導(dǎo)光板以及包括該導(dǎo)光板的側(cè)緣型表面發(fā)射光學(xué)裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及導(dǎo)光板和包括該導(dǎo)光板的側(cè)緣型表面發(fā)射光學(xué)裝置。導(dǎo)光板具有光入射面、垂直于所述光入射面的配光控制表面以及與所述配光控制表面對(duì)置的發(fā)光面，在導(dǎo)光板中，扁平式鏡面磨光部設(shè)置在配光控制表面的第一區(qū)域上，并且棱鏡序列設(shè)置在配光控制表面的第二區(qū)域上，所述第二區(qū)域未設(shè)置扁平式鏡面磨光部。所述棱鏡序列相對(duì)于所述扁平式鏡面磨光部突出。所述棱鏡序列的每個(gè)棱鏡均具有與所述光入射面對(duì)置的上升斜面、連接至所述上升斜面的第一下降斜面以及連接至所述第一下降斜面的第二下降斜面。所述第一下降斜面的斜度大于所述第二下降斜面的斜度。
【專利說明】導(dǎo)光板以及包括該導(dǎo)光板的側(cè)緣型表面發(fā)射光學(xué)裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本公開主題涉及液晶顯示器(LCD)單元中使用的導(dǎo)光板以及包括導(dǎo)光板的側(cè)緣型表面發(fā)射光學(xué)裝置。

【背景技術(shù)】
[0002]用于LCD單元的側(cè)緣型表面發(fā)射光學(xué)裝置具有輕薄結(jié)構(gòu)的優(yōu)勢(shì)。
[0003]圖15A是圖示出現(xiàn)有技術(shù)的側(cè)緣型表面發(fā)射光學(xué)裝置的平面圖，圖15B和圖15C是分別沿圖15A中線B-B和線C-C截取的圖15A的側(cè)緣型表面發(fā)射光學(xué)裝置的剖視圖(見:JP2009-81094A 以及 US2009/0086509A1 的圖1 (a)和圖 9)。
[0004]在圖15A、圖15B和圖15C中,側(cè)緣型表面發(fā)射光學(xué)裝置由導(dǎo)光板I構(gòu)成,導(dǎo)光板I由透明材料制成，諸如丙烯酸樹脂或者聚碳酸酯樹脂，具有光入射表面Sin、垂直于光入射表面Sin的配光控制表面S_t,以及與配光控制表面S_t對(duì)置的發(fā)光面S。#。由多個(gè)發(fā)光二極管(LED)形成的光源2布置在光入射表面Sin上。而且,僅在圖15C不出的棱鏡板材3布置在導(dǎo)光板I的發(fā)光面Srat上,而液晶顯不器(LCD)面板(未不出)布置在棱鏡板材3的外偵U。棱鏡板材3是單面變形的三角形棱鏡板材；但是，除了三角形截面之外，棱鏡板材3可以具有諸如為彎曲截面的截面。此外，僅在圖15B和圖15C中示出的柔性反射板材4布置在配光控制表面S_t上。柔性反射板材4被操作以返回從配光控制表面S_t泄露的光，因而加強(qiáng)光強(qiáng)度。在圖15B和圖15C中，注意到的是，柔性反射板材4從導(dǎo)光板I離開；但是，柔性反射板材4實(shí)際上靠近導(dǎo)光板I的配光控制表面S_t。
[0005]如圖15A所不，多個(gè)扁平式鏡面磨光部11設(shè)置在導(dǎo)光板I的配光控制表面S_t上，并且從光入射表面Sin延伸。扁平式鏡面磨光部11用作將光散布至導(dǎo)光板I內(nèi)部的器件。在該情況下，扁平式鏡面磨光部11的位置距離光入射表面Sin越遠(yuǎn)，在該位置處扁平式鏡面磨光部11的寬度越小。多個(gè)三角形棱鏡序列12設(shè)置在導(dǎo)光板I的配光控制表面S_t的區(qū)域上，該區(qū)域中未設(shè)置扁平式鏡面磨光部11。三角形棱鏡序列12相對(duì)于扁平式鏡面磨光部11突出。每個(gè)三角形棱鏡序列12包括多個(gè)等距布置的三角形棱鏡以用于使光路徑彎折。在該情況下，三角形棱鏡序列12的位置距離光入射表面Sin越遠(yuǎn)，在該位置處三角形棱鏡序列12的寬度越大。因而，更多的光完全被三角形棱鏡序列12反射，以實(shí)現(xiàn)均勻的表面發(fā)射。
[0006]圖16是圖15A、圖15B和圖15C的導(dǎo)光板I的部分放大剖視圖，在圖16中，每節(jié)距PO中的三角形棱鏡序列12的每個(gè)棱鏡12P的具有非對(duì)稱結(jié)構(gòu)，該結(jié)構(gòu)由直線型上升斜面12a和直線型下降斜面12b形成，直線型上升斜面12a的傾斜角由α O限定，直線型下降斜面12b的傾斜角由α I (古αΟ)限定。尤其，下降斜面12b執(zhí)行配光控制以使光路徑彎折。為了沿著棱鏡板材3的法線方向增強(qiáng)表面發(fā)射的光強(qiáng)度，下降斜面12相對(duì)于扁平式鏡面磨光部11的傾斜角α I優(yōu)選地盡可能小，例如，
[0007]4° 芻 α I 芻 5° 。
[0008]結(jié)果，能夠?qū)崿F(xiàn)如圖17所示的半高全寬的導(dǎo)光板I的空間配光特性，注意到的是，半高全寬是25°，其范圍可以是從55°至80°。而且，上升斜面12a相對(duì)于扁平式鏡面磨光部11的傾斜角α O是15°含α O蘭90°。
[0009]因而，能夠?qū)崿F(xiàn)如圖18所示的棱鏡板材3的配光特性，沿著法線方向具有高發(fā)射。
[0010]在圖15Α、圖15Β和圖15C的側(cè)緣型表面發(fā)射光學(xué)裝置中，為了進(jìn)一步沿著棱鏡板材3的法線方向增強(qiáng)光強(qiáng)度，下降斜面12b相對(duì)于扁平式鏡面磨光部11的傾斜角α I優(yōu)選地小于4°。結(jié)果，在光源2側(cè)的下降斜面12b大致平行于扁平式鏡面磨光部11。因此，如圖19所示，柔性反射板材4在內(nèi)側(cè)接觸下降斜面12b，使得在下降斜面12b和柔性反射板材4之間產(chǎn)生不具有氣隙的區(qū)域R。在區(qū)域R中，柔性反射板材4部分地散布下降斜面12b反射的光，使得在導(dǎo)光板I的發(fā)光面Srat中會(huì)發(fā)生所謂的濕潤現(xiàn)象，產(chǎn)生不規(guī)則的圖案，如圖20圖示的，這會(huì)惡化圖18的棱鏡板材3的配光特性。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0011]本公開主題在于尋求解決一個(gè)或多個(gè)上述問題的方法。
[0012]根據(jù)本公開主題，導(dǎo)光板具有光入射面、垂直于所述光入射面的配光控制表面以及與所述配光控制表面對(duì)置的發(fā)光面，在所述導(dǎo)光板中，扁平式鏡面磨光部設(shè)置在所述配光控制表面的第一區(qū)域上，并且棱鏡序列設(shè)置在所述配光控制表面的第二區(qū)域上，所述第二區(qū)域未設(shè)置所述扁平式鏡面磨光部。所述棱鏡序列相對(duì)于所述扁平式鏡面磨光部突出。所述棱鏡序列的每個(gè)棱鏡具有與所述光入射面對(duì)置的上升斜面、連接至所述上升斜面的第一下降斜面以及連接至所述第一下降斜面的第二下降斜面。所述第一下降斜面的斜度大于所述第二下降斜面的斜度。
[0013]根據(jù)本公開主題，雖然所述第二下降斜面不那么傾斜以改善配光控制效率，但第一下降斜面陡峭地傾斜，使得所述第一下降斜面和所述上升斜面之間的角度減小以形成尖緣。結(jié)果，當(dāng)根據(jù)本公開主題的導(dǎo)光板應(yīng)用至側(cè)緣型表面發(fā)射光學(xué)裝置時(shí)，所述導(dǎo)光板和所述反射板材之間的接觸面積能夠減小以抑制濕潤現(xiàn)象。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0014]與現(xiàn)有技術(shù)相比，結(jié)合附圖，通過以下特定實(shí)施例的說明，本公開主題的上述以及其他優(yōu)勢(shì)和特征將更加明顯，其中:
[0015]圖1是圖示出根據(jù)本公開主題的包括導(dǎo)光板第一實(shí)施方式的側(cè)緣型表面發(fā)射光學(xué)裝置的剖視圖；
[0016]圖2是圖1的導(dǎo)光板的局部放大剖視圖；
[0017]圖3是圖示出圖1的導(dǎo)光板的斜面和柔性反射板材之間的接觸狀態(tài)的剖視圖；
[0018]圖4是圖示出圖1的導(dǎo)光板的空間配光特性的適當(dāng)狀態(tài)的圖；
[0019]圖5是圖示出圖1的棱鏡板材的配光特性的適當(dāng)狀態(tài)的圖；
[0020]圖6是圖示出圖1的導(dǎo)光板的空間配光特性的不適當(dāng)狀態(tài)的圖；
[0021]圖7是圖示出圖1的棱鏡板材的配光特性的不適當(dāng)狀態(tài)的圖；
[0022]圖8是圖示出包括根據(jù)本公開主題的導(dǎo)光板第二實(shí)施方式的側(cè)緣型表面發(fā)射光學(xué)裝置的剖視圖；
[0023]圖9是圖8的導(dǎo)光板的局部放大剖視圖；
[0024]圖10是圖示出圖8的導(dǎo)光板的斜面和柔性反射板材之間的接觸狀態(tài)的剖視圖；
[0025]圖11是圖示出包括根據(jù)本公開主題的導(dǎo)光板第三實(shí)施方式的側(cè)緣型表面發(fā)射光學(xué)裝置的剖視圖；
[0026]圖12是圖11的導(dǎo)光板的局部放大剖視圖；
[0027]圖13是圖示出圖11的導(dǎo)光板的斜面和柔性反射板材之間的接觸狀態(tài)的剖視圖；
[0028]圖14是圖示出圖12的側(cè)緣型表面發(fā)射光學(xué)裝置的變型的剖視圖；
[0029]圖15A是圖示出現(xiàn)有技術(shù)的側(cè)緣型表面發(fā)射光學(xué)裝置的平面圖；
[0030]圖15B和圖15C是分別沿著圖15A中的線B-B和線C-C截取的圖15A的側(cè)緣型表面發(fā)射光學(xué)裝置的剖視圖；
[0031]圖16是圖15A、圖15B和15C的導(dǎo)光板的局部放大剖視圖；
[0032]圖17是圖示出圖15A、圖15B和圖15C的導(dǎo)光板的空間配光特性的圖；
[0033]圖18圖示出圖15A、圖15B和圖15C的棱鏡板材的配光特性的圖；
[0034]圖19圖示出圖15A、圖15B和圖15C的導(dǎo)光板的斜面和柔性反射板材之間的接觸狀態(tài)的剖視圖；以及
[0035]圖20是說明圖15A、圖15B和圖15C中的濕潤現(xiàn)象的立體圖。

【具體實(shí)施方式】
[0036]圖1是圖示出側(cè)緣型表面發(fā)射光學(xué)裝置的剖視圖，在圖1中，側(cè)緣型表面發(fā)射光學(xué)裝置包括根據(jù)本公開主題的導(dǎo)光板的第一實(shí)施方式，圖15A、圖15B和圖15C中的導(dǎo)光板I被導(dǎo)光板IA替換，導(dǎo)光板IA的三角形棱鏡序列12A不同于圖15A、圖15B和圖15C中的三角形棱鏡序列12。
[0037]圖2是圖1的導(dǎo)光板IA的局部放大剖視圖，在圖2中，每節(jié)距P中的三角形棱鏡序列12A的每個(gè)棱鏡12PA具有非對(duì)稱結(jié)構(gòu)，該結(jié)構(gòu)由上升斜面12c和兩個(gè)直線型下降斜面12d和12e形成，上升斜面12c的傾斜角由β O限定，兩個(gè)直線型下降斜面12d和12e的傾斜角分別由β?和β2限定。下降斜面12d和12e是直線傾斜的。在該情況下，上升斜面12c能夠是直線傾斜的或者凹面傾斜的(彎曲傾斜的)。下降斜面12d相對(duì)于扁平式鏡面磨光部11的傾斜角β I以及下降斜面12e相對(duì)于扁平式鏡面磨光部11的傾斜角β 2滿足以下:
[0038]β1>β2。
[0039]也即，下降斜面12d比下降斜面12e更加傾斜。因而，由上升斜面12c和下降斜面12d形成了尖緣。另一方面，上升斜面12c相對(duì)于扁平式鏡面磨光部11的傾斜角β0與圖16的傾斜角α O相同，SP，
[0040]15° 芻 β O 芻 90°。
[0041]在圖2，為了抑制濕潤現(xiàn)象，下降斜面12d的傾斜角β I滿足以下公式(I):
[0042]3。<β1〈8。(I)
[0043]另一方面，為了增強(qiáng)配光控制效率，下降斜面12e的傾斜角β 2滿足以下公式
(2):
[0044]0.5。<β2〈3。(2)
[0045]此外，以下公式⑶滿足:
[0046]2.S12d 含 S12e 含 6.S12d (3)
[0047]其中S12d是下降斜面12d的面積；以及
[0048]S12e是下降斜面12e的面積。
[0049]如果S12e〈2 -S12d,下降斜面12d將不利地影響配光控制效率，以增加空間配光特性的半高全寬。另一方面，如果S12e>6.S12d，下降斜面12d增加以降低濕潤現(xiàn)象的抑制效果。
[0050]而且，棱鏡12PA的節(jié)距P是
[0051]15 μ m = P = 250 μ m。
[0052]下降斜面12d的最小高度大約為I μ m以充分呈現(xiàn)對(duì)濕潤現(xiàn)象的抑制效果。在該情況下，節(jié)距P的最小值大約為15 μ m。另一方面,如果節(jié)距P大于最大值250 μ m,每個(gè)棱鏡12PA能夠在IXD單元中被識(shí)別為點(diǎn)。
[0053]根據(jù)第一實(shí)施方式，如圖3所示，由于由上升斜面12c和下降斜面12d形成的尖緣，降低了柔性反射板材4和上升斜面12c之間的接觸面積以及柔性反射板材4和下降斜面12d之間的接觸面積，以抑制濕潤現(xiàn)象。
[0054]圖4是圖示出導(dǎo)光板IA的空間配光特性的適當(dāng)狀態(tài)的圖，在圖4，狀態(tài)I滿足公式
(I)、(2)和(3)，由下式限定:
[0055]β I = 7°
[0056]β 2 = I。
[0057]S12e = 5.S12d
[0058]而且，狀態(tài)II滿足公式(I)、(2)和(3)，由下式限定:
[0059]β I = 4°
[0060]β 2 = 2°
[0061]S12e — 2.S12d
[0062]在狀態(tài)I中，如圖4所示，相比于現(xiàn)有技術(shù)中半高全寬是25°并且其范圍可以是從55°至80°，導(dǎo)光板IA的空間配光特性的半高全寬被降低至14°，其范圍可以是從68°至82°。結(jié)果，如圖5所示，與現(xiàn)有技術(shù)相比，沿著棱鏡板材3的法線方向的表面發(fā)射的光強(qiáng)度得以增加。
[0063]而且，在狀態(tài)II中，如圖4所示，相比于現(xiàn)有技術(shù)中半高全寬是25°并且其范圍可以是從55°至80°，導(dǎo)光板IA的空間配光特性的半高全寬被降低至18°，其范圍可以是從63°至81°。結(jié)果，如圖5所示，與現(xiàn)有技術(shù)相比，沿著棱鏡板材3的法線方向的表面發(fā)射的光強(qiáng)度得以增加。
[0064]圖6是圖示出導(dǎo)光板IA的空間配光特性的不適當(dāng)狀態(tài)的圖，在圖6，狀態(tài)111滿足公式⑴和(2)但不滿足公式(3)，由下式限定:
[0065]β I = 6°
[0066]β 2 = 2°
[0067]S12e = 1.5.S12d
[0068]而且，狀態(tài)IV滿足公式(2)和(3)但不滿足公式(I)，由下式限定:
[0069]β I = 8°
[0070]β 2 = I。
[0071]S12e = 3.S12d
[0072]在狀態(tài)III中，如圖6所示，導(dǎo)光板IA的空間配光特性的半高全寬是24°，其范圍可以是從56°至80°，該范圍幾乎與現(xiàn)有技術(shù)的范圍相同，現(xiàn)有技術(shù)中半高全寬是25°并且其范圍可以是從55°至80°。結(jié)果，如圖7所示，沿著棱鏡板材3的法線方向的表面發(fā)射的光強(qiáng)度與現(xiàn)有技術(shù)的光強(qiáng)度幾乎相同。
[0073]而且，在狀態(tài)IV中，如圖6所示，導(dǎo)光板IA的空間配光特性的半高全寬是23°，其范圍可以是從57°至80°，該范圍幾乎與現(xiàn)有技術(shù)一樣，現(xiàn)有技術(shù)中半高全寬是25°并且其范圍可以是從55°至80°。結(jié)果，如圖7所示，沿著棱鏡板材3的法線方向的表面發(fā)射的光強(qiáng)度與現(xiàn)有技術(shù)的光強(qiáng)度幾乎相同。
[0074]圖8是圖示出包括根據(jù)本公開主題的導(dǎo)光板第二實(shí)施方式的側(cè)緣型表面發(fā)射光學(xué)裝置的剖視圖，在圖8中，圖1的導(dǎo)光板IA被替換為導(dǎo)光板1B，導(dǎo)光板IB的三角形棱鏡序列12B不同于圖1的三角形棱鏡序列12A。
[0075]圖9是圖8的導(dǎo)光板IB的局部放大剖視圖，在圖9中，圖2的直線型下降斜面12d被替換為凹型下降斜面12d’。凹型下降斜面12d’被切向彎曲并且從直線型下降斜面12e延伸；但是，凹型下降斜面12d’不是始終被切向彎曲的。而且，凹型下降斜面12d’被彎曲傾斜，具有一個(gè)曲率半徑。在任何情形下，凹型下降斜面12d’比直線型下降斜面12e更傾斜。因而，尖緣由上升斜面12c和凹型下降斜面12d’形成。
[0076]在圖9，為了抑制濕潤現(xiàn)象，凹型下降斜面12d’的端部之間的線段的傾斜角β I’滿足以下公式(Γ )，與公式(I)的方式相同:
[0077]3。<β1，〈8。(I，)
[0078]另一方面，為了增強(qiáng)配光控制效率，直線型下降斜面12e的傾斜角β 2滿足以下公式(2’)，與公式(2)的方式相同:
[0079]0.5。<β 2<3°(2，)
[0080]此外，滿足以下公式(3’)，與公式(3)的方式相同:
[0081]2.S12/ ^ S12e ^ 6.S12/ (3，)
[0082]其中S12/是凹型下降斜面12d’的面積；以及
[0083]S12e是直線型下降斜面12e的面積。
[0084]公式(3’ )能夠被修改為以下公式:
[0085]2.L12d ^ L12e ^ 6.L12d
[0086]其中L12d是凹型下降斜面12d’的截面的圓弧段的長度；以及
[0087]L12e是直線型下降斜面12e的截面的線段的長度。
[0088]而且，因?yàn)榘夹拖陆敌泵?2d’的最小高度大約為I μ m以呈現(xiàn)對(duì)濕潤現(xiàn)象的抑制效果，所以棱鏡12PB的節(jié)距P為
[0089]15 μ m = P = 250 μ m。
[0090]在上述第二實(shí)施方式中，因?yàn)橹本€型下降斜面12e與第一實(shí)施方式相同，所以配光控制效果與第一實(shí)施例相同。但是，因?yàn)榘夹拖陆敌泵?2d’的傾斜角βΓ小于第一實(shí)施方式的直線型下降斜面12d的傾斜角β I以通過上升斜面12c和下降斜面12d’形成尖緣，所以凹型下降斜面12d’和柔性反射板材4之間的接觸面積進(jìn)一步減小，如圖10所示，以進(jìn)一步改善對(duì)濕潤現(xiàn)象的抑制效果。
[0091]圖11是圖示出包括根據(jù)本公開主題的導(dǎo)光板第三實(shí)施方式的側(cè)緣型表面發(fā)射光學(xué)裝置的剖視圖，在圖11中，圖1的導(dǎo)光板IA被導(dǎo)光板IC替換，導(dǎo)光板IC的三角形棱鏡序列12C不同于圖1的三角形棱鏡序列12A。
[0092]圖12是圖11的導(dǎo)光板IC的局部放大剖視圖，在圖12中，圖2的直線型下降斜面12d被替換為凹型下降斜面12d”。而且，圖2的直線型下降斜面12d被替換為凹型下降斜面12e”。凹型下降斜面12d”和12e”的截面是彎曲的。在該情況下，凹型下降斜面12d”的曲率半徑小于凹型下降斜面12e”的曲率半徑，使得凹型下降斜面12d”比凹型下降斜面12e”更傾斜。因而，尖緣由上升斜面12c和凹型下降斜面12d”形成。
[0093]在圖12中，為了抑制濕潤現(xiàn)象，凹型下降斜面12d”的端部之間的線段的傾斜角β I”滿足以下公式(1”)，與公式(I)的方式相同:
[0094]3。<β1”〈8。(I”)
[0095]另一方面，為了增強(qiáng)配光控制效率，凹型下降斜面12e”的端部之間的線段的傾斜角β 2滿足以下公式(2”)，與公式⑵的方式相同:
[0096]0.5。<β 2<3°(2，，)
[0097]此外，滿足以下公式(3”)，與公式(3)的方式相同:
[0098]2.S12d，，蘭 S12e” ^ 6.S12d" (3，，)
[0099]其中S12d”是凹型下降斜面12d”的面積；以及
[0100]S12e”是凹型下降斜面12e”的面積。
[0101]公式(3”)能夠被修改為以下公式:
[0102]2.L12d ” = L12e ” = 6.L12d”
[0103]其中L12d”是凹型下降斜面12d”的端部之間的圓弧段的長度；以及
[0104]L12/’是凹型下降斜面12e”的端部之間的圓弧段的長度。
[0105]此外，凹型下降斜面12d”的中心和凹型下降斜面12d”的線段的中心之間的距離D滿足以下:
[0106]3/1000.L12d” ^ D ^ 2/100.L12d，，。
[0107]更進(jìn)一步地，因?yàn)榘夹拖陆敌泵?2d”的最小高度大約為I μ m以呈現(xiàn)對(duì)濕潤現(xiàn)象的抑制效果，所以棱鏡PC的節(jié)距P為
[0108]15 μ m = P = 250 μ m。
[0109]在上述第三實(shí)施方式中，因?yàn)榘夹拖陆敌泵?2e與第一實(shí)施方式相同，所以配光控制效果與第一實(shí)施方式相同。但是，因?yàn)樯仙泵?2c和凹型下降斜面12d”之間的角度變得更小，所以凹型下降斜面12d”和柔性反射板材4之間的接觸面積進(jìn)一步減小，如圖13所示，以進(jìn)一步改善對(duì)濕潤現(xiàn)象的抑制效果。
[0110]圖14圖示了圖12的導(dǎo)光板IC的變型，在圖14中，凹型下降斜面12d”和12e”由單個(gè)凹型下降斜面12de形成，凹型下降斜面12de的凹形截面具有一個(gè)曲率半徑。在該情況下，凹型下降斜面12de距光源2的位置越遠(yuǎn)，凹型下降斜面12de的斜度越大。結(jié)果，在由于凹型下降斜面12de的一部分的小斜度而維持配光控制效果的同時(shí)，凹型下降斜面12de和柔性反射板材4之間的接觸面積減小以進(jìn)一步改善對(duì)濕潤現(xiàn)象的抑制效果。
[0111]對(duì)本領(lǐng)域技術(shù)人員來說很明顯的是，能夠?qū)Ρ竟_主題進(jìn)行各種修改和變化，這并不脫離本公開主題的精神或范圍。因而，本公開主題旨在覆蓋在本公開主題的修改和變化，只要它們落入附隨的權(quán)利要求及其等同物的范圍內(nèi)。所有在本說明書的【背景技術(shù)】部分以及上述相關(guān)或者現(xiàn)有參考技術(shù)，其全部內(nèi)容通過引用并入此處。
[0112]本申請(qǐng)根據(jù)35U.S.C.§ 119要求于2013年7月3日提交的申請(qǐng)?zhí)枮镴P2013-139561的日本專利申請(qǐng)的優(yōu)先權(quán)利益，其全部公開內(nèi)容通過引用并入此處。
【權(quán)利要求】
1.一種導(dǎo)光板，該導(dǎo)光板具有光入射面、垂直于所述光入射面的配光控制表面以及與所述配光控制表面對(duì)置的發(fā)光面，所述導(dǎo)光板包括: 扁平式鏡面磨光部，該扁平式鏡面磨光部設(shè)置在所述配光控制表面的第一區(qū)域上；以及 棱鏡序列，該棱鏡序列設(shè)置在所述配光控制表面的第二區(qū)域上，所述第二區(qū)域未設(shè)置所述扁平式鏡面磨光部，所述棱鏡序列相對(duì)于所述扁平式鏡面磨光部突出， 其中，所述棱鏡序列的每個(gè)棱鏡具有與所述光入射面對(duì)置的上升斜面、連接至所述上升斜面的第一下降斜面以及連接至所述第一下降斜面的第二下降斜面， 所述第一下降斜面的斜度大于所述第二下降斜面的斜度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的導(dǎo)光板，其中，所述第一下降斜面和第二下降斜面中的每個(gè)下降斜面均是直線傾斜的。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的導(dǎo)光板，其中，所述第一下降斜面相對(duì)于所述扁平式鏡面磨光部的傾斜角βI滿足: . 3° <β 1〈8。， 其中，所述第二下降斜面相對(duì)于所述扁平式鏡面磨光部的傾斜角β 2滿足: . 0.5° <β2<3°，并且 其中，所述第一下降斜面的面積S12d和所述第二下降斜面的面積S12e滿足: . 2.S12d = S12e = 6.S12dO
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的導(dǎo)光板，其中，所述第一下降斜面是凹形傾斜的，并且所述第二下降斜面是直線傾斜的。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的導(dǎo)光板，其中，所述第一下降斜面的兩端之間的線段相對(duì)于所述扁平式鏡面磨光部的傾斜角β I’滿足: . 3° <β I，〈8°， 其中，所述第二下降斜面相對(duì)于所述扁平式鏡面磨光部的傾斜角β 2滿足: . 0.5° <β2<3°，并且 其中，所述第一下降斜面的面積S12/和所述第二下降斜面的面積S12e滿足: . 2.S12d = S12e = 6.S12d。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的導(dǎo)光板，其中，所述第一下降斜面和第二下降斜面中的每個(gè)下降斜面均是凹形傾斜的。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的導(dǎo)光板，其中，所述第一下降斜面的兩端之間的線段相對(duì)于所述扁平式鏡面磨光部的傾斜角β?”滿足:
3° <β 1，，〈8°，. 其中，所述第二下降斜面的兩端之間的線段相對(duì)于所述扁平式鏡面磨光部的傾斜角β 2”滿足: . 0.5° <β2”〈3°，并且 其中，所述第一下降斜面的面積S12d”和所述第二下降斜面的面積S12/’滿足: . 9.S < S < R.S ，，
乙 °12d — °12e — u °12d 。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的導(dǎo)光板，其中，所述第一下降斜面和第二下降斜面形成一個(gè)曲線式下降斜面，其中所述曲線式下降斜面的位置越靠近所述光入射面，在所述位置處所述曲線式下降斜面的斜度越大。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的導(dǎo)光板，其中，所述棱鏡序列的棱鏡均具有節(jié)距P以滿足: . 15 μ m = P = 250 μ m。
10.一種側(cè)緣型表面發(fā)射光學(xué)裝置，該側(cè)緣型表面發(fā)射光學(xué)裝置包括: 導(dǎo)光板，該導(dǎo)光板具有光入射面、垂直于所述光入射面的配光控制表面以及與所述配光控制表面對(duì)置的發(fā)光面； 光源，該光源布置在所述導(dǎo)光板的光入射面?zhèn)龋? 棱鏡板材，該棱鏡板材布置在所述導(dǎo)光板的發(fā)光面?zhèn)?；以? 反射板材，該反射板材布置在所述導(dǎo)光板的配光控制表面?zhèn)龋? 所述導(dǎo)光板包括: 扁平式鏡面磨光部，該扁平式鏡面磨光部設(shè)置在所述配光控制表面的第一區(qū)域上；以及 棱鏡序列，該棱鏡序列設(shè)置在所述配光控制表面的第二區(qū)域上，所述第二區(qū)域未設(shè)置所述扁平式鏡面磨光部，所述棱鏡序列相對(duì)于所述扁平式鏡面磨光部突出， 其中，所述棱鏡序列的每個(gè)棱鏡具有與所述光入射面對(duì)置的上升斜面、連接至所述上升斜面的第一下降斜面以及連接至所述第一下降斜面的第二下降斜面， 所述第一下降斜面的斜度大于所述第二下降斜面的斜度。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的側(cè)緣型表面發(fā)射光學(xué)裝置，其中，所述第一下降斜面和第二下降斜面中的每個(gè)下降斜面均是直線傾斜的。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的側(cè)緣型表面發(fā)射光學(xué)裝置，其中，所述第一下降斜面相對(duì)于所述扁平式鏡面磨光部的傾斜角βI滿足: . 3° <β 1〈8。， 其中，所述第二下降斜面相對(duì)于所述扁平式鏡面磨光部的傾斜角β 2滿足: . 0.5° <β2<3°，并且 其中，所述第一下降斜面的面積S12d和所述第二下降斜面的面積S12e滿足: . 2.S12d = S12e = 6.S12dO
13.根據(jù)權(quán)利要求10所述的側(cè)緣型表面發(fā)射光學(xué)裝置，其中，所述第一下降斜面是凹形傾斜的，并且所述第二下降斜面是直線傾斜的。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的側(cè)緣型表面發(fā)射光學(xué)裝置，其中，所述第一下降斜面的兩端之間的線段相對(duì)于所述扁平式鏡面磨光部的傾斜角β I’滿足: . 3° <β I，〈8°， 其中，所述第二下降斜面相對(duì)于所述扁平式鏡面磨光部的傾斜角β 2滿足: . 0.5° <β2<3°，并且 其中，所述第一下降斜面的面積S12/和所述第二下降斜面的面積S12e滿足: . 2.S12d = S12e = 6.S12d。
15.根據(jù)權(quán)利要求10所述的側(cè)緣型表面發(fā)射光學(xué)裝置，其中，所述第一下降斜面和第二下降斜面中的每個(gè)下降斜面均是凹形傾斜的。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的側(cè)緣型表面發(fā)射光學(xué)裝置，其中，所述第一下降斜面的兩端之間的線段相對(duì)于所述扁平式鏡面磨光部的傾斜角β I”滿足: . 3° <β 1，，〈8°， 其中，所述第二下降斜面的兩端之間的線段相對(duì)于所述扁平式鏡面磨光部的傾斜角β 2”滿足: . 0.5° <β2”〈3°，并且 其中，所述第一下降斜面的面積S12d”和所述第二下降斜面的面積S12/’滿足:. 9.s < S.S ，，
^ °12d — °12e — u °12d °
17.根據(jù)權(quán)利要求15所述的側(cè)緣型表面發(fā)射光學(xué)裝置，其中，所述第一下降斜面和第二下降斜面形成一個(gè)曲線式下降斜面，其中所述曲線式下降斜面的位置越靠近所述光入射面，在所述位置處所述曲線式下降斜面的斜度越大。
18.根據(jù)權(quán)利要求10所述的側(cè)緣型表面發(fā)射光學(xué)裝置，其中，所述棱鏡序列的棱鏡均具有節(jié)距P以滿足: . 15 μ m = P = 250 μ m。
【文檔編號(hào)】G02B6/00GK104280815SQ201410312287
【公開日】2015年1月14日 申請(qǐng)日期:2014年7月2日 優(yōu)先權(quán)日:2013年7月3日
【發(fā)明者】千千波和海 申請(qǐng)人:斯坦雷電氣株式會(huì)社