液晶顯示面板及其制造方法
【專利摘要】本發(fā)明提供了一種液晶顯示面板及其制造方法。該液晶顯示面板的制造方法包括：在基體上涂布一光阻層；采用光罩對(duì)光阻層進(jìn)行曝光，以在基體上形成具有不同高度的間隔層，其中沿液晶顯示面板的中間區(qū)域朝向兩側(cè)區(qū)域的方向，間隔層的高度逐漸減??；移除被曝光的光阻層。通過上述方式，本發(fā)明能夠使得液晶顯示面板的顯示亮度均勻，減緩或消除液晶顯示面板在顯示時(shí)的“兩側(cè)發(fā)白”現(xiàn)象。
【專利說明】液晶顯示面板及其制造方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及液晶顯示【技術(shù)領(lǐng)域】，特別是涉及一種液晶顯示面板及其制造方法。

【背景技術(shù)】
[0002]TFT-LCD (Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display,薄膜場(chǎng)效應(yīng)液晶顯示)面板在低灰階顯示時(shí)，極易出現(xiàn)兩側(cè)區(qū)域亮度高、中間區(qū)域亮度低的顯示不良現(xiàn)象，通常稱為“兩側(cè)發(fā)白”現(xiàn)象。
[0003]產(chǎn)生“兩側(cè)發(fā)白”現(xiàn)象的原理在于:如圖1所示，掃描Gate線11的驅(qū)動(dòng)電壓是由位于液晶顯示面板10的左右兩側(cè)的掃描驅(qū)動(dòng)電極(Gate C0F) 12輸入的，由于掃描線11的電阻電容延遲RC Delay，使得兩側(cè)正常輸入的掃描驅(qū)動(dòng)電壓在傳遞至中間區(qū)域A時(shí)發(fā)生失真，即Gate波形失真，失真的掃描驅(qū)動(dòng)電壓會(huì)降低中間區(qū)域A的充電率，從而降低中間區(qū)域A的顯示亮度，此時(shí)兩側(cè)區(qū)域B1、B2的顯示亮度相比之下變高，即產(chǎn)生“兩側(cè)發(fā)白”現(xiàn)象。在低灰階顯示時(shí)，由于人眼敏感，因此觀看時(shí)“兩側(cè)發(fā)白”現(xiàn)象尤為明顯。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]有鑒于此，本發(fā)明實(shí)施例所要解決的技術(shù)問題是提供一種液晶顯示面板及其制造方法，能夠使得液晶顯示面板的顯示亮度均勻，減緩或消除“兩側(cè)發(fā)白”現(xiàn)象。
[0005]為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用的一個(gè)技術(shù)方案是:提供一種液晶顯示面板的制造方法，包括:在基體上涂布一光阻層；采用光罩對(duì)光阻層進(jìn)行曝光，以在基體上形成具有不同高度的間隔層，其中沿液晶顯示面板的中間區(qū)域朝向液晶顯示面板的兩側(cè)區(qū)域的方向，間隔層的高度逐漸減??；移除被曝光的光阻層。
[0006]其中，采用光罩對(duì)光阻層進(jìn)行曝光的同時(shí)包括:控制第一擋板的第一平移速度和第二檔板的第二平移速度，并使對(duì)光阻層的曝光時(shí)間沿中間區(qū)域朝向兩側(cè)區(qū)域的方向逐漸增大，其中第一檔板和第二檔板均不透光且設(shè)置于光罩和曝光的光源之間。
[0007]其中，對(duì)光阻層的曝光時(shí)間滿足如下關(guān)系式:
[0008]Γ(.τ) = Tmex + /；[點(diǎn)-dx
[0009]其中，Τω表示曝光時(shí)間，Viw表示第一擋板的第一平移速度，V2ω表示第二擋板的第二平移速度，X表不曝光位置，Tmax表不曝光位置的最長(zhǎng)曝光時(shí)間。
[0010]其中，第一檔板的面積大于或等于液晶顯示面板的面積，第二檔板的面積大于或等于液晶顯不面板的面積。
[0011]其中，間隔層包括多個(gè)間隔柱，且沿中間區(qū)域朝向兩側(cè)區(qū)域的方向，多個(gè)間隔柱的最大寬度相等。
[0012]其中，光阻層的制造材質(zhì)包括正性光阻材料。
[0013]其中，采用顯影技術(shù)移除被曝光的光阻層。
[0014]其中，基體對(duì)應(yīng)用于形成液晶顯示面板的彩色濾光片基板。
[0015]為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用的一個(gè)技術(shù)方案是:提供一種液晶顯示面板，包括一基體以及設(shè)置于基體上的具有不同高度的多個(gè)間隔柱，其中沿液晶顯示面板的中間區(qū)域朝向液晶顯示面板的兩側(cè)區(qū)域的方向，多個(gè)間隔柱的高度逐漸減小。
[0016]其中，基體為液晶顯示面板的彩色濾光片基板。
[0017]通過上述技術(shù)方案，本發(fā)明實(shí)施例產(chǎn)生的有益效果是:本發(fā)明實(shí)施例通過在基體上形成沿液晶顯示面板的中間區(qū)域朝向兩側(cè)區(qū)域的方向具有高度遞減的間隔層，使得兩側(cè)區(qū)域的液晶層的厚度小于中間區(qū)域的液晶層的厚度，而液晶層的厚度的減小能夠降低兩側(cè)區(qū)域的液晶效率，降低兩側(cè)區(qū)域的光穿透率，從而降低兩側(cè)區(qū)域的顯示亮度，此時(shí)兩側(cè)區(qū)域的顯示亮度與中間區(qū)域的顯示亮度差距變小或消除，整個(gè)液晶顯示面板的顯示亮度均勻，減緩或消除“兩側(cè)發(fā)白”現(xiàn)象。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0018]圖1是現(xiàn)有技術(shù)中液晶顯示面板的結(jié)構(gòu)俯視圖；
[0019]圖2是本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例的液晶顯示面板的制造方法的流程圖；
[0020]圖3是本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例的進(jìn)行曝光的第一場(chǎng)景示意圖；
[0021]圖4是圖3所示曝光位置與曝光時(shí)間的關(guān)系示意圖；
[0022]圖5是本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例的進(jìn)行曝光的第二場(chǎng)景示意圖；
[0023]圖6是本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例的進(jìn)行曝光的第三場(chǎng)景示意圖；
[0024]圖7是圖6所示曝光位置與第一檔板的第一平移速度和第二檔板的第二平移速度的第一關(guān)系不意圖；
[0025]圖8是圖6所示曝光位置與第一檔板的第一平移速度和第二檔板的第二平移速度的第~■關(guān)系不意圖；
[0026]圖9是圖6所示曝光位置與第一檔板的第一平移速度和第二檔板的第二平移速度的第二關(guān)系不意圖；
[0027]圖10是圖6所示曝光位置與第一檔板的第一平移速度和第二檔板的第二平移速度的第四關(guān)系示意圖；
[0028]圖11是采用圖2所示制造方法制得的彩色濾光片基板的剖視圖；
[0029]圖12是具有圖11所示彩色濾光片基板的液晶顯示面板的剖視圖。

【具體實(shí)施方式】
[0030]下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，本發(fā)明以下所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明的一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其它實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0031]圖2是本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例的液晶顯示面板的制造方法的流程圖。如圖2所示，本實(shí)施例的液晶顯示面板的制造方法包括如下步驟:
[0032]步驟S21:在基體上涂布一光阻層。
[0033]結(jié)合圖3所示，基體10對(duì)應(yīng)用于形成液晶顯示面板的彩色濾光片基板，其可為玻璃基體、塑料基體或可撓式基體。光阻層11的制造材質(zhì)為正性光阻材料，且優(yōu)選均勻涂布于基體10上。
[0034]步驟S22:采用光罩對(duì)光阻層進(jìn)行曝光，以在基體上形成具有不同高度的間隔層，其中沿液晶顯示面板的中間區(qū)域朝向兩側(cè)區(qū)域的方向，間隔層的高度逐漸減小。
[0035]如圖3所示，光罩12具有多個(gè)透光率完全相同的透光區(qū)121，圖中所示透光區(qū)121的數(shù)量為僅供說明，本實(shí)施例優(yōu)選多個(gè)透光區(qū)121的寬度均相同且相鄰兩個(gè)之間的距離均相同。
[0036]本實(shí)施例優(yōu)選光罩12相當(dāng)于現(xiàn)有技術(shù)中制造間隔柱(Photo Spacer, PS)的圖形光罩，其制造過程可以為:首先對(duì)液晶顯示面板的間隔柱P所在區(qū)域進(jìn)行標(biāo)記。然后根據(jù)標(biāo)記在光罩基材上定義出多個(gè)透光區(qū)121，其中優(yōu)選光罩基材為玻璃或石英等透光的硬質(zhì)材料，且表面涂布有不透光的金屬層，例如鉻Cr、鋁Al、銅Cu、鑰Mo等及其或組合的合金膜層。最后刻蝕掉對(duì)應(yīng)于多個(gè)透光區(qū)121的不透光膜層，再進(jìn)行清洗等后續(xù)處理即可得到光罩12。為保證曝光區(qū)域，優(yōu)選光罩基材，即光罩12的面積大于或等于液晶顯示面板的面積。
[0037]本發(fā)明實(shí)施例的主要目的是在基體10上形成沿中間區(qū)域朝向兩側(cè)區(qū)域的方向具有多個(gè)不同高度間隔柱P的間隔層，且間隔柱P的高度逐漸減小，基于此，優(yōu)選通過控制對(duì)不同區(qū)域的光阻層11的曝光能量，使得沿中間區(qū)域朝向兩側(cè)區(qū)域的方向，曝光能量逐漸增大，從而得到具有不同高度的多個(gè)間隔柱P。
[0038]由于曝光機(jī)內(nèi)的曝光光強(qiáng)(曝光能量)是均一的，因此需要控制對(duì)不同區(qū)域的光阻層11的曝光時(shí)間，使得沿中間區(qū)域朝向兩側(cè)區(qū)域的方向，曝光時(shí)間逐漸增大。具體結(jié)合圖4所示，橫坐標(biāo)軸表示曝光位置X，縱坐標(biāo)軸表示曝光時(shí)間t，其中Tmax表示曝光位置X =O和X = L的曝光時(shí)間，Tmax為整個(gè)曝光過程中的最長(zhǎng)曝光時(shí)間，對(duì)應(yīng)于兩側(cè)區(qū)域的曝光時(shí)間，Tmin表示曝光位置X = L/2的曝光時(shí)間，Tmin為整個(gè)曝光過程中的最短曝光時(shí)間，對(duì)應(yīng)于中間區(qū)域的曝光時(shí)間，其中L表示整個(gè)液晶顯示面板或光阻層11的長(zhǎng)度。
[0039]本實(shí)施例優(yōu)選在曝光機(jī)中放置如圖5和圖6所示的不透光的第一檔板14和第二檔板15，以控制對(duì)光阻層11的曝光時(shí)間。下面結(jié)合圖5和圖6描述間隔層的多個(gè)間隔柱P的制造過程:
[0040]請(qǐng)參閱圖5所示，將涂布有光阻層11的基體10放置于曝光機(jī)中，將光罩12設(shè)置于光源13和光阻層11之間，并且第一檔板14和第二檔板15設(shè)置于光罩12與光源13之間。其中，第一檔板14和第二檔板15均由不透光的硬質(zhì)材料制成，例如鋼、銅等金屬或合金材料，或者塑料、陶瓷等非金屬材料，且兩者的面積均大于或等于液晶顯示面板的面積，即大于或等于基材10的面積。對(duì)于第一檔板14和第二檔板15的上下位置關(guān)系，本實(shí)施例優(yōu)選在垂直于基體10的方向上,第一檔板14設(shè)置于第二檔板15和光源13之間。
[0041]此時(shí)光罩12上的多個(gè)透光區(qū)121與基體10上所要形成的間隔柱P的區(qū)域?qū)ξ?。然后，開啟光源13進(jìn)行曝光，優(yōu)選光源13為UV (Ultrav1let,紫外線)光源，且曝光時(shí)光照具有曝光能量E，曝光能量E的范圍由正性的光阻層11的材料特性決定，本實(shí)施例優(yōu)選曝光能量E的范圍為I?100mJ/cm2 (毫焦耳每平方厘米)。
[0042]在曝光過程中，本實(shí)施例通過控制第一擋板14的第一平移速度和第二檔板15的第二平移速度，實(shí)現(xiàn)對(duì)光阻層11的曝光時(shí)間沿中間區(qū)域朝向兩側(cè)區(qū)域的方向逐漸增大，具體而言:
[0043]如圖5所示，第一擋板14的左邊緣為初始曝光位置X = 0，在初始曝光時(shí)刻t = O啟動(dòng)，以第一平移速度Vl(X)沿圖中箭頭所示方向向右運(yùn)動(dòng)，此時(shí)光阻層11上的任意一個(gè)曝光位置X的開始曝光時(shí)刻，即為第一擋板14的左邊緣到達(dá)該曝光位置的時(shí)刻t，且滿足關(guān)系式1-1:
[0044]t = Tstsrt = /* dx 關(guān)系式 1-1
[0045]其中，Tstart表示曝光位置X的開始曝光時(shí)刻。
[0046]如圖6所示，第二檔板15的右邊緣為初始曝光位置X = 0，在曝光時(shí)刻t = Tmax時(shí)刻啟動(dòng)，以第二平移速度V2(x)沿圖中箭頭所示方向向右運(yùn)動(dòng)，此時(shí)光阻層11上的任意一個(gè)曝光位置X的停止曝光時(shí)刻，即為第二檔板15的右邊緣到達(dá)該曝光位置的時(shí)刻t，且滿足關(guān)系式1_2:
[0047]t = Tend = Tmax +關(guān)系式 1-2
[0048]其中，Tend表不曝光位置X的停止曝光時(shí)刻。
[0049]綜合關(guān)系式1-1和關(guān)系式1-2，可以得到任意一個(gè)曝光位置X的曝光時(shí)間Τω =Tend-Tstart，且Τω滿足關(guān)系式1-3:
[0050]T(X) = Tmax + ζ L — ^；] dx 關(guān)系式 1-3
[0051]對(duì)關(guān)系式1-3進(jìn)行數(shù)學(xué)變換，即得到關(guān)系式1-4:
I1、Λ ,、
「Λ Λ 廣 Λ Π__OOOOOOuOf.、.Α.—> ~[、-A
LOOt^」 r/2(y) Fffal ~~ ?χ 天系瓦丄_4
[0053]由此可以得知，無論圖4所示曝光時(shí)間t對(duì)應(yīng)的曲線形狀如何，本實(shí)施例總能計(jì)算得到滿足關(guān)系式1-3和關(guān)系式1-4的第一平移速度Vl (x)和第二平移速度V2 (x)的取值。例如，
[0054]當(dāng)曝光時(shí)間t對(duì)應(yīng)的曲線為圖4所示的二次曲線時(shí)，第一檔板14和第二檔板15在不同曝光位置X對(duì)應(yīng)的第一平移速度Vl(X)和第二平移速度V2(x)的倒數(shù)曲線為圖7或圖8所示的直線。
[0055]結(jié)合圖7和圖8，橫坐標(biāo)軸表示平移速度的倒數(shù)1/V(x)，縱坐標(biāo)軸表示曝光位置X，直線L1表示第一檔板14加速平移、第二檔板15勻速平移時(shí)第一平移速度Vl (x)的倒數(shù)1/VI (X)，直線L2表示第一檔板14加速平移、第二檔板15勻速平移時(shí)第二平移速度V2(x)的倒數(shù)1/V2 (x)，直線L3表示第一檔板14勻速平移、第二檔板15減速平移時(shí)第一平移速度Vl (x)的倒數(shù)1/VI (X)，直線L4表示第一檔板14勻速平移、第二檔板15減速平移時(shí)第二平移速度V2 (X)的倒數(shù)1/V2 (X)。
[0056]結(jié)合關(guān)系式1-3和關(guān)系式1-4，可以得知對(duì)于圖7所示第一檔板14加速平移、第二檔板15勻速平移時(shí)，在曝光位置X = a處，對(duì)應(yīng)的曝光時(shí)間T(a) = US2-S1 ;對(duì)于圖8所示第一檔板14勻速平移、第二檔板15減速平移時(shí)，在曝光位置X = a處，對(duì)應(yīng)的曝光時(shí)間T(a)=Tmax+S4-S3。其中，S2-S1和S4-S3為對(duì)應(yīng)的第二平移速度V2(x)的倒數(shù)1/V2(x)與第一平移速度Vl(X)的倒數(shù)1/Vl(x)之差的微積分。
[0057]直觀地，根據(jù)圖7所示的曝光位置X與倒數(shù)1/Vl(x)和倒數(shù)1/V2(x)的第一關(guān)系示意圖，可以得到圖9所示的曝光位置X與第一平移速度Vl(X)和第二平移速度V2(x)的第三關(guān)系示意圖。同理，根據(jù)圖8所示的曝光位置X與倒數(shù)1/Vl(x)和倒數(shù)1/V2(x)的第二關(guān)系示意圖，可以得到圖10所示的平移時(shí)間t與第一平移速度Vl (t)(即Vl (x))和第二平移速度V2(t)(即V2(x))的第四關(guān)系示意圖。
[0058]基于上述可以得知，只要得到滿足關(guān)系式1-3和關(guān)系式1-4的第一平移速度Vl (x)和第二平移速度V2(x)的取值，第一平移速度Vl(X)和第二平移速度V2(x)所對(duì)應(yīng)的倒數(shù)曲線可以為任何形狀，即第一平移速度Vl(X)和第二平移速度V2(x)有無數(shù)組取值。
[0059]步驟S23:移除被曝光的光阻層。
[0060]完成上述步驟之后，采用顯影技術(shù)移除被曝光的光阻層11。
[0061]此時(shí)，由于沿液晶顯示面板的中間區(qū)域朝向兩側(cè)區(qū)域的方向，間隔柱P(間隔層)的高度逐漸減小，使得兩側(cè)區(qū)域的液晶層的厚度小于中間區(qū)域的液晶層的厚度，根據(jù)像素單元的穿透率=開口率*液晶效率(即單位開口面積的穿透率)這一液晶顯示領(lǐng)域的公知常識(shí)，可知液晶層的厚度的減小能夠降低兩側(cè)區(qū)域的液晶效率，降低兩側(cè)區(qū)域的像素單元的穿透率，從而降低兩側(cè)區(qū)域的顯示亮度，此時(shí)兩側(cè)區(qū)域的顯示亮度與中間區(qū)域的顯示亮度差距變小或消除，整個(gè)液晶顯示面板的顯示亮度均勻，減緩或消除“兩側(cè)發(fā)白”現(xiàn)象。
[0062]在本實(shí)施例中，多個(gè)間隔柱P的高度由液晶的材料特性決定，以Merck 718液晶為例，現(xiàn)有技術(shù)中間隔柱的高度為2.5um，本發(fā)明實(shí)施例可得到兩側(cè)區(qū)域的間隔柱P的高度為2.0um，而中間區(qū)域的間隔柱P的高度為3.0um0另外，第一擋板14和第二檔板15可放置于滑輪或?qū)к壣希⒂勺詣?dòng)化傳動(dòng)裝置進(jìn)行平移速度的控制，可實(shí)現(xiàn)單向變速運(yùn)動(dòng)，且優(yōu)選速度范圍為I?3000毫米/秒。
[0063]本發(fā)明實(shí)施例還提供一種采用上述制造方法制得的如圖11的彩色濾光片基板110，以及圖12所示的具有彩色濾光片基板110的液晶顯示面板120，因此具有相同的技術(shù)效果。
[0064]綜上所述，本發(fā)明實(shí)施例通過在基體上形成沿液晶顯示面板的中間區(qū)域朝向兩側(cè)區(qū)域的方向具有高度遞減的間隔層，使得兩側(cè)區(qū)域的液晶層的厚度小于中間區(qū)域的液晶層的厚度，降低兩側(cè)區(qū)域的液晶效率，降低兩側(cè)區(qū)域的光穿透率，從而降低兩側(cè)區(qū)域的顯示亮度，此時(shí)兩側(cè)區(qū)域的顯示亮度與中間區(qū)域的顯示亮度差距變小或消除，整個(gè)液晶顯示面板的顯示亮度均勻，減緩或消除“兩側(cè)發(fā)白”現(xiàn)象。
[0065]再次說明，以上所述僅為本發(fā)明的實(shí)施例，并非因此限制本發(fā)明的專利范圍，凡是利用本發(fā)明說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，例如各實(shí)施例之間技術(shù)特征的相互結(jié)合，或直接或間接運(yùn)用在其他相關(guān)的【技術(shù)領(lǐng)域】，均同理包括在本發(fā)明的專利保護(hù)范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種液晶顯示面板的制造方法，其特征在于，所述制造方法包括: 在基體上涂布一光阻層； 采用光罩對(duì)所述光阻層進(jìn)行曝光，以在所述基體上形成具有不同高度的間隔層，其中沿所述液晶顯示面板的中間區(qū)域朝向所述液晶顯示面板的兩側(cè)區(qū)域的方向，所述間隔層的高度逐漸減??； 移除被曝光的所述光阻層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述采用光罩對(duì)所述光阻層進(jìn)行曝光的同時(shí)包括: 控制第一擋板的第一平移速度和第二檔板的第二平移速度，并使對(duì)所述光阻層的曝光時(shí)間沿所述中間區(qū)域朝向所述兩側(cè)區(qū)域的方向逐漸增大，其中所述第一檔板和所述第二檔板均不透光且設(shè)置于所述光罩和所述曝光的光源之間。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制造方法，其特征在于，對(duì)所述光阻層的曝光時(shí)間滿足如下關(guān)系式: T(x) = Tmax + ff --dx
κ β ■*.* jQ U.,2U.) VtbeM 其中，Τω表示所述曝光時(shí)間，Viw表示所述第一擋板的第一平移速度，V2ω表示所述第二擋板的第二平移速度，X表示曝光位置，Tfflax表示所述曝光位置的最長(zhǎng)曝光時(shí)間。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制造方法，其特征在于，所述第一檔板和所述第二檔板的面積均大于或等于所述液晶顯示面板的面積。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述間隔層包括多個(gè)間隔柱，且沿所述中間區(qū)域朝向所述兩側(cè)區(qū)域的方向，所述多個(gè)間隔柱的最大寬度相等。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述光阻層的制造材質(zhì)包括正性光阻材料。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的制造方法，其特征在于，采用顯影技術(shù)移除所述被曝光的光阻層。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述基體對(duì)應(yīng)用于形成所述液晶顯示面板的彩色濾光片基板。
9.一種液晶顯示面板，其特征在于，所述液晶顯示面板包括一基體以及設(shè)置于所述基體上的具有不同高度的多個(gè)間隔柱，其中沿所述液晶顯示面板的中間區(qū)域朝向所述液晶顯示面板的兩側(cè)區(qū)域的方向，所述多個(gè)間隔柱的高度逐漸減小。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的液晶顯示面板，其特征在于，所述基體為所述液晶顯示面板的彩色濾光片基板。
【文檔編號(hào)】G02F1/1333GK104267543SQ201410531248
【公開日】2015年1月7日 申請(qǐng)日期:2014年10月10日 優(yōu)先權(quán)日:2014年10月10日
【發(fā)明者】鄭華 申請(qǐng)人:深圳市華星光電技術(shù)有限公司