一種顯示面板、顯示裝置以及顯示面板的制備方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及顯示【技術(shù)領(lǐng)域】，公開一種顯示面板、顯示裝置以及顯示面板的制備方法，其中，所述顯示面板包括：相對(duì)設(shè)置的陣列基板和對(duì)向基板；所述陣列基板設(shè)有顯示模式切換單元，所述顯示模式切換單元包括：溫度調(diào)節(jié)單元；根據(jù)所述溫度調(diào)節(jié)單元的溫度改變反射率的熱致變色材料膜層。上述顯示面板可以通過(guò)改變溫度調(diào)節(jié)單元的溫度實(shí)現(xiàn)對(duì)熱致變色材料膜層反射率的調(diào)整，進(jìn)而實(shí)現(xiàn)對(duì)顯示面板顯示模式的調(diào)整。
【專利說(shuō)明】一種顯示面板、顯示裝置以及顯示面板的制備方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及顯示【技術(shù)領(lǐng)域】，特別涉及一種顯示面板、顯示裝置以及顯示面板的制 備方法。

【背景技術(shù)】
[0002] 現(xiàn)有的半透半反型液晶顯示器，是一種適合在室外等強(qiáng)光環(huán)境下和室內(nèi)缺乏外界 光的場(chǎng)所下所使用的視覺顯示終端，而且，現(xiàn)有的半透半反型液晶顯示器大都是通過(guò)采用 在液晶顯示面板的下襯底基板上貼附一層半透半反膜，從而達(dá)到半透半反光的效果。但是， 半透半反膜對(duì)光的透過(guò)率和反射率是固定的，因此，現(xiàn)有的半透半反型液晶顯示器不能根 據(jù)外界光強(qiáng)的變化調(diào)整顯示模式。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0003] 本發(fā)明提供了一種顯示面板、顯示裝置以及顯示面板的制備方法，其中，所述顯示 面板可以根據(jù)外界光強(qiáng)大小調(diào)整其顯示模式。
[0004] 為達(dá)到上述目的，本發(fā)明提供以下技術(shù)方案：
[0005] -種顯示面板，包括：相對(duì)設(shè)置的陣列基板和對(duì)向基板；所述陣列基板設(shè)有顯示 模式切換單元，所述顯示模式切換單元包括：
[0006] 溫度調(diào)節(jié)單元；
[0007] 根據(jù)所述溫度調(diào)節(jié)單元的溫度改變反射率的熱致變色材料膜層。
[0008] 上述顯示面板中，陣列基板設(shè)有顯示模式切換單元，顯示模式切換單元中，熱致變 色材料膜層可以根據(jù)溫度調(diào)節(jié)單元的溫度變化而實(shí)現(xiàn)反射率的連續(xù)變化；因此，隨著溫度 調(diào)節(jié)單元的溫度變化，熱致變色材料膜層可以實(shí)現(xiàn)完全反射、半透射半反射和完全透射幾 種模式的變化，從而可以使顯示面板實(shí)現(xiàn)反射顯示模式、半透半反顯示模式和透射顯示模 式之間的切換，因此，上述顯示面板可以隨著外界光強(qiáng)度的變化調(diào)整顯示模式。
[0009] 優(yōu)選地，
[0010] 所述顯示模式切換單元位于陣列基板的襯底基板背離所述對(duì)向基板的一側(cè)；或 者，
[0011] 所述顯示模式切換單元位于陣列基板的襯底基板朝向所述對(duì)向基板的一側(cè)。
[0012] 優(yōu)選地，
[0013] 所述熱致變色材料膜層位于所述溫度調(diào)節(jié)單元與陣列基板的襯底基板之間；或 者，
[0014] 所述溫度調(diào)節(jié)單元位于所述熱致變色材料膜層與陣列基板的襯底基板之間。
[0015] 優(yōu)選地，
[0016] 所述溫度調(diào)節(jié)單元位于陣列基板的襯底基板背離所述對(duì)向基板的一側(cè)，所述熱致 變色材料膜層位于所述襯底基板朝向所述對(duì)向基板的一側(cè)。
[0017] 優(yōu)選地，
[0018] 所述熱致變色材料膜層的材料為雙穩(wěn)態(tài)熱致變色材料。
[0019] 優(yōu)選地，所述雙穩(wěn)態(tài)熱致變色材料為：
[0020] 有機(jī)熱致變色材料；或者，
[0021] 無(wú)機(jī)熱致變色材料。
[0022] 本發(fā)明還提供一種顯示裝置，包括上述技術(shù)方案中提供的任意一種顯示面板。
[0023] 優(yōu)選地，所述顯示裝置還包括：
[0024] 用于感測(cè)顯示器件外部光強(qiáng)度的光傳感器；
[0025] 控制器，所述控制器與所述光傳感器和所述溫度調(diào)節(jié)單元信號(hào)連接。
[0026] 本發(fā)明還提供一種顯示面板的制備方法，包括以下步驟：
[0027] 在襯底基板上形成顯示模式切換單元，以形成陣列基板，其中，所述顯示模式切 換單元包括：溫度調(diào)節(jié)單元；根據(jù)所述溫度調(diào)節(jié)單元的溫度改變反射率的熱致變色材料膜 層；
[0028] 連接陣列基板和對(duì)向基板，以形成顯示面板。
[0029] 優(yōu)選地，所述形成陣列基板，包括：
[0030] 在所述陣列基板的襯底基板與對(duì)向基板相對(duì)的一側(cè)表面形成驅(qū)動(dòng)電路；
[0031] 在所述驅(qū)動(dòng)電路上形成保護(hù)層；
[0032] 在所述襯底基板背離對(duì)向基板的一側(cè)表面形成所述顯示模式切換單元；
[0033] 剝離所述保護(hù)層。
[0034] 優(yōu)選地，所述形成陣列基板，包括：
[0035] 在所述陣列基板的襯底基板背離對(duì)向基板的一側(cè)表面形成所述顯示模式切換單 元；
[0036] 在所述顯示模式切換單元上形成保護(hù)層；
[0037] 在所述襯底基板與對(duì)向基板相對(duì)的一側(cè)表面形成驅(qū)動(dòng)電路；
[0038] 剝離所述保護(hù)層。
[0039] 優(yōu)選地，所述形成陣列基板，包括：
[0040] 在所述陣列基板的襯底基板與對(duì)向基板相對(duì)的一側(cè)表面形成所述顯示模式切換 單元；
[0041] 在所述顯示模式切換單元上形成絕緣層；
[0042] 在所述絕緣層上形成驅(qū)動(dòng)電路。
[0043] 優(yōu)選地,所述形成顯示模式切換單元，包括：
[0044] 形成所述溫度調(diào)節(jié)單元；在所述溫度調(diào)節(jié)單元上形成所述熱致變色材料膜層；或 者，
[0045] 形成所述熱致變色材料膜層；在所述熱致變色材料膜層上形成所述溫度調(diào)節(jié)單 J Li 〇
[0046] 優(yōu)選地，所述形成所述熱致變色材料膜層為：
[0047] 采用涂布、印刷、打印及固化工藝制程形成熱致變色材料膜層；或者，
[0048] 采用CVD工藝制程形成熱致變色材料膜層；
[0049] 采用濺射工藝制程形成熱致變色材料膜層。
[0050] 優(yōu)選地，所述形成陣列基板，包括：
[0051] 在所述陣列基板的襯底基板與對(duì)向基板相對(duì)的一側(cè)表面形成所述熱致變色材料 膜層；
[0052] 在所述熱致變色材料膜層上形成絕緣層；
[0053] 在所述絕緣層上形成驅(qū)動(dòng)電路；
[0054] 在所述驅(qū)動(dòng)電路上形成保護(hù)層；
[0055] 在所述襯底基板背離對(duì)向基板的一側(cè)表面形成所述溫度調(diào)節(jié)單元；
[0056] 剝離所述保護(hù)層。
[0057] 優(yōu)選地，所述形成陣列基板，包括：
[0058] 在所述陣列基板的襯底基板背離對(duì)向基板的一側(cè)表面形成所述溫度調(diào)節(jié)單元；
[0059] 在所述溫度調(diào)節(jié)單元上形成保護(hù)層；
[0060] 在所述襯底基板與對(duì)向基板相對(duì)的一側(cè)表面形成所述熱致變色材料膜層；
[0061] 在所述熱致變色材料膜層上形成絕緣層；
[0062] 在所述絕緣層上形成驅(qū)動(dòng)電路；
[0063] 剝離所述保護(hù)層。
[0064] 優(yōu)選地，所述形成所述熱致變色材料膜層為：
[0065] 采用涂布、印刷、打印及固化工藝制程形成熱致變色材料膜層；或者，
[0066] 采用CVD工藝制程形成熱致變色材料膜層；
[0067] 采用濺射工藝制程形成熱致變色材料膜層。

【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0068] 圖1為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種顯示面板結(jié)構(gòu)示意圖；
[0069] 圖2為本發(fā)明實(shí)施例提供的另一種顯示面板結(jié)構(gòu)示意圖；
[0070] 圖3為本發(fā)明實(shí)施例提供的另一種顯示面板結(jié)構(gòu)示意圖；
[0071] 圖4為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種顯示面板的制備方法流程圖。

【具體實(shí)施方式】
[0072] 下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完 整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。基于 本發(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他 實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0073] 請(qǐng)參考圖1、圖2和圖3,圖1為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種顯示面板結(jié)構(gòu)示意圖；圖 2為本發(fā)明實(shí)施例提供的另一種顯示面板結(jié)構(gòu)示意圖；圖3為本發(fā)明實(shí)施例提供的另一種 顯示面板結(jié)構(gòu)示意圖。
[0074] 如圖1、圖2和圖3所示，本發(fā)明提供的顯示面板，包括：相對(duì)設(shè)置的陣列基板2和 對(duì)向基板1 ;所述陣列基板2設(shè)有顯示模式切換單元20,所述顯示模式切換單元20包括：
[0075] 溫度調(diào)節(jié)單元201;
[0076] 根據(jù)所述溫度調(diào)節(jié)單元201的溫度改變反射率的熱致變色材料膜層202。
[0077] 上述顯示面板可以為液晶顯示面板、或者0LED顯示面板。
[0078] 如圖1所示，上述顯示面板為液晶顯示面板時(shí)，包括液晶層3,顯示面板可以為有 源驅(qū)動(dòng)，也可以為無(wú)源驅(qū)動(dòng)。當(dāng)上述顯示面板為有源驅(qū)動(dòng)時(shí)，陣列基板設(shè)有的驅(qū)動(dòng)電路包括 薄膜晶體管陣列。
[0079] 上述顯示面板中，陣列基板2設(shè)有顯示模式切換單元20,顯示模式切換單元20中， 熱致變色材料膜層202可以根據(jù)溫度調(diào)節(jié)單元201的溫度變化而實(shí)現(xiàn)反射率的連續(xù)變化； 因此，隨著溫度調(diào)節(jié)單元201的溫度變化，熱致變色材料膜層202可以實(shí)現(xiàn)完全反射、半透 射半反射和完全透射幾種模式的變化，從而可以使顯示面板實(shí)現(xiàn)反射顯示模式、半透半反 顯示模式和透射顯示模式之間的切換，因此，上述顯示面板可以隨著外界光強(qiáng)度的變化調(diào) 整顯示模式。
[0080] 一種具體的實(shí)施例中，顯示面板可以為以下幾種設(shè)置方式：
[0081] 方式一，如圖1所示，顯示模式切換單元20位于陣列基板2的襯底基板21背離對(duì) 向基板1的一側(cè)。
[0082] 在上述方式一的基礎(chǔ)上,一種優(yōu)選實(shí)施方式中，如圖1所示，顯示模式切換單元20 中的熱致變色材料膜層202位于溫度調(diào)節(jié)單元201與陣列基板2的襯底基板21之間；另 一種優(yōu)選實(shí)施方式中，顯示模式切換單元20中的溫度調(diào)節(jié)單元201位于熱致變色材料膜層 202與陣列基板2的襯底基板21之間。
[0083] 方式二，如圖2所示，顯示模式切換單元20位于所述陣列基板2的襯底基板21朝 向?qū)ο蚧?的一側(cè)。
[0084] 在上述方式二的基礎(chǔ)上，一種優(yōu)選實(shí)施方式中，如圖2所示，顯示模式切換單元20 中的熱致變色材料膜層202位于溫度調(diào)節(jié)單元201與陣列基板2的襯底基板21之間；另 一種優(yōu)選實(shí)施方式中，顯示模式切換單元20中的溫度調(diào)節(jié)單元201位于熱致變色材料膜層 202與陣列基板2的襯底基板21之間。
[0085] 方式三，如圖3所示，溫度調(diào)節(jié)單元201位于陣列基板2的襯底基板21背離對(duì)向 基板1的一側(cè)，熱致變色材料膜層202位于襯底基板21朝向?qū)ο蚧?的一側(cè)。
[0086] 在上述實(shí)施例的基礎(chǔ)上，一種優(yōu)選的實(shí)施例中，
[0087] 熱致變色材料膜層202為采用雙穩(wěn)態(tài)熱致變色材料。
[0088] 優(yōu)選地，雙穩(wěn)態(tài)熱致變色材料可以為：
[0089] 有機(jī)熱致變色材料；例如，三芳甲烷苯酞類、吲哚啉苯酞類、熒烷類、三苯甲烷類、 螺吡喃類、希夫堿類、螺環(huán)類、a-萘醌衍生物等；或者如聚二炔、聚硅烷、聚鍺烷、聚噻吩類 的聚合物等。
[0090] 無(wú)機(jī)熱致變色材料；例如，F(xiàn)e203, PbO, HgO, V02，釩酸鹽、鉻酸鹽、鎢酸鹽，其中的金 屬離子還可以是第I主族元素，第Π 主族元素，IVB、VB、VIB副族元素。
[0091] 本發(fā)明實(shí)施例提供的一種顯示裝置，包括上述任意一種實(shí)施例提供的顯示面板。 [0092] -種優(yōu)選的實(shí)施例中，顯示裝置還包括：
[0093] 用于感測(cè)顯示器件外部光強(qiáng)度的光傳感器；
[0094] 控制器，控制器與光傳感器和溫度調(diào)節(jié)單元201信號(hào)連接。
[0095] 光傳感器感測(cè)到顯示器件外部的光強(qiáng)度信號(hào)并傳輸?shù)娇刂破?，控制器可以根?jù)接 收到的外界的光強(qiáng)度信號(hào)控制溫度調(diào)節(jié)單元201的溫度變化，當(dāng)外界的光強(qiáng)度信號(hào)增強(qiáng) 時(shí)，控制器控制溫度調(diào)節(jié)單元201的溫度升高，熱致變色材料膜層202的反射率隨著溫度的 升高而增大，從而可以使顯示面板的顯示模式發(fā)生變化，因此可以實(shí)現(xiàn)自動(dòng)控制顯示模式 切換。
[0096] 以下請(qǐng)參考圖1、圖2、圖3和圖4,圖4為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種顯示面板的制 備方法流程圖。
[0097] 如圖4所示，本發(fā)明實(shí)施例提供的一種顯示面板的制備方法，包括以下步驟：
[0098] 步驟S101，在襯底基板21上形成顯示模式切換單元20,以形成陣列基板2,其中， 顯示模式切換單元20包括：溫度調(diào)節(jié)單元201 ;根據(jù)溫度調(diào)節(jié)單元的溫度改變反射率的熱 致變色材料膜層202 ;
[0099] 步驟S102,連接陣列基板2和對(duì)向基板1，以形成顯示面板。
[0100] 一種具體的實(shí)施例中，如圖4所示，步驟S101中，形成陣列基板2,可以通過(guò)多種方 式實(shí)現(xiàn)，如：
[0101] 如圖1所示的顯示面板，顯示面板中顯示模式切換單元20中的熱致變色材料膜層 202位于溫度調(diào)節(jié)單元201與陣列基板2的襯底基板21之間，上述步驟S101具體包括：
[0102] 步驟S201，在陣列基板2的襯底基板21背離對(duì)向基板1的一側(cè)表面形成熱致變色 材料膜層202 ;
[0103] 步驟S202,在熱致變色材料膜層202上形成溫度調(diào)節(jié)單元201 ;
[0104] 步驟S203,在溫度調(diào)節(jié)單元201上形成保護(hù)層；可以防止后續(xù)工藝中對(duì)上述形成 的溫度調(diào)節(jié)單元201造成損傷；
[0105] 步驟S204,在襯底基板21與對(duì)向基板1相對(duì)的一側(cè)表面形成驅(qū)動(dòng)電路22 ;
[0106] 步驟S205,剝離保護(hù)層。
[0107] 上述步驟中形成驅(qū)動(dòng)電路22的步驟和形成模式切換單元20的步驟之間的先后順 序可以互換，此時(shí)，步驟S101具體包括：
[0108] 步驟S301，在陣列基板2的襯底基板21與對(duì)向基板1相對(duì)的一側(cè)表面形成驅(qū)動(dòng)電 路22 ;
[0109] 步驟S302,在驅(qū)動(dòng)電路22上形成保護(hù)層；可以防止后續(xù)工藝中對(duì)上述形成的驅(qū)動(dòng) 電路22造成損傷；
[0110] 步驟S303,在襯底基板21背離對(duì)向基板1的一側(cè)表面形成熱致變色材料膜層 202 ；
[0111] 步驟S304,在熱致變色材料膜層202上形成溫度調(diào)節(jié)單元201 ;
[0112] 步驟S305,剝離保護(hù)層。
[0113] 當(dāng)上述顯示面板中顯示模式切換單元20中的溫度調(diào)節(jié)單元201位于熱致變色材 料膜層202與陣列基板2的襯底基板21之間時(shí)，上述步驟S101具體包括：
[0114] 步驟S401，在陣列基板2的襯底基板21背離對(duì)向基板1的一側(cè)表面形成溫度調(diào)節(jié) 單元201 ;
[0115] 步驟S402,在溫度調(diào)節(jié)單元201上形成熱致變色材料膜層202 ;
[0116] 步驟S403,在熱致變色材料膜層202上形成保護(hù)層；可以防止后續(xù)工藝中對(duì)上述 形成的熱致變色材料膜層202造成損傷；
[0117] 步驟S404,在襯底基板21與對(duì)向基板1相對(duì)的一側(cè)表面形成驅(qū)動(dòng)電路22 ;
[0118] 步驟S405,剝離保護(hù)層。
[0119] 上述步驟中形成驅(qū)動(dòng)電路22的步驟和形成模式切換單元20的步驟之間的先后順 序可以互換，此時(shí)，步驟S101具體包括：
[0120] 步驟S501，在陣列基板2的襯底基板21與對(duì)向基板1相對(duì)的一側(cè)表面形成驅(qū)動(dòng)電 路22 ;
[0121] 步驟S502,在驅(qū)動(dòng)電路22上形成保護(hù)層；可以防止后續(xù)工藝中對(duì)上述形成的驅(qū)動(dòng) 電路22造成損傷；
[0122] 步驟S503,在襯底基板21背離對(duì)向基板1的一側(cè)表面形成溫度調(diào)節(jié)單元201 ;
[0123] 步驟S504,在溫度調(diào)節(jié)單元201上形成熱致變色材料膜層202 ;
[0124] 步驟S505,剝離保護(hù)層。
[0125] 如圖2所示的顯示面板，顯示面板中顯示模式切換單元20中的熱致變色材料膜層 202位于溫度調(diào)節(jié)單元201與陣列基板2的襯底基板21之間，上述步驟S101具體包括：
[0126] 步驟S601，在陣列基板2的襯底基板21與對(duì)向基板1相對(duì)的一側(cè)表面形成熱致變 色材料膜層202 ;
[0127] 步驟S602,在熱致變色材料膜層202上形成溫度調(diào)節(jié)單元201 ;
[0128] 步驟S603,在溫度調(diào)節(jié)單元201上形成絕緣層23 ;
[0129] 步驟S604,在絕緣層23上形成驅(qū)動(dòng)電路22。
[0130] 當(dāng)上述顯示面板中顯示模式切換單元20中的溫度調(diào)節(jié)單元201位于熱致變色材 料膜層202與陣列基板2的襯底基板21之間時(shí)，上述步驟S101具體包括：
[0131] 步驟S701，在陣列基板2的襯底基板21與對(duì)向基板1相對(duì)的一側(cè)表面形成溫度調(diào) 節(jié)單元201 ;
[0132] 步驟S702,在溫度調(diào)節(jié)單元201上形成熱致變色材料膜層202 ;
[0133] 步驟S703,在熱致變色材料膜層202上形成絕緣層23 ;
[0134] 步驟S704,在絕緣層23上形成驅(qū)動(dòng)電路22。
[0135] 如圖3所示的顯示面板，顯示面板中顯示模式切換單元20中的熱致變色材料膜層 202位于襯底基板21朝向?qū)ο蚧?的一側(cè)，溫度調(diào)節(jié)單元201位于襯底基板21背離對(duì) 向基板1的一側(cè)，上述步驟S101具體包括：
[0136] 步驟S801，在陣列基板2的襯底基板21與對(duì)向基板1相對(duì)的一側(cè)表面形成熱致變 色材料膜層202 ;
[0137] 步驟S802,在熱致變色材料膜層202上形成絕緣層23 ;
[0138] 步驟S803,在絕緣層23上形成驅(qū)動(dòng)電路22 ;
[0139] 步驟S804,在驅(qū)動(dòng)電路22上形成保護(hù)層；可以防止后續(xù)工藝中對(duì)上述形成的驅(qū)動(dòng) 電路22造成損傷；
[0140] 步驟S805,在襯底基板21背離對(duì)向基板1的一側(cè)表面形成溫度調(diào)節(jié)單元201 ;
[0141] 步驟S806,剝離保護(hù)層。
[0142] 上述步驟中形成熱致變色材料膜層202與驅(qū)動(dòng)電路22的步驟和形成溫度調(diào)節(jié)單 元201的步驟之間的先后順序可以互換，此時(shí)，步驟S101具體包括：
[0143] 步驟S901，在陣列基板2的襯底基板21背離對(duì)向基板1的一側(cè)表面形成溫度調(diào)節(jié) 單元201 ;
[0144] 步驟S902,在溫度調(diào)節(jié)單元201上形成保護(hù)層；可以防止后續(xù)工藝中對(duì)上述形成 的溫度調(diào)節(jié)單元201造成損傷；
[0145] 步驟S903,在襯底基板21與對(duì)向基板1相對(duì)的一側(cè)表面形成熱致變色材料膜層 202 ；
[0146] 步驟S904,在熱致變色材料膜層202上形成絕緣層23 ;
[0147] 步驟S905,在絕緣層23上形成驅(qū)動(dòng)電路22 ;
[0148] 步驟S906,剝離保護(hù)層。
[0149] 在上述實(shí)施例的基礎(chǔ)上，優(yōu)選地，在制備上述顯示模式切換單元時(shí)：
[0150] 可以采用濺射工藝或者印刷工藝形成溫度調(diào)節(jié)單元201 ;
[0151] 可以采用涂布、印刷、打印及固化工藝制程形成熱致變色材料膜層202 ;或者，
[0152] 采用CVD工藝制程形成熱致變色材料膜層202 ;
[0153] 采用濺射工藝制程形成熱致變色材料膜層202。
[0154] 顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對(duì)本發(fā)明實(shí)施例進(jìn)行各種改動(dòng)和變型而不脫離本發(fā) 明的精神和范圍。這樣，倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù) 的范圍之內(nèi)，則本發(fā)明也意圖包含這些改動(dòng)和變型在內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1. 一種顯示面板，包括：相對(duì)設(shè)置的陣列基板和對(duì)向基板；其特征在于， 所述陣列基板設(shè)有顯示模式切換單元，所述顯示模式切換單元包括： 溫度調(diào)節(jié)單元； 根據(jù)所述溫度調(diào)節(jié)單元的溫度改變反射率的熱致變色材料膜層。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板，其特征在于， 所述顯示模式切換單元位于所述陣列基板的襯底基板背離所述對(duì)向基板的一側(cè)；或 者， 所述顯示模式切換單元位于所述陣列基板的襯底基板朝向所述對(duì)向基板的一側(cè)。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板，其特征在于，所述陣列基板設(shè)有的顯示模式切換 單元中： 所述熱致變色材料膜層位于所述溫度調(diào)節(jié)單元與陣列基板的襯底基板之間；或者， 所述溫度調(diào)節(jié)單元位于所述熱致變色材料膜層與陣列基板的襯底基板之間。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板，其特征在于，所述陣列基板設(shè)有的顯示模式切換 單元中： 所述溫度調(diào)節(jié)單元位于陣列基板的襯底基板背離所述對(duì)向基板的一側(cè)，所述熱致變色 材料膜層位于所述襯底基板朝向所述對(duì)向基板的一側(cè)。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板，其特征在于，所述熱致變色材料膜層的材料為雙 穩(wěn)態(tài)熱致變色材料。
6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的顯示面板，其特征在于，所述雙穩(wěn)態(tài)熱致變色材料為： 有機(jī)熱致變色材料；或者， 無(wú)機(jī)熱致變色材料。
7. -種顯示裝置，其特征在于，包括如權(quán)利要求1?6任一項(xiàng)所述的顯示面板。
8. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的顯示裝置，其特征在于，還包括： 用于感測(cè)顯示器件外部光強(qiáng)度的光傳感器； 控制器，所述控制器與所述光傳感器和所述溫度調(diào)節(jié)單元信號(hào)連接。
9. 一種如權(quán)利要求1?6任一項(xiàng)所述的顯示面板的制備方法，其特征在于，包括以下步 驟： 在襯底基板上形成顯示模式切換單元，以形成陣列基板，其中，所述顯示模式切換單元 包括：溫度調(diào)節(jié)單元；根據(jù)所述溫度調(diào)節(jié)單元的溫度改變反射率的熱致變色材料膜層； 連接陣列基板和對(duì)向基板，以形成顯示面板。
10. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的制備方法，其特征在于，所述形成陣列基板，包括： 在所述陣列基板的襯底基板與對(duì)向基板相對(duì)的一側(cè)表面形成驅(qū)動(dòng)電路； 在所述驅(qū)動(dòng)電路上形成保護(hù)層； 在所述襯底基板背離對(duì)向基板的一側(cè)表面形成所述顯示模式切換單元； 剝離所述保護(hù)層。
11. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的制備方法，其特征在于，所述形成陣列基板，包括： 在所述陣列基板的襯底基板背離對(duì)向基板的一側(cè)表面形成所述顯示模式切換單元； 在所述顯示模式切換單元上形成保護(hù)層； 在所述襯底基板與對(duì)向基板相對(duì)的一側(cè)表面形成驅(qū)動(dòng)電路； 剝離所述保護(hù)層。
12. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的制備方法，其特征在于，所述形成陣列基板，包括： 在所述陣列基板的襯底基板與對(duì)向基板相對(duì)的一側(cè)表面形成所述顯示模式切換單 元； 在所述顯示模式切換單元上形成絕緣層； 在所述絕緣層上形成驅(qū)動(dòng)電路。
13. 根據(jù)權(quán)利要求10?12任一項(xiàng)所述的制備方法，其特征在于，所述形成顯示模式切 換單元，包括： 形成所述溫度調(diào)節(jié)單元；在所述溫度調(diào)節(jié)單元上形成所述熱致變色材料膜層；或者， 形成所述熱致變色材料膜層；在所述熱致變色材料膜層上形成所述溫度調(diào)節(jié)單元。
14. 根據(jù)權(quán)利要求13所述的制備方法，其特征在于，所述形成所述熱致變色材料膜層 為： 采用涂布、印刷、打印及固化工藝制程形成熱致變色材料膜層；或者， 采用CVD工藝制程形成熱致變色材料膜層； 采用濺射工藝制程形成熱致變色材料膜層。
15. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的制備方法，其特征在于，所述形成陣列基板，包括： 在所述陣列基板的襯底基板與對(duì)向基板相對(duì)的一側(cè)表面形成所述熱致變色材料膜 層； 在所述熱致變色材料膜層上形成絕緣層； 在所述絕緣層上形成驅(qū)動(dòng)電路； 在所述驅(qū)動(dòng)電路上形成保護(hù)層； 在所述襯底基板背離對(duì)向基板的一側(cè)表面形成所述溫度調(diào)節(jié)單元； 剝離所述保護(hù)層。
16. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的制備方法，其特征在于，所述形成陣列基板，包括： 在所述陣列基板的襯底基板背離對(duì)向基板的一側(cè)表面形成所述溫度調(diào)節(jié)單元； 在所述溫度調(diào)節(jié)單元上形成保護(hù)層； 在所述襯底基板與對(duì)向基板相對(duì)的一側(cè)表面形成所述熱致變色材料膜層； 在所述熱致變色材料膜層上形成絕緣層； 在所述絕緣層上形成驅(qū)動(dòng)電路； 剝離所述保護(hù)層。
17. 根據(jù)權(quán)利要求15或16所述的制備方法，其特征在于，所述形成所述熱致變色材料 膜層為： 采用涂布、印刷、打印及固化工藝制程形成熱致變色材料膜層；或者， 采用CVD工藝制程形成熱致變色材料膜層； 采用濺射工藝制程形成熱致變色材料膜層。
【文檔編號(hào)】G02F1/01GK104216146SQ201410376937
【公開日】2014年12月17日 申請(qǐng)日期:2014年8月1日 優(yōu)先權(quán)日:2014年8月1日
【發(fā)明者】楊久霞, 白峰 申請(qǐng)人:京東方科技集團(tuán)股份有限公司, 北京京東方光電科技有限公司