一種光擴散膜的制作方法
【專利摘要】一種光擴散膜，包括基材，還包括覆蓋在基材一面的一層擴散層、覆蓋在基材另一面的一層背層，擴散層和背層復(fù)合到基材上的方式為：先將基材進行進行雙面電暈處理；再調(diào)制擴散層涂布液和背層涂布液，然后將擴散層涂布液和背層涂布液分別涂布到經(jīng)雙面電暈處理好的基材的兩面，經(jīng)干燥固化后成型。本發(fā)明在使用兩張疊加的方式，輝度比單張使用時輝度提高25%左右，光線經(jīng)過反射膜，導(dǎo)光板，光擴散膜（2張）直接形成面光源的方法，可以節(jié)省價格昂貴的增亮膜，促進背光模組朝薄型化、輕量化以及降低成本的方向發(fā)展。
【專利說明】一種光擴散膜
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ] 本發(fā)明涉及一種光擴散膜。
【背景技術(shù)】
[0002]一直以來，平板顯示器廣泛應(yīng)用于電視、電腦顯示器、筆記本電腦、手機、數(shù)碼相機、掌上電腦、GPS導(dǎo)航儀等。這些液晶顯示器的畫面光源由其中的背光模組所提供，對光源的要求是均勻、高亮度。
[0003]光學(xué)擴散膜的作用在于通過折射現(xiàn)象將點光源或者線光源的光均勻擴散成均一、高亮度的面光源，這種光學(xué)擴散膜被廣泛的應(yīng)用于液晶顯示器或者等離子顯示器的背光模組中。
[0004]平板顯示器的背光模組裝置的典型結(jié)構(gòu)是:光線由光源發(fā)射出來，經(jīng)反射膜，導(dǎo)光板，下擴散膜，增亮膜和 上擴散膜，擴散后形成面光源。
[0005]而平板顯示器除了朝大尺寸發(fā)展以外，同時還希望可以兼顧薄型化、輕量化以及降低成本等要求，而現(xiàn)在的背光模組中，由于使用了增亮膜、上擴散和下擴散，其厚度和成本均無法降低，現(xiàn)有的光擴散膜無法取代增亮膜。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]為了克服現(xiàn)有光擴散膜的上述不足，本發(fā)明提供一種疊加使用后可取代增亮膜的光擴散膜。
[0007]本發(fā)明解決其技術(shù)問題的技術(shù)方案是:一種具有光擴散膜，包括基材，還包括覆蓋在所述基材一面的一層擴散層、覆蓋在所述基材另一面的一層背層，所述的擴散層和背層復(fù)合到基材上的方式為:先將基材進行進行雙面電暈處理，電暈強度為3飛KV，優(yōu)選
3.5~4KV ；
再調(diào)制擴散層涂布液和背層涂布液，然后將擴散層涂布液和背層涂布液分別涂布到經(jīng)雙面電暈處理好的基材的兩面，經(jīng)干燥固化后成型。
[0008]所述擴散層涂布液的組成為:作為溶劑的甲苯和甲基乙基酮的混合溶液50-60質(zhì)量份，甲苯和甲基乙基酮的比例為1:0.3~3，優(yōu)選1:1 ;
光擴散粒子15^25質(zhì)量份，其為有機硅粒子、PS粒子、PMMA粒子、尼龍粒子中的一種，優(yōu)選PMMA粒子，光擴散粒子的粒徑為5~20 μ m，優(yōu)選8_12 μ m ；
丙烯酸樹脂或聚氨酯，優(yōu)選丙烯酸樹脂，20-25質(zhì)量份；
作為固化劑的異氰酸酯3質(zhì)量份；
所述背層涂布液的組成為:作為溶劑的甲苯和甲基乙基酮的混合溶液55~70質(zhì)量份，甲苯和甲基乙基酮的比例為1:0.3~3，優(yōu)選1:1 ;
無機擴散粒子0.0.3質(zhì)量份，其為碳酸鈣粒子、二氧化硅粒子、二氧化鈦粒子中的一種，優(yōu)選二氧化硅粒子，無機擴散粒子的粒徑為8 μ m ;
丙烯酸樹脂或聚氨酯，優(yōu)選丙烯酸樹脂，30-40質(zhì)量份；作為固化劑的異氰酸酯1-3質(zhì)量份；
作為抗靜電劑的納米級氧化銦錫0.5~2質(zhì)量份，該抗靜電劑可以在一定范圍內(nèi)調(diào)制涂層膜面的表面電阻，并使涂布膜面擁有良好的硬度。
[0009]本發(fā)明中的基材從使用特性要求來講，要具有良好表面平滑性、機械強度、耐溫性以及耐候性的材料。如果基材的厚度過薄，那么氣耐熱穩(wěn)定性下降，影響光學(xué)擴散膜的生產(chǎn)制造、裝配加工以及耐熱使用特性。如果基材厚度過厚，那么其透過率降低，勢必影響光學(xué)擴散膜的透過率及霧度等光學(xué)指標，推薦所述基材的厚度為100 μ m-250 μ m。
[0010]為保證膜層具有良好的硬度，透過率和霧度，推薦所述擴散層的厚度為13~17μπι，所述背層的厚度為61 μ m。
[0011]本發(fā)明的有益效果在于:在使用兩張疊加的方式，輝度比單張使用時輝度提高25%左右，光線經(jīng)過反射膜，導(dǎo)光板，光擴散膜(2張)直接形成面光源的方法，可以節(jié)省價格昂貴的增亮膜，促進背光模組朝薄型化、輕量化以及降低成本的方向發(fā)展。
【具體實施方式】
[0012]下面結(jié)合【具體實施方式】對本發(fā)明作進一步詳細說明。
[0013]實施例一
一種具有光擴散膜，包括基材，還包括覆蓋在所述基材一面的一層擴散層、覆蓋在所述基材另一面的一層背層，所述的擴散層和背層復(fù)合到基材上的方式為:先將基材進行進行雙面電暈處理，電暈強度為3.5KV ；
再調(diào)制擴散層涂布液和背層涂布液，然后將擴散層涂布液和背層涂布液分別涂布到經(jīng)雙面電暈處理好的基材的兩面，經(jīng)干燥固化后成型。
[0014]所述擴散層涂布液的組成為:作為溶劑的甲苯和甲基乙基酮的混合溶液55質(zhì)量份，甲苯和甲基乙基酮的比例為1:1;
光擴散粒子20質(zhì)量份，其為PMMA粒子，光擴散粒子的粒徑為8-12 μ m ；
丙烯酸樹脂25質(zhì)量份；
作為固化劑的異氰酸酯2質(zhì)量份；
所述背層涂布液的組成為:作為溶劑的甲苯和甲基乙基酮的混合溶液65質(zhì)量份，甲苯和甲基乙基酮的比例為1:1 ;
無機擴散粒子0.2質(zhì)量份，其為二氧化硅粒子，無機擴散粒子的粒徑為4-8 μ m ;
丙烯酸樹脂35質(zhì)量份；
作為固化劑的異氰酸酯2質(zhì)量份；
作為抗靜電劑的納米級氧化銦錫I質(zhì)量份，該抗靜電劑可以在一定范圍內(nèi)調(diào)制涂層膜面的表面電阻，并使涂布膜面擁有良好的硬度。
[0015]本發(fā)明中的基材從使用特性要求來講，要具有良好表面平滑性、機械強度、耐溫性以及耐候性的材料。如果基材的厚度過薄，那么氣耐熱穩(wěn)定性下降，影響光學(xué)擴散膜的生產(chǎn)制造、裝配加工以及耐熱使用特性。如果基材厚度過厚，那么其透過率降低，勢必影響光學(xué)擴散膜的透過率及霧度等光學(xué)指標，推薦所述基材的厚度為100 μ m-250 μ m,
為保證膜層具有良好的硬度，透過率和霧度，推薦所述擴散層的厚度為13~17 μ m,所述背層的厚度為61 μ m。[0016]本發(fā)明在使用兩張疊加的方式，輝度比單張使用時輝度提高25%左右，光線經(jīng)過反射膜，導(dǎo)光板，光擴散膜(2張)直接形成面光源的方法，可以節(jié)省價格昂貴的增亮膜，促進背光模組朝薄型化、輕量化以及降低成本的方向發(fā)展。
[0017]實施例二
一種具 有光擴散膜，包括基材，還包括覆蓋在所述基材一面的一層擴散層、覆蓋在所述基材另一面的一層背層，所述的擴散層和背層復(fù)合到基材上的方式為:先將基材進行進行雙面電暈處理，電暈強度為5KV ；
再調(diào)制擴散層涂布液和背層涂布液，然后將擴散層涂布液和背層涂布液分別涂布到經(jīng)雙面電暈處理好的基材的兩面，經(jīng)干燥固化后成型。
[0018]所述擴散層涂布液的組成為:作為溶劑的甲苯和甲基乙基酮的混合溶液50質(zhì)量份，甲苯和甲基乙基酮的比例為1:3 ;
光擴散粒子22質(zhì)量份，其為有機硅粒子，光擴散粒子的粒徑為6~12 μ m ；
聚氨酯21質(zhì)量份；
作為固化劑的異氰酸酯3質(zhì)量份；
所述背層涂布液的組成為:作為溶劑的甲苯和甲基乙基酮的混合溶液58質(zhì)量份，甲苯和甲基乙基酮的比例為1:0.4 ;
無機擴散粒子0.15質(zhì)量份，其為碳酸鈣粒子，無機擴散粒子的粒徑為51 μ m ; 聚氨酯30質(zhì)量份；
作為固化劑的異氰酸酯3質(zhì)量份；
作為抗靜電劑的納米級氧化銦錫0.5質(zhì)量份，該抗靜電劑可以在一定范圍內(nèi)調(diào)制涂層膜面的表面電阻，并使涂布膜面擁有良好的硬度。
[0019]本發(fā)明中的基材從使用特性要求來講，要具有良好表面平滑性、機械強度、耐溫性以及耐候性的材料。如果基材的厚度過薄，那么氣耐熱穩(wěn)定性下降，影響光學(xué)擴散膜的生產(chǎn)制造、裝配加工以及耐熱使用特性。如果基材厚度過厚，那么其透過率降低，勢必影響光學(xué)擴散膜的透過率及霧度等光學(xué)指標，推薦所述基材的厚度為100 μ m-250 μ m,
為保證膜層具有良好的硬度，透過率和霧度，推薦所述擴散層的厚度為13~17 μ m,所述背層的厚度為61 μ m。
[0020]本發(fā)明在使用兩張疊加的方式，輝度比單張使用時輝度提高25%左右，光線經(jīng)過反射膜，導(dǎo)光板，光擴散膜(2張)直接形成面光源的方法，可以節(jié)省價格昂貴的增亮膜，促進背光模組朝薄型化、輕量化以及降低成本的方向發(fā)展。
[0021]實施例三
一種具有光擴散膜，包括基材，還包括覆蓋在所述基材一面的一層擴散層、覆蓋在所述基材另一面的一層背層，所述的擴散層和背層復(fù)合到基材上的方式為:先將基材進行進行雙面電暈處理，電暈強度為3KV ；
再調(diào)制擴散層涂布液和背層涂布液，然后將擴散層涂布液和背層涂布液分別涂布到經(jīng)雙面電暈處理好的基材的兩面，經(jīng)干燥固化后成型。
[0022]所述擴散層涂布液的組成為:作為溶劑的甲苯和甲基乙基酮的混合溶液60質(zhì)量份，甲苯和甲基乙基酮的比例為1:1.5 ;
光擴散粒子15質(zhì)量份，其為PS粒子，光擴散粒子的粒徑為10-15 μ m ；丙烯酸樹脂22質(zhì)量份；
作為固化劑的異氰酸酯I質(zhì)量份；
所述背層涂布液的組成為:作為溶劑的甲苯和甲基乙基酮的混合溶液68質(zhì)量份，甲苯和甲基乙基酮的比例為1:0.3;
無機擴散粒子0.3質(zhì)量份，其為二氧化硅粒子，無機擴散粒子的粒徑為4~5μ m ; 聚氨酯40質(zhì)量份；
作為固化劑的異氰酸酯2.5質(zhì)量份；
作為抗靜電劑的納米級氧化銦錫1.5質(zhì)量份，該抗靜電劑可以在一定范圍內(nèi)調(diào)制涂層膜面的表面電阻，并使涂布膜面擁有良好的硬度。
[0023]本發(fā)明中的基材從使用特性要求來講，要具有良好表面平滑性、機械強度、耐溫性以及耐候性的材料。如果基材的厚度過薄，那么氣耐熱穩(wěn)定性下降，影響光學(xué)擴散膜的生產(chǎn)制造、裝配加工以 及耐熱使用特性。如果基材厚度過厚，那么其透過率降低，勢必影響光學(xué)擴散膜的透過率及霧度等光學(xué)指標，推薦所述基材的厚度為100 μ π~250 μ m,
為保證膜層具有良好的硬度，透過率和霧度，推薦所述擴散層的厚度為13~17 μ m,所述背層的厚度為61 μ m。
[0024]本發(fā)明在使用兩張疊加的方式，輝度比單張使用時輝度提高25%左右，光線經(jīng)過反射膜，導(dǎo)光板，光擴散膜(2張)直接形成面光源的方法，可以節(jié)省價格昂貴的增亮膜，促進背光模組朝薄型化、輕量化以及降低成本的方向發(fā)展。
[0025]實施例四
一種具有光擴散膜，包括基材，還包括覆蓋在所述基材一面的一層擴散層、覆蓋在所述基材另一面的一層背層，所述的擴散層和背層復(fù)合到基材上的方式為:先將基材進行進行雙面電暈處理，電暈強度為4KV ；
再調(diào)制擴散層涂布液和背層涂布液，然后將擴散層涂布液和背層涂布液分別涂布到經(jīng)雙面電暈處理好的基材的兩面，經(jīng)干燥固化后成型。
[0026]所述擴散層涂布液的組成為:作為溶劑的甲苯和甲基乙基酮的混合溶液58質(zhì)量份，甲苯和甲基乙基酮的比例為1:0.3 ;
光擴散粒子25質(zhì)量份，其為尼龍粒子，光擴散粒子的粒徑為5~10 μ m ；
聚氨酯20質(zhì)量份；
作為固化劑的異氰酸酯2.5質(zhì)量份；
所述背層涂布液的組成為:作為溶劑的甲苯和甲基乙基酮的混合溶液55質(zhì)量份，甲苯和甲基乙基酮的比例為1:3;
無機擴散粒子0.1質(zhì)量份，其為碳酸鈣粒子，無機擴散粒子的粒徑為4~7 μ m ;
聚氨酯37質(zhì)量份；
作為固化劑的異氰酸酯I質(zhì)量份；
作為抗靜電劑的納米級氧化銦錫2質(zhì)量份，該抗靜電劑可以在一定范圍內(nèi)調(diào)制涂層膜面的表面電阻，并使涂布膜面擁有良好的硬度。
[0027]本發(fā)明中的基材從使用特性要求來講，要具有良好表面平滑性、機械強度、耐溫性以及耐候性的材料。如果基材的厚度過薄，那么氣耐熱穩(wěn)定性下降，影響光學(xué)擴散膜的生產(chǎn)制造、裝配加工以及耐熱使用特性。如果基材厚度過厚，那么其透過率降低，勢必影響光學(xué)擴散膜的透過率及霧度等光學(xué)指標，推薦所述基材的厚度為100 μ m~250 μ m,
為保證膜層具有良好的硬度，透過率和霧度，推薦所述擴散層的厚度為13~17 μ m,所述背層的厚度為61 μ m。
[0028]本發(fā)明在使用兩張疊加的方式，輝度比單張使用時輝度提高25%左右，光線經(jīng)過反射膜，導(dǎo)光板，光擴散膜(2張)直接形成面光源的方法，可以節(jié)省價格昂貴的增亮膜，促進背光模組朝薄型化、輕量化以及降低成本的方向發(fā)展。
[0029]實施例五
一種具有光擴散膜，包括基材，還包括覆蓋在所述基材一面的一層擴散層、覆蓋在所述基材另一面的一層背層，所述的擴散層和背層復(fù)合到基材上的方式為:先將基材進行進行雙面電暈處理，電暈強度為4.5KV ；
再調(diào)制擴散層涂布液和背層涂布液，然后將擴散層涂布液和背層涂布液分別涂布到經(jīng)雙面電暈處理好的基材的兩面，經(jīng)干燥固化后成型。
[0030]所述擴散層涂布液的組成為:作為溶劑的甲苯和甲基乙基酮的混合溶液52質(zhì)量份，甲苯和甲基乙基酮的比例為1:0.5 ;
光擴散粒子17質(zhì)量份，其為PMMA粒子，光擴散粒子的粒徑為15~20 μ m ；
丙烯酸樹脂23質(zhì)量份；
作為固化劑的異氰酸酯1.5質(zhì)量份；
所述背層涂布液的組成為:作為溶劑的甲苯和甲基乙基酮的混合溶液70質(zhì)量份，甲苯和甲基乙基酮的比例為1:1.5;
無機擴散粒子0.25質(zhì)量份，其為二氧化鈦粒子，無機擴散粒子的粒徑為71 μ m ; 聚氨酯38質(zhì)量份；
作為固化劑的異氰酸酯1.5質(zhì)量份；
作為抗靜電劑的納米級氧化銦錫0.7質(zhì)量份，該抗靜電劑可以在一定范圍內(nèi)調(diào)制涂層膜面的表面電阻，并使涂布膜面擁有良好的硬度。
[0031]本發(fā)明中的基材從使用特性要求來講，要具有良好表面平滑性、機械強度、耐溫性以及耐候性的材料。如果基材的厚度過薄，那么氣耐熱穩(wěn)定性下降，影響光學(xué)擴散膜的生產(chǎn)制造、裝配加工以及耐熱使用特性。如果基材厚度過厚，那么其透過率降低，勢必影響光學(xué)擴散膜的透過率及霧度等光學(xué)指標，推薦所述基材的厚度為100 μ m~250 μ m,
為保證膜層具有良好的硬度，透過率和霧度，推薦所述擴散層的厚度為13~17 μ m,所述背層的厚度為61 μ m。
[0032]本發(fā)明在使用兩張疊加的方式，輝度比單張使用時輝度提高25%左右，光線經(jīng)過反射膜，導(dǎo)光板，光擴散膜(2張)直接形成面光源的方法，可以節(jié)省價格昂貴的增亮膜，促進背光模組朝薄型化、輕量化以及降低成本的方向發(fā)展。
[0033]實施例六
一種具有光擴散膜，包括基材，還包括覆蓋在所述基材一面的一層擴散層、覆蓋在所述基材另一面的一層背層，所述的擴散層和背層復(fù)合到基材上的方式為:先將基材進行進行雙面電暈處理，電暈強度為3.2KV ；
再調(diào)制擴散層涂布液和背層涂布液，然后將擴散層涂布液和背層涂布液分別涂布到經(jīng)雙面電暈處理好的基材的兩面，經(jīng)干燥固化后成型。[0034]所述擴散層涂布液的組成為:作為溶劑的甲苯和甲基乙基酮的混合溶液53質(zhì)量份，甲苯和甲基乙基酮的比例為1:2 ;
光擴散粒子24質(zhì)量份，其為尼龍粒子，光擴散粒子的粒徑為7~15 μ m ；
聚氨酯24質(zhì)量份；
作為固化劑的異氰酸酯1.8質(zhì)量份；
所述背層涂布液的組成為:作為溶劑的甲苯和甲基乙基酮的混合溶液60質(zhì)量份，甲苯和甲基乙基酮的比例為1:2;
無機擴散粒子0.2質(zhì)量份，其為二氧化硅粒子，無機擴散粒子的粒徑為61 μ m ;
丙烯酸樹脂32質(zhì)量份；
作為固化劑的異氰酸酯2.3質(zhì)量份；
作為抗靜電劑的納米級氧化銦錫1.2質(zhì)量份，該抗靜電劑可以在一定范圍內(nèi)調(diào)制涂層膜面的表面電阻，并使涂布膜面擁有良好的硬度。
[0035]本發(fā)明中的基材從使用特性要求來講，要具有良好表面平滑性、機械強度、耐溫性以及耐候性的材料。如果基材的厚度過薄，那么氣耐熱穩(wěn)定性下降，影響光學(xué)擴散膜的生產(chǎn)制造、裝配加工以及耐熱使用特性。如果基材厚度過厚，那么其透過率降低，勢必影響光學(xué)擴散膜的透過率及 霧度等光學(xué)指標，推薦所述基材的厚度為100 μ πm250 μ m,
為保證膜層具有良好的硬度，透過率和霧度，推薦所述擴散層的厚度為13~17 μ m,所述背層的厚度為61 μ m。
[0036]本發(fā)明在使用兩張疊加的方式，輝度比單張使用時輝度提高25%左右，光線經(jīng)過反射膜，導(dǎo)光板，光擴散膜(2張)直接形成面光源的方法，可以節(jié)省價格昂貴的增亮膜，促進背光模組朝薄型化、輕量化以及降低成本的方向發(fā)展。
【權(quán)利要求】
1.一種光擴散膜，包括基材，其特征在于:還包括覆蓋在所述基材一面的一層擴散層、覆蓋在所述基材另一面的一層背層，所述的擴散層和背層復(fù)合到基材上的方式為:先將基材進行進行雙面電暈處理，電暈強度為3飛KV ； 再調(diào)制擴散層涂布液和背層涂布液，然后將擴散層涂布液和背層涂布液分別涂布到經(jīng)雙面電暈處理好的基材的兩面，經(jīng)干燥固化后成型； 所述擴散層涂布液的組成為:作為溶劑的甲苯和甲基乙基酮的混合溶液50飛0質(zhì)量份，甲苯和甲基乙基酮的比例為1:0.3^3 ； 光擴散粒子15~25質(zhì)量份，其為有機硅粒子、PS粒子、PMMA粒子、尼龍粒子中的一種，光擴散粒子的粒徑為5~20 μ m ； 丙烯酸樹脂或聚氨酯，20-25質(zhì)量份； 作為固化劑的異氰酸酯1`3質(zhì)量份； 所述背層涂布液的組成為:作為溶劑的甲苯和甲基乙基酮的混合溶液55~70質(zhì)量份，甲苯和甲基乙基酮的比例為1:0.3^3 ； 無機擴散粒子0.1~0.3質(zhì)量份，其為碳酸鈣粒子、二氧化硅粒子、二氧化鈦粒子中的一種，無機擴散粒子的粒徑為4~8 μ m ; 丙烯酸樹脂或聚氨酯，30-40質(zhì)量份； 作為固化劑的異氰酸酯1~3質(zhì)量份； 作為抗靜電劑的納米級氧化銦錫0.5^2質(zhì)量份。
2.如權(quán)利要求1所述的光擴散膜，其特征在于:所述基材的厚度為100μM~250μM，所述擴散層的厚度為13~17 μ m,所述背層的厚度為61 μ m。
【文檔編號】G02B5/02GK103969717SQ201410193176
【公開日】2014年8月6日 申請日期:2014年5月9日 優(yōu)先權(quán)日:2014年5月9日
【發(fā)明者】羅培棟, 蘇杰 申請人:寧波東旭成新材料科技有限公司