基板的處理裝置以及處理方法
【專利摘要】本發(fā)明具備：處理部(2)，被供給要通過處理液處理的基板；儲液箱(1)，存儲有處理液；供液管(3)以及回收管(28)，將儲液箱的處理液供給到處理部而處理基板之后返回儲液箱；以及除氣裝置(12)，設(shè)于供液管，將處理液中包含的氣體除去。
【專利說明】基板的處理裝置以及處理方法
[0001]本申請是申請日為2010年2月19日、申請?zhí)枮?01080008906.8、發(fā)明創(chuàng)造名稱為
基板的處理裝置以及處理方法的申請的分案申請。
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0002]本發(fā)明涉及通過處理液處理液晶顯示板所使用的玻璃基板或半導(dǎo)體晶片等的基板的基板的處理裝置以及處理方法。
【背景技術(shù)】
[0003]例如，在液晶顯示裝置或半導(dǎo)體裝置的制造工序中，通過對這些作為對象物的玻璃基板或半導(dǎo)體晶片等的基板涂布抗蝕劑，用顯影液進行顯影處理后進行蝕刻處理，由此在基板的表面精密地形成電路圖案。如果在基板上形成了電路圖案，則進行通過剝離液除去在該基板的表面上附著殘留的抗蝕劑膜或抗蝕劑殘渣等有機物的剝離處理。
[0004]作為在這樣的基板的處理中使用的處理液的上述顯影液或剝離液是高價的。因此，考慮通過將處理了上述基板的處理液回收而反復(fù)使用，來實現(xiàn)降低基板的處理成本。
[0005]在專利文獻I中示出有通過剝離液除去在該基板的表面上附著殘留的抗蝕劑。但是，卻沒有示出使剝離液循環(huán)而反復(fù)使用。
[0006]現(xiàn)有技術(shù)文獻
[0007]專利文獻
[0008]專利文獻1:日本特開2006-278509號公報
[0009]然而，在對剝離液或顯影液等的處理液進行使用后回收而反復(fù)使用的情況下，不能避免處理液在循環(huán)路徑中與大氣接觸。尤其是，若在處理部將處理液例如從噴嘴向基板噴射供給，則由于與大氣的接觸比例增大，所以存在此時包含在大氣中的氣體元素進入、與該氣體元素反應(yīng)而提前劣化的情況。
[0010]例如，在顯影液的情況下，存在與大氣中的二氧化碳(CO2)發(fā)生中和反應(yīng)而劣化的情況，在剝離液的情況下，存在與氧(O2)發(fā)生氧化反應(yīng)而劣化的情況。
[0011]并且，在顯影液中包含有碳酸氫鉀(KH CO3)或碳酸氫鈉(NaH CO3)。而且，如果通過循環(huán)泵對顯影液加壓而使其在循環(huán)路徑中循環(huán)，則存在上述碳酸氫鉀或碳酸氫鈉受到因循環(huán)泵或循環(huán)路徑的流路阻力等產(chǎn)生的熱能、進而由該熱能進行分解而產(chǎn)生二氧化碳的情況。因此，有時該情形也成為使處理液提前劣化的原因。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0012]發(fā)明所要解決的技術(shù)問題
[0013]本發(fā)明提供一種在使處理液循環(huán)而反復(fù)使用時，通過除去包含在處理液中的氣體來防止處理液提前劣化的基板的處理裝置以及處理方法。
[0014]用于解決技術(shù)問題的技術(shù)手段
[0015]為了解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供一種基板的處理裝置，通過處理液處理基板，其特征在于，具備:處理部，被供給要通過上述處理液處理的上述基板；儲液箱，存儲有上述處理液；循環(huán)管路，將該儲液箱的處理液供給到上述處理部并處理上述基板之后，返回上述儲液箱；以及除氣機構(gòu)，設(shè)于該循環(huán)管路，將上述處理液中包含的氣體除去。
[0016]此外，本發(fā)明提供一種基板的處理方法，其特征在于，具備:將基板供給到處理部的工序；將儲液箱中存儲的處理液供給到上述處理部后回收到上述儲液箱的工序；以及將從上述儲液箱供給到上述處理部的上述處理液中包含的氣體除去的工序。
[0017]本發(fā)明提供一種基板的處理裝置，通過處理液處理基板，其特征在于，具備:處理部，被供給要通過上述處理液處理的上述基板；儲液箱，存儲有上述處理液；第一循環(huán)管路，將該儲液箱的處理液供給到上述處理部并處理上述基板之后，返回上述儲液箱；以及第二循環(huán)管路，具有將不與處理液反應(yīng)的氣體形成為微小氣泡而混入到處理液中的氣泡發(fā)生機構(gòu)，通過將上述儲液箱的處理液供給到上述氣泡發(fā)生機構(gòu)之后返回到上述儲液箱，由該處理液中包含的微小氣泡除去從上述處理部返回到上述儲液箱的處理液中包含的氣體。
[0018]本發(fā)明提供一種基板的處理方法，通過處理液處理基板，其特征在于，具備:將基板供給到處理部的工序；將儲液箱中存儲的處理液供給到上述處理部后回收到上述儲液箱的工序；將不與該處理液反應(yīng)的氣體形成為微小氣泡而混入到上述儲液箱的處理液中的工序；以及通過將混入了微小氣泡的處理液返回到上述儲液箱，由該處理液中包含的微小氣泡除去從上述處理部回收到上述儲液箱的處理液中包含的氣體的工序。
[0019]發(fā)明效果
[0020]根據(jù)本發(fā)明，在使儲液箱的處理液循環(huán)而在基板的處理中使用時，可除去包含在處理液中的氣體。因此，即使大氣中的氣體元素進入處理液中，也能夠?qū)⒃摎怏w元素除去，所以能夠防止大氣中包含的氣體元素使處理液提前劣化的情況。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0021]圖1是表示本發(fā)明的一實施方式的基板的處理裝置的概略結(jié)構(gòu)圖。
[0022]圖2是表示在上述處理裝置中使用的除氣裝置的內(nèi)部結(jié)構(gòu)的剖視圖。
[0023]圖3是表示對純水賦予不同的4個條件時的經(jīng)過時間與溶解氧濃度的關(guān)系的曲線圖。
[0024]圖4是使除氣后的純水在氣泡發(fā)生器中反復(fù)循環(huán)時測量的純水的溶解氧濃度的變化的曲線圖。
[0025]圖5是表示本發(fā)明的第二實施方式的基板的處理裝置的概略結(jié)構(gòu)圖。
[0026]圖6是表示本發(fā)明的第三實施方式的基板的處理裝置的概略結(jié)構(gòu)圖。
[0027]圖7是表示本發(fā)明的第四實施方式的基板的處理裝置的概略結(jié)構(gòu)圖。
[0028]圖8是表示在第三實施方式和第四實施方式中對儲液箱內(nèi)的處理液供給了微小氣泡時的經(jīng)過時間和溶解氧濃度的關(guān)系的曲線圖。
【具體實施方式】
[0029]下面，參照圖1?圖4說明本發(fā)明的一實施方式。
[0030]圖1表示該發(fā)明的處理裝置的概略結(jié)構(gòu)，該處理裝置具有儲存顯影液或剝離液等的處理液L的儲液箱I。在該儲液箱I的底部連接有供液管3的一端，該供液管3構(gòu)成將處理液L供給到用于處理玻璃基板或半導(dǎo)體晶片等的基板W的處理部2的處理液供給管路。
[0031]上述供液管3的另一端與設(shè)于上述處理部2的噴射管4連接。在噴射管4上以規(guī)定間隔、例如等間隔設(shè)置有多個噴嘴5。在上述噴射管4的下方，作為輸送上述基板W的輸送機構(gòu)的由輸送輥構(gòu)成的輸送傳送機6跨越上述處理部2以及該處理部2的前后方向地設(shè)置。另外，輸送機構(gòu)也可以是鏈式傳送機等。
[0032]上述基板W通過上述輸送傳送機6被搬入上述處理部2。上述噴射管4使長度方向與基板W的輸送方向交叉而配設(shè)。由此,上述基板W由輸送傳送機6在上述處理部2內(nèi)輸送，從而上表面整體被供給處理液L而被進行處理。
[0033]在與上述儲液箱I連接的上述供液管3的一端部設(shè)有第一循環(huán)泵11，在該第一循環(huán)泵11與上述儲液箱I之間設(shè)有除去包含于處理液L的氣體的作為除氣機構(gòu)的除氣裝置12。
[0034]上述除氣裝置12如圖2所示，具有在一端形成有流入口 13、在另一端形成有流出口 14的液密狀的容器15。在該容器15內(nèi)的一端部和另一端部分別設(shè)有分隔板16。這些分隔板16將上述容器15內(nèi)隔離成位于與上述流入口 13連通的位置的流入室17、位于與上述流出口 14連通的位置的流出室18以及位于一對分隔板16之間的減壓室19。在該減壓室19上配管連接有用于對內(nèi)部氣壓進行減壓的減壓泵21。
[0035]在上述減壓室19中設(shè)有除氣部件22，該除氣部件22的一端液密地保持于一個分隔板16，另一端液密地保持于另一個分隔板16。該除氣部件22捆扎由氣體通過而液體不通過的材料形成的微小直徑的大量的筒狀中空線22a而構(gòu)成，其一端與上述流入室17連通，另一端與上述流出室18連通。
[0036]由此，若上述第一循環(huán)泵11動作而上述儲液箱I內(nèi)的處理液L如圖2箭頭所示那樣從上述容器15的流入口 13供給到流入室17，則該處理液L通過除氣部件22的中空線22a的內(nèi)部而流入到流出室18并從流出口 14流出。
[0037]處理液L在上述除氣部件22的中空線22a內(nèi)流動時，上述減壓室19通過減壓泵21被減壓而成負壓，由此只有包含在上述處理液L中的氣體通過中空線22a的周壁膜而被吸引到減壓室19中。也就是說，從處理液L將氣體分離。而且，被分離的氣體通過上述減壓泵21被排出到減壓室19的外部。
[0038]由上述除氣裝置12除去了氣體的處理液L，通過上述第一循環(huán)泵11的壓力被供給到氣泡發(fā)生器24。在該氣泡發(fā)生器24中，除了處理液L還被從氣體供給部25加壓供給有不與處理液L反應(yīng)的氣體、例如氮或IS等惰性氣體。
[0039]另外，在處理液L是顯影液的情況下，作為不與處理液L反應(yīng)的氣體不僅可以是惰性氣體也可以是氧。
[0040]供給到上述氣泡發(fā)生器24的處理液L和惰性氣體，在該氣泡發(fā)生器24的內(nèi)部以與壓力差相對應(yīng)的不同速度一邊旋轉(zhuǎn)運動一邊流動。由此，處理液L與惰性氣體的旋轉(zhuǎn)速度之差使得惰性氣體被處理液L截斷，因此惰性氣體成為納米氣泡或微納米氣泡等微小氣泡而包含于處理液L中。
[0041]包含有微小氣泡的處理液L，在上述供液管3中流動而被供給到上述噴射管4，從該噴射管4朝向在處理部2內(nèi)由輸送傳送機6輸送的基板W的上表面進行噴射供給。
[0042]由此，基板W的上表面由處理液L進行顯影或剝離等處理。并且，處理過基板W的處理液L經(jīng)過與處理部2連接的、同上述供液管3形成循環(huán)管路的回收管28，被回收到上述儲液箱I中。也就是說，處理液L在供液管3以及回收管28中流動循環(huán)而被反復(fù)使用。
[0043]接著，對由上述結(jié)構(gòu)的處理裝置處理基板W時的作用進行說明。
[0044]在處理基板W之前，使第一循環(huán)泵11以及減壓泵21動作。由此，儲液箱I內(nèi)的處理液L被供給到除氣裝置12，從該除氣裝置12的容器15的流入口 13流入，經(jīng)過減壓室19的構(gòu)成除氣部件22的中空線22a的內(nèi)部空間從流出口 14流出而向氣泡發(fā)生器24流動。
[0045]處理液L經(jīng)過減壓室19的除氣部件22時，減壓室19通過減壓泵21被減壓，由此，包含在處理液L中的氧或二氧化碳等氣體被除去。
[0046]由此，在從除氣裝置12流出的處理液L中不包含氣體，所以不存在由包含在處理液L中的氣體促進處理液L的劣化的情況。例如，在處理液L是顯影液的情況下，二氧化碳與顯影液發(fā)生中和反應(yīng)而促進顯影液的劣化，在處理液是剝離液的情況下，氧與剝離液發(fā)生氧化反應(yīng)而促進剝離液的劣化，但是因為從處理液中除去了氧或二氧化碳等的氣體，所以可防止處理液L由氣體造成的提前劣化。
[0047]這樣除去了促進劣化的氣體的處理液L，由上述第一循環(huán)泵11被加壓而供給到氣泡發(fā)生器24。也就是說，處理液L不會因氧或二氧化碳等氣體劣化而供給到氣泡發(fā)生器24。在該氣泡發(fā)生器24中，與處理液L 一起被加壓供給有氣體供給部25的惰性氣體。
[0048]若對氣泡發(fā)生器24供給處理液L和惰性氣體，則這些處理液L和惰性氣體變成旋轉(zhuǎn)流而在內(nèi)部以不同的旋轉(zhuǎn)速度流動，通過其旋轉(zhuǎn)速度之差，惰性氣體被處理液L截斷而產(chǎn)生納米氣泡或微納米氣泡等的微小氣泡，該微小氣泡混入處理液L中。
[0049]混入了微小氣泡的處理液L通過第一循環(huán)泵11的壓力在供液管3中流動而到達噴射管4,從設(shè)于該噴射管4的多個噴嘴5朝向在處理部2內(nèi)由輸送傳送機6輸送的基板W的上表面進行噴射。
[0050]由此，在處理液L是顯影液的情況下，對基板W進行顯影處理，在處理液L是剝離液的情況下，進行附著殘留在基板W上的抗蝕劑的剝離除去。
[0051]在處理液L被從噴射管4的噴嘴5向基板W噴射時，處理液L會與大氣接觸，所以存在溶解在大氣中包含的二氧化碳或氧等氣體而導(dǎo)致劣化的可能。
[0052]但是，在從噴射管4的噴嘴5向基板W噴射的處理液L中包含有惰性氣體的微小氣泡。因此，從噴嘴5向基板W噴射的處理液L，通過在該處理液L中含有微小氣泡，而使大氣中的二氧化碳或氧等氣體元素難以溶解。
[0053]也就是說，若在處理部2將處理液L從噴嘴5向基板W噴射，則處理液L與大氣的接觸面積增大而變成容易溶解大氣中的二氧化碳或氧等氣體元素的狀態(tài)，但是通過在處理液L中含有微小氣泡,而使大氣中的二氧化碳或氧難以溶解，所以即使向基板W噴射處理液L也不易使處理液L劣化。
[0054]尤其是，如果使處理液L以飽和狀態(tài)或與飽和狀態(tài)接近的狀態(tài)包含惰性氣體的微小氣泡，則大氣中的二氧化碳或氧更難以溶解于該處理液L中，所以能夠更可靠地防止處理液L的劣化。
[0055]而且，通過使惰性氣體的微小氣泡包含于處理液L中，若包含有微小氣泡的處理液L返回儲液箱I，則能夠通過微小氣泡的發(fā)泡作用對積存于該儲液箱I內(nèi)的處理液L除去包含于處理液L的大氣中的二氧化碳或氧等。[0056]因此，與在被供給到處理部2的處理液L中以飽和狀態(tài)或與飽和狀態(tài)接近的狀態(tài)包含惰性氣體的微小氣泡相應(yīng)地，使返回儲液箱I的處理液L中難以包含大氣中的二氧化碳或氧等。
[0057]而且，通過在處理槽2中將包含微小氣泡的處理液L供給到基板W，能夠使得例如從基板W除去的抗蝕劑等的正電位的塵埃被與基板W相同電位的負電位的微小氣泡覆蓋。因此，在基板W與塵埃之間產(chǎn)生反作用力而將塵埃從基板W除去，所以能夠防止被除去的塵埃再次附著于基板W。
[0058]在處理液L是顯影液的情況下，不僅通過與大氣中包含的二氧化碳的接觸而劣化，而且若處理液L在供液管3中循環(huán)時從第一循環(huán)泵11受到熱能、或因在供液管3中流動時的流路阻力而產(chǎn)生熱能，則該熱能使得最初就包含于顯影液中的碳酸氫鉀或碳酸氫鈉熱分解而產(chǎn)生二氧化碳，因該二氧化碳促進處理液L的劣化。
[0059]但是，包含于顯影液的二氧化碳會被除氣裝置12除去，所以即使包含于顯影液中的碳酸氫鉀或碳酸氫鈉熱分解而產(chǎn)生二氧化碳，也能夠防止顯影液提前劣化。
[0060]這樣處理過基板W的處理液L反復(fù)進行如下循環(huán):經(jīng)過回收管28而被回收到儲液箱I之后，通過第一循環(huán)泵11而在供液管3中流動而被供給到處理部2。
[0061]S卩，根據(jù)上述結(jié)構(gòu)的處理裝置，處理液L中包含的氣體被除氣裝置12除去，所以能夠可靠地防止處理液L由于二氧化碳或氧等的氣體而提前劣化的情況。
[0062]若被進行了除氣的處理液L從噴射管4的噴嘴5向基板W噴射，則該處理液L與大氣接觸，所以有可能溶解大氣中所包含的氣體而劣化。但是，在從噴嘴5噴射的處理液L中包含有通過氣泡發(fā)生器24利用與處理液L不反應(yīng)的惰性氣體等氣體制作出的微小氣泡。
[0063]因此，即使處理液L與大氣接觸，在已經(jīng)包含有微小氣泡的處理液L中也難以溶解大氣中的二氧化碳或氧等氣體，所以也正因此能夠防止處理液L提前劣化。
[0064]圖3的曲線圖A?D是伴隨時間經(jīng)過而測量的除氣后的純水中包含的氧濃度的變化的曲線圖。在該圖中，曲線圖A是測量將純水除氣、不循環(huán)而在該狀態(tài)下放置時的氧濃度的變化的情況，曲線圖B是測量將循環(huán)進行了 15分鐘后，混入N2氣泡，之后放置時的氧濃度變化的情況。
[0065]曲線圖C是測量將循環(huán)進行15分鐘，混入CO2氣泡，之后放置時的氧濃度變化的情況，曲線圖D是測量將循環(huán)進行15分鐘，不混入氣泡，之后放置時的氧濃度變化的情況。
[0066]從以上實驗可知，如曲線圖C、D所示，即使對包含于純水的氧進行除氣，通過使純水循環(huán)而純水中的氧濃度也會增加，以及如曲線圖B所示，即使使純水循環(huán)也可通過混入N2氣泡來抑制氧濃度的增加。而且可知，如曲線圖A所示，如果除氣后不使純水循環(huán)，則氧濃度不會大幅度增加。
[0067]圖4是通過上述一實施方式示出的處理裝置使處理液L循環(huán)時、測量處理液L的氧濃度的變化的曲線圖。在該曲線圖中，橫軸的X1-X2的范圍是測量在純水中沒有混入氣泡而循環(huán)時的氧濃度的變化，X2-X3、X3-X4以及X4-X5的范圍是分別測量使N2氣泡混入而循環(huán)時的氧濃度的變化。也就是說，在循環(huán)時使N2氣泡混入純水中。
[0068]從上述可知，通過使N2氣泡混入純水中而循環(huán)，能夠使溶解氧濃度減少。作為溶解氧濃度減少的理由，可以想到是因為通過使純水反復(fù)循環(huán)而包含于純水中的N2氣泡量逐漸增加的緣故。也就是說，可以想到是由于純水中包含的N2氣泡量增加而導(dǎo)致大氣中的氧變得難以進入的緣故。
[0069]圖5是表示本發(fā)明的第二實施方式的基板的處理裝置的結(jié)構(gòu)圖。另外，對與圖1所示的處理裝置相同的部分賦予同一標記而省略詳細說明。
[0070]在該實施方式中，存儲于儲液箱I中的處理液L，由除氣裝置12將氣體除氣后被供給至氣泡發(fā)生器24。如果通過該氣泡發(fā)生器24使微小氣泡混入了處理液L中，則該處理液L通過供液管3返回儲液箱I而被儲存。被儲存于儲液箱I中的處理液L反復(fù)進行如下循環(huán):從該儲液箱I經(jīng)過除氣裝置12以及氣泡發(fā)生器24而返回儲液箱I。
[0071]另一方面，儲液箱I和噴射管4通過在中途部設(shè)置有第二循環(huán)泵31的構(gòu)成循環(huán)管路的供液管3a而被連接。在處理基板W時，使上述第二循環(huán)泵31動作，從而包含有微小氣泡的處理液L從儲液箱I被供給到上述噴射管4，進而從該噴射管4的噴嘴5向基板W噴射。
[0072]并且，被供給到基板W的處理液L通過回收管28被回收到儲液箱1，反復(fù)進行從該儲液箱I經(jīng)過除氣裝置12和氣泡發(fā)生器24而返回儲液箱I的循環(huán)。
[0073]根據(jù)這樣的結(jié)構(gòu)，即使在處理部2中不處理基板W時，也能夠使儲液箱I內(nèi)的處理液L在氣泡發(fā)生器24、儲液箱I以及除氣裝置12之間循環(huán)，將被充分除氣了的處理液L預(yù)先存儲到處理箱I內(nèi)。因此，在處理基板W時，能夠?qū)⒈怀龤?、并且混入了微小氣泡而存儲于儲液箱I中的處理液L迅速供給到基板W。
[0074]而且，將處理液L供給到基板W之前，反復(fù)進行將處理液L從儲液箱I經(jīng)過除氣裝置12和氣泡發(fā)生器24而返回儲液箱I的循環(huán)，由此能夠使處理液L中包含的溶解氧濃度降低。
[0075]另外，在要使處理液L中包含的溶解氧濃度降低的情況下，通過氣泡發(fā)生器24使N2氣泡混入處理液L中。
[0076]圖6是表示本發(fā)明的第三實施方式的處理裝置的結(jié)構(gòu)圖。另外，對與圖1所示的處理裝置相同的部分賦予同一標記而省略詳細說明。
[0077]該第三實施方式是圖5所示的第二實施方式的變形例，存儲于儲液箱I中的處理液L由第一循環(huán)泵11被直接供給到氣泡發(fā)生器24。也就是說，在該第三實施方式中，與上述第二實施方式相比除去了設(shè)于供液管3的除氣裝置12，這一點是不同的。
[0078]另外，在第三實施方式中，將儲液箱I的處理液L的一部分被供給到處理部2后而返回儲液箱I的路徑作為第一循環(huán)管路，將儲液箱I的處理液L的一部分被供給到氣泡發(fā)生器24后而返回儲液箱I的路徑作為第二循環(huán)管路。
[0079]根據(jù)這樣的結(jié)構(gòu)，在處理部2被從噴射管4供給到基板W的處理液L，通過第一循環(huán)管路進行溶解二氧化碳或氧等氣體并通過回收管28返回到儲液箱I這樣的循環(huán)。
[0080]另一方面，儲液箱I的處理液L通過第二循環(huán)管路進行與來自氣體供給部25的惰性氣體一起被供給到氣泡發(fā)生器24、混入納米氣泡或微納米氣泡等微小氣泡后返回儲液箱I的循環(huán)。
[0081]通過氣泡發(fā)生器24而包含有微小氣泡的處理液L若返回到儲液箱1，則與從處理部2返回到該儲液箱I的包含有氧或二氧化碳等的溶解氣體的處理液L混合。
[0082]由此，在從處理部2返回的溶解有二氧化碳或氧等氣體的處理液L中，混合有通過氣泡發(fā)生器24而含有微小氣泡的、通過第二循環(huán)管路而在儲液箱I與氣泡發(fā)生器24之間循環(huán)的處理液L，所以通過來自氣泡發(fā)生器24的處理液L中所包含的微小氣泡的發(fā)泡作用，來除去來自處理部2的處理液L中所溶解的二氧化碳或氧等的氣體。
[0083]也就是說，使通過氣泡發(fā)生器24而混入了微小氣泡的處理液L，通過第二循環(huán)管路循環(huán)到儲液箱1，由此，即使不使用第一、第二實施方式中示出除氣裝置12，也能夠除去通過第一循環(huán)管路從處理部2返回儲液箱I的處理液L中原本就包含的二氧化碳或氧等的氣體、或者通過將處理液L供給到基板W而包含的二氧化碳或氧等的氣體。
[0084]此外，即使在處理部2中不處理基板W時，也使儲液箱I內(nèi)的處理液L在氣泡發(fā)生器24和儲液箱I之間循環(huán)，從而能夠在儲液箱I內(nèi)預(yù)先存儲被充分除氣的處理液L。因此，在處理基板W時，能夠?qū)⒈怀龤獠⒒烊胗形⑿馀荻鎯τ趦σ合銲中的處理液L迅速地供給到基板W。 [0085]圖7是表示在圖6中示出的第三實施方式的變形例的第四實施方式，在該第四實施方式中，將儲液箱I中存儲的處理液L的供液管3與對來自氣體供給部25的惰性氣體進行供給的供氣管25b在第一循環(huán)泵11的吸入側(cè)連接。而且，通過上述第一循環(huán)泵11將處理液L與惰性氣體預(yù)先混合后供給到氣泡發(fā)生器24。
[0086]由此，預(yù)先混合的處理液L和惰性氣體在氣泡發(fā)生器24內(nèi)部一邊旋轉(zhuǎn)一邊流動而被攪拌，由此惰性氣體變成微小氣泡，所以能夠使微小氣泡高效地混合于處理液L中。
[0087]另外，在第四實施方式中，也與第三實施方式同樣，將儲液箱I的處理液L的一部分被供給到處理部2后而返回儲液箱的路徑作為第一循環(huán)管路，將儲液箱I的處理液L的一部分被供給到氣泡發(fā)生器24后而返回儲液箱I的路徑作為第二循環(huán)管路。
[0088]在這樣的結(jié)構(gòu)中，也與圖6示出的第三實施方式同樣，能夠在通過第一循環(huán)管路而從處理部2返回到儲液箱I的溶解有二氧化碳或氧等的氣體的處理液L中，混合通過第二循環(huán)管路而在氣泡發(fā)生器24與儲液箱I之間循環(huán)的處理液L中包含的微小氣泡。
[0089]由此，即使在處理部2中二氧化碳或氧等的氣體溶解于處理液L，該氣體也會由在第二循環(huán)管路中循環(huán)并返回到儲液箱I的處理液中包含的微小氣泡的發(fā)泡作用而被良好地除去。
[0090]圖8是表示對處理液供給了微小氣泡時的經(jīng)過時間與處理液中包含的溶氧量之間的關(guān)系的曲線圖。該曲線圖確認出，在第三、第四實施方式中，通過第一循環(huán)管路使氧溶解于處理液中，在溶解開始后，在氧量變成大約35mg/l的大約14分鐘后，開始對通過第二循環(huán)管路進行循環(huán)的處理液供給微小氣泡，在微小氣泡的供給開始后大約6分鐘后即經(jīng)過時間為大約20分鐘后，儲液箱I的處理液中的溶氧量大幅下降。
[0091]另外,在上述各實施方式中，作為處理部列舉了對基板一邊由輸送傳送機輸送一邊進行處理的例子進行了說明，但是作為處理部也可以是使基板一邊旋轉(zhuǎn)一邊供給處理液的所謂的旋轉(zhuǎn)處理裝置。
[0092]此外，作為氣泡發(fā)生器，不限于在上述各實施方式中舉出的結(jié)構(gòu)的裝置，例如也可以是通過對氣體加壓而使其經(jīng)過過濾器而在液體中產(chǎn)生氣泡的所謂加壓方式等的其他結(jié)構(gòu)。
[0093]附圖標記說明
[0094]I...儲液箱、2...處理部、3...供液管(循環(huán)管路)、4..?噴射管、5...噴嘴、6...輸送傳送機、11...循環(huán)泵、12...除氣裝置、19...減壓室、22...除氣部件、24...氣泡發(fā)生器、28...回收管(循環(huán)管路)。
【權(quán)利要求】
1.一種基板的處理裝置，通過處理液處理基板，其特征在于，具備: 處理部，被供給要通過上述處理液處理的上述基板； 儲液箱，存儲有上述處理液； 第一循環(huán)管路，將該儲液箱的處理液供給到上述處理部并處理上述基板之后，返回上述儲液箱；以及 第二循環(huán)管路，不同于上述第一循環(huán)管路，設(shè)有:氣泡發(fā)生機構(gòu)，將不與上述處理液反應(yīng)的氣體形成微小氣泡，混入到上述處理液中；和泵，將上述儲液箱的處理液向上述氣泡發(fā)生機構(gòu)供給，該第二循環(huán)管路使上述儲液箱的處理液由上述泵供給到上述氣泡發(fā)生機構(gòu)后返回上述儲液箱， 上述氣泡發(fā)生機構(gòu)是通過上述氣體被上述處理液截斷來產(chǎn)生微小氣泡的截斷方式。
2.如權(quán)利要求1所述的基板的處理裝置，其特征在于， 上述氣體在上述第二循環(huán)管路的上述泵的吸引側(cè)被供給。
3.如權(quán)利要求1或2所述的基板的處理裝置，其特征在于， 上述氣體是惰性氣體。
4.一種基板的處理方法，通過處理液處理基板，其特征在于，具備: 將基板供給到處理部的工序； 將儲液箱中存儲的處理液經(jīng)由第一循環(huán)管路供給到上述處理部之后回收到上述儲液箱的工序；以及 經(jīng)由不同于上述第一循環(huán)管路的第二循環(huán)管路，將上述儲液箱的處理液由泵供給到氣泡發(fā)生機構(gòu)，在該氣泡發(fā)生機構(gòu)中，將不與所供給的上述處理液反應(yīng)的氣體通過上述處理液截斷來形成微小氣泡，混入到上述處理液中后返回上述儲液箱的工序。
【文檔編號】G03F7/30GK103943539SQ201410185437
【公開日】2014年7月23日 申請日期:2010年2月19日 優(yōu)先權(quán)日:2009年2月25日
【發(fā)明者】西部幸伸, 磯明典, 高野有美, 牧野勉 申請人:芝浦機械電子株式會社