陣列基板及顯示裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種陣列基板及顯示裝置，屬于液晶顯示【技術(shù)領(lǐng)域】，其可解決現(xiàn)有的液晶顯示裝置光能率用率低的問題。本發(fā)明的陣列基板包括多個用于進行顯示的透光區(qū)和圍繞各透光區(qū)的遮光區(qū)，且在所述遮光區(qū)中設(shè)有反光層。
【專利說明】陣列基板及顯示裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明屬于液晶顯示【技術(shù)領(lǐng)域】，具體涉及一種陣列基板及顯示裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]如圖1、圖2所示，液晶顯示裝置主要包括背光模組和顯示面板，背光模組用于向顯示面板發(fā)出均勻的光8 ;顯示面板用于對來自背光模組的光8進行過濾，使透過顯示面板的光8顯示出所需內(nèi)容。其中，顯示面板包括多個用于進行顯示的透光區(qū)91 (通常每個透光區(qū)91對應一個像素單元)，陣列基板I的透光區(qū)91中包括像素電極等結(jié)構(gòu)，而彩膜基板2的透光區(qū)91中包括彩色濾光層21等結(jié)構(gòu)。同時，陣列基板I中還需要設(shè)置薄膜晶體管11、柵極線、數(shù)據(jù)線等其他結(jié)構(gòu)(為清楚圖中只示出了薄膜晶體管11)，這些結(jié)構(gòu)所在的位置不能產(chǎn)生驅(qū)動電場，故無法進行正確的濾光；因此，這些位置稱為遮光區(qū)92，彩膜基板2的遮光區(qū)92中需設(shè)置黑矩陣22，以阻止遮光區(qū)的光8射出。
[0003]顯示面板中透光區(qū)所占的面積比稱為“開口率”，開口率越高則對光能的利用越充分，節(jié)能效果越好；但由于物理極限的限制，故開口率不能無限縮小，導致顯示面板的光能利用率不高。同時，陣列基板的遮光區(qū)中包括薄膜晶體管，薄膜晶體管被光照會加速老化、但顯示面板的黑矩陣位于彩膜基板中，不能阻止背光模組側(cè)的光照射薄膜晶體管，從而導致薄膜晶體管老化迅速、使用壽命短，或者，為防止薄膜晶體管被照射，就需要在陣列基板對應薄膜晶體管的位置增設(shè)額外的擋光層，導致產(chǎn)品結(jié)構(gòu)和制備工藝復雜。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題包括，針對現(xiàn)有的液晶顯示裝置光能率用率低的問題，提供一種光能率用率高的陣列基板及顯示裝置。
[0005]解決本發(fā)明技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是一種陣列基板，其包括多個用于進行顯示的透光區(qū)和圍繞各透光區(qū)的遮光區(qū)，且
[0006]在所述遮光區(qū)中設(shè)有反光層。
[0007]優(yōu)選的是，所述反光層位于所述陣列基板的入光側(cè)。
[0008]優(yōu)選的是，所述反光層為金屬反光層。
[0009]解決本發(fā)明技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是一種顯示裝置，包括顯示面板和用于向顯示面板發(fā)光的背光模組，所述背光模組包括光源和用于將來自光源的光反射向顯示面板的反射膜層；所述顯示模組還包括:
[0010]設(shè)于與顯示面板的遮光區(qū)對應的位置處的、用于將來自光源的光反射向所述反射膜層的反光層。
[0011]優(yōu)選的是，所述顯示面板包括上述的陣列基板；所述反光層為所述陣列基板中的反光層。
[0012]優(yōu)選的是，所述背光模組為側(cè)入式背光模組，所述側(cè)入式背光模組包括導光板，所述導光板具有相對的出光面和背面，以及連接在所述出光面和背面間的側(cè)面，且所述光源設(shè)于所述導光板的至少一個側(cè)面外；所述反射膜層設(shè)于所述導光板的背面外；所述導光板的出光面外設(shè)有光學膜層。
[0013]進一步優(yōu)選的是，所述反光層設(shè)于所述導光板的出光面上；或所述反光層設(shè)于所述光學膜層上。
[0014]優(yōu)選的是，所述背光模組為直下式背光模組，所述直下式背光模組包括擴散板，所述擴散板包括相對的入光面和出光面，且所述反射膜層設(shè)于所述擴散板入光面外；所述光源設(shè)于所述擴散板入光面與反射膜層之間；所述擴散板的出光面外設(shè)有光學膜層。
[0015]進一步優(yōu)選的是，所述反光層設(shè)于所述擴散板的出光面上；或所述反光層設(shè)于所述光學膜層上。
[0016]本發(fā)明的陣列基板和顯示裝置中，在對應遮光區(qū)的位置設(shè)有反光層，該反光層可將射到遮光區(qū)的光反射回背光模組，并被背光模組中的反射膜層再次反射出來而重新利用，通過多次反射，可使更多的光從透光區(qū)射出，提高光能利用率(可接近100%)。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0017]圖1為現(xiàn)有的顯示面板的剖面結(jié)構(gòu)示意圖；
[0018]圖2為現(xiàn)有的陣列基板的俯視結(jié)構(gòu)不意圖；
[0019]圖3為本發(fā)明的實施例1的顯示裝置的剖面結(jié)構(gòu)示意圖；
[0020]圖4為本發(fā)明的實施例2的顯示裝置的剖面結(jié)構(gòu)示意圖；
[0021]圖5為本發(fā)明的實施例3的顯示裝置的剖面結(jié)構(gòu)示意圖；
[0022]其中附圖標記為:1、陣列基板；11、薄膜晶體管；2、彩膜基板；21、彩色濾光層；22、黑矩陣；3、光學膜層；41、導光板；42、擴散板；5、反射膜層；6、光源；7、反光層；8、光；91、透光區(qū)；92、遮光區(qū)。
【具體實施方式】
[0023]為使本領(lǐng)域技術(shù)人員更好地理解本發(fā)明的技術(shù)方案，下面結(jié)合附圖和【具體實施方式】對本發(fā)明作進一步詳細描述。
[0024]實施例1:
[0025]如圖3所示，本實施例提供一種陣列基板I及具有該陣列基板I的顯示裝置。
[0026]本實施例的陣列基板I包括多個間隔設(shè)置的用于進行顯示的透光區(qū)91，以及圍繞各透光區(qū)91的遮光區(qū)92。其中，通常每個透光區(qū)91對應一個像素單元，透光區(qū)91也就是各像素單元的像素電極所在的區(qū)域，從而透光區(qū)91中可形成特定的電場，以顯示所需內(nèi)容。而遮光區(qū)92則是位于各透光區(qū)91外的區(qū)域，其中用于設(shè)置柵極線、數(shù)據(jù)線、薄膜晶體管11等其他顯示結(jié)構(gòu)，由于這些顯示結(jié)構(gòu)不能形成正確的電場以用于顯示，故這些位置的光應被遮擋而不能射出。
[0027]如圖3所示，在陣列基板I的遮光區(qū)92中還設(shè)有反光層7。
[0028]在現(xiàn)有技術(shù)中，在彩膜基板2的遮光區(qū)92設(shè)有黑矩陣22以阻止光8射出，這樣雖然可以達到防止光8從遮光區(qū)92射出的目的，但射到遮光區(qū)92的光8沒有被利用，從而降低了光能利用率，浪費了能源。而在本實施例的陣列基板I中，其遮光區(qū)92處設(shè)有反光層
7,該反光層7可將射到其上的光8反射回背光模組，這些光8可被背光模組中的反射膜層5反射后再次射出，再次射出的光8很可能射到透光區(qū)91中而被用于顯示，從而本實施例的陣列基板I可提高光能利用率(可達接近100%)。
[0029]當然，雖然在陣列基板I中設(shè)有反光層7，但在彩膜基板2中仍可保留黑矩陣22，因為黑矩陣22除阻止光8從遮光區(qū)92射出外，還有防止相鄰的像素單元的光8產(chǎn)生混色的作用。
[0030]同時，在現(xiàn)有技術(shù)中，黑矩陣22位于彩膜基板2中，故陣列基板I遮光區(qū)92中的薄膜晶體管11仍會受到照射，而這種照射會破壞薄膜晶體管11的性能，縮短其使用壽命，為防止該現(xiàn)象，還要在陣列基板I對應薄膜晶體管11的位置增設(shè)額外的擋光層，而這會使陣列基板I的結(jié)構(gòu)和制造工藝復雜。而在本實施例的陣列基板I中，其遮光區(qū)92處設(shè)有反光層7，故可直接阻止薄膜晶體管11被照射，以防薄膜晶體管11受到損傷。
[0031]優(yōu)選的，上述反光層7為金屬反光層。
[0032]也就是說，可用率、銅、銀等具有較高反射率的金屬或合金形成反光層7，這是由于金屬反光層的技術(shù)成熟、成本低、效果好，并可通過構(gòu)圖工藝容易的制造。
[0033]優(yōu)選的，如圖3所示，上述反光層7設(shè)于陣列基板I的出光側(cè)。
[0034]也就是說，可將反光層7設(shè)于陣列基板I的“外側(cè)”(遠離彩膜基板2的一側(cè))，其原因如下:首先，陣列基板I遮光區(qū)92的出光側(cè)(內(nèi)側(cè))還設(shè)有柵極線、數(shù)據(jù)線、薄膜晶體管11許多其他的顯示結(jié)構(gòu)，而反光層7通常又由導電金屬材料制造，故若其位于陣列基板I的出光側(cè)則可能對其他顯示結(jié)構(gòu)造成影響，所以還需要增設(shè)額外的絕緣層等結(jié)構(gòu)，導致產(chǎn)品結(jié)構(gòu)復雜；其次，在陣列基板I的入光側(cè)還設(shè)有線偏振片，光通過線偏振片后會轉(zhuǎn)變?yōu)榫€偏振光并損失50%的能量,若反光層7位于陣列基板I的出光側(cè)，則其反射的光必然要經(jīng)過線偏振片而損失能量，故優(yōu)選將反光層7設(shè)于線偏振片之外，使其直接反射圓偏振光，減少能量損失。
[0035]本實施例還提供一種顯示裝置，其包括顯示面板和用于向顯示面板發(fā)光的背光模組。
[0036]其中，顯示面板包括相互對盒的彩膜基板2和上述陣列基板1，以及夾在兩基板間的液晶層。背光模組(圖中以側(cè)入式背光模組為例)則包括光源6、導光板41、用于將來自光源6的光反射向顯不面板的反射膜層5。
[0037]由于本實施例的顯示裝置包括上述的陣列基板1，故其可充分利用原本射到遮光區(qū)92的光，提高光能利用率。
[0038]當然，應當理解，上述反光層7并不限于設(shè)在陣列基板I上，其也可設(shè)在彩膜基板2上(例如用其取代黑矩陣22)。當然，以上設(shè)計會導致被反光層7反射的光照射到薄膜晶體管11上，故需要在薄膜晶體管11上方增設(shè)遮光層；同時，經(jīng)反射的光要兩次經(jīng)過線偏振片，且其偏振方向會在經(jīng)過液晶層時改變，故能量損失較大；但是，上述方案仍能達到提高光能利用率的基本效果。
[0039]實施例2:
[0040]如圖4所示，本實施例提供一種顯示裝置，其包括顯示面板和用于向顯示面板發(fā)光的背光模組，背光模組包括光源6和用于將來自光源6的光反射向顯不面板的反射膜層5。
[0041]該顯示裝置還包括設(shè)于與顯示面板的遮光區(qū)92對應的位置處的反光層7，其用于將來自光源6的光反射向反射膜層5。
[0042]也就是說，與實施例1類似，本實施例的顯示裝置也包括反光層7，但該反光層7不限于設(shè)在陣列基板I中，其也可位于其他位置，只要其能將射到遮光區(qū)92的光反射回反射膜層5以重新利用即可。
[0043]具體的，如圖4所示，背光模組為側(cè)入式背光模組。
[0044]該側(cè)入式背光模組包括導光板41，導光板41具有相對的出光面和背面，以及連接在出光面和背面間的側(cè)面；上述光源6(如LED燈條)設(shè)于導光板41的至少一個側(cè)面外，反射膜層5則設(shè)于導光板41的背面外，且導光板41的出光面外設(shè)有光學膜層3 (包括擴散片、棱鏡片等多種已知膜層，在此不再逐一限定)。
[0045]優(yōu)選的，如圖4所示，上述反光層7可設(shè)于光學膜層3上(光學膜層3可有多層，反光層7可設(shè)在任意一層上)；或者，作為本實施例的另一種方式，反光層7也可設(shè)于導光板41的出光面上。
[0046]也就是說，在顯示裝置中，反光層7也可不設(shè)在顯示面板中，而是設(shè)在背光模組中。對于側(cè)入式背光模組，其光源6發(fā)出的光線從側(cè)面進入導光板41，經(jīng)多次反射后從導光板41出光面射出，因此，反光層7必須位于導光板41出光面之外才能起到將光反射回反射膜層5的作用，故此時反光層7可設(shè)在導光板41出光面上或光學膜層3上。
[0047]實施例3:
[0048]如圖5所示，本實施例提供一種顯示裝置，其結(jié)構(gòu)與實施例2的顯示裝置類似。
[0049]本實施例的顯示裝置與實施例2的顯示裝置區(qū)別在于，本實施例的顯示裝置的背光模組為直下式背光模組。
[0050]如圖5所不,直下式背光模組包括擴散板42,擴散板42包括相對的入光面和出光面，反射膜層5設(shè)于擴散板42入光面外,光源6設(shè)于擴散板42入光面與反射膜層5之間，擴散板42的出光面外設(shè)有光學膜層3。
[0051]優(yōu)選的，反光層7設(shè)于擴散板42的出光面上；或反光層7設(shè)于光學膜層3上。
[0052]也就是說，上述反光層7也可設(shè)于直下式背光模組中。由于直下式背光模組的光需要經(jīng)過擴散板42后才能以正確的方向射向顯示面板，故上述反光層7必須位于擴散板42出光面之外，例如位于擴散板42出光面上或光學膜層3上。
[0053]可以理解的是，以上實施方式僅僅是為了說明本發(fā)明的原理而采用的示例性實施方式，然而本發(fā)明并不局限于此。對于本領(lǐng)域內(nèi)的普通技術(shù)人員而言，在不脫離本發(fā)明的精神和實質(zhì)的情況下，可以做出各種變型和改進，這些變型和改進也視為本發(fā)明的保護范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種陣列基板，包括多個用于進行顯示的透光區(qū)和圍繞各透光區(qū)的遮光區(qū)，其特征在于， 在所述遮光區(qū)中設(shè)有反光層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板，其特征在于， 所述反光層位于所述陣列基板的入光側(cè)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板，其特征在于， 所述反光層為金屬反光層。
4.一種顯示裝置，包括顯示面板和用于向顯示面板發(fā)光的背光模組，所述背光模組包括光源和用于將來自光源的光反射向顯示面板的反射膜層，其特征在于，所述顯示模組還包括: 設(shè)于與顯示面板的遮光區(qū)對應的位置處的、用于將來自光源的光反射向所述反射膜層的反光層。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的顯示裝置，其特征在于， 所述顯示面板包括權(quán)利要求1至3中任意一項所述的陣列基板； 所述反光層為所述陣列基板中的反光層。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的顯示裝置，其特征在于，所述背光模組為側(cè)入式背光模組，所述側(cè)入式背光模組包括導光板，所述導光板具有相對的出光面和背面，以及連接在所述出光面和背面間的側(cè)面，且 所述光源設(shè)于所述導光板的至少一個側(cè)面外； 所述反射膜層設(shè)于所述導光板的背面外； 所述導光板的出光面外設(shè)有光學膜層。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的顯示裝置，其特征在于， 所述反光層設(shè)于所述導光板的出光面上； 或 所述反光層設(shè)于所述光學膜層上。
8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的顯示裝置，其特征在于，所述背光模組為直下式背光模組，所述直下式背光模組包括擴散板，所述擴散板包括相對的入光面和出光面，且 所述反射膜層設(shè)于所述擴散板入光面外； 所述光源設(shè)于所述擴散板入光面與反射膜層之間； 所述擴散板的出光面外設(shè)有光學膜層。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的顯示裝置，其特征在于， 所述反光層設(shè)于所述擴散板的出光面上； 或 所述反光層設(shè)于所述光學膜層上。
【文檔編號】G02F1/1335GK103760716SQ201410029386
【公開日】2014年4月30日 申請日期:2014年1月22日 優(yōu)先權(quán)日:2014年1月22日
【發(fā)明者】萬冀豫, 王聳, 黎敏, 董明, 汪棟 申請人:北京京東方顯示技術(shù)有限公司, 京東方科技集團股份有限公司