位置計(jì)測(cè)裝置、對(duì)準(zhǔn)裝置、圖案描畫(huà)裝置及位置計(jì)測(cè)方法【專利摘要】本發(fā)明提供一種使用能高精度地對(duì)基板相對(duì)于光束的位置進(jìn)行計(jì)測(cè)的位置計(jì)測(cè)技術(shù)的位置計(jì)測(cè)裝置、位置計(jì)測(cè)方法、以及對(duì)準(zhǔn)裝置及圖案描畫(huà)裝置。本發(fā)明包括：拍攝部，在同一視野內(nèi)，對(duì)于穿過(guò)基板中對(duì)光束具有透過(guò)性的第1透過(guò)部的光束、及第1透過(guò)部進(jìn)行拍攝；及位置導(dǎo)出部，根據(jù)拍攝部所拍攝的圖像來(lái)求出基板的位置?！緦＠f(shuō)明】位置計(jì)測(cè)裝置、對(duì)準(zhǔn)裝置、圖案描畫(huà)裝置及位置計(jì)測(cè)方法【
技術(shù)領(lǐng)域：
】[0001]本發(fā)明涉及一種對(duì)基板相對(duì)于從光學(xué)頭(head)射出的光束(beam)的位置進(jìn)行計(jì)測(cè)的位置計(jì)測(cè)技術(shù)、以及使用該位置計(jì)測(cè)技術(shù)的對(duì)準(zhǔn)(alignment)裝置及圖案(pattern)描畫(huà)裝置?！?br>背景技術(shù)：
】[0002]作為將光束照射至基板的裝置，提出多種裝置。例如日本專利特開(kāi)2000-329523號(hào)公報(bào)、日本專利特開(kāi)2003-162068號(hào)公報(bào)、日本專利特開(kāi)2007-225886號(hào)公報(bào)、日本專利特開(kāi)2008-65034號(hào)公報(bào)中，記載有將光束照射至由支撐載臺(tái)(stage)等基板支撐部支撐的基板的表面而描畫(huà)圖案的裝置。這些裝置中，為了高精度地描畫(huà)圖案，須在形成圖案之前預(yù)先使描畫(huà)對(duì)象基板與光束(光學(xué)頭)的位置對(duì)準(zhǔn)。所以，對(duì)形成在基板上的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記(mark)等用于定位的基準(zhǔn)標(biāo)記進(jìn)行拍攝而計(jì)測(cè)該基板的位置，而且計(jì)測(cè)光束(或者射出光束的光學(xué)頭)的位置。而且，根據(jù)這些位置信息來(lái)求出基板相對(duì)于光束的位置，對(duì)光束與基板進(jìn)行位置對(duì)準(zhǔn)?！?br/>發(fā)明內(nèi)容】[0003][發(fā)明所要解決的問(wèn)題][0004]然而，現(xiàn)有技術(shù)中，對(duì)基板位置進(jìn)行計(jì)測(cè)的場(chǎng)所與對(duì)光束(或者光學(xué)頭)位置進(jìn)行計(jì)測(cè)的場(chǎng)所各自不同。因此，須使支撐載臺(tái)從已進(jìn)行一種計(jì)測(cè)的場(chǎng)所移動(dòng)到要進(jìn)行另一種計(jì)測(cè)的場(chǎng)所。有時(shí)，會(huì)因該載臺(tái)的移動(dòng)而使計(jì)測(cè)中含有誤差因素，從而使相對(duì)于光束而對(duì)基板位置進(jìn)行計(jì)測(cè)的精度(以下稱為“計(jì)測(cè)精度”)降低。而且，也有時(shí)使用單獨(dú)的相機(jī)(camera)來(lái)進(jìn)行光束位置的計(jì)測(cè)、與基板位置的計(jì)測(cè)，這時(shí)，也會(huì)產(chǎn)生計(jì)測(cè)誤差而令計(jì)測(cè)精度降低。[0005]本發(fā)明是鑒于所述問(wèn)題而完成，其目的在于提供一種能高精度地對(duì)基板相對(duì)于光束的位置進(jìn)行計(jì)測(cè)的位置計(jì)測(cè)技術(shù)、以及使用該位置計(jì)測(cè)技術(shù)的對(duì)準(zhǔn)裝置及圖案描畫(huà)裝置。[0006][解決問(wèn)題的手段][0007]本發(fā)明的第I態(tài)樣涉及一種對(duì)基板相對(duì)于從光學(xué)頭射出的光束的位置進(jìn)行計(jì)測(cè)的位置計(jì)測(cè)裝置及方法。本發(fā)明的位置計(jì)測(cè)裝置的特征在于包括:拍攝部，在同一視野內(nèi)，對(duì)于穿過(guò)基板中對(duì)光束具有透過(guò)性的第I透過(guò)部的光束及第I透過(guò)部進(jìn)行拍攝；及位置導(dǎo)出部，根據(jù)拍攝部所拍攝的圖像來(lái)求出基板的位置。而且，本發(fā)明的位置計(jì)測(cè)方法的特征在于包括如下工序:對(duì)于基板中對(duì)光束具有透過(guò)性的透過(guò)部照射光束；在同一視野內(nèi)，對(duì)穿過(guò)透過(guò)部的光束及透過(guò)部進(jìn)行拍攝；及，根據(jù)所拍攝的圖像來(lái)求出基板的位置。[0008]在以所述方式構(gòu)成的發(fā)明中，由拍攝部在同一視野內(nèi)對(duì)基板的第I透過(guò)部與光束進(jìn)行拍攝。在這樣拍攝所得的圖像中，包含反映出光束與基板的位置關(guān)系的信息，因此，能根據(jù)同一圖像來(lái)求出基板相對(duì)于光束的位置。因此，與分別對(duì)基板與光束單獨(dú)地進(jìn)行拍攝、且根據(jù)這些圖像來(lái)求出基板相對(duì)于光束的位置的現(xiàn)有技術(shù)相比，能抑制誤差因素從而提高計(jì)測(cè)精度。[0009]而且，本發(fā)明的第2態(tài)樣是一種對(duì)準(zhǔn)裝置，其特征在于包括:位置計(jì)測(cè)部，具有與所述位置計(jì)測(cè)裝置相同的構(gòu)成；及位置調(diào)整部，根據(jù)位置計(jì)測(cè)部的位置導(dǎo)出部所求出的基板相對(duì)于光束的位置，使基板及光學(xué)頭中的至少一個(gè)在與光束的行進(jìn)方向正交的面內(nèi)移動(dòng)，從而調(diào)整基板相對(duì)于光束的位置。該發(fā)明中，通過(guò)使用所述位置計(jì)測(cè)部，可準(zhǔn)確地求出基板相對(duì)于光束的位置。因此，能根據(jù)位置計(jì)測(cè)部的計(jì)測(cè)結(jié)果來(lái)高精度地調(diào)整基板相對(duì)于光束的位置。[0010]另外，本發(fā)明的第3態(tài)樣是一種圖案描畫(huà)裝置，其特征在于，包括:光學(xué)頭，具有對(duì)光束進(jìn)行調(diào)變的光調(diào)變器，將經(jīng)光調(diào)變器進(jìn)行光調(diào)變后的調(diào)變光束照射至基板；位置計(jì)測(cè)部，具有與所述位置計(jì)測(cè)裝置相同的構(gòu)成；及，位置調(diào)整部，根據(jù)位置導(dǎo)出部所求出的基板相對(duì)于光束的位置，使基板及光學(xué)頭中的至少一個(gè)在與光束的行進(jìn)方向正交的面內(nèi)移動(dòng)，從而調(diào)整基板相對(duì)于光束的位置；且在由位置調(diào)整部進(jìn)行調(diào)整之后，將調(diào)變光束照射至第I透過(guò)部以外的基板的表面而描畫(huà)圖案。該發(fā)明中，也能通過(guò)使用所述位置計(jì)測(cè)部而準(zhǔn)確地求出基板相對(duì)于光束的位置，從而高精度地調(diào)整基板相對(duì)于光束的位置。并且，將調(diào)變光束照射至基板的表面而描畫(huà)圖案。因此，能在基板的表面上形成優(yōu)良的圖案。[0011][發(fā)明的效果][0012]根據(jù)本發(fā)明，在同一視野內(nèi)對(duì)基板的第I透過(guò)部與光束進(jìn)行拍攝、且根據(jù)該圖像而求出基板相對(duì)于光束的位置，所以能高精度地對(duì)基板的位置進(jìn)行計(jì)測(cè)。【專利附圖】【附圖說(shuō)明】[0013]圖1是示意性表示可適用本發(fā)明的圖案描畫(huà)裝置的一例的側(cè)視圖。[0014]圖2是示意性表示圖1的圖案描畫(huà)裝置的局部俯視圖。[0015]圖3是圖1的圖案描畫(huà)裝置的局部放大側(cè)視圖。[0016]圖4是表示圖1的圖案描畫(huà)裝置的動(dòng)作的流程圖(flowchart)。[0017]圖5是表示裝載(loading)處理中的支撐載臺(tái)與基板的位置關(guān)系的圖。[0018]圖6是示意性表示對(duì)準(zhǔn)用貫穿孔的拍攝處理的圖。[0019]圖7是表示本發(fā)明的位置計(jì)測(cè)裝置的另一實(shí)施方式的圖。[0020]圖8是表示本發(fā)明的位置計(jì)測(cè)裝置的另一實(shí)施方式的圖。[0021]圖9是表示本發(fā)明的位置計(jì)測(cè)裝置的又一實(shí)施方式的圖。[0022][符號(hào)的說(shuō)明][0023]1:圖案描畫(huà)裝置[0024]3:支撐部[0025]5:曝光部[0026]6、6a:光學(xué)頭[0027]9:拍攝部[0028]11:搬入出口[0029]31:支撐載臺(tái)[0030]32:(第2)透過(guò)部[0031]32a、32b:透過(guò)用貫穿孔(第2貫穿孔、第2透過(guò)部)[0032]32c:窗構(gòu)件[0033]33:升降臺(tái)[0034]34:旋轉(zhuǎn)臺(tái)[0035]35:支撐板[0036]37:線性馬達(dá)[0037]37a:動(dòng)子[0038]37b:定子[0039]51:支撐臺(tái)[0040]52:線性引導(dǎo)件[0041]91:CCD相機(jī)(拍攝部)[0042]100:控制器[0043]110:數(shù)據(jù)處理部[0044]111:位置導(dǎo)出部[0045]120:圖像處理部[0046]130:掃描控制部[0047]140:照射控制部[0048]la、lb、Ic:圖像[0049]Isa、lib、Imkl、Imk2:像[0050]LB:光束[0051]MKl:十字標(biāo)記(第I基準(zhǔn)標(biāo)記)[0052]S:基板[0053]Sa、Sb:對(duì)準(zhǔn)用貫穿孔(第I貫穿孔、第I透過(guò)部)[0054]Sc:標(biāo)記賦予部(第I透過(guò)部)[0055]SI?SlO:步驟[0056]X:軸[0057]Y:軸[0058]Z:(光束的行進(jìn))方向/鉛垂方向【具體實(shí)施方式】[0059]圖1是示意性表示可適用本發(fā)明的圖案描畫(huà)裝置的一例的側(cè)視圖。圖2是示意性表示圖1的圖案描畫(huà)裝置的局部俯視圖。圖3是圖1的圖案描畫(huà)裝置的局部放大側(cè)視圖。為了表示圖案描畫(huà)裝置I的各部分的位置關(guān)系，在這些圖中，適當(dāng)?shù)厥境鲆訸軸方向作為鉛垂方向的XYZ正交坐標(biāo)軸。而且，根據(jù)需要，將各坐標(biāo)軸的圖中箭頭側(cè)稱為正側(cè)或者(+側(cè))，且將各坐標(biāo)軸的圖中箭頭的相反側(cè)稱為負(fù)側(cè)或者(_側(cè))。[0060]圖案描畫(huà)裝置I中，利用省略圖示的搬送機(jī)器人(robot)，將未處理的基板S從Y軸方向的負(fù)側(cè)的搬入出口11搬入至裝置內(nèi)部。而且，在裝置內(nèi)對(duì)基板S執(zhí)行圖案描畫(huà)。之后，利用搬送機(jī)器人將已完成圖案描畫(huà)的基板S經(jīng)由搬入出口11而搬出至裝置外部。另外，就作為圖案描畫(huà)裝置I的描畫(huà)對(duì)象的基板S而言，包括其上表面(一主面)涂布有抗蝕劑(resist)液等感光材料的撓性印刷電路(FlexiblePrintedCircuits,FPC)用基板或印刷線路基板等。而且，基板S中，在相對(duì)于應(yīng)描畫(huà)圖案的基板S的表面區(qū)域而具有預(yù)先決定的位置關(guān)系的位置設(shè)有2個(gè)貫穿孔Sa、貫穿孔Sb。更詳細(xì)而言，在本實(shí)施方式中，2個(gè)貫穿孔Sa、貫穿孔Sb是在Y方向上相離而設(shè)，且如下文所述作為用以進(jìn)行基板S的對(duì)準(zhǔn)的基準(zhǔn)標(biāo)記(對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記)(alignmentmark)而發(fā)揮功能。[0061]該圖案描畫(huà)裝置I的概略構(gòu)成包括:支撐部3，支撐已搬入的基板S;曝光部5，對(duì)由支撐部3支撐的基板S照射光束而使其曝光；拍攝部9，在同一視野內(nèi)，對(duì)基板S的貫穿孔Sa、貫穿孔Sb及光束LB進(jìn)行拍攝；及控制器(controller)100，控制各個(gè)部分3、部分5、部分9。[0062]在支撐部3中，設(shè)有支撐載臺(tái)31，該支撐載臺(tái)31對(duì)于載置在所述支撐部3的上表面的基板S的背面進(jìn)行吸附而予以支撐。在該支撐載臺(tái)31上，在分別與對(duì)準(zhǔn)用貫穿孔Sa、對(duì)準(zhǔn)用貫穿孔Sb對(duì)應(yīng)的位置上，設(shè)有作為使光束透過(guò)的透過(guò)部32而發(fā)揮功能的透過(guò)用貫穿孔32a、透過(guò)用貫穿孔32b。即，透過(guò)用貫穿孔32a、透過(guò)用貫穿孔32b是以與Y方向上的貫穿孔Sa、貫穿孔Sb的間距(pitch)間距離相同的間距，而在Y方向上相離地設(shè)置。然而，在本實(shí)施方式中，透過(guò)用貫穿孔32a、透過(guò)用貫穿孔32b具有大于對(duì)準(zhǔn)用貫穿孔Sa、對(duì)準(zhǔn)用貫穿孔Sb的內(nèi)徑。而且，當(dāng)從鉛垂方向Z觀察時(shí)，以對(duì)準(zhǔn)用貫穿孔Sa、對(duì)準(zhǔn)用貫穿孔Sb分別包含在透過(guò)用貫穿孔32a、透過(guò)用貫穿孔32b內(nèi)的方式，由搬送機(jī)器人將基板S載置在支撐載臺(tái)31上。[0063]該支撐載臺(tái)31的水平地形成的上表面上具有多個(gè)吸引孔，通過(guò)省略圖示的吸引機(jī)構(gòu)對(duì)各吸引孔進(jìn)行吸引，而對(duì)于基板S—面從鉛垂下方進(jìn)行支撐一面進(jìn)行吸附保持。由此，對(duì)于由搬送機(jī)器人裝載至支撐部3的基板S，能更牢固地由支撐載臺(tái)31進(jìn)行支撐，從而能穩(wěn)定地對(duì)基板S執(zhí)行圖案描畫(huà)。而且，當(dāng)結(jié)束圖案描畫(huà)而搬出基板S時(shí)，可停止吸引孔的吸引，且由搬送機(jī)器人從支撐部3搬出基板S，g卩，可進(jìn)行卸載(unloading)。另外，也可構(gòu)成為:在停止吸引之后，利用剝離輥或剝離銷等剝離構(gòu)件將基板S從支撐載臺(tái)31頂起而實(shí)施卸載作業(yè)。[0064]而且，如圖1所示，支撐載臺(tái)31經(jīng)由升降臺(tái)(table)33、旋轉(zhuǎn)臺(tái)34及支撐板35而連接于線性馬達(dá)(linearmotor)37的動(dòng)子37a。因此,支撐載臺(tái)31在升降臺(tái)33的作用下自如升降、且在旋轉(zhuǎn)臺(tái)34的作用下自如旋轉(zhuǎn)。另外，通過(guò)沿著在Y軸方向上延伸的線性馬達(dá)37的定子37b而對(duì)動(dòng)子37a進(jìn)行驅(qū)動(dòng)，可在Y軸方向上驅(qū)動(dòng)支撐載臺(tái)31。[0065]曝光部5具有相對(duì)于支撐載臺(tái)31的可動(dòng)區(qū)域而配置在上方側(cè)的多個(gè)光學(xué)頭6。各光學(xué)頭6向位于其下方且由支撐載臺(tái)31支撐的基板S射出光束，而使基板S曝光。另外，多個(gè)光學(xué)頭6是并排配置在X軸方向上，且負(fù)責(zé)X軸方向上互不相同的區(qū)域的曝光。而且，支撐多個(gè)光學(xué)頭6的支撐臺(tái)51沿著在X軸方向上延伸的一對(duì)線性引導(dǎo)件(linearguide)52而自如移動(dòng)。因此，通過(guò)利用省略圖示的線性馬達(dá)來(lái)沿線性引導(dǎo)件52驅(qū)動(dòng)支撐臺(tái)，能使多個(gè)光學(xué)頭6—同向X軸方向移動(dòng)。[0066]拍攝部9具有電荷稱合器件(ChargeCoupledDevice,CO))相機(jī)91。所述CO)相機(jī)91配置在如下光束的行進(jìn)路徑上，該光束是從當(dāng)多個(gè)光學(xué)頭6以如圖2所示的方式定位在對(duì)準(zhǔn)位置時(shí)、多個(gè)光學(xué)頭6中最靠(-X)方向側(cè)的光學(xué)頭6a射出的光束。S卩，如圖3所示，C⑶相機(jī)91是在光學(xué)頭6a的鉛垂下方，且比支撐載臺(tái)31的Y方向的移動(dòng)路徑更位于鉛垂下方。而且，若在支撐載臺(tái)31的透過(guò)用貫穿孔32a的大致中心部位于C⑶相機(jī)91的正上方位置的狀態(tài)下從光學(xué)頭6a射出光束LB，則CXD相機(jī)91會(huì)經(jīng)由透過(guò)用貫穿孔32a而在同一視野內(nèi)對(duì)光束LB及對(duì)準(zhǔn)用貫穿孔Sa進(jìn)行拍攝(參照?qǐng)D6的(a))。而且，若在支撐載臺(tái)31的透過(guò)用貫穿孔32b的大致中心部位于C⑶相機(jī)91的正上方位置的狀態(tài)下從光學(xué)頭6a射出光束LB，則CXD相機(jī)91會(huì)經(jīng)由透過(guò)用貫穿孔32b而在同一視野內(nèi)對(duì)光束LB及對(duì)準(zhǔn)用貫穿孔Sb進(jìn)行拍攝(參照?qǐng)D6的(b))。拍攝部9將這樣拍攝的圖像傳送至控制器100。[0067]以上為圖案描畫(huà)裝置I的機(jī)械構(gòu)成的概要。接著，對(duì)于圖案描畫(huà)裝置I的電構(gòu)成即控制器100進(jìn)行說(shuō)明?？刂破?00主要執(zhí)行如下動(dòng)作:從各光學(xué)頭6射出光束LB、且使光束LB在由支撐載臺(tái)31支撐的基板S表面上掃描、從而在基板S表面上描畫(huà)圖案，且該控制器100包含數(shù)據(jù)(data)處理部110、圖像處理部120、掃描控制部130及照射控制部140。[0068]數(shù)據(jù)處理部110包括執(zhí)行邏輯運(yùn)算的中央處理器(CentralProcessingUnit,CPU)、存儲(chǔ)對(duì)CPU進(jìn)行控制的程序(program)等的只讀存儲(chǔ)器(ReadOnlyMemory,ROM)、及在裝置的動(dòng)作過(guò)程中暫時(shí)存儲(chǔ)多種數(shù)據(jù)的隨機(jī)訪問(wèn)存儲(chǔ)器(RandomAccessMemory,RAM)等。數(shù)據(jù)處理部110按照ROM內(nèi)存儲(chǔ)的程序，經(jīng)由圖像處理部120、掃描控制部130及照射控制部140而控制圖案描畫(huà)裝置I的各部分。[0069]圖像處理部120根據(jù)來(lái)自數(shù)據(jù)處理部110的指令而對(duì)于從C⑶相機(jī)91輸出的圖像進(jìn)行多種圖像處理，且將經(jīng)圖像處理后的圖像寫(xiě)入至RAM中。而且，數(shù)據(jù)處理部110從RAM中讀出圖像，導(dǎo)出表示基板S相對(duì)于光束LB的位置的信息(以下稱為“基板位置信息”)。這樣，在本實(shí)施方式中，數(shù)據(jù)處理部110具有作為位置導(dǎo)出部111的功能。[0070]而且，數(shù)據(jù)處理部110除了具有所述位置導(dǎo)出部111的功能以外，還具有對(duì)準(zhǔn)功能、數(shù)據(jù)校正功能及路由信息協(xié)議(RoutingInformat1nProtocol,RIP)功能。其中，對(duì)準(zhǔn)功能是根據(jù)基板位置信息來(lái)使基板S相對(duì)于光學(xué)頭6進(jìn)行位置對(duì)準(zhǔn)的功能。而且，數(shù)據(jù)校正功能是對(duì)于包含描畫(huà)在基板上的圖案在內(nèi)的設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)，根據(jù)位置導(dǎo)出部111所求出的基板位置信息進(jìn)行坐標(biāo)校正或旋轉(zhuǎn)校正后生成校正設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)的功能。這里，設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)是在圖案描畫(huà)裝置I的外部預(yù)先由計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)(computeraideddesign,CAD)等生成的數(shù)據(jù)，且在圖案描畫(huà)之前保存在數(shù)據(jù)處理部110的RAM內(nèi)。剩下的RIP功能是對(duì)校正設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)進(jìn)行柵格化(rasterizing)處理而生成運(yùn)行長(zhǎng)度數(shù)據(jù)(runlengthdata)即描畫(huà)數(shù)據(jù)且將其保存在RAM內(nèi)的功能。這樣生成的描畫(huà)數(shù)據(jù)被輸出至掃描控制部130及照射控制部140。[0071]掃描控制部130根據(jù)描畫(huà)數(shù)據(jù)來(lái)控制支撐載臺(tái)31及光學(xué)頭6的圖案描畫(huà)動(dòng)作過(guò)程中的移動(dòng)。而且，照射控制部140在圖案描畫(huà)動(dòng)作過(guò)程中控制來(lái)自光學(xué)頭6的光束LB的0N/0FF，且根據(jù)圖案而照射調(diào)變光束LB。更具體而言，圖案描畫(huà)動(dòng)作是以如下方式執(zhí)行。[0072]圖4是表示圖1的圖案描畫(huà)裝置的動(dòng)作的流程圖。而且，圖5是表示裝載處理中支撐載臺(tái)與基板的位置關(guān)系的圖。而且，圖6是示意性表示對(duì)準(zhǔn)用貫穿孔的拍攝處理的圖。該圖案描畫(huà)裝置I中，在步驟(Step)Sl中，搬送機(jī)器人從搬入出口11將基板S搬入至裝置內(nèi)部，且搬送至支撐載臺(tái)31上(裝載處理)。這時(shí)，根據(jù)支撐載臺(tái)31的位置信息、支撐載臺(tái)31上的透過(guò)用貫穿孔32a、透過(guò)用貫穿孔32b的位置信息、基板S上的對(duì)準(zhǔn)用貫穿孔Saji準(zhǔn)用貫穿孔Sb的位置信息等來(lái)執(zhí)行所述裝載處理，且如圖5所示將基板S載置在支撐載臺(tái)31上。更詳細(xì)而言，以當(dāng)從鉛垂下方俯視時(shí)對(duì)準(zhǔn)用貫穿孔Sa、對(duì)準(zhǔn)用貫穿孔Sb分別包含在透過(guò)用貫穿孔32a、透過(guò)用貫穿孔32b內(nèi)的方式，由搬送機(jī)器人將基板S搬送至支撐載臺(tái)31的上表面。[0073]當(dāng)基板S的裝載結(jié)束時(shí)，控制器100根據(jù)存儲(chǔ)在ROM內(nèi)的程序而按以下方式控制裝置的各部分，從而將與設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)對(duì)應(yīng)的圖案描畫(huà)在基板S的圖案描畫(huà)區(qū)域(不包含對(duì)準(zhǔn)用貫穿孔Sa、對(duì)準(zhǔn)用貫穿孔Sb的基板表面區(qū)域)。更詳細(xì)而言，在步驟S2中，支撐載臺(tái)31向Y軸方向的一側(cè)、即(+Y)側(cè)方向移動(dòng)。而且，當(dāng)支撐載臺(tái)31的(+Y)側(cè)的透過(guò)用貫穿孔32a到達(dá)C⑶相機(jī)91的正上方位置時(shí)，支撐載臺(tái)31停止移動(dòng)。接著，位于C⑶相機(jī)91的鉛垂上方的光學(xué)頭6a向(-Z)方向射出光束LB。于是,光束LB向(-Z)方向前進(jìn)且如圖6的(a-1)所示經(jīng)由對(duì)準(zhǔn)用貫穿孔Sa及透過(guò)用貫穿孔32a而入射至CXD相機(jī)91的拍攝面。由此，CCD相機(jī)91不僅對(duì)于對(duì)準(zhǔn)用貫穿孔Sa進(jìn)行拍攝，而且同時(shí)在同一視野內(nèi)對(duì)于光束LB進(jìn)行拍攝。另外，在本實(shí)施方式中，按照透過(guò)用貫穿孔32a(32b)、C⑶相機(jī)91的視野、對(duì)準(zhǔn)用貫穿孔Sa(Sb)及光束LB的有效束徑(光束LB的光強(qiáng)度為峰值或者光軸上的值的Ι/e2的束徑)的順序而變小。因此，CCD相機(jī)91所拍攝的圖像Ia如例如圖6的(a_2)所示，在對(duì)準(zhǔn)用貫穿孔Sa的像Isa的內(nèi)部存在光束LB的像Ilb。[0074]這里，若基板S相對(duì)于光學(xué)頭6a而理想地定位，則光束LB的像Ilb位于貫穿孔Sa的像Isa的中心位置,但當(dāng)基板S相對(duì)于光學(xué)頭6a并未理想地定位時(shí),如圖6的(a_2)所示，光束LB的像Ilb偏離貫穿孔Sa的像Isa的中心位置。所以，在本實(shí)施方式中，位置導(dǎo)出部111根據(jù)CCD相機(jī)91所拍攝的圖像而導(dǎo)出(+Y)側(cè)的對(duì)準(zhǔn)用貫穿孔Sa相對(duì)于光束LB的位置、即基板位置信息，且將其保存在RAM內(nèi)(步驟S3)。[0075]接著，關(guān)于(-Y)側(cè)的對(duì)準(zhǔn)用貫穿孔Sb的位置的信息，也以與所述相同的方式進(jìn)行導(dǎo)出(步驟S4、步驟S5)。即，在步驟S4中，支撐載臺(tái)31進(jìn)一步向(+Y)側(cè)方向移動(dòng)。而且，當(dāng)支撐載臺(tái)31的(-Y)側(cè)的透過(guò)用貫穿孔32b到達(dá)CXD相機(jī)91的正上方位置時(shí)，支撐載臺(tái)31停止移動(dòng)。接著，位于C⑶相機(jī)91的鉛垂上方的光學(xué)頭6a射出光束LB(圖6的(b_l))。這時(shí)，位置導(dǎo)出部111根據(jù)C⑶相機(jī)91所拍攝的圖像Ib來(lái)導(dǎo)出(-Y)側(cè)的對(duì)準(zhǔn)用貫穿孔Sb相對(duì)于光束LB的位置(基板位置信息)，且將其保存在RAM內(nèi)(步驟S5)。[0076]若這樣獲得基板S的面內(nèi)的互不相同的2點(diǎn)上的基板位置信息，則數(shù)據(jù)處理部110根據(jù)這些基板位置信息而求出基板S相對(duì)于光束LB的位置偏移量。而且，在步驟S6中，使支撐載臺(tái)31在XY平面內(nèi)移動(dòng)而對(duì)位置偏移進(jìn)行校正，對(duì)由支撐載臺(tái)31支撐的基板S與所有光學(xué)頭6的位置關(guān)系進(jìn)行調(diào)整，使多個(gè)光學(xué)頭6的位置對(duì)準(zhǔn)支撐載臺(tái)31上的開(kāi)始對(duì)基板S進(jìn)行曝光的位置(對(duì)準(zhǔn)處理)。[0077]而且，與該對(duì)準(zhǔn)處理(步驟S6)并行地，由數(shù)據(jù)處理部110根據(jù)基板位置信息來(lái)執(zhí)行設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)的坐標(biāo)校正及旋轉(zhuǎn)校正從而生成校正設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)(步驟S7)，進(jìn)而，對(duì)該校正設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)進(jìn)行RIP處理而生成描畫(huà)數(shù)據(jù)(步驟S8)。[0078]這些步驟S6?步驟S8結(jié)束時(shí)，支撐載臺(tái)31開(kāi)始向Y軸方向移動(dòng)。而且，由多個(gè)光學(xué)頭6分別對(duì)伴隨該支撐載臺(tái)31移動(dòng)的基板S的表面照射圖案與描畫(huà)數(shù)據(jù)相應(yīng)的光束LB。由此,多個(gè)光學(xué)頭6分別使光束LB在Y軸方向(主掃描方向)上對(duì)基板表面進(jìn)行掃描，在圖案描畫(huà)區(qū)域形成I行(line)的圖案(線圖案)。這樣，在X軸方向上隔著間隔而并排地形成與光學(xué)頭6的個(gè)數(shù)相應(yīng)的多個(gè)線圖案。[0079]該多個(gè)線圖案的形成結(jié)束時(shí)，控制器100使光學(xué)頭6在X軸方向(副掃描方向)上移動(dòng)。由此，多個(gè)光學(xué)頭6分別與之前形成的多個(gè)線圖案之間相對(duì)向。而且，當(dāng)支撐載臺(tái)31開(kāi)始向與之前為相反側(cè)即Y軸方向移動(dòng)時(shí)，由多個(gè)光學(xué)頭6分別對(duì)伴隨該支撐載臺(tái)31移動(dòng)的基板S的圖案描畫(huà)區(qū)域照射圖案與描畫(huà)數(shù)據(jù)相應(yīng)的光束LB。[0080]這樣，來(lái)自光學(xué)頭6的光束LB在之前形成的多個(gè)線圖案的各個(gè)之間進(jìn)行掃描，從而形成新的線圖案。從而，一面使光學(xué)頭6在X軸方向上間歇地移動(dòng)，一面依序形成多個(gè)線圖案，由此，對(duì)于基板S的整個(gè)圖案描畫(huà)區(qū)域描畫(huà)圖案。最后，當(dāng)圖案形成結(jié)束時(shí)，搬送機(jī)器人從支撐載臺(tái)31接受已完成圖案描畫(huà)的基板S，且將其從搬入出口11搬出至裝置外部(步驟S10)。[0081]如上文所述，在本實(shí)施方式中，由CCD相機(jī)91在同一視野內(nèi)對(duì)設(shè)在基板S上的對(duì)準(zhǔn)用貫穿孔Sa(Sb)與光束LB進(jìn)行拍攝，且根據(jù)該圖像Ia(Ib)而求出基板S相對(duì)于光束LB的位置。因此，與分別單獨(dú)地拍攝基板與光束、且根據(jù)這些圖像而導(dǎo)出基板相對(duì)于光束的位置的現(xiàn)有技術(shù)相比，能抑制誤差因素，從而提高計(jì)測(cè)精度。[0082]而且，能準(zhǔn)確求出基板S相對(duì)于光束LB(光學(xué)頭6)的位置，從而能高精度地調(diào)整基板S相對(duì)于光束LB的位置、即良好地進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)處理。而且，當(dāng)以這種方式進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)處理之后，將調(diào)變光束LB照射至貫穿孔32a、32b以外的基板表面而描畫(huà)圖案。因此，能以高精度在基板S的表面上形成圖案。[0083]如上所述，在本實(shí)施方式中，本發(fā)明的“位置計(jì)測(cè)裝置”及“位置計(jì)測(cè)部”的一例包括支撐載臺(tái)31、拍攝部9、及具有位置導(dǎo)出部111的數(shù)據(jù)處理部110。而且，對(duì)準(zhǔn)用貫穿孔Sa、對(duì)準(zhǔn)用貫穿孔Sb相當(dāng)于本發(fā)明的“第I貫穿孔”的一例，且作為本發(fā)明的“第I透過(guò)部”發(fā)揮功能。而且，透過(guò)用貫穿孔32a、透過(guò)用貫穿孔32b相當(dāng)于本發(fā)明的“第2貫穿孔”的一例，且作為本發(fā)明的“第2透過(guò)部”發(fā)揮功能。另外，使支撐載臺(tái)31在Y軸方向上移動(dòng)的線性馬達(dá)37相當(dāng)于本發(fā)明的“位置調(diào)整部”的一例。[0084]另外，本發(fā)明并不限于所述的實(shí)施方式，可在不脫離其宗旨的范圍內(nèi)進(jìn)行所述之外的多種變更。例如，在第I實(shí)施方式中，將已穿過(guò)對(duì)準(zhǔn)用貫穿孔Sa的光束LB經(jīng)由透過(guò)用貫穿孔32a而導(dǎo)入至拍攝部9，但也可如圖7所示，對(duì)透過(guò)用貫穿孔32a設(shè)置窗構(gòu)件32c。窗構(gòu)件32c包含對(duì)光束LB具有透過(guò)性的透過(guò)性材料。這樣，在本實(shí)施方式中，本發(fā)明的“第2透過(guò)部”包含透過(guò)用貫穿孔32a及窗構(gòu)件32c。[0085]而且，在圖7所示的實(shí)施方式中，對(duì)窗構(gòu)件32c設(shè)有作為本發(fā)明的“第2基準(zhǔn)標(biāo)記”的十字標(biāo)記(省略圖示)，C⑶相機(jī)91所拍攝的圖像Ia中包含十字標(biāo)記的像Imk2。因此，也能根據(jù)光束LB的像lib、貫穿孔Sa的像Isa及十字標(biāo)記的像Imk2而導(dǎo)出光束LB、基板S及支撐載臺(tái)31的位置關(guān)系。當(dāng)然，也可構(gòu)成為:也對(duì)(-Y)側(cè)的貫穿孔32b設(shè)置附十字標(biāo)記的窗構(gòu)件，而能導(dǎo)出光束LB、基板S及支撐載臺(tái)31的位置關(guān)系。而且，能根據(jù)表示它們的位置關(guān)系的信息來(lái)進(jìn)一步提高圖案描畫(huà)的精度。[0086]而且，在圖7所示的實(shí)施方式中，窗構(gòu)件32c配置在透過(guò)用貫穿孔32a的最上部，且由窗構(gòu)件32c的上表面支撐基板S。因此，也能獲得如下作用效果。因透過(guò)用貫穿孔32a的內(nèi)徑大于貫穿孔Sa的內(nèi)徑，所以，如例如圖6所示，貫穿孔Sa的周圍部分未受到支撐載臺(tái)31的支撐，該周圍部分可能會(huì)產(chǎn)生向下的應(yīng)力而出現(xiàn)變形。對(duì)此，在圖7所示的實(shí)施方式中，因該周圍部分由窗構(gòu)件32c支撐，所以不會(huì)產(chǎn)生所述變形，能在基板S上描畫(huà)圖案。[0087]這里，為了不設(shè)置窗構(gòu)件而擴(kuò)大該周圍部分的支撐范圍，也可如例如圖8所示，使透過(guò)用貫穿孔32a的最上部的內(nèi)徑以略大于貫穿孔Sa的內(nèi)徑的程度而變得極小。當(dāng)然，關(guān)于透過(guò)用貫穿孔32b，也可同樣地構(gòu)成。[0088]而且，在所述實(shí)施方式中，透過(guò)用貫穿孔32a、透過(guò)用貫穿孔32b的內(nèi)部為空氣層，但也可在該內(nèi)部填充透明構(gòu)件。而且，也可使整個(gè)支撐載臺(tái)31包含透明構(gòu)件。[0089]而且，在所述實(shí)施方式中，在基板S上設(shè)有對(duì)準(zhǔn)用貫穿孔Sa、對(duì)準(zhǔn)用貫穿孔Sb，且使它們作為本發(fā)明的“第I透過(guò)部”而發(fā)揮功能，但當(dāng)基板S包含對(duì)光束LB具有透過(guò)性的板(sheet)構(gòu)件時(shí)，也可設(shè)置代替貫穿孔的“第I透過(guò)部”。也可如例如圖9所示，在基板S(板構(gòu)件)的表面中的形成圖案的圖案描畫(huà)區(qū)域以外的表面區(qū)域，設(shè)置例如十字標(biāo)記MKl作為本發(fā)明的“第I基準(zhǔn)標(biāo)記”，且使該標(biāo)記賦予部Sc作為本發(fā)明的“第I透過(guò)部”而發(fā)揮功能。這時(shí),如例如圖9所示，在(XD相機(jī)91所拍攝的圖像Ic中包含十字標(biāo)記MKl的像Imkl。因此，能根據(jù)光束LB的像Ilb及標(biāo)記賦予部Sc的像Imkl而導(dǎo)出基板S相對(duì)于光束LB的位置。[0090]而且，已針對(duì)第I透過(guò)部及第2透過(guò)部的多種態(tài)樣進(jìn)行了說(shuō)明，但這些態(tài)樣當(dāng)然可進(jìn)行適當(dāng)組合。例如，也可將圖9所示的標(biāo)記賦予部Sc用作第I透過(guò)部，將圖7所示的透過(guò)用貫穿孔32a與窗構(gòu)件32c組合而成者用作第2透過(guò)部。[0091]而且，在所述實(shí)施方式中，針對(duì)基板S的2個(gè)第I透過(guò)部(對(duì)準(zhǔn)用貫穿孔Sa、對(duì)準(zhǔn)用貫穿孔Sb或標(biāo)記賦予部Sc)的各個(gè)而導(dǎo)出基板位置信息，根據(jù)這些基板位置信息而進(jìn)行基板S相對(duì)于光學(xué)頭6的位置對(duì)準(zhǔn)、即對(duì)準(zhǔn)處理，但也可針對(duì)3個(gè)以上的第I透過(guò)部導(dǎo)出基板位置信息而進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)處理。[0092]而且，在所述實(shí)施方式中，支撐載臺(tái)31—面吸附基板S的背面一面進(jìn)行保持，但基板S的保持態(tài)樣并不限于此，例如也可采用僅對(duì)基板S的周緣部進(jìn)行支撐而加以保持的、所謂機(jī)械夾頭(mechanicalchuck)方式。[0093]另外，本發(fā)明的位置計(jì)測(cè)裝置的適用對(duì)象并不限于圖案描畫(huà)裝置，也可適用于將光束照射至基板的裝置、例如激光(laser)加工機(jī)或激光切邊(lasertrimming)裝置等。[0094]本發(fā)明可用于對(duì)基板相對(duì)于從光學(xué)頭射出的光束的位置進(jìn)行計(jì)測(cè)的位置計(jì)測(cè)技術(shù)、以及使用該位置計(jì)測(cè)技術(shù)而對(duì)基板相對(duì)于光束的位置進(jìn)行調(diào)整的技術(shù)及圖案描畫(huà)技術(shù)中?！緳?quán)利要求】1.一種位置計(jì)測(cè)裝置，對(duì)基板相對(duì)于從光學(xué)頭射出的光束的位置進(jìn)行計(jì)測(cè)，所述位置計(jì)測(cè)裝置的特征在于包括:拍攝部，在同一視野內(nèi)，對(duì)于穿過(guò)所述基板中對(duì)所述光束具有透過(guò)性的第I透過(guò)部的所述光束、及所述第I透過(guò)部進(jìn)行拍攝'及位置導(dǎo)出部，根據(jù)由所述拍攝部所拍攝的圖像來(lái)求出所述基板的位置。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的位置計(jì)測(cè)裝置，其特征在于:所述第I透過(guò)部具有在所述光束的行進(jìn)方向上貫穿所述基板而設(shè)的第I貫穿孔。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的位置計(jì)測(cè)裝置，其特征在于:所述基板包含對(duì)所述光束具有透過(guò)性的板構(gòu)件，所述第I透過(guò)部是對(duì)于所述板構(gòu)件賦予第I基準(zhǔn)標(biāo)記的標(biāo)記賦予部。4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的位置計(jì)測(cè)裝置，其特征在于:包括支撐載臺(tái)，所述支撐載臺(tái)是從所述光束入射的所述基板的主面的相反側(cè)支撐所述基板，所述支撐載臺(tái)包括第2透過(guò)部，所述第2透過(guò)部使已穿過(guò)所述第I透過(guò)部的所述光束穿過(guò)且將其導(dǎo)引至所述拍攝部，所述拍攝部經(jīng)由所述第2透過(guò)部而在同一視野內(nèi)對(duì)所述光束及所述第I透過(guò)部進(jìn)行拍攝。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的位置計(jì)測(cè)裝置，其特征在于:所述第2透過(guò)部具有在所述光束的行進(jìn)方向上貫穿所述支撐載臺(tái)而設(shè)的第2貫穿孔。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的位置計(jì)測(cè)裝置，其特征在于:所述第2透過(guò)部具有窗構(gòu)件，所述窗構(gòu)件包含對(duì)所述光束具有透過(guò)性的透過(guò)性材料、且以堵塞所述第2貫穿孔的方式設(shè)在所述支撐載臺(tái)上，所述拍攝部經(jīng)由所述窗構(gòu)件而在同一視野內(nèi)對(duì)所述光束及所述第I透過(guò)部進(jìn)行拍攝。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的位置計(jì)測(cè)裝置，其特征在于:在所述第2透過(guò)部，對(duì)所述窗構(gòu)件賦予第2基準(zhǔn)標(biāo)記。8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的位置計(jì)測(cè)裝置，其特征在于:包括支撐載臺(tái)，所述支撐載臺(tái)具有第2透過(guò)部，所述第2透過(guò)部包含內(nèi)徑比所述第I貫穿孔的內(nèi)徑更大、且貫穿所述光束的行進(jìn)方向而設(shè)的第2貫穿孔，所述支撐載臺(tái)是以當(dāng)從所述光束的所述行進(jìn)方向的相反方向進(jìn)行俯視時(shí)所述第I貫穿孔包含在所述第2貫穿孔內(nèi)的方式，從所述光束入射的所述基板的主面的相反側(cè)支撐所述基板，所述拍攝部經(jīng)由所述第2透過(guò)部而在同一視野內(nèi)對(duì)所述光束及所述第I透過(guò)部進(jìn)行拍攝。9.一種對(duì)準(zhǔn)裝置，其特征在于包括:位置計(jì)測(cè)部，具有與根據(jù)權(quán)利要求1所述的位置計(jì)測(cè)裝置相同的構(gòu)成；及位置調(diào)整部，根據(jù)所述位置計(jì)測(cè)部的位置導(dǎo)出部所求出的所述基板相對(duì)于所述光束的位置，使所述基板及所述光學(xué)頭中的至少一個(gè)在與所述光束的行進(jìn)方向正交的面內(nèi)移動(dòng)，從而調(diào)整所述基板相對(duì)于所述光束的位置。10.一種圖案描畫(huà)裝置，其特征在于，包括:光學(xué)頭，將光束照射至基板；位置計(jì)測(cè)部，具有與根據(jù)權(quán)利要求1所述的位置計(jì)測(cè)裝置相同的構(gòu)成；及位置調(diào)整部，根據(jù)所述位置導(dǎo)出部所求出的所述基板相對(duì)于所述光束的位置，使所述基板及所述光學(xué)頭中的至少一個(gè)在與所述光束的行進(jìn)方向正交的面內(nèi)移動(dòng)，從而調(diào)整所述基板相對(duì)于所述光束的位置；由所述位置調(diào)整部進(jìn)行調(diào)整之后，將所述光束照射至所述第I透過(guò)部以外的所述基板的表面而描畫(huà)圖案。11.一種位置計(jì)測(cè)方法，對(duì)基板相對(duì)于從光學(xué)頭射出的光束的位置進(jìn)行計(jì)測(cè)，所述位置計(jì)測(cè)方法的特征在于包括如下工序:對(duì)于所述基板中對(duì)所述光束具有透過(guò)性的透過(guò)部照射所述光束；在同一視野內(nèi)，對(duì)穿過(guò)所述透過(guò)部的所述光束及所述透過(guò)部進(jìn)行拍攝；及根據(jù)所拍攝的圖像來(lái)求出所述基板的位置?！疚臋n編號(hào)】G03F7/20GK104460237SQ201410373883【公開(kāi)日】2015年3月25日申請(qǐng)日期:2014年7月31日優(yōu)先權(quán)日:2013年9月25日【發(fā)明者】中澤喜之,中西健二,武內(nèi)誠(chéng)申請(qǐng)人:斯克林集團(tuán)公司