觸控顯示裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種觸控顯示裝置，該觸控顯示裝置包括第一基板、與該第一基板相對設(shè)置的第二基板、設(shè)置在該第一基板與該第二基板之間的顯示介質(zhì)層以及設(shè)置在該第一基板朝向該顯示介質(zhì)層的一表面的觸控感應(yīng)層。該觸控感應(yīng)層上形成有多個感測電極，該第一基板的尺寸大于該第二基板以同時作保護(hù)玻璃之用。該觸控顯示裝置無需保護(hù)玻璃，制程簡單，不僅可節(jié)省生產(chǎn)時間，還可節(jié)省生產(chǎn)成本，并減小了厚度。
【專利說明】觸控顯示裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及顯示【技術(shù)領(lǐng)域】，特別涉及一種觸控顯示裝置。
【背景技術(shù)】
[0002] 隨著科學(xué)技術(shù)的日益發(fā)展，移動電話、個人數(shù)字助理、筆記本電腦等數(shù)字化工具得 到了廣泛的應(yīng)用，其中顯示屏幕是這些工具中不可或缺的人機(jī)溝通界面。為了達(dá)到更便利、 更輕巧以及更人性化的目的，許多信息產(chǎn)品已經(jīng)由傳統(tǒng)的鍵盤或鼠標(biāo)等，轉(zhuǎn)為使用觸控面 板（Touch Panel)作為其輸入裝置。
[0003] 觸控面板依照觸控感應(yīng)原理的不同可分為電阻式、電容式、光學(xué)式、聲波式以及電 磁式等多種類型，其中，由于電容式觸控面板具有反應(yīng)速度快、靈敏度高、可靠度佳以及耐 用度高等優(yōu)點(diǎn)，目前已被廣為使用。依照組成方式的不同，電容式觸控面板具有多種類型， 如：直接在保護(hù)玻璃上形成透明電極層的類型（One Glass Solution, 0GS);在保護(hù)玻璃與 顯示面板之間的兩層薄膜上分別形成透明電極層的類型（Glass/Film/Film，GFF);將觸控 感應(yīng)層設(shè)置在顯示面板的偏光片與彩色濾光片基板之間的類型（On-Cell);以及將觸控感 應(yīng)層嵌入到顯示面板的像素結(jié)構(gòu)之中的類型（In-Cell)等。
[0004] 然而，因?yàn)橛|控裝置表面為人機(jī)介面互動最頻繁的區(qū)塊，觸控顯示裝置無論在中 央點(diǎn)或是四角位置，都必須維持一定程度的硬度與保護(hù)效果，以達(dá)到保護(hù)內(nèi)部的觸控感應(yīng) 層與顯示面板的目的，不管是0GS、On-cell或In-cell類型的觸控顯示裝置，在制作過程 中，都需要采用全貼合工藝以形成觸控顯示裝置，如0GS類型的觸控顯示裝置需要采用全 貼合工藝將帶有透明電極層的保護(hù)玻璃與顯示面板組合在一起，On-Cell或In-Cell類型 的觸控顯示裝置需要采用全貼合工藝將保護(hù)玻璃與帶有觸控感應(yīng)層的顯示面板組裝在一 起，保護(hù)玻璃的存在增加了觸控顯示裝置的整體厚度，而且全貼合工藝良率較低，易造成保 護(hù)玻璃、甚至顯示面板等在貼合過程中消耗、報廢，直接導(dǎo)致生產(chǎn)成本上升。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0005] 本發(fā)明的目的包括提供一種觸控顯示裝置以實(shí)現(xiàn)工序簡單、成本減少并且生產(chǎn)效 率商的目的。
[0006] 具體地，本發(fā)明實(shí)施例提供一種觸控顯示裝置，包括第一基板、與該第一基板相對 設(shè)置的第二基板、設(shè)置在該第一基板與該第二基板之間的顯示介質(zhì)層以及設(shè)置在該第一基 板朝向該顯示介質(zhì)層的一表面的觸控感應(yīng)層，該觸控感應(yīng)層上形成有多個感測電極。該第 一基板的尺寸大于該第二基板以同時作保護(hù)玻璃之用。
[0007] 優(yōu)選地，該第一基板上還設(shè)置有顯示芯片與接口區(qū)，該顯示芯片與該接口區(qū)均設(shè) 置于該第一基板朝向該顯不介質(zhì)層的表面上。
[0008] 在本發(fā)明的一個實(shí)施例中，該多個感測電極包括多個用于接收觸控驅(qū)動信號的觸 控驅(qū)動電極與多個用于提供觸控感應(yīng)信號的觸控感應(yīng)電極，該多個觸控驅(qū)動電極與該多個 觸控感應(yīng)電極相間排列。
[0009] 優(yōu)選地，該多個觸控驅(qū)動電極與該多個觸控感應(yīng)電極為楔形電極，該多個觸控驅(qū) 動電極較寬的一端均位于該觸控顯示裝置的同一側(cè)，該多個觸控感應(yīng)電極較寬的一端均位 于該觸控顯示裝置的另一側(cè)。
[0010] 優(yōu)選地，該多個觸控驅(qū)動電極較寬的一端分別通過設(shè)置在該觸控顯示裝置一側(cè)的 多條觸控信號引線連接至該接口區(qū)，該多個觸控感應(yīng)電極較寬的一端分別通過設(shè)置在該觸 控顯示裝置另一側(cè)的多條觸控信號引線連接至該接口區(qū)。
[0011] 優(yōu)選地，該多個感測電極的材料為透明導(dǎo)電材料。
[0012] 在本發(fā)明的一個實(shí)施例中，該觸控顯示裝置進(jìn)一步包括設(shè)置在第一基板上的多條 平行設(shè)置的掃描線與多條平行設(shè)置的數(shù)據(jù)線，該多個感測電極分別與該多條數(shù)據(jù)線平行且 重疊設(shè)置，并與該多條掃描線絕緣相交以在相交處形成多個觸控電容，該觸控顯示裝置在 每幀時段內(nèi)分別具有顯示時段和觸控時段，在顯示時段內(nèi)，該掃描線用于提供掃描信號給 對應(yīng)的像素單元，該數(shù)據(jù)線用于提供數(shù)據(jù)信號給對應(yīng)的像素單元；在觸控時段內(nèi)，該掃描線 用于提供觸控驅(qū)動信號給該多個觸控電容，該多個感測電極用于提供觸控感應(yīng)信號。
[0013] 優(yōu)選地，該觸控感應(yīng)層由金屬材質(zhì)形成，該第一基板上進(jìn)一步設(shè)置有黑矩陣圖案 層，該黑矩陣圖案層設(shè)置在該第一基板與該觸控感應(yīng)層之間。
[0014] 優(yōu)選地，該多條掃描線形成于第一金屬層中，該多條數(shù)據(jù)線形成于第二金屬層中， 該第一金屬層設(shè)置在該觸控感應(yīng)層與該顯示介質(zhì)層之間，該第二金屬層設(shè)置在該第一金屬 層與該顯示介質(zhì)層之間，該觸控顯示裝置進(jìn)一步包括存儲電容電極層，該存儲電容電極層 設(shè)置在該觸控感應(yīng)層與該第一金屬層之間，該存儲電容電極層包括多個對應(yīng)該多條掃描線 的開口。
[0015] 優(yōu)選地，該第一基板進(jìn)一步設(shè)置有平坦層和偏光片，該平坦層設(shè)置在該觸控感應(yīng) 層與該存儲電容電極層之間，該偏光片設(shè)置在該平坦層與該存儲電容電極層之間。
[0016] 在本發(fā)明的一個實(shí)施例中，該第一基板進(jìn)一步設(shè)置有平坦層和公共電極層，該平 坦層設(shè)置在該觸控感應(yīng)層與該顯示介質(zhì)層之間，該公共電極層設(shè)置在該平坦層與該顯示介 質(zhì)層之間。
[0017] 優(yōu)選地，該第一基板進(jìn)一步設(shè)置有偏光片，該偏光片設(shè)置在該平坦層與該公共電 極層之間。
[0018] 優(yōu)選地，該觸控顯示裝置進(jìn)一步包括多條相互平行的掃描線，該第二基板朝向該 顯示介質(zhì)層的表面設(shè)置有包括該掃描線的薄膜晶體管陣列。
[0019] 優(yōu)選地，該多個感測電極為平行設(shè)置的條形電極且與該多條掃描線絕緣相交，該 多個感測電極分別通過設(shè)置在該第一基板上的多條觸控信號引線連接至接口區(qū)，該接口區(qū) 用于連接觸控芯片。
[0020] 優(yōu)選地，該第一基板進(jìn)一步設(shè)置有引腳區(qū)，該引腳區(qū)用于連接外部電路與該第二 基板上的薄膜晶體管陣列，該引腳區(qū)設(shè)置在該第一基板朝向該顯示介質(zhì)層的表面上，該顯 示芯片通過設(shè)置在該第一基板上的多條顯示信號引線連接至該引腳區(qū)。
[0021] 優(yōu)選地，該觸控感應(yīng)層為透明導(dǎo)電材料制成，該多條顯示信號引線與該觸控感應(yīng) 層在同一道光罩制程工藝中蝕刻而成。
[0022] 優(yōu)選地，該第二基板朝向該顯示介質(zhì)層的表面設(shè)置有連接薄膜晶體管陣列的引腳 區(qū)，該觸控顯示裝置進(jìn)一步包括用于封住該顯示介質(zhì)層的膠框，該第一基板的引腳區(qū)、該第 二基板上的引腳區(qū)與該膠框?qū)?yīng)設(shè)置，該膠框內(nèi)分布有多個金球，該第一基板的引腳區(qū)與 該第二基板上的引腳區(qū)內(nèi)的對應(yīng)引腳分別經(jīng)由該多個金球進(jìn)行連接以實(shí)現(xiàn)電導(dǎo)通。
[0023] 優(yōu)選地，每個金球包括塑料內(nèi)核、包裹該塑料內(nèi)核的鎳層、包裹該鎳層的金層以及 包裹該金層的絕緣層。
[0024] 優(yōu)選地，該掃描線沿第一方向延伸，該感測電極沿第二方向延伸，該觸控顯示裝置 進(jìn)一步包括時序控制器，該時序控制器預(yù)先根據(jù)每一條掃描線在該觸控顯示裝置的觸摸屏 上的沿第二方向所分布的位置與該掃描線被掃描的時間點(diǎn)之間的對應(yīng)關(guān)系制作所有掃描 線的位置與被掃描的時間點(diǎn)的對應(yīng)關(guān)系查找表，當(dāng)該觸控顯示裝置的觸摸屏被觸摸時，該 觸控芯片偵測到觸摸動作引起對應(yīng)觸摸點(diǎn)的感測電極所在處的電容變化的同時提供一表 示有觸摸動作發(fā)生的信號給該時序控制器，并根據(jù)電容的變化狀況確定觸摸點(diǎn)在第一方向 上的坐標(biāo)位置，該時序控制器在接收到該觸控芯片所提供的信號之后，通過內(nèi)部計數(shù)器記 下該觸摸動作發(fā)生的時間點(diǎn)，通過在該查找表中查找與該時間點(diǎn)對應(yīng)的掃描線的位置，以 確定該觸摸點(diǎn)在第二方向上的坐標(biāo)位置。
[0025] 在本發(fā)明的一個實(shí)施例中，該第一基板上進(jìn)一步設(shè)置有黑矩陣圖案層和彩色濾光 片層，該黑矩陣圖案層設(shè)置在該第一基板與該觸控感應(yīng)層之間，該彩色濾光片層設(shè)置在該 觸控感應(yīng)層與該顯示介質(zhì)層之間，該第二基板朝向該顯示介質(zhì)層的表面設(shè)置有公共電極。
[0026] 在本發(fā)明的另一個實(shí)施例中，該觸控顯示裝置進(jìn)一步包括彩色濾光片層，該彩色 濾光片層設(shè)置在該第二基板與該顯示介質(zhì)層之間。
[0027] 優(yōu)選地，該彩色濾光片層中的相鄰兩彩色濾光片部分重疊，該重疊區(qū)域用于避免 兩個相鄰像素區(qū)域的混光或者漏光現(xiàn)象。
[0028] 根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例所提供的觸控顯示裝置，該觸控顯示裝置可以無需保護(hù)玻璃， 減小了厚度，并且由于該觸控顯示裝置的觸控感應(yīng)層形成在第一基板朝向顯示介質(zhì)層的內(nèi) 偵L無需使用現(xiàn)有技術(shù)中形成觸控顯示面板所需要的全貼合工藝，因此可避免因全貼合工 藝所帶來的生產(chǎn)損失。并且感測電極形成在第一基板上僅需要一道光罩制造工藝，可以與 第一基板上的其他元件在同一制作流程上完成，無需增加額外的貼合設(shè)備，制程簡單，不僅 可節(jié)省生產(chǎn)時間，同樣可節(jié)省生產(chǎn)成本。
[0029] 上述說明僅是本發(fā)明技術(shù)方案的概述，為了能夠更清楚了解本發(fā)明的技術(shù)手段， 而可依照說明書的內(nèi)容予以實(shí)施，并且為了讓本發(fā)明的上述和其他目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能夠 更明顯易懂，以下特舉較佳實(shí)施例，并配合附圖，詳細(xì)說明如下。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0030] 圖1是本發(fā)明第一實(shí)施例提供的一種觸控顯示裝置的平面結(jié)構(gòu)示意圖。
[0031] 圖2是圖1所示的觸控顯示裝置沿II-II的方向上的部分剖面結(jié)構(gòu)示意圖。
[0032] 圖3a至圖3k是圖1所示的觸控顯示裝置在制造過程中的部分剖面結(jié)構(gòu)示意圖。
[0033] 圖4是本發(fā)明第二實(shí)施例提供的一種觸控顯示裝置的平面結(jié)構(gòu)示意圖。
[0034] 圖5是圖4所示的觸控顯示裝置沿V-V的方向上的部分剖面結(jié)構(gòu)示意圖。
[0035] 圖6是圖4所示的觸控顯示裝置沿VI-VI的方向上的部分剖面結(jié)構(gòu)示意圖。
[0036] 圖7a至圖7k是圖4所示的觸控顯示裝置在制造過程中的部分剖面結(jié)構(gòu)示意圖。
[0037] 圖8是本發(fā)明第三實(shí)施例提供的一種觸控顯示裝置的部分剖面結(jié)構(gòu)示意圖。
[0038] 圖9是本發(fā)明第四實(shí)施例提供的一種觸控顯示裝置的平面結(jié)構(gòu)示意圖。
[0039] 圖10是圖9所示的觸控顯示裝置沿X-X的方向上的部分剖面結(jié)構(gòu)示意圖。
[0040] 圖11是圖9所示的觸控顯示裝置沿XI-XI的方向上的部分剖面結(jié)構(gòu)示意圖。
[0041] 圖12是圖11所示的一個金球的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0042] 為更進(jìn)一步闡述本發(fā)明為達(dá)成預(yù)定發(fā)明目的所采取的技術(shù)手段及功效，以下結(jié)合 附圖及較佳實(shí)施例，對依據(jù)本發(fā)明提出的觸控顯示裝置其【具體實(shí)施方式】、方法、步驟、結(jié)構(gòu)、 特征及功效，詳細(xì)說明如后。
[0043] 有關(guān)本發(fā)明的前述及其他技術(shù)內(nèi)容、特點(diǎn)及功效，在以下配合參考圖式的較佳實(shí) 施例詳細(xì)說明中將可清楚的呈現(xiàn)。通過【具體實(shí)施方式】的說明，當(dāng)可對本發(fā)明為達(dá)成預(yù)定目 的所采取的技術(shù)手段及功效得以更加深入且具體的了解，然而所附圖式僅是提供參考與說 明之用，并非用來對本發(fā)明加以限制。
[0044] 請參考圖1，圖1是本發(fā)明第一實(shí)施例提供的一種觸控顯示裝置的平面結(jié)構(gòu)示意 圖。如圖1所示，觸控顯示裝置10為自容式電容觸控顯示裝置，該觸控顯示裝置10包括顯 示區(qū)100與非顯示區(qū)101，非顯示區(qū)101圍繞在顯示區(qū)100的四周。在顯示區(qū)100內(nèi)，該觸 控顯示裝置10包括多個感測電極1110,該多個感測電極1110包括多個用于接收觸控驅(qū)動 信號的觸控驅(qū)動電極1111與多個用于提供觸控感應(yīng)信號的觸控感應(yīng)電極1112,該多個觸 控驅(qū)動電極1111與該多個觸控感應(yīng)電極1112相間排列且均為楔形電極，楔形電極的一端 較寬，另一端較窄。該多個觸控驅(qū)動電極1111的較寬的一端均位于該觸控顯示裝置10的 同一側(cè)，該多個觸控感應(yīng)電極1112的較寬的一端均位于該觸控顯示裝置10的另一側(cè)。在 顯示區(qū)100的相對兩邊處的非顯示區(qū)101內(nèi)分別設(shè)置有多條觸控信號引線102,該多個觸控 驅(qū)動電極1111的較寬的一端分別與一邊非顯示區(qū)101內(nèi)的多條觸控信號引線102對應(yīng)連 接，該多個觸控感應(yīng)電極1112的較寬的一端分別與另一邊非顯示區(qū)101內(nèi)的多條觸控信號 引線102對應(yīng)連接。該非顯示區(qū)101內(nèi)的多條觸控信號引線102連接至接口區(qū)103,用于將 與接口區(qū)103連接的觸控芯片（圖未示）輸出的觸控驅(qū)動信號提供給該多個觸控驅(qū)動電極 1111，并將該多個觸控感應(yīng)電極1112上產(chǎn)生的觸控感應(yīng)信號傳送至觸控芯片，以由觸控芯 片進(jìn)行處理。
[0045] 請一并參考圖2,圖2是圖1所示的觸控顯示裝置10沿II-II的方向上的部分剖 面結(jié)構(gòu)示意圖，需要說明的是，在顯示區(qū)1〇〇內(nèi)，圖2僅繪示出兩個像素為例進(jìn)行說明。如 圖2所示，觸控顯示裝置10包括第一基板11、與第一基板11相對設(shè)置的第二基板12、設(shè)置 在第一基板11與第二基板12之間的顯示介質(zhì)層13。在本實(shí)施例中，該顯示介質(zhì)層13為液 晶層，在其他實(shí)施方式中，該顯示介質(zhì)層13還可為有機(jī)發(fā)光層或者其他可作為顯示用的介 質(zhì)層。
[0046] 在本實(shí)施例中，觸控顯示裝置10采用扭轉(zhuǎn)向列型（Twisted Nematic，TN)顯 示架構(gòu)。在其他實(shí)施方式中，該觸控顯示裝置10也可以采用平面內(nèi)切換型（In-Plane Switching, IPS)、邊緣電場切換型（Fringe Field Switching, FFS)或者垂直取向型 (Vertical Alignment，VA)等顯不架構(gòu)。
[0047] 第一基板11的材質(zhì)可為強(qiáng)化玻璃，且該第一基板11的尺寸大于第二基板12,因此 該第一基板11可同時作保護(hù)玻璃之用從而使該觸控顯示裝置10無需采用額外的保護(hù)玻璃 以減小該觸控顯示裝置10的厚度。觸控顯示裝置10的薄膜晶體管陣列與彩色濾光片均設(shè) 置在第一基板11上，具體而言，在第一基板11朝向顯不介質(zhì)層13的一表面依次設(shè)置有黑 矩陣圖案層104、觸控感應(yīng)層111、彩色濾光片層105、平坦層106、偏光片107、存儲電容電 極層112、第一絕緣層121、第一金屬層131、第二絕緣層122、溝道層108、第二金屬層132、 第三絕緣層123以及像素電極層113。該觸控感應(yīng)層111、該存儲電容電極層112以及該像 素電極層113均由透明導(dǎo)電材料制成。在本實(shí)施例中，觸控感應(yīng)層111設(shè)置在黑矩陣圖案 層104與彩色濾光片層105之間，但并不以此為限，在其他實(shí)施方式中，觸控感應(yīng)層111還 可設(shè)置在第一基板11朝向顯示介質(zhì)層13的表面與黑矩陣圖案層104之間，或者設(shè)置在彩 色濾光片層105與平坦層106之間。
[0048] 在本實(shí)施例中，偏光片107設(shè)置在平坦層106與存儲電容電極層112之間，可通過 將偏光材料涂布于平坦層106的方式形成在平坦層106上，但并不以此為限。在本實(shí)施例 中，由于該第一基板11同時作保護(hù)玻璃之用，因此，將偏光片107設(shè)置在該第一基板11朝 向顯示介質(zhì)層13的內(nèi)側(cè)，可以使偏光片107受到第一基板11的保護(hù)而避免受到損傷。
[0049] 在其他實(shí)施方式中，該偏光片107也可以通過偏光片貼附的方式設(shè)置于該第一基 板11遠(yuǎn)離該顯不介質(zhì)層13的另一表面。
[0050] 請再一并參考圖1與圖2,其中，觸控感應(yīng)層111包括該多個感測電極1110。彩色 濾光片層105包括多個紅、綠、藍(lán)彩色濾光片和/或白色濾光片或者其他合適顏色的濾光 片，但不限于此。存儲電容電極層112包括存儲電容電極，且該存儲電容電極層112同時作 為信號屏蔽層，在該存儲電容電極層112上施加固定電壓，由于該存儲電容電極層112位于 觸控感應(yīng)層111與像素電極層113之間，因此當(dāng)觸控感應(yīng)層111上的觸控信號發(fā)生變化或 者當(dāng)像素電極層113上的顯示信號發(fā)生變化時，因該存儲電容電極層112上施加有固定電 壓，觸控信號與顯不信號不會干擾對方。第一金屬層131包括柵極1310、掃描線（圖未不）、 公共電極線1312以及觸控信號引線102。第二絕緣層122為柵極絕緣層。第二金屬層132 包括源極、漏極（未標(biāo)示）以及數(shù)據(jù)線（圖未示）。像素電極層113包括多個像素電極（未 標(biāo)不）。
[0051] 第一絕緣層121上設(shè)置有多個第一通孔141，該第一通孔141貫穿該第一絕緣層 121，存儲電容電極層112上的存儲電容電極經(jīng)由該第一通孔141連接至公共電極線1312。 該第一絕緣層121與該平坦層106上設(shè)置有多個第二通孔142,該第二通孔142貫穿該第一 絕緣層121與該平坦層106,觸控感應(yīng)層111上的感測電極1110經(jīng)由該第二通孔142連接 至觸控信號引線102。第三絕緣層123上設(shè)置有多個第三通孔143,該第三通孔143貫穿該 第三絕緣層123,像素電極層113上的像素電極經(jīng)由第三通孔143連接至對應(yīng)的源極或漏 極。
[0052] 在第二基板12朝向顯示介質(zhì)層13的表面設(shè)置有公共電極層114,該公共電極層 114由透明導(dǎo)電材料制成。
[0053] 此外，請再參考圖1，該第一基板11上還設(shè)置有顯示芯片110,該顯示芯片110位 于非顯示區(qū)101內(nèi)且鄰近該接口區(qū)103,該顯示芯片110與接口區(qū)103均設(shè)置于觸控顯示裝 置10的第一基板11朝向顯示介質(zhì)層13的表面上。該顯示芯片110用于為該顯示區(qū)100內(nèi) 的多個像素提供掃描信號、數(shù)據(jù)信號等顯示信號。在本實(shí)施例中，顯示芯片110位于非顯示 區(qū)101內(nèi)且鄰近接口區(qū)103,即顯示芯片110與接口區(qū)103均設(shè)置于觸控顯示裝置10的第 一基板11上同一側(cè)的非顯示區(qū)101內(nèi)，但并不以此為限，在其他實(shí)施方式中，顯示芯片110 與接口區(qū)103也可以設(shè)置于觸控顯示裝置10的第一基板11不同側(cè)的非顯示區(qū)101內(nèi)。進(jìn) 一步的，可將觸控芯片與顯示芯片110集成在一個集成芯片上，在此情形下，觸控信號引線 102可直接連接至該集成芯片，由該集成芯片提供觸控驅(qū)動信號給觸控驅(qū)動電極1111，并 對觸控感應(yīng)電極1112上產(chǎn)生的觸控感應(yīng)信號進(jìn)行處理。
[0054] 由于該第一基板11米用強(qiáng)化玻璃，且第一基板11的尺寸大于第二基板12,因此該 第一基板11可以取代現(xiàn)有技術(shù)中的彩色濾光片基板、觸控面板以及保護(hù)玻璃的組合，無需 另外通過貼合一層保護(hù)玻璃來增加觸控顯示裝置10的觸控面板的強(qiáng)度，在節(jié)省成本的同 時，省去了全貼合工藝制程，增加了產(chǎn)品良率，并減小了觸控顯示裝置10的厚度。
[0055] 請一并參考圖3a至圖3k，圖3a至圖3k是圖1所示的觸控顯示裝置在制造過程中 的部分剖面結(jié)構(gòu)示意圖。該制造過程主要以在第一基板11上形成各元件為例進(jìn)行說明，該 制造過程包括以下步驟：
[0056] 步驟S31，請參考圖3a，提供第一基板11并在該第一基板11上形成黑矩陣圖案層 104。其中，該第一基板11為透明基板，其材料可采用強(qiáng)化玻璃，但不限于此。該黑矩陣圖 案層104形成在第一基板11上，形成該黑矩陣圖案層104的方法例如是轉(zhuǎn)印法或噴墨法， 但不限于此。
[0057] 步驟S32,請參考圖3b，形成觸控感應(yīng)層111。在本步驟中，通過第一道光罩制造工 藝形成觸控感應(yīng)層111，即，先在第一基板11形成有黑矩陣圖案層104的一側(cè)上形成一第一 透明導(dǎo)電層，然后圖案化該第一透明導(dǎo)電層以形成具有多個感測電極1110的觸控感應(yīng)層 111。舉例來說，圖案化該第一透明導(dǎo)電層的步驟包括先在該第一透明導(dǎo)電層上全面形成光 致抗蝕劑層；接著利用一光掩模對光致抗蝕劑層進(jìn)行一道曝光工藝，以形成圖案化的光致 抗蝕劑層；再利用圖案化的光致抗蝕劑層作為蝕刻掩模以蝕刻該第一透明導(dǎo)電層以形成具 有多個感測電極1110的觸控感應(yīng)層111。此外，需去除圖案化的光致抗蝕劑層，再進(jìn)行清洗 與干燥等蝕刻后續(xù)工藝。
[0058] 第一透明導(dǎo)電層的材料可包括氧化銦錫（Indium Tin Oxide, ΙΤ0)、氧化銦鋅 (Indium Zinc Oxide, ΙΖ0)、氧化鎘錫（Cadmium Tin Oxide, CTO)、氧化錯錫（Aluminum Tin Oxide, ΑΤΟ)、氧化銦鋒錫（Indium Tin Zinc Oxide, ITZO)、氧化鋒（Zinc Oxide)、 氧化鎘（Cadmium Oxide)、氧化給（Hafnium Oxide)、氧化銦嫁鋒（Indium Gallium Zinc Oxide, IGZ0)、氧化銦嫁鋒緩（Indium Gallium Zinc Magnesium Oxide, IGZM0)、氧化銦 鋒緩（Indium Zinc Magnesium Oxide, ΙΖΜ0)或氧化銦嫁錯（Indium Gallium Aluminum Oxide, IGA0)等透明導(dǎo)電材料。
[0059] 步驟S33,請參考圖3c，形成彩色濾光片層105。其中，彩色濾光片層105形成在第 一基板11形成有觸控感應(yīng)層111的一側(cè)上，形成彩色濾光片層105的方法可以是噴墨法， 但不限于此。
[0060] 步驟S34,請參考圖3d，依次形成平坦層106與偏光片107。其中，平坦層106形 成在第一基板11形成有彩色濾光片層105的一側(cè)上，形成平坦層106的方法例如是低溫 化學(xué)氣相沉積法或旋轉(zhuǎn)涂布法，而平坦層106的材料例如是無機(jī)材料（例如為氧化硅、氮 化硅、氮氧化硅、碳化硅、氧化鉿、氧化鋁等）或有機(jī)材料（例如為光致抗蝕劑、苯并環(huán)丁烯 (Enzocyclobutane，BCB)、環(huán)烯類、聚酰亞胺類、聚酰胺類、聚酯類、聚醇類、聚環(huán)氧乙燒類、 聚苯類、樹脂類、聚醚類、聚酮類等），在此并不限定平坦層106的形成方法與材料。
[0061] 偏光片107形成在平坦層106上，可將偏光材料通過旋轉(zhuǎn)涂布法形成在平坦層106 上以形成該偏光片107,但不限于此。
[0062] 步驟S35，請參考圖3e，形成存儲電容電極層112。在本步驟中，通過第二道光罩制 造工藝形成存儲電容電極層112,即，先在第一基板11形成有偏光片107的一側(cè)上形成一第 二透明導(dǎo)電層，然后圖案化該第二透明導(dǎo)電層以形成具有存儲電容電極的存儲電容電極層 112。
[0063] 步驟S36,請參考圖3f，依次形成第一絕緣層121與第一通孔141、第二通孔142。 其中，第一絕緣層121可通過低溫化學(xué)氣相沉積法或旋轉(zhuǎn)涂布法形成在第一基板11形成有 存儲電容電極層112的一側(cè)上，但不限于此。第一絕緣層121的材料例如是無機(jī)材料（例 如為氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、碳化硅、氧化鉿、氧化鋁等）或有機(jī)材料（例如為光致抗蝕 齊U、苯并環(huán)丁烯、環(huán)烯類、聚酰亞胺類、聚酰胺類、聚酯類、聚醇類、聚環(huán)氧乙烷類、聚苯類、樹 脂類、聚醚類、聚酮類等）。
[0064] 在本實(shí)施例中，在第一絕緣層121形成之后，通過第三道光罩制造工藝形成貫穿 該第一絕緣層121的第一通孔141以及貫穿該第一絕緣層121與該平坦層106的第二通孔 142。具體地，先于第一絕緣層121上全面形成光致抗蝕劑層，接著利用灰階光掩模、半色調(diào) 光掩模、或是相位移光掩模對光致抗蝕劑層進(jìn)行一道曝光工藝，使得光致抗蝕劑層成為圖 案化光致抗蝕劑層并具有兩種厚度，其中厚的圖案化光致抗蝕劑層對應(yīng)用于形成第一通孔 141的位置，薄的圖案化光致抗蝕劑層對應(yīng)用于形成第二通孔142的位置，其后，利用該圖 案化光致抗蝕劑層作為蝕刻掩模而對第一絕緣層121與平坦層106進(jìn)行蝕刻工藝，分別形 成多個第一通孔141與多個第二通孔142。之后去除圖案化光致抗蝕劑層，再進(jìn)行清洗與干 燥等蝕刻后續(xù)工藝。
[0065] 在其他實(shí)施例中，也可先通過一道光罩制造工藝在第一絕緣層121形成第一通孔 141以及第二通孔142在第一絕緣層121上的部分，然后再通過另一道光罩制造工藝在平坦 層106上形成第二通孔142的剩下部分。
[0066] 步驟S37,請參考圖3g，形成第一金屬層131。其中，第一金屬層131的形成可以先 通過濺鍍法形成一層金屬在第一絕緣層121上，然后再通過第四道光罩制造工藝圖案化該 層金屬以形成具有柵極1310、掃描線、公共電極線1312以及觸控信號引線102等的第一金 屬層131。該第一金屬層131的材料例如是金、銀、銅、鋁、鑰、鈦、鉭、鎘、或其他金屬導(dǎo)電材 料。
[0067] 第一金屬層131形成之后，公共電極線1312經(jīng)由第一通孔141連接至存儲電容電 極層112上的存儲電容電極，觸控信號引線102經(jīng)由第二通孔142連接至觸控感應(yīng)層111 上的感測電極1110。
[0068] 步驟S38,請參考圖3h，依次形成第二絕緣層122與溝道層108。其中，該第二絕緣 層122作為柵極絕緣層形成在第一基板11形成有第一金屬層131的一側(cè)上，該第二絕緣層 122的形成方法和材料與該第一絕緣層121相似，在此不再贅述。
[0069] 在第二絕緣層122形成之后，在第二絕緣層122上通過例如是化學(xué)氣相沉積法形 成一半導(dǎo)體層。在本實(shí)施例中，半導(dǎo)體層可以包括一溝道材質(zhì)層，溝道材質(zhì)層的材質(zhì)例如是 非晶硅或多晶硅。在其他實(shí)施例中半導(dǎo)體層還可進(jìn)一步包括一歐姆接觸材質(zhì)層，使溝道材 質(zhì)層位于該歐姆接觸材質(zhì)層與第二絕緣層122之間，歐姆接觸材質(zhì)層的材質(zhì)例如是經(jīng)摻雜 的非晶硅。然后再通過第五道光罩制造工藝圖案化該半導(dǎo)體層以形成溝道層108。
[0070] 步驟S39,請參考圖3i，形成第二金屬層132。其中，該第二金屬層132的形成可先 通過濺鍍法形成一層金屬在第一基板11形成有溝道層108的一側(cè)上，然后再通過第六道光 罩制造工藝圖案化該層金屬以形成具有源極、漏極以及數(shù)據(jù)線等的第二金屬層132。該第二 金屬層132的材料與第一金屬層131相似，在此不再贅述。
[0071] 步驟S40,請參考圖3j，依次形成第三絕緣層123以及第三通孔143。其中，第三絕 緣層123形成在第一基板11形成有第二金屬層132的一側(cè)上，該第三絕緣層123的形成方 法和材料與該第一絕緣層121相似，在此不再贅述。
[0072] 在第三絕緣層123形成之后，通過第七道光罩制造工藝形成貫穿該第三絕緣層 123的第三通孔143。第七道光罩制造工藝與上述第一道光罩制造工藝相似，在此不再贅 述。
[0073] 步驟S41，請參考圖3k，形成像素電極層113。其中，通過第八道光罩制造工藝形成 像素電極層113,即，先在第一基板11形成有第三絕緣層123的一側(cè)上形成一第三透明導(dǎo)電 層，然后圖案化該第三透明導(dǎo)電層以形成具有多個像素電極的像素電極層113。該第三透明 導(dǎo)電層的材料與該第一透明導(dǎo)電層的材料相似，在此不再贅述。
[0074] 該像素電極層113形成之后，像素電極層113上的像素電極經(jīng)由第三通孔143連 接至對應(yīng)的源極或漏極。
[0075] 至此，該觸控顯示裝置10的第一基板11上的各元件的制作基本完成。
[0076] 綜上所述，由于本實(shí)施例中的觸控顯示裝置10將具有感測電極1110的觸控感應(yīng) 層111形成在第一基板11朝向顯示介質(zhì)層13的內(nèi)側(cè)，無需使用現(xiàn)有技術(shù)中形成觸控顯示 面板所需要的全貼合工藝，因此可避免因全貼合工藝所帶來的生產(chǎn)損失。并且感測電極 1110形成在第一基板11上僅需要一道光罩制造工藝，且與第一基板11上的其他元件在同 一制作流程上完成，無需增加額外的貼合設(shè)備，制程簡單，不僅可節(jié)省生產(chǎn)時間，同樣可節(jié) 省生產(chǎn)成本。
[0077] 圖4是本發(fā)明第二實(shí)施例提供的一種觸控顯示裝置的平面結(jié)構(gòu)示意圖，圖5是圖 4所示的觸控顯示裝置20沿V-V的方向上的剖面結(jié)構(gòu)示意圖，圖6是圖4所示的觸控顯示 裝置20沿VI-VI的方向上的剖面結(jié)構(gòu)示意圖，需要說明的是，圖5和圖6僅繪示出兩個像 素為例以進(jìn)行說明。請一并參考圖4、圖5與圖6,觸控顯示裝置20為互容式電容觸控顯示 裝置，觸控顯示裝置20包括顯示區(qū)200與非顯示區(qū)201，非顯示區(qū)201圍繞在顯示區(qū)200的 四周。在顯示區(qū)200內(nèi)，該觸控顯示裝置20包括多條平行設(shè)置的掃描線2311、多條平行設(shè) 置的數(shù)據(jù)線2321 (見圖5)以及多個平行設(shè)置的感測電極2110。該多個感測電極2110分別 與該多條數(shù)據(jù)線2321平行且重疊設(shè)置，且該多個感測電極2110與該多條掃描線2311絕緣 相交，并在相交處形成多個觸控電容。掃描線2311的一端與數(shù)據(jù)線2321通過對應(yīng)的引線 連接至位于非顯示區(qū)201內(nèi)的顯示芯片210,掃描線2311的另一端與該多個感測電極2110 分別通過非顯示區(qū)201內(nèi)的多條觸控信號引線202連接至接口區(qū)203,具體的，在本實(shí)施例 中，顯示芯片210與接口區(qū)203位于該觸控顯示裝置20的同一側(cè)，但并不以此為限。
[0078] 該觸控顯示裝置20在每幀時段內(nèi)分別具有顯示時段和觸控時段，在顯示時段內(nèi)， 顯示芯片210通過掃描線2311提供掃描信號給對應(yīng)的像素單元，通過數(shù)據(jù)線2321提供數(shù) 據(jù)信號給對應(yīng)的像素單元；在觸控時段內(nèi)，觸控芯片通過掃描線2311提供觸控驅(qū)動信號提 供給觸控電容，而當(dāng)有觸摸動作發(fā)生時，對應(yīng)的感測電極2110上產(chǎn)生的觸控感應(yīng)信號經(jīng)由 接口區(qū)203傳送至觸控芯片，以由觸控芯片進(jìn)行處理。在其他實(shí)施方式中，觸控芯片也可以 與顯示芯片210集成在一個集成芯片上，在此情形下，觸控信號引線202可直接連接至該集 成芯片，由該集成芯片提供觸控驅(qū)動信號給觸控電容，并對對應(yīng)感測電極2110上產(chǎn)生的觸 控感應(yīng)信號進(jìn)行處理。
[0079] 請再參考圖5與圖6,需要說明的是，在顯示區(qū)200內(nèi)，圖5和圖6僅繪示出兩個像 素為例以進(jìn)行說明。如圖5和圖6所示，觸控顯示裝置20包括第一基板21、與第一基板21 相對設(shè)置的第二基板22、設(shè)置在第一基板21與第二基板22之間的顯示介質(zhì)層23。在本實(shí) 施例中，該顯示介質(zhì)層23為液晶層，在其他實(shí)施方式中，該顯示介質(zhì)層23還可為有機(jī)發(fā)光 層或者其他可作為顯示用的介質(zhì)層。
[0080] 在本實(shí)施例中，該觸控顯示裝置20采用扭轉(zhuǎn)向列型顯示架構(gòu)，但并不以此為限， 在其他實(shí)施方式中，該觸控顯示裝置20也可以采用平面內(nèi)切換型、邊緣電場切換型或者垂 直取向型等顯示架構(gòu)。
[0081] 第一基板21的材質(zhì)可為強(qiáng)化玻璃，且第一基板21的尺寸大于第二基板22,因此該 第一基板21可同時作保護(hù)玻璃之用從而使該觸控顯示裝置20無需采用額外的保護(hù)玻璃以 減小該觸控顯示裝置20的厚度。觸控顯示裝置20的顯示芯片210與接口區(qū)203均設(shè)置在 該第一基板21朝向顯不介質(zhì)層23的表面上。
[0082] 該觸控顯示裝置20的薄膜晶體管陣列與彩色濾光片同樣均設(shè)置在第一基板21 上，具體而言，在第一基板21朝向顯示介質(zhì)層23的表面依次設(shè)置有黑矩陣圖案層204、觸控 感應(yīng)層211、彩色濾光片層205、平坦層206、偏光片207、存儲電容電極層212、第一絕緣層 221、第一金屬層231、第二絕緣層222、溝道層208、第二金屬層232、第三絕緣層223以及像 素電極層213。存儲電容電極層212以及該像素電極層213均由透明導(dǎo)電材料制成。
[0083] 在本實(shí)施例中，偏光片207設(shè)置在平坦層206與存儲電容電極層212之間，在其他 實(shí)施方式中，該偏光片207也可設(shè)置于該第一基板21遠(yuǎn)離該顯不介質(zhì)層23的另一表面。
[0084] 在本實(shí)施例中，觸控感應(yīng)層211由金屬材質(zhì)形成，觸控感應(yīng)層211包括該多個感測 電極2110,該多個感測電極2110均被黑矩陣圖案層204所遮蔽。彩色濾光片層205包括 多個紅、綠、藍(lán)彩色濾光片和/或白色濾光片或者其他合適顏色的濾光片，但不限于此。存 儲電容電極層212上形成有存儲電容電極以及多個開口 2120,該存儲電容電極層212同時 作為信號屏蔽層，用以屏蔽觸控信號與顯示信號之間的相互干擾。第一金屬層231上形成 有柵極2310、掃描線2311、公共電極線2312以及觸控信號引線202。第二絕緣層222為柵 極絕緣層。第二金屬層232上形成有源極、漏極（圖中未標(biāo)示）以及數(shù)據(jù)線2321，該數(shù)據(jù) 線2321與對應(yīng)的感測電極2110重疊設(shè)置。第二透明像素電極層213上形成有多個像素電 極。
[0085] 第一絕緣層221上設(shè)置有多個第一通孔241，該第一通孔241貫穿該第一絕緣層 221，存儲電容電極層212上的存儲電容電極經(jīng)由該第一通孔241連接至公共電極線2312。 該第一絕緣層221與該平坦層206上設(shè)置有多個第二通孔242,該第二通孔242貫穿該第一 絕緣層221與該平坦層206,觸控感應(yīng)層211上的感測電極2110經(jīng)由該第二通孔242連接 至觸控信號引線202。第三絕緣層223上設(shè)置有多個第三通孔243,該第三通孔243貫穿該 第三絕緣層223,像素電極層213上的像素電極經(jīng)由第三通孔243連接至對應(yīng)的源極或漏 極。
[0086] 該存儲電容電極層212上的開口 2120與第一金屬層231上的掃描線2311對應(yīng)設(shè) 置，該開口 2120的設(shè)置是為了避免當(dāng)掃描線2311在觸控時段內(nèi)傳送觸控驅(qū)動信號時，該觸 控驅(qū)動信號被存儲電容電極層212所屏蔽而影響觸控效果。
[0087] 在第二基板22朝向顯示介質(zhì)層23的一表面設(shè)置有公共電極214,該公共電極214 為透明導(dǎo)電材料制成。
[0088] 由于第一基板21米用強(qiáng)化玻璃制成，且該第一基板21的尺寸大于第二基板22,因 此該第一基板21可以取代現(xiàn)有技術(shù)中的彩色濾光片基板、觸控面板以及保護(hù)玻璃的組合。 也就是說，本發(fā)明的觸控顯示裝置20至少可以無需保護(hù)玻璃，因此，至少可以節(jié)省保護(hù)玻 璃所需的成本。而且，第一基板21采用強(qiáng)化玻璃，因此第一基板21可以取代現(xiàn)有技術(shù)中的 彩色濾光片基板、觸控面板以及保護(hù)玻璃的組合，無需另外通過貼合一層強(qiáng)化玻璃來增加 觸控顯示裝置20的觸控面板的強(qiáng)度，在節(jié)省成本的同時，省去了全貼合工藝制程，增加了 產(chǎn)品良率，并減小了觸控顯示裝置20的厚度。
[0089] 請一并參考圖7a至圖7k，7a至圖7k是圖4所示的觸控顯示裝置在制造過程中的 部分剖面結(jié)構(gòu)示意圖。該制造過程主要以在第一基板21上形成各元件為例進(jìn)行說明，該制 造過程包括以下步驟：
[0090] 步驟S71，請參考圖7a，提供第一基板21并在該第一基板21上形成黑矩陣圖案層 204。其中，該第一基板21為透明基板，其材料可采用強(qiáng)化玻璃，但不限于此。該黑矩陣圖 案層204形成在第一基板21上，形成該黑矩陣圖案層204的方法例如是轉(zhuǎn)印法或噴墨法， 但不限于此。
[0091] 步驟S72,請參考圖7b，形成觸控感應(yīng)層211。在本步驟中，通過第一道光罩制造 工藝形成觸控感應(yīng)層211，S卩，先在第一基板21形成有黑矩陣圖案層204的一側(cè)上通過例 如是濺鍍法形成一層金屬，然后圖案化該層金屬以形成具有多個感測電極2110的觸控感 應(yīng)層211。該觸控感應(yīng)層211的材料例如是金、銀、銅、鋁、鑰、鈦、鉭、鎘、或其他金屬導(dǎo)電材 料。舉例來說，圖案化該層金屬的步驟包括先在該層金屬上全面形成光致抗蝕劑層；接著利 用一光掩模對光致抗蝕劑層進(jìn)行一道曝光工藝，以形成圖案化的光致抗蝕劑層；再利用圖 案化的光致抗蝕劑層作為蝕刻掩模以蝕刻該層金屬以形成具有多個感測電極2110的觸控 感應(yīng)層211。此外，需去除圖案化的光致抗蝕劑層，再進(jìn)行清洗與干燥等蝕刻后續(xù)工藝。
[0092] 步驟S73,請參考圖7c，形成彩色濾光片層205。其中，該彩色濾光片層205形成 在第一基板21形成有觸控感應(yīng)層211的一側(cè)上，形成彩色濾光片層205的方法可以是噴墨 法，但不限于此。
[0093] 步驟S74,請參考圖7d，依次形成平坦層206與偏光片207。其中，該平坦層206 形成在第一基板21形成有彩色濾光片層205的一側(cè)上，形成平坦層206的方法例如是低溫 化學(xué)氣相沉積法或旋轉(zhuǎn)涂布法，而平坦層206的材料例如是無機(jī)材料（例如是氧化硅、氮化 硅、氮氧化硅、碳化硅、氧化鉿、氧化鋁等）或有機(jī)材料（例如是光致抗蝕劑、苯并環(huán)丁烯、環(huán) 烯類、聚酰亞胺類、聚酰胺類、聚酯類、聚醇類、聚環(huán)氧乙烷類、聚苯類、樹脂類、聚醚類、聚酮 類等），在此并不限定平坦層206的形成方法與材料。
[0094] 偏光片207形成在平坦層206上，可將偏光材料通過旋轉(zhuǎn)涂布法形成在該平坦層 206上以形成該偏光片207,但不限于此。
[0095] 步驟S75,請參考圖7e，形成存儲電容電極層212。在本步驟中，通過第二道光罩 制造工藝形成存儲電容電極層212, S卩，先在第一基板21形成有偏光片207的一側(cè)上形成 一第一透明導(dǎo)電層，然后圖案化該第一透明導(dǎo)電層以形成具有存儲電容電極以及開口 2120 的存儲電容電極層212。
[0096] 第一透明導(dǎo)電層的材料可以為氧化銦錫、氧化銦鋅、氧化鎘錫、氧化鋁錫、氧化銦 鋅錫、氧化鋅、氧化鎘、氧化鉿、氧化銦鎵鋅、氧化銦鎵鋅鎂、氧化銦鋅鎂或氧化銦鎵鋁等，但 不限于此。
[0097] 步驟S76,請參考圖7f，依次形成第一絕緣層221與第一通孔241、第二通孔242。 其中，該第一絕緣層221可通過低溫化學(xué)氣相沉積法或旋轉(zhuǎn)涂布法形成在第一基板21形成 有存儲電容電極層212的一側(cè)上，但不限于此。該第一絕緣層221的材料例如是無機(jī)材料 (例如為氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、碳化硅、氧化鉿、氧化鋁等）或有機(jī)材料（例如為光致抗 蝕劑、苯并環(huán)丁烯、環(huán)烯類、聚酰亞胺類、聚酰胺類、聚酯類、聚醇類、聚環(huán)氧乙烷類、聚苯類、 樹脂類、聚醚類、聚酮類等），但不限于此。
[0098] 在本實(shí)施例中，在第一絕緣層221形成之后，通過第三道光罩制造工藝形成貫穿 該第一絕緣層221的第一通孔241以及貫穿該第一絕緣層221與該平坦層206的第二通孔 242。具體地，先于第一絕緣層221上全面形成光致抗蝕劑層，接著利用灰階光掩模、半色調(diào) 光掩模、或是相位移光掩模對光致抗蝕劑層進(jìn)行一道曝光工藝，使得光致抗蝕劑層成為圖 案化光致抗蝕劑層并具有至少兩種厚度，其中厚的圖案化光致抗蝕劑層對應(yīng)用于形成第一 通孔241的位置，薄的圖案化光致抗蝕劑層對應(yīng)用于形成第二通孔242的位置，其后，利用 該圖案化光致抗蝕劑層作為蝕刻掩模而對第一絕緣層121與平坦層106進(jìn)行蝕刻工藝，分 別形成多個第一通孔241與多個第二通孔242。之后去除圖案化光致抗蝕劑層，再進(jìn)行清洗 與干燥等蝕刻后續(xù)工藝。
[0099] 在其他實(shí)施例中，也可先通過一道光罩制造工藝在第一絕緣層221形成第一通孔 241以及第二通孔242在第一絕緣層221上的部分，然后再通過另一道光罩制造工藝在平坦 層206上形成第二通孔242的剩下部分。
[0100] 步驟S77,請一并參考圖7g和圖6,形成第一金屬層231。其中，第一金屬層231的 形成可以先通過濺鍍法形成一層金屬在該第一絕緣層221上，然后再通過第四道光罩制造 工藝圖案化該層金屬以形成具有柵極2310、掃描線2311、公共電極線2312以及觸控信號引 線202等的第一金屬層231。該第一金屬層231的材料與該觸控感應(yīng)層211相似，在此不再 贅述。
[0101] 第一金屬層231形成之后，公共電極線2312經(jīng)由第一通孔241連接至存儲電容電 極層212上的存儲電容電極，觸控信號引線202經(jīng)由第二通孔242連接至觸控感應(yīng)層211 上的感測電極2110。
[0102] 步驟S78,請參考圖7h，依次形成第二絕緣層222與溝道層208。其中，該第二絕緣 層222作為柵極絕緣層形成在第一基板21形成有第一金屬層231的一側(cè)上，該第二絕緣層 222的形成方法和材料與該第一絕緣層221相似，在此不再贅述。
[0103] 在該第二絕緣層222形成之后，在該第二絕緣層222上通過例如是化學(xué)氣相沉積 法形成一半導(dǎo)體層。在本實(shí)施例中，半導(dǎo)體層可以包括一溝道材質(zhì)層，溝道材質(zhì)層的材質(zhì)例 如是非晶硅或多晶硅。在其他實(shí)施例中半導(dǎo)體層還可進(jìn)一步包括一歐姆接觸材質(zhì)層，使溝 道材質(zhì)層位于該歐姆接觸材質(zhì)層與第二絕緣層222之間，歐姆接觸材質(zhì)層的材質(zhì)例如是經(jīng) 摻雜的非晶硅。然后再通過第五道光罩制造工藝圖案化該半導(dǎo)體層以形成溝道層208。
[0104] 步驟S79,請參考圖7i，形成第二金屬層232。其中，該第二金屬層232的形成可先 通過濺鍍法形成一層金屬在第一基板21形成有溝道層208的一側(cè)上，然后再通過第六道光 罩制造工藝圖案化該層金屬以形成具有源極、漏極以及數(shù)據(jù)線2321等的第二金屬層232。 該第二金屬層232的材料與觸控感應(yīng)層211相似，在此不再贅述。
[0105] 步驟S80,請參考圖7j，依次形成第三絕緣層223以及第三通孔243。其中，該第三 絕緣層223形成在第一基板21形成有第二金屬層232的一側(cè)上，該第三絕緣層223的形成 方法和材料與該第一絕緣層221相似，在此不再贅述。
[0106] 在第三絕緣層223形成之后，通過第七道光罩制造工藝形成貫穿該第三絕緣層 223的第三通孔243。第七道光罩制造工藝與上述第一道光罩制造工藝相似，在此不再贅 述。
[0107] 步驟S81，請參考圖7k，形成像素電極層213。其中，通過第八道光罩制造工藝形成 像素電極層213,即，先在第一基板21形成有第三絕緣層223的一側(cè)上形成一第二透明導(dǎo)電 層，然后圖案化該第二透明導(dǎo)電層以形成具有多個像素電極的像素電極層213。該第二透明 導(dǎo)電層的材料與該第一透明導(dǎo)電層的材料相似，在此不再贅述。
[0108] 該像素電極層213形成之后，像素電極層213上的像素電極經(jīng)由第三通孔243連 接至對應(yīng)的源極或漏極。
[0109] 至此，該觸控顯示裝置20的第一基板21上的各元件的制作基本完成。
[0110] 綜上所述，由于本實(shí)施例中觸控顯示裝置20的第一基板21采用強(qiáng)化玻璃，因此第 一基板21可以取代現(xiàn)有技術(shù)中的彩色濾光片基板、觸控面板以及保護(hù)玻璃的組合，無需使 用現(xiàn)有技術(shù)中形成觸控顯示裝置所需要的全貼合工藝，因此可避免因全貼合工藝所帶來的 生產(chǎn)損失。并且感測電極2110形成在第一基板21上僅需要一道光罩制造工藝，且與第一 基板21上的其他元件在同一制作流程上完成，無需增加額外的貼合設(shè)備，制程簡單，不僅 可節(jié)省生產(chǎn)時間，同樣可節(jié)省生產(chǎn)成本。
[0111] 此外，在其他實(shí)施方式中，感測電極2110并不限于采用金屬材料制成，也可采用 透明導(dǎo)電材料制成。
[0112] 在其他實(shí)施例中，本發(fā)明的彩色濾光片層也可形成在第二基板上。請參考圖8,圖 8是本發(fā)明第三實(shí)施例提供的一種觸控顯示裝置的部分剖面結(jié)構(gòu)示意圖。如圖8所示，該 觸控顯示裝置30與第二實(shí)施例中的觸控顯示裝置20相似，其區(qū)別主要在于：彩色濾光片層 305形成在第二基板32朝向顯不介質(zhì)層33的表面。在本實(shí)施例中，彩色濾光片層305中的 相鄰兩彩色濾光片可部分重疊，利用重疊區(qū)域來避免兩個相鄰像素區(qū)域的混光或者漏光現(xiàn) 象。在其他實(shí)施例中，也可在第二基板32上另設(shè)一黑矩陣層，以避免上述混光或者漏光現(xiàn) 象。
[0113] 同樣，在其他實(shí)施例中，第一實(shí)施例中的觸控顯示裝置10的彩色濾光片層105可 形成在第二基板12朝向顯示介質(zhì)層13的表面。
[0114] 請參考圖9,圖9是本發(fā)明第四實(shí)施例提供的一種觸控顯示裝置的平面結(jié)構(gòu)示意 圖。如圖9所示，觸控顯示裝置40為自容式電容觸控顯示裝置，該觸控顯示裝置40包括顯 示區(qū)400與非顯示區(qū)401，非顯示區(qū)401圍繞在顯示區(qū)400的四周。在顯示區(qū)400內(nèi)，該觸 控顯示裝置40包括多個平行設(shè)置的感測電極4110以及多條平行設(shè)置的掃描線4311。該多 個感測電極4110為條形電極，且與該多條掃描線4311絕緣相交。該多個感測電極4110分 別通過非顯示區(qū)401內(nèi)的多條觸控信號引線402連接至接口區(qū)403,該接口區(qū)403通過軟性 電路板440連接觸控芯片450。
[0115] 如圖9所示，在本實(shí)施例中，掃描線4311沿第一方向X延伸，感測電極4110沿第二 方向Y延伸。該觸控顯示裝置40在進(jìn)行觸控點(diǎn)位置的確認(rèn)時需利用為其提供時序控制信 號、影像信號等顯示信號的時序控制器（圖未示），由于在一幀影像顯示時段內(nèi)，每一條掃 描線4311在該觸控顯示裝置40的觸摸屏上的沿第二方向Y所分布的位置與該掃描線4311 被掃描的時間點(diǎn)之間存在一定的對應(yīng)關(guān)系，該時序控制器可預(yù)先根據(jù)該對應(yīng)關(guān)系制作所有 掃描線4311的位置與被掃描的時間點(diǎn)的對應(yīng)關(guān)系查找表。當(dāng)觸控顯示裝置40的觸摸屏被 觸摸時，該觸摸動作引起對應(yīng)觸摸點(diǎn)的感測電極4110所在處的電容變化，觸控芯片450偵 測到該電容變化的同時提供一表示有觸摸動作發(fā)生的信號給時序控制器，并根據(jù)電容的變 化狀況確定觸摸點(diǎn)在第一方向X上的坐標(biāo)位置，而時序控制器在接收到該觸控芯片450所 提供的信號之后，通過其內(nèi)部的計數(shù)器記下觸摸動作發(fā)生的時間點(diǎn)，通過在上述查找表中 查找與該時間點(diǎn)對應(yīng)的掃描線4311的位置，從而確定觸摸點(diǎn)在第二方向Y上的坐標(biāo)位置。 該觸控顯示裝置40通過上述第一、第二方向X、Y上的坐標(biāo)位置即可得到觸摸點(diǎn)在觸摸屏上 的準(zhǔn)確位置。
[0116] 請一并參考圖10,圖10是圖9所示的觸控顯示裝置沿Χ-Χ的方向上的部分剖面 結(jié)構(gòu)示意圖，需要說明的是，在顯示區(qū)400內(nèi)，圖10僅繪示出兩個像素為例進(jìn)行說明。該觸 控顯示裝置40包括第一基板41、與第一基板41相對設(shè)置的第二基板42、設(shè)置在第一基板 41與第二基板42之間的顯示介質(zhì)層43。在本實(shí)施例中，該顯示介質(zhì)層43為液晶層，在其 他實(shí)施方式中，該顯示介質(zhì)層43還可為有機(jī)發(fā)光層或者其他可作為顯示用的介質(zhì)層。
[0117] 在本實(shí)施例中，該觸控顯示裝置40適用于第一基板41為彩色濾光片基板并且設(shè) 置有公共電極的顯示架構(gòu)，比如扭轉(zhuǎn)向列型、垂直取向型等顯示架構(gòu)。
[0118] 該第一基板41的材質(zhì)可為強(qiáng)化玻璃，且該第一基板41的尺寸大于第二基板42,因 此該第一基板41可同時作保護(hù)玻璃之用從而使該觸控顯示裝置40無需采用額外的保護(hù)玻 璃以減小該觸控顯示裝置40的厚度。在第一基板41朝向顯示介質(zhì)層43的表面依次設(shè)置 有黑矩陣圖案層404、觸控感應(yīng)層411、彩色濾光片層405、平坦層406、偏光片407以及公共 電極層412。
[0119] 在本實(shí)施例中，觸控感應(yīng)層411設(shè)置在黑矩陣圖案層404與彩色濾光片層405之 間，但并不以此為限，在其他實(shí)施方式中，觸控感應(yīng)層411還可設(shè)置在第一基板41朝向顯示 介質(zhì)層43的表面與黑矩陣圖案層404之間，或者設(shè)置在彩色濾光片層405與平坦層406之 間。
[0120] 在本實(shí)施例中，偏光片407設(shè)置在平坦層406與公共電極層412之間，可通過將偏 光材料涂布于平坦層406的方式形成在平坦層406上，但并不以此為限。在其他實(shí)施方式 中，該偏光片407也可設(shè)置于該第一基板41遠(yuǎn)離該顯不介質(zhì)層43的另一表面。由于在本 實(shí)施例中，該第一基板41同時作保護(hù)玻璃之用，因此，將偏光片407設(shè)置在該第一基板41 朝向顯示介質(zhì)層43的內(nèi)側(cè)，以更好地受到該第一基板41的保護(hù)而避免受到損傷。
[0121] 與第一、第二實(shí)施例不同的是，本實(shí)施例的薄膜晶體管陣列設(shè)置在第二基板42 上。如圖10所示，在第二基板42朝向顯示介質(zhì)層43的表面依次設(shè)置有第一金屬層431、第 二絕緣層422、溝道層408、第二金屬層432、第三絕緣層423以及像素電極層413。
[0122] 該觸控感應(yīng)層411、該公共電極層412以及該像素電極層413均由透明導(dǎo)電材料制 成。
[0123] 請再一并參考圖9與圖10,其中，觸控感應(yīng)層411包括該多個感測電極4110以及 多條觸控信號引線402。彩色濾光片層405包括多個紅、綠、藍(lán)彩色濾光片和/或白色濾光 片或者其他合適顏色的濾光片，但不限于此。公共電極層412為面電極，且同時作為信號屏 蔽層，用以屏蔽觸控信號與顯示信號之間的相互干擾。第一金屬層431包括柵極4310與掃 描線4311 (見圖9)。第二絕緣層422為柵極絕緣層。第二金屬層432包括源極、漏極（未 標(biāo)示）以及數(shù)據(jù)線（圖未示）。像素電極層413包括多個像素電極（未標(biāo)示）。
[0124] 請再參考圖9,該觸控顯示裝置40還包括引腳區(qū)460和多個顯示芯片410,該多個 顯示芯片410通過多條顯示信號引線461連接至該引腳區(qū)460,該引腳區(qū)460可通過軟性 電路板與外部電路，如電源電路、時序控制器等連接。在本實(shí)施例中，該多個顯示芯片410 用于為該顯示區(qū)100內(nèi)的多個像素提供掃描信號、數(shù)據(jù)信號等顯示信號。在其他實(shí)施例中， 該多個顯示芯片410為源極驅(qū)動芯片，用于為該顯示區(qū)100內(nèi)的多個像素提供數(shù)據(jù)信號，而 可在第一基板41上另外設(shè)置柵極驅(qū)動芯片，或者將柵極驅(qū)動所需的元件集成在第二基板 42中。在本實(shí)施例中，該顯不信號引線461可與該觸控感應(yīng)層411在同一道光罩制程工藝 中蝕刻而成，也就是說，該顯示信號引線461與該觸控感應(yīng)層411是同一層透明導(dǎo)電材料制 成。在其他實(shí)施例中，該顯示信號引線461也可采用金屬材料，通過增加一道光罩制程工藝 蝕刻形成。
[0125] 引腳區(qū)460、顯示芯片410與接口區(qū)403均設(shè)置于觸控顯示裝置40的第一基板41 朝向顯示介質(zhì)層43的表面上，該引腳區(qū)460與顯示芯片410設(shè)置于觸控顯示裝置40的第 一基板41上同一側(cè)的非顯示區(qū)401內(nèi)。在本實(shí)施例中，該顯示芯片410與接口區(qū)403并且 分別設(shè)置于觸控顯示裝置40的第一基板41相對兩側(cè)的非顯示區(qū)401內(nèi)，但并不以此為限， 在其他實(shí)施方式中，顯示芯片410與接口區(qū)403也可均設(shè)置于觸控顯示裝置40的第一基板 41上同一側(cè)的非顯示區(qū)401內(nèi)。
[0126] 在本實(shí)施例中，由于引腳區(qū)460、顯示芯片410設(shè)置在第一基板41上，而薄膜晶 體管陣列設(shè)置在第二基板42上，因此需要將第二基板42上的薄膜晶體管陣列中的掃描線 4311和數(shù)據(jù)線與引腳區(qū)460連接起來以實(shí)現(xiàn)通過引腳區(qū)460為掃描線4311和數(shù)據(jù)線提供 對應(yīng)的顯示信號。請一并參考圖9和圖11，其中，圖11是圖9所示的觸控顯示裝置40沿 XI-XI的方向上的部分剖面結(jié)構(gòu)示意圖。該觸控顯示裝置40進(jìn)一步包括用于封住顯示介質(zhì) 層43的膠框44,該第二基板42在非顯示區(qū)401內(nèi)同樣設(shè)置有連接掃描線4311和數(shù)據(jù)線 的引腳區(qū)470。該引腳區(qū)460、470與該膠框44對應(yīng)設(shè)置，該膠框44內(nèi)分布有多個金球（Au bal 1) 490，該引腳區(qū)460、470內(nèi)的對應(yīng)引腳經(jīng)由該金球490進(jìn)行連接以實(shí)現(xiàn)電導(dǎo)通。
[0127] 請參考圖12,圖12是一個金球490的結(jié)構(gòu)示意圖。該金球490包括塑料內(nèi)核491、 包裹該塑料內(nèi)核491的鎳（Ni)層492、包裹該鎳層492的金層493以及包裹該金層493的 絕緣層494。在該觸控顯示裝置40的制造過程中，將第一基板41與第二基板42進(jìn)行壓合 時，該金球490最外面的絕緣層494由于被壓時產(chǎn)生張力而破裂，而使與引腳區(qū)460、470接 觸的金層493曝露出來，因此可使金球490在水平方向上不導(dǎo)通，而在垂直方向上導(dǎo)通的特 性，從而可連接引腳區(qū)460、470內(nèi)的對應(yīng)引腳而實(shí)現(xiàn)電導(dǎo)通。
[0128] 由于該觸控顯示裝置40的第一基板41采用強(qiáng)化玻璃，且第一基板41的尺寸大于 第二基板42,因此該第一基板41可以取代現(xiàn)有技術(shù)中的彩色濾光片基板、觸控面板以及保 護(hù)玻璃的組合，無需另外通過貼合一層保護(hù)玻璃來增加觸控顯示裝置40的觸控面板的強(qiáng) 度，在節(jié)省成本的同時，省去了全貼合工藝制程，增加了產(chǎn)品良率，并減小了觸控顯示裝置 40的厚度。
[0129] 以上僅是本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已，并非對本發(fā)明作任何形式上的限制，雖然本 發(fā)明已以較佳實(shí)施例揭露如上，然而并非用以限定本發(fā)明，任何熟悉本專業(yè)的技術(shù)人員， 在不脫離本發(fā)明技術(shù)方案范圍內(nèi)，當(dāng)可利用上述揭示的技術(shù)內(nèi)容作出些許更動或修飾為等 同變化的等效實(shí)施例，但凡是未脫離本發(fā)明技術(shù)方案內(nèi)容，依據(jù)本發(fā)明的技術(shù)實(shí)質(zhì)對以上 實(shí)施例所作的任何簡單修改、等同變化與修飾，均仍屬于本發(fā)明技術(shù)方案的范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1. 一種觸控顯示裝置，包括第一基板、與該第一基板相對設(shè)置的第二基板以及設(shè)置在 該第一基板與該第二基板之間的顯示介質(zhì)層，其特征在于：該觸控顯示裝置進(jìn)一步包括觸 控感應(yīng)層，該觸控感應(yīng)層設(shè)置在該第一基板朝向該顯不介質(zhì)層的一表面，該觸控感應(yīng)層上 形成有多個感測電極，該第一基板的尺寸大于該第二基板以同時作保護(hù)玻璃之用。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸控顯示裝置，其特征在于：該第一基板上還設(shè)置有顯示芯 片與接口區(qū)，該顯示芯片與該接口區(qū)均設(shè)置于該第一基板朝向該顯示介質(zhì)層的表面上。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的觸控顯示裝置，其特征在于：該多個感測電極包括多個用于 接收觸控驅(qū)動信號的觸控驅(qū)動電極與多個用于提供觸控感應(yīng)信號的觸控感應(yīng)電極，該多個 觸控驅(qū)動電極與該多個觸控感應(yīng)電極相間排列。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的觸控顯示裝置，其特征在于：該多個觸控驅(qū)動電極與該多個 觸控感應(yīng)電極為楔形電極，該多個觸控驅(qū)動電極較寬的一端均位于該觸控顯示裝置的同一 偵牝該多個觸控感應(yīng)電極較寬的一端均位于該觸控顯示裝置的另一側(cè)。
5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的觸控顯示裝置，其特征在于：該多個觸控驅(qū)動電極較寬的一 端分別通過設(shè)置在該觸控顯示裝置一側(cè)的多條觸控信號引線連接至該接口區(qū)，該多個觸控 感應(yīng)電極較寬的一端分別通過設(shè)置在該觸控顯示裝置另一側(cè)的多條觸控信號引線連接至 該接口區(qū)。
6. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的觸控顯示裝置，其特征在于：該多個感測電極的材料為透明 導(dǎo)電材料。
7. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的觸控顯示裝置，其特征在于：該觸控顯示裝置進(jìn)一步包括設(shè) 置在第一基板上的多條平行設(shè)置的掃描線與多條平行設(shè)置的數(shù)據(jù)線，該多個感測電極分別 與該多條數(shù)據(jù)線平行且重疊設(shè)置，并與該多條掃描線絕緣相交以在相交處形成多個觸控電 容，該觸控顯示裝置在每幀時段內(nèi)分別具有顯示時段和觸控時段，在顯示時段內(nèi)，該掃描線 用于提供掃描信號給對應(yīng)的像素單元，該數(shù)據(jù)線用于提供數(shù)據(jù)信號給對應(yīng)的像素單元；在 觸控時段內(nèi)，該掃描線用于提供觸控驅(qū)動信號給該多個觸控電容，該多個感測電極用于提 供觸控感應(yīng)信號。
8. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的觸控顯示裝置，其特征在于：該觸控感應(yīng)層由金屬材質(zhì)形成， 該第一基板上進(jìn)一步設(shè)置有黑矩陣圖案層，該黑矩陣圖案層設(shè)置在該第一基板與該觸控感 應(yīng)層之間。
9. 根據(jù)權(quán)利要求8所述的觸控顯示裝置，其特征在于：該多條掃描線形成于第一金屬 層中，該多條數(shù)據(jù)線形成于第二金屬層中，該第一金屬層設(shè)置在該觸控感應(yīng)層與該顯示介 質(zhì)層之間，該第二金屬層設(shè)置在該第一金屬層與該顯示介質(zhì)層之間，該觸控顯示裝置進(jìn)一 步包括存儲電容電極層，該存儲電容電極層設(shè)置在該觸控感應(yīng)層與該第一金屬層之間，該 存儲電容電極層包括多個對應(yīng)該多條掃描線的開口。
10. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的觸控顯示裝置，其特征在于：該第一基板進(jìn)一步設(shè)置有平坦 層和偏光片，該平坦層設(shè)置在該觸控感應(yīng)層與該存儲電容電極層之間，該偏光片設(shè)置在該 平坦層與該存儲電容電極層之間。
11. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的觸控顯示裝置，其特征在于：該第一基板進(jìn)一步設(shè)置有平坦 層和公共電極層，該平坦層設(shè)置在該觸控感應(yīng)層與該顯示介質(zhì)層之間，該公共電極層設(shè)置 在該平坦層與該顯示介質(zhì)層之間。
12. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的觸控顯示裝置，其特征在于：該第一基板進(jìn)一步設(shè)置有偏 光片，該偏光片設(shè)置在該平坦層與該公共電極層之間。
13. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的觸控顯示裝置，其特征在于：該觸控顯示裝置進(jìn)一步包括 多條相互平行的掃描線，該第二基板朝向該顯示介質(zhì)層的表面設(shè)置有包括該掃描線的薄膜 晶體管陣列。
14. 根據(jù)權(quán)利要求13所述的觸控顯示裝置，其特征在于：該多個感測電極為平行設(shè)置 的條形電極且與該多條掃描線絕緣相交，該多個感測電極分別通過設(shè)置在該第一基板上的 多條觸控信號引線連接至接口區(qū)，該接口區(qū)用于連接觸控芯片。
15. 根據(jù)權(quán)利要求14所述的觸控顯示裝置，其特征在于：該第一基板進(jìn)一步設(shè)置有引 腳區(qū)，該引腳區(qū)用于連接外部電路與該第二基板上的薄膜晶體管陣列，該引腳區(qū)設(shè)置在該 第一基板朝向該顯示介質(zhì)層的表面上，該顯示芯片通過設(shè)置在該第一基板上的多條顯示信 號引線連接至該引腳區(qū)。
16. 根據(jù)權(quán)利要求15所述的觸控顯示裝置，其特征在于：該觸控感應(yīng)層為透明導(dǎo)電材 料制成，該多條顯示信號引線與該觸控感應(yīng)層在同一道光罩制程工藝中蝕刻而成。
17. 根據(jù)權(quán)利要求15所述的觸控顯示裝置，其特征在于：該第二基板朝向該顯示介質(zhì) 層的表面設(shè)置有連接薄膜晶體管陣列的引腳區(qū)，該觸控顯示裝置進(jìn)一步包括用于封住該顯 示介質(zhì)層的膠框，該第一基板的引腳區(qū)、該第二基板上的引腳區(qū)與該膠框?qū)?yīng)設(shè)置，該膠框 內(nèi)分布有多個金球，該第一基板的引腳區(qū)與該第二基板上的引腳區(qū)內(nèi)的對應(yīng)引腳分別經(jīng)由 該多個金球進(jìn)行連接以實(shí)現(xiàn)電導(dǎo)通。
18. 根據(jù)權(quán)利要求17所述的觸控顯示裝置，其特征在于：每個金球包括塑料內(nèi)核、包裹 該塑料內(nèi)核的鎳層、包裹該鎳層的金層以及包裹該金層的絕緣層。
19. 根據(jù)權(quán)利要求14所述的觸控顯示裝置，其特征在于：該掃描線沿第一方向延伸，該 感測電極沿第二方向延伸，該觸控顯示裝置進(jìn)一步包括時序控制器，該時序控制器預(yù)先根 據(jù)每一條掃描線在該觸控顯示裝置的觸摸屏上的沿第二方向所分布的位置與該掃描線被 掃描的時間點(diǎn)之間的對應(yīng)關(guān)系制作所有掃描線的位置與被掃描的時間點(diǎn)的對應(yīng)關(guān)系查找 表，當(dāng)該觸控顯示裝置的觸摸屏被觸摸時，該觸控芯片偵測到觸摸動作引起對應(yīng)觸摸點(diǎn)的 感測電極所在處的電容變化的同時提供一表示有觸摸動作發(fā)生的信號給該時序控制器，并 根據(jù)電容的變化狀況確定觸摸點(diǎn)在第一方向上的坐標(biāo)位置，該時序控制器在接收到該觸控 芯片所提供的信號之后，通過內(nèi)部計數(shù)器記下該觸摸動作發(fā)生的時間點(diǎn)，通過在該查找表 中查找與該時間點(diǎn)對應(yīng)的掃描線的位置，以確定該觸摸點(diǎn)在第二方向上的坐標(biāo)位置。
20. 根據(jù)權(quán)利要求3、7或者13所述的觸控顯示裝置，其特征在于：該第一基板上進(jìn)一 步設(shè)置有黑矩陣圖案層和彩色濾光片層，該黑矩陣圖案層設(shè)置在該第一基板與該觸控感應(yīng) 層之間，該彩色濾光片層設(shè)置在該觸控感應(yīng)層與該顯示介質(zhì)層之間，該第二基板朝向該顯 示介質(zhì)層的表面設(shè)置有公共電極。
21. 根據(jù)權(quán)利要求3或者7所述的觸控顯示裝置，其特征在于：該觸控顯示裝置進(jìn)一步 包括彩色濾光片層，該彩色濾光片層設(shè)置在該第二基板與該顯示介質(zhì)層之間。
22. 根據(jù)權(quán)利要求21所述的觸控顯示裝置，其特征在于：該彩色濾光片層中的相鄰兩 彩色濾光片部分重疊，該重疊區(qū)域用于避免兩個相鄰像素區(qū)域的混光或者漏光現(xiàn)象。
【文檔編號】G02F1/1333GK104123054SQ201410350778
【公開日】2014年10月29日 申請日期:2014年7月22日 優(yōu)先權(quán)日:2014年7月22日
【發(fā)明者】戴文君, 鐘德鎮(zhèn), 邱峰青, 潘新葉 申請人:昆山龍騰光電有限公司