一種高性能液晶光掩膜及其應用的制作方法
【專利摘要】一種高性能液晶光掩膜及其應用。該光掩膜包括，成像控制器，均光層，導光層，第一光學偏轉(zhuǎn)片，液晶層和第二光學偏轉(zhuǎn)片；所述液晶層夾設于第一光學偏轉(zhuǎn)片與第二光學偏轉(zhuǎn)片之間；第一光學偏轉(zhuǎn)片與液晶層接觸的表面上設置有第一透明電極層；第二光學偏轉(zhuǎn)片與液晶層接觸的表面上設置有第二透明導電層；所述第一光學偏轉(zhuǎn)片與第二光學偏轉(zhuǎn)片的偏振方向夾角為90度；所述導光層設置于第一光學偏轉(zhuǎn)片的光入射的一側(cè)，所述均光層設置于導光層的光入射的一側(cè)。本發(fā)明提供了一種無需更換掩膜實現(xiàn)多掩膜套印，精度高且精度可調(diào)節(jié)，穩(wěn)定性好、能長時間工作的液晶光掩膜。
【專利說明】一種高性能液晶光掩膜及其應用
【技術(shù)領域】
[0001]本發(fā)明是關于一種光掩膜，特別是關于一種高性能液晶光掩膜及其應用。
【背景技術(shù)】
[0002]在印刷工藝過程中，制版是整個過程中耗時最長，工藝最復雜，成本最高的環(huán)節(jié)，實現(xiàn)精確制版是高質(zhì)量印刷的關鍵；而在半導體制造整個流程中，光掩膜是實現(xiàn)從版圖到電路板制備過程中最重要的環(huán)節(jié)之一，也是整個流程中成本最高的一部分。常見的光掩膜有四種，鉻板、干板、凸版和液體凸版。光掩膜主要由兩部分組成，透光基板和不透光材料?，F(xiàn)有的掩膜版，一旦制備完成，其遮光和透光區(qū)域是固定不變的，因此，只適用于特定的待曝光器件。根據(jù)所制備器件的復雜程度不同，通常需要多套光掩膜實現(xiàn)曝光過程，大大增加了生產(chǎn)成本；此外，在此過程中，實現(xiàn)不同光掩膜的精確套刻尤其關鍵，通常涉及十分復雜的套刻工藝，無疑增加了生產(chǎn)的難度，降低了成品率。無論在印刷領域還是光刻領域，光掩膜都是最終產(chǎn)品質(zhì)量保證的關鍵環(huán)節(jié)。
[0003]近年來，透明顯示技術(shù)因其透明的顯示板這一特性及其獨特的應用，越來越受到人們的關注。透明顯示技術(shù)的核心是透明顯示板，透明顯示板是一種能夠顯示圖像的透明板，透明顯示板中的像素單元在關閉時，板就仿佛一塊透明玻璃；當其工作時，由于液晶的偏轉(zhuǎn)，相應偏轉(zhuǎn)區(qū)域呈現(xiàn)灰度，從而顯示出相應的圖案，同時，未偏轉(zhuǎn)的液晶區(qū)域仍然呈現(xiàn)透明狀態(tài)。透明液晶顯示板的這一特性為光掩膜的制備提供了新的方向。
[0004]作為現(xiàn)有技術(shù):
1.中國專利申請(申請?zhí)?01220006968.1)公開了種掩膜板，包括，圖案顯示屏，用于呈現(xiàn)掩膜圖案，控制單元，用于根據(jù)光刻工藝中所需的掩膜圖案的灰階信息控制所述圖案顯示屏，在不同區(qū)域的光透過量，以呈現(xiàn)所述掩膜圖案。圖案顯示屏包括:兩個透明基板，分別設置在所述兩個透明基板外側(cè)的偏振片，以及所述兩個透明基板之間的多個像素單元；每個像素單元包括液晶，以及驅(qū)動液晶旋轉(zhuǎn)的第一電極和第二電極。在不施加電壓的條件下，利用液晶的旋光性，紫外光能夠全部透射，形成了掩膜圖案的完全透光圖案區(qū)。在給第一電極和第二電極施加一定電壓條件下，紫外光能夠被全部吸收，形成了掩膜圖案的不透光圖案區(qū)，進一步的，若采用的是灰階曝光工藝，則在需要半曝光的區(qū)域，可以根據(jù)掩膜圖案的灰階信息在第一電極和第二電極兩端施加合適的電壓時，紫外光一部分被吸收，另一部分透過，從而控制紫外光的透過量，形成了掩膜圖案的半透光圖案區(qū)。
[0005]2.中國專利申請(申請?zhí)?00810247423.8)也公開了一種掩膜版及其制造方法，該掩膜版，包括:上基板；第一透明導電排線，位于所述上基板并朝第一方向排列；第一透明絕緣膜，位于所述第一透明導電排線上方并覆蓋所述上基板；下基板；第二透明導電排線，位于所述下基板并朝第二方向排列，所述第二方向垂直于所述第一方向；第二透明絕緣膜，位于所述第二透明導電排線上方并覆蓋所述下基板；所述上基板和所述下基板之間夾有液晶。所述上基板和所述下基板分別設有取向膜，并且兩個取向膜的取向方向相互垂直，并且所述液晶為手性劑和向列相液晶混合而成的膽留相液晶。中國專利(申請?zhí)?01020636483.1)也公開了一種掩膜版，具有類似的結(jié)構(gòu)。
[0006]3.中國專利申請(申請?zhí)?00820028195.0)公開了一種液晶板實現(xiàn)掩膜版載體的光刻裝置，利用活性液晶板作為掩膜版的載體，省去了掩膜版的制作過程，并且使其自身表面潔凈度的檢測變得很簡單，一旦自身表面沾有灰塵或劃傷就會很方便的被檢測出來，從而終止光刻過程，解決了傳統(tǒng)光刻時不同圖形須更換掩膜版和檢測不到位而導致整批產(chǎn)品質(zhì)量的問題。
[0007]根據(jù)上述現(xiàn)有技術(shù)可知，采用液晶板作為掩膜版具有諸多優(yōu)勢，然而，根據(jù)現(xiàn)有的技術(shù)，將其應用于實際生產(chǎn)中，往往出現(xiàn)精度與設計精度偏差較大，線寬調(diào)試困難，灰度不準確，易受溫度影響，長時間加工蠕變等技術(shù)問題。亟需一種精度高，穩(wěn)定性好的，適應長時間工作的透明液晶光掩膜。此外，上述掩膜均用于光刻領域，在印刷領域并無應用。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0008]發(fā)本發(fā)明的目的是提供一種精度高，穩(wěn)定性好的，適應長時間工作的高性能透明液晶光掩膜，以實現(xiàn)無需更換掩膜實現(xiàn)多掩膜套印，精度高，且精度可調(diào)節(jié)，穩(wěn)定性好、能長時間工作的透明液晶光掩膜，以解決前述現(xiàn)有技術(shù)的弊端。
[0009]具體的，本發(fā)明通過如下技術(shù)方案實現(xiàn):
首先，本發(fā)明提供了一種高性能液晶光掩膜，其特征在于，所述光掩膜包括，成像控制器，均光層，導光層，第一光學偏轉(zhuǎn)片，液晶層和第二光學偏轉(zhuǎn)片；所述液晶層夾設于第一光學偏轉(zhuǎn)片與第二光學偏轉(zhuǎn)片之間；第一光學偏轉(zhuǎn)片與液晶層接觸的表面上設置有第一透明電極層；第二光學偏轉(zhuǎn)片與液晶層接觸的表面上設置有第二透明導電層；所述第一光學偏轉(zhuǎn)片與第二光學偏轉(zhuǎn)片的偏振方向夾角為90度；所述導光層設置于第一光學偏轉(zhuǎn)片的光入射的一側(cè)；所述均光層設置于導光層的光入射的一側(cè)；所述成像控制器用于在第一透明電極層和第二透明電極層施加相應電信號，使所述液晶層中相應區(qū)域的液晶發(fā)生偏轉(zhuǎn)，形成所述目標圖像，遮掩曝光光源照射光線；未發(fā)生液晶偏轉(zhuǎn)的區(qū)域成光透過狀態(tài)。
[0010]具體的，所述導光層將入射光經(jīng)整理為平行光，所述平行光入射第一光學偏轉(zhuǎn)片。
[0011]現(xiàn)有的曝光光源，一般由點光源或線光源組合而成，形成面光源，然而，所形成的所謂的面光源仍然存在發(fā)光不均勻的情況，導致曝光過程中不同位置、甚至相鄰位置的光強度不同，從而導致制版精度下降，因此，為提高制版精度，液晶光掩膜還包括均光層，所述均光層設置于導光層的光入射的一側(cè)，將入射光調(diào)整為散射光。從結(jié)構(gòu)上講，均光層可以為現(xiàn)有技術(shù)中常規(guī)的任意能夠?qū)崿F(xiàn)將入射光調(diào)整為均勻的散射光的光學元件，如均光膜、光擴散膜或散光膜等。
[0012]可選的，為實現(xiàn)光掩膜的工作可靠性，防止因灰塵或劃傷引起的光掩膜損壞，降低生產(chǎn)成本，將導光層設置為可更換的部件，以使核心的第一、第二光學偏振片及其所夾設的液晶層免于更換，所述導光層與第一光學偏轉(zhuǎn)片形成物理接觸，所述物理接觸依靠靜電力或膠黏作用實現(xiàn)，實現(xiàn)無損接觸，快速更換。
[0013]可選的，為實現(xiàn)光掩膜的長時間工作的穩(wěn)定性，尤其是因長時間的曝光引起液晶層升溫而造成液晶層螺旋扭曲力的變化，所述導光層與第一光學偏轉(zhuǎn)片之間形成真空層，用于降低導光層與第一光學偏轉(zhuǎn)片的熱傳導，保證單一圖案曝光與套印曝光的精度一致。
[0014]進一步的，所述液晶層為為扭曲向列型液晶層。[0015]具體的，所述導光層為菲涅耳透鏡。
[0016]為防止應用過程中帶來的污染，造成污點、壞點及面板損壞等，所述光掩膜還包括去污層，所述去污層設置于第二光學偏轉(zhuǎn)片光出射一側(cè)。
[0017]此外，本發(fā)明還提供了一種上述的液晶光掩膜的應用，其特征在于，所述液晶光掩膜用于印刷制版中代替菲林作為光掩膜。
[0018]最后，一種制版裝置，其特征在于，所述制版裝置包含上述的高性能液晶光掩模，所述液晶光掩膜用于印刷制版中代替菲林作為光掩膜。
[0019]本發(fā)明相比于現(xiàn)有技術(shù)具有明顯的有益效果，列舉如下:
(I)提高制版精度:省去了感光膠片及其制備的工藝過程包括暗室膠片曝光沖洗、修版、曬版等繁瑣的操作環(huán)節(jié)，有效的減少了此過程中的化學試劑使用，減少了環(huán)境污染，即為一種綠色制版技術(shù)；降低了生產(chǎn)成本、減少了圖像轉(zhuǎn)移次數(shù)，提高了圖像質(zhì)量，由于不使用膠片，印刷品的印刷質(zhì)量有明顯改善，因為圖像和網(wǎng)點不受傳統(tǒng)印前工藝中的那些質(zhì)量衰減的影響。輸出的印版，質(zhì)量更好，因為菲林上的灰塵、擦痕等影響因素已經(jīng)不存在，網(wǎng)點邊緣干凈銳利，忠實原稿。(2)套準校色準確，成版率高。減少印刷調(diào)試時間和材料損耗。由于不需要印版定位，因此印版的質(zhì)量更好，而且不會因定位不準而需重新制版，避免上機印刷時花費大量時間校版。(3)適用范圍廣，精度可控性高。通過調(diào)節(jié)印刷圖像成像裝置的最小顯示單元的大小，能實現(xiàn)精度的可控選擇，適用于不同印刷需求，調(diào)整制版周期，合理提高生產(chǎn)效率。(4)均光層的設置進一步降低了液晶光掩膜對光源發(fā)光均勻性的依賴性，進一步提高了經(jīng)過光掩膜后光線在印版上曝光的均勻性，提高了其應用的廣泛性和制版精度。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0020]圖1為本發(fā)明實施例1的高性能液晶光掩膜的結(jié)構(gòu)示意圖；
圖2為本發(fā)明實施例1的高性能液晶光掩膜的第一光學偏轉(zhuǎn)片與第二光學偏轉(zhuǎn)片偏振方向示意圖；
圖3為本發(fā)明實施例2的高性能液晶光掩膜的結(jié)構(gòu)示意圖；
圖4為本發(fā)明實施例3的聞性能液晶光掩I旲的機構(gòu)不意圖。
【具體實施方式】
[0021]為使本發(fā)明的技術(shù)方案及其技術(shù)效果更加清楚、明確，下面結(jié)合圖1一4對本發(fā)明【具體實施方式】做進一步詳述。應當理解，下述【具體實施方式】僅用以解釋本發(fā)明，并不用于限定本發(fā)明。
[0022]實施例1
參見圖1，本具體實施例1提供了一種高性能液晶光掩膜，其特征在于，所述光掩膜包括，成像控制器(未不出)，均光層107,導光層106,第一光學偏轉(zhuǎn)片101,液晶層103和第二光學偏轉(zhuǎn)片102 ;所述液晶層103夾設于第一光學偏轉(zhuǎn)片101與第二光學偏轉(zhuǎn)片102之間；所述液晶層103為為扭曲向列型液晶層。第一光學偏轉(zhuǎn)片101與液晶層103接觸的表面上設置有第一透明電極層104 ;第二光學偏轉(zhuǎn)片102與液晶層103接觸的表面上設置有第二透明導電層105。導光層106將入射光經(jīng)整理為平行光，所述平行光入射第一光學偏轉(zhuǎn)片101，所述導光層106為菲涅耳透鏡。
[0023]參見圖2,第一光學偏轉(zhuǎn)片101與第二光學偏轉(zhuǎn)片102的偏振方向夾角為90度。
[0024]導光層106設置于第一光學偏轉(zhuǎn)片101的光入射的一側(cè)；所述成像控制器用于在第一透明電極層104和第二透明電極層105施加相應電信號,使所述液晶層103中相應區(qū)域的液晶發(fā)生偏轉(zhuǎn)，形成所述目標圖像，遮掩曝光光源照射光線；未發(fā)生液晶偏轉(zhuǎn)的區(qū)域成光透過狀態(tài)。
[0025]為實現(xiàn)光掩膜的工作可靠性，防止因灰塵或劃傷引起的光掩膜損壞，降低生產(chǎn)成本，將導光層設置為可更換的部件，以使核心的第一、第二光學偏振片及其所夾設的液晶層免于更換，所述導光層106與第一光學偏轉(zhuǎn)片101形成物理接觸，所述物理接觸依靠靜電力或膠黏作用實現(xiàn)，實現(xiàn)無損接觸，快速更換。
[0026]為提高制版精度，液晶光掩膜設置有均光層107，所述均光層107設置于導光層106的光入射的一側(cè),將入射光調(diào)整為散射光。從結(jié)構(gòu)上講，均光層可以為現(xiàn)有技術(shù)中常規(guī)的任意能夠?qū)崿F(xiàn)將入射光調(diào)整為均勻的散射光的光學元件，如均光膜、光擴散膜或散光膜
坐寸ο
[0027]該液晶光掩膜用于印刷制版中代替菲林作為光掩膜，具體工作過程簡要說明如下:
將曝光光源、液晶光掩膜和印版同軸設置，使上述三個部分所在的平面相互平行，啟動曝光光源，使其穩(wěn)定工作一段時間后，通過外部數(shù)據(jù)輸入成像控制器，成像控制器在第一透明電極層和第二透明電極層施加相應電信號，使所述液晶層中相應區(qū)域的液晶發(fā)生偏轉(zhuǎn)，形成所述目標圖像。打開曝光光源的快門，此時，形成目標圖像的區(qū)域，即液晶發(fā)生偏轉(zhuǎn)的區(qū)域遮掩曝光光源照射的光線，而未發(fā)生液晶偏轉(zhuǎn)的區(qū)域成光透過狀態(tài)。光線經(jīng)過液晶光掩膜的部分遮掩照射在印版上，被照射部分的印版上的感光材料發(fā)生光化學反應從而固化。根據(jù)感光材料的物理化學性能，曝光一定時間和強度后形成目標印版成品，送入后續(xù)流程處理即可。
[0028]實施例2
參見圖3，本具體實施例2提供了一種高性能液晶光掩膜，其特征在于，所述光掩膜包括，成像控制器，均光層207,導光層206,第一光學偏轉(zhuǎn)片201,液晶層203和第二光學偏轉(zhuǎn)片202 ;所述液晶層203夾設于第一光學偏轉(zhuǎn)片201與第二光學偏轉(zhuǎn)片202之間；所述液晶層203為為扭曲向列型液晶層。第一光學偏轉(zhuǎn)片201與液晶層203接觸的表面上設置有第一透明電極層204 ;第二光學偏轉(zhuǎn)片202與液晶層203接觸的表面上設置有第二透明導電層205 ;所述第一光學偏轉(zhuǎn)片201與第二光學偏轉(zhuǎn)片202的偏振方向夾角為90度；所述導光層206設置于第一光學偏轉(zhuǎn)片201的光入射的一側(cè)；所述成像控制器用于在第一透明電極層204和第二透明電極層205施加相應電信號，使所述液晶層203中相應區(qū)域的液晶發(fā)生偏轉(zhuǎn)，形成所述目標圖像，遮掩曝光光源照射光線；未發(fā)生液晶偏轉(zhuǎn)的區(qū)域成光透過狀態(tài)。所述導光層206將入射光經(jīng)整理為平行光,所述平行光入射第一光學偏轉(zhuǎn)片201,所述導光層為菲涅耳透鏡。為實現(xiàn)光掩膜的工作可靠性，防止因灰塵或劃傷引起的光掩膜損壞，降低生產(chǎn)成本，將導光層設置為可更換的部件，以使核心的第一、第二光學偏振片及其所夾設的液晶層免于更換，所述導光層206與第一光學偏轉(zhuǎn)片201形成物理接觸，所述物理接觸依靠靜電力或膠黏作用實現(xiàn)，實現(xiàn)無損接觸，快速更換。為提高制版精度，液晶光掩膜還包括均光層，所述均光層207設置于導光層的光入射的一側(cè),將入射光調(diào)整為散射光。從結(jié)構(gòu)上講，均光層可以為現(xiàn)有技術(shù)中常規(guī)的任意能夠?qū)崿F(xiàn)將入射光調(diào)整為均勻的散射光的光學元件，如均光膜、光擴散膜或散光膜等。
[0029]與實施例1不同的是，實施例2中為實現(xiàn)光掩膜的長時間工作的穩(wěn)定性，尤其是因長時間的曝光引起液晶層升溫而造成液晶層螺旋扭曲力的變化，所述導光層206與第一光學偏轉(zhuǎn)片201之間形成真空層208,用于降低導光層206與第一光學偏轉(zhuǎn)片201的熱傳導，保證單一圖案曝光與套印曝光的精度一致。
[0030]該液晶光掩膜用于印刷制版中代替菲林作為光掩膜，具體工作過程與實施例1相同。
[0031]實施例3
參見圖4，本具體實施例，3提供了一種高性能液晶光掩膜，其特征在于，所述光掩膜包括，成像控制器，均光層307,導光層306,第一光學偏轉(zhuǎn)片301,液晶層303和第二光學偏轉(zhuǎn)片302 ;所述液晶層夾設于第一光學偏轉(zhuǎn)片301與第二光學偏轉(zhuǎn)片302之間；所述液晶層303為扭曲向列型液晶層。第一光學偏轉(zhuǎn)片301與液晶層303接觸的表面上設置有第一透明電極層304 ;第二光學偏轉(zhuǎn)片302與液晶層303接觸的表面上設置有第二透明導電層305 ；所述第一光學偏轉(zhuǎn)片301與第二光學偏轉(zhuǎn)片302的偏振方向夾角為90度；所述導光層306設置于第一光學偏轉(zhuǎn)片301的光入射的一側(cè)；所述成像控制器用于在第一透明電極層304和第二透明電極層305施加相應電信號，使所述液晶層303中相應區(qū)域的液晶發(fā)生偏轉(zhuǎn)，形成所述目標圖像，遮掩曝光光源照射光線；未發(fā)生液晶偏轉(zhuǎn)的區(qū)域成光透過狀態(tài)。所述導光層306將入射光經(jīng)整理為平行光，所述平行光入射第一光學偏轉(zhuǎn)片301，所述導光層306為菲涅耳透鏡。為實現(xiàn)光掩膜的工作可靠性，防止因灰塵或劃傷引起的光掩膜損壞，降低生產(chǎn)成本，將導光層306設置為可更換的部件，以使核心的第一、第二光學偏振片及其所夾設的液晶層免于更換，所述導光層306與第一光學偏轉(zhuǎn)片301形成物理接觸，所述物理接觸依靠靜電力或膠黏作用實現(xiàn)，實現(xiàn)無損接觸，快速更換。為實現(xiàn)光掩膜的長時間工作的穩(wěn)定性，尤其是因長時間的曝光引起液晶層升溫而造成液晶層螺旋扭曲力的變化，所述導光層與第一光學偏轉(zhuǎn)片之間形成真空層308,用于降低導光層306與第一光學偏轉(zhuǎn)片301的熱傳導，保證單一圖案曝光與套印曝光的精度一致。為提高制版精度，液晶光掩膜還設置有均光層307,所述均光層307設置于導光層306的光入射的一側(cè),將入射光調(diào)整為散射光。從結(jié)構(gòu)上講，均光層可以為現(xiàn)有技術(shù)中常規(guī)的任意能夠?qū)崿F(xiàn)將入射光調(diào)整為均勻的散射光的光學元件，如均光膜、光擴散膜或散光膜等。
[0032]與實施例2不同的是，為防止應用過程中帶來的污染，造成污點、壞點及面板損壞等，所述光掩膜還包括去污層309，所述去污層設置于第二光學偏轉(zhuǎn)片光出射一側(cè)。
[0033]該液晶光掩膜用于印刷制版中代替菲林作為光掩膜，具體工作過程與實施例1相同。
[0034]以上所述僅為本發(fā)明的較佳實施例，凡依本發(fā)明申請專利范圍所做的均等變化與修飾，皆應屬本發(fā)明的涵蓋范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種高性能液晶光掩膜，其特征在于，所述光掩膜包括，成像控制器，均光層，導光層，第一光學偏轉(zhuǎn)片，液晶層和第二光學偏轉(zhuǎn)片；所述所述液晶層夾設于第一光學偏轉(zhuǎn)片與第二光學偏轉(zhuǎn)片之間；第一光學偏轉(zhuǎn)片與液晶層接觸的表面上設置有第一透明電極層；第二光學偏轉(zhuǎn)片與液晶層接觸的表面上設置有第二透明導電層；所述第一光學偏轉(zhuǎn)片與第二光學偏轉(zhuǎn)片的偏振方向夾角為90度；所述導光層設置于第一光學偏轉(zhuǎn)片的光入射的一側(cè)；所述均光層設置于導光層的光入射的一側(cè)；所述成像控制器用于在第一透明電極層和第二透明電極層施加相應電信號，使所述液晶層中相應區(qū)域的液晶發(fā)生偏轉(zhuǎn)，形成所述目標圖像，遮掩曝光光源照射光線；未發(fā)生液晶偏轉(zhuǎn)的區(qū)域成光透過狀態(tài)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高性能液晶光掩膜，其特征在于，所述導光層將入射光整理為平行光，所述平行光入射第一光學偏轉(zhuǎn)片。
3.根據(jù)權(quán)利要求1-2所述的高性能液晶光掩膜，其特征在于，所述導光層與第一光學偏轉(zhuǎn)片形成物理接觸，所述物理接觸依靠靜電力或膠黏作用實現(xiàn)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3所述的高性能液晶光掩膜，其特征在于，所述均光層將入射光調(diào)整為散射光。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-4所述的高性能液晶光掩膜,其特征在于,所述導光層與第一光學偏轉(zhuǎn)片之間形成真空層，用于降低導光層與第一光學偏轉(zhuǎn)片的熱傳導。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-5所述的高性能液晶光掩膜，其特征在于，所述液晶層為扭曲向列型液晶層。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-6所述的高性能液晶光掩膜，其特征在于，所述導光層為菲涅耳透鏡。
8.根據(jù)權(quán)利要求1-7所述的高性能液晶光掩膜，其特征在于，所述光掩膜還包括去污層，所述去污層設置于第二光學偏轉(zhuǎn)片光出射一側(cè)。
9.根據(jù)權(quán)利要求1-8所述的高性能液晶光掩膜的應用，其特征在于，所述液晶光掩膜用于印刷制版中代替菲林作為光掩膜，或用于光刻中。
10.一種制版裝置，其特征在于，所述制版裝置包含權(quán)利要求1-8所述的高性能液晶光掩模，所述液晶光掩膜用于印刷制版中代替菲林作為光掩膜。
【文檔編號】G02F1/1333GK103955088SQ201410197611
【公開日】2014年7月30日 申請日期:2014年5月12日 優(yōu)先權(quán)日:2014年5月12日
【發(fā)明者】楊濤 申請人:青島斯博銳意電子技術(shù)有限公司