抑制效果。另外，既可以使高頻信號的頻率從0.51取向21取進行掃頻，也可以從21取向0.51取進行掃頻，無論哪種方式都能夠獲得同樣的效果。
[0041]另外，在實施方式1中的光學(xué)反射元件1中，對于驅(qū)動頻率30紐2的轉(zhuǎn)動驅(qū)動確認(rèn)了通過0.5MHz?2MHz的高頻信號的疊加而具有塵埃附著抑制的效果。由于對應(yīng)于輸入到電極7的驅(qū)動信號的頻率，塵埃抑制的效果最大的頻率有可能發(fā)生變化，因此高頻信號的頻率并不限定于0.5MHz?2MHz的頻率。實施方式1中的光學(xué)反射元件1中對于驅(qū)動信號的頻率30kHz的轉(zhuǎn)動驅(qū)動，以高頻信號0.5MHz?2MHz表現(xiàn)出塵埃附著抑制的效果，像這樣只要高頻信號的頻率比驅(qū)動信號的頻率高就能夠獲得塵埃附著的抑制效果。
[0042]另外，在實施方式1中的光學(xué)反射元件1中，一對驅(qū)動部5與可動部4的彼此相反側(cè)的部分連接，對可動部4進行支撐的同時使可動部4轉(zhuǎn)動振動。不限于此，也可以將1個驅(qū)動部5僅與可動部4的單側(cè)連接，對可動部4進行支撐的同時使可動部4轉(zhuǎn)動振動，能夠獲得同樣的效果。
[0043]另外，在實施方式1中的光學(xué)反射元件1中，使得輸入對驅(qū)動部5進行驅(qū)動的驅(qū)動信號的電極、和輸入高頻信號的電極為同一電極7，使高頻信號疊加于驅(qū)動信號來實現(xiàn)驅(qū)動和塵埃附著的抑制。圖7是實施方式1中的其他光學(xué)反射元件1A的立體圖。在圖7中，對與圖1所示的光學(xué)反射元件1相同的部分附加相同參照編號。光學(xué)反射元件1A還具備輸入驅(qū)動信號的電極7A。對光學(xué)反射兀件1A的電極7A輸入未疊加高頻信號的驅(qū)動信號，對電極7輸入高頻信號而不輸入驅(qū)動信號。光學(xué)反射兀件1A能夠獲得與光學(xué)反射兀件1同樣的塵埃附著的效果。
[0044]另外，在實施方式1中的光學(xué)反射元件1、1A中驅(qū)動部5利用逆壓電效應(yīng)而被驅(qū)動，但也可以以靜電驅(qū)動方式、電磁驅(qū)動方式而被驅(qū)動，能夠同樣地獲得因靜電而導(dǎo)致的向可動部4的外周部的塵埃附著的抑制效果。
[0045]在專利文獻1所公開的現(xiàn)有的光學(xué)反射元件中，由于需要光透過構(gòu)件和防反射涂層，因此導(dǎo)致成本提高。此外，未透過光透過構(gòu)件而被反射的光成為雜散光，還有可能引起圖像劣化。在專利文獻2、專利文獻3所公開的現(xiàn)有的光學(xué)反射元件中，由于設(shè)置塵埃附著部而可動部的尺寸變大，阻礙元件的小型化。進而，由于追加附著部的加工工序，因而工序時間增加，或者制作工藝復(fù)雜化。在專利文獻4所公開的現(xiàn)有的方法中，需要新開發(fā)一種考慮了反射率的具有導(dǎo)電性的透明保護膜。
[0046]在實施方式1中的光學(xué)反射元件1、1A中由于未使用光透過構(gòu)件因此能夠?qū)崿F(xiàn)小型化、成本降低。
[0047]在實施方式1中的光學(xué)反射元件1、1A中，由于不需要在可動部4設(shè)置塵埃附著部因此能夠?qū)崿F(xiàn)小型化，且不需要塵埃附著部的加工工序，能夠?qū)崿F(xiàn)生產(chǎn)節(jié)拍的降低。
[0048]在實施方式1中的光學(xué)反射元件1、1A中，由于未使用具有導(dǎo)電性的透明保護膜因此不需要透明保護膜的設(shè)計/開發(fā)。
[0049](實施方式2)
[0050]圖8是實施方式2中的光學(xué)反射元件21的放大圖。在圖8中，對與圖2所示的實施方式1中的光學(xué)反射兀件1相同的部分附加相同參照編號。圖8表不可動部4。如圖8所示，實施方式2中的光學(xué)反射元件21還具備在圖2所示的光學(xué)反射元件1的可動部4的表面4A的外周附近設(shè)置的接地電極23，構(gòu)成為可動部4通過接地電極23而接地。通過在可動部4的外周附近設(shè)置的接地電極23，能夠去除殘留于可動部4的表面電荷。由此，能夠完全去除因與空氣的摩擦而在可動部4的外周附近產(chǎn)生的靜電，能夠進一步提高向可動部4的塵埃抑制的效果。
[0051]圖9將實施方式2中的光學(xué)反射元件21的可動部4固有的機械諧振頻率與驅(qū)動時間的關(guān)系，與實施方式I中的光學(xué)反射元件I和前述的比較例的光學(xué)反射元件的所述關(guān)系一同示出。在圖9中,橫軸表示驅(qū)動時間,縱軸表示諧振頻率。在比較例的光學(xué)反射元件中由于附著塵埃而可動部4變重從而諧振頻率隨著驅(qū)動時間而下降。在實施方式I中的光學(xué)反射元件I中與比較例的光學(xué)反射元件相比雖然下降的比例較小，但諧振頻率隨著驅(qū)動時間的經(jīng)過而下降。相對于此，在實施方式2中的光學(xué)反射元件21中即使為200小時以上的長時間驅(qū)動，諧振頻率也沒有變化，諧振頻率始終固定。這樣，在實施方式2中的光學(xué)反射元件21中通過將高頻信號輸入到電極7來抑制電荷向可動部4的表面產(chǎn)生，除此之外通過利用接地電極23將可動部4外周附近接地來將殘留的表面電荷從可動部4外周除去，能夠使大氣中的塵埃附著的抑制效果與實施方式I中的光學(xué)反射元件I相比進一步提高。
[0052]圖1OA和圖1OB是實施方式2中的其他光學(xué)反射元件2IA的放大圖。在圖1OA和圖1OB中，對與圖8所示的光學(xué)反射元件21相同的部分附加相同參照編號。在圖8所示的光學(xué)反射元件21中，通過接地電極23僅將可動部4的形成了反射部2的表面4A的外周附近接地。在圖1OA和圖1OB所示的光學(xué)反射元件21A中，在可動部4的背面4B的外周附近設(shè)置接地電極23而將背面4B接地。由此能夠防止塵埃向可動部4的背面4B的附著，能夠更有效地防止塵埃向可動部4的附著。此外，由于在可動部4的背面4B未設(shè)置反射部2，因此即使附著塵埃，光的反射率下降、光散射等也不會成為問題，但可動部4的質(zhì)量由于該塵埃而增加，因此諧振頻率發(fā)生變化。諧振頻率的變化在將光學(xué)反射元件21應(yīng)用于成像裝置等的情況下有可能引起影像的劣化。期望諧振頻率固定，由于可動部4的背面4B的接地將諧振頻率保持固定因而有效果。
[0053]圖11是實施方式2中的另一光學(xué)反射元件21B的放大圖。在圖11中，對與圖8所示的光學(xué)反射元件21相同的部分附加相同的參照編號。在圖11所示的光學(xué)反射元件21B中接地電極23與反射部2連接，從而反射部2也被接地。尤其是在反射部2由金屬等的導(dǎo)電材料形成的情況下，由此可動部4中的被接地的部分的面積擴大，從而能夠使表面電荷逃離到可動部4的外部的效率提高，因此能夠更有效地防止塵埃向可動部4的附著。
[0054]另外，雖然在實施方式2中的光學(xué)反射元件21、21A、21B中驅(qū)動部5利用逆壓電效應(yīng)而被驅(qū)動，但也可以以靜電驅(qū)動方式、電磁驅(qū)動方式而被驅(qū)動，同樣能夠獲得靜電所導(dǎo)致的塵埃向可動部4的外周部的附著的抑制效果。
[0055](實施方式3)
[0056]圖12是實施方式3中的光學(xué)反射元件31的立體圖。在圖12中，對與圖1至圖1OB所不的實施方式1、2中的光學(xué)反射兀件相同的部分附加相同的參照編號。實施方式3中的光學(xué)反射元件31還具備:具有連接于實施方式1、2中的光學(xué)反射元件的框體6的外側(cè)的一端的驅(qū)動部32 ;和連接于驅(qū)動部32的另一端的框體33。驅(qū)動部32的另一端連接于框體33的內(nèi)側(cè)。驅(qū)動部32在與驅(qū)動部5大致正交的方向上連接于框體6。驅(qū)動部32也與驅(qū)動部5同樣地具有:由硅形成的基板；該基板上形成的下部電極；形成在下部電極上的PZT(鋯鈦酸鉛)等的壓電材料所構(gòu)成的壓電體層；和形成在壓電體層上的上部電極。若在驅(qū)動部32的下部電極與上部電極之間施加電場，則由于逆壓電效應(yīng)，壓電體層在與層疊了下部電極、壓電體層、和上部電極的厚度方向呈直角的面方向上伸縮。此時，在壓電體層產(chǎn)生的力作為驅(qū)動部32的厚度方向的力矩而發(fā)揮作用，驅(qū)動部32撓曲。由此，連接于驅(qū)動部32的可動部4的傾斜發(fā)生變動，以轉(zhuǎn)動軸35為中心而轉(zhuǎn)動。
[0057]這樣，使可動部4在驅(qū)動部5與驅(qū)動部32大致正交的方向上轉(zhuǎn)動振動，能夠在二維方向上掃描設(shè)置于可動部4的反射部2所反射的光。
[0058]圖13是實施方式3中的成像裝置30的構(gòu)成圖。成像裝置30具備光學(xué)反射元件31和激光光源36?38。
[0059]激光光源36射出紅色的激光。激光光源37射出綠色的激光。激光光源38射出藍(lán)色的激光。從激光光源36?38射出的激光39向光學(xué)反射元件31入射。所入射的激光39被反射部2反射。在實施方式3中，在光學(xué)反射元件31的可動部4設(shè)置的反射部2以轉(zhuǎn)動軸3為中心在X軸方向上以頻率30紐2進行轉(zhuǎn)動振動、并以轉(zhuǎn)動軸35為中心在V軸方向上以頻率60取進行轉(zhuǎn)動振動，由此能夠以這些頻率對激光39進行掃描。激光39和光學(xué)反射元件31，與對激光39進行調(diào)制的輸入影像信號取得同步，由此能夠以低功耗將高清且顏色再現(xiàn)性優(yōu)良的全彩色的影像二維地投影到屏幕40。
[0060]成像裝置30具備具有實施方式1、2中的光學(xué)反射元件的雙軸驅(qū)動的光學(xué)反射元件31，因此即使以轉(zhuǎn)動軸3為中心在水平方向上高速且以大偏轉(zhuǎn)角使其轉(zhuǎn)動驅(qū)動，也能夠抑制可動部4的外周因大氣中的塵埃附著而造成的污染，能夠長期地維持高亮度且高清的影像。
[0061]另外，在實施方式3中的成像裝置30中，具備三色的激光光源36?38，但也可以取而代之具備單色、雙色、或者三色以上的激光光源，能夠獲得相同的效果。此外，在實施方式3中的成像裝置30中，雖然具備通過雙軸來驅(qū)動的光學(xué)反射元件31，但也可以具備通過單軸來驅(qū)動的光學(xué)反射元件，能夠獲得相同效果。
[0062]此外，在實施方式3中的成像裝置30中，光學(xué)反射元件31在X軸方向上以頻率30紐2對激光39進行掃描，在V軸方向上以頻率60取對激光39進行掃描，但即使以與這些頻率不同的頻率對激光39進行掃描也同樣能夠獲得塵埃向可動部4的附著的抑制效果。
[0063]此外，在實施方式1?3中作為致動器的一例舉出光學(xué)反射元件為例進行了說明，但不限定于此，即使為具有高速進行轉(zhuǎn)動的可動部4的致動器也能夠獲得同樣的效果。
[0064]工業(yè)實用性
[0065]本發(fā)明中的致動器，即使高速且以大偏轉(zhuǎn)角使其驅(qū)動也能夠防止浮游在大氣中的塵埃的附著，因此在能夠穩(wěn)定地投影高亮度且高清的圖像的、移動投影機或頭帶式顯示器等小型圖像投影裝置中很有用。
[0066]符號說明
[0067]2反射部
[0068]4可動部
[0069]5驅(qū)動部(第一驅(qū)動部)
[0070]6框體(第一框體)
[0071]7電極(第一電極)
[0072]74電極(第二電極)
[0073]23接地電極
[0074]30成像裝置
[0075]32驅(qū)動部(第二驅(qū)動部)
[0076]33框體(第二框體)
[0077]36激光光源
[0078]37激光光源
[0079]38激光光源
[0080]39激光
【權(quán)利要求】
1.一種致動器，具備:第一框體；第一驅(qū)動部，其一端連接于所述第一框體的內(nèi)側(cè)；可動部，其連接于所述第一驅(qū)動部的另一端；和第一電極，其設(shè)置于所述可動部，所述第一驅(qū)動部構(gòu)成為通過驅(qū)動信號而被驅(qū)動且使所述可動部振動，所述第一電極構(gòu)成為被輸入比所述驅(qū)動信號高的頻率的高頻信號。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的致動器，其中，所述驅(qū)動信號構(gòu)成為與所述高頻信號疊加并被輸入到所述第一電極。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的致動器，其中，還具備被輸入所述驅(qū)動信號的第二電極。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的致動器，其中，所述第一電極設(shè)置于所述可動部的外周附近。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的致動器，其中，所述高頻信號的頻率為0.5MHz?2MHz。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的致動器，其中，所述高頻信號的頻率被掃頻。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的致動器，其中，所述高頻信號的電壓為所述驅(qū)動電壓的10%以下。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的致動器，其中，還具備接地電極，所述接地電極構(gòu)成為設(shè)置于所述可動部并將所述可動部接地。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的致動器，其中，所述接地電極設(shè)置于所述可動部的外周附近。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的致動器，其中，所述第一電極設(shè)置于所述可動部的表面，所述接地電極設(shè)置于所述可動部的所述表面的相反側(cè)的背面。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的致動器，其中，還具備:第二驅(qū)動部，其具有連接于所述第一框體的外側(cè)的一端；和第二框體，其連接于所述第二驅(qū)動部的另一端，所述第一驅(qū)動部與所述第二驅(qū)動部在相互大致正交的方向上延伸。
12.一種光學(xué)反射元件，其具備:權(quán)利要求1所述的致動器；和設(shè)置在所述致動器的所述可動部的表面的反射部。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的光學(xué)反射元件，其中，還具備接地電極，所述接地電極構(gòu)成為設(shè)置于所述可動部并將所述反射部接地。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的光學(xué)反射元件，其中，所述接地電極與所述反射部連接。
15.一種成像裝置，其具備:權(quán)利要求12所述的光學(xué)反射元件；和激光光源，其射出由所述光學(xué)反射元件的所述反射部反射并被掃描的激光。
【文檔編號】G02B26/10GK104380173SQ201380031233
【公開日】2015年2月25日 申請日期:2013年5月30日 優(yōu)先權(quán)日:2012年6月15日
【發(fā)明者】森川顯洋, 平岡聰一郎, 中園晉輔, 小牧一樹 申請人:松下知識產(chǎn)權(quán)經(jīng)營株式會社