一種coa基板及其制作方法和顯示裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明的實施例提供一種COA基板及其制作方法和顯示裝置，涉及顯示【技術(shù)領(lǐng)域】，解決了現(xiàn)有的技術(shù)方案中由于公共電極層直接形成在黑矩陣上而造成的數(shù)據(jù)線與公共電極層之間會產(chǎn)生較大寄生電容的問題，避免產(chǎn)生信號延遲，提高了顯示器的畫面的顯示質(zhì)量。該COA基板包括：黑矩陣、形成在所述黑矩陣上的彩色濾光片、公共電極層和有機(jī)絕緣膜層，所述公共電極層形成在所述有機(jī)絕緣膜層上，所述有機(jī)絕緣膜層設(shè)置在所述彩色濾光片上，并覆蓋所述彩色濾光片的位置；所述有機(jī)絕緣膜層的材料為相對介電常數(shù)小于10的有機(jī)絕緣材料。本發(fā)明應(yīng)用于顯示器件的制作技術(shù)中。
【專利說明】-種COA基板及其制作方法和顯示裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及顯示【技術(shù)領(lǐng)域】，尤其涉及一種C0A基板及其制作方法和顯示裝置。

【背景技術(shù)】
[0002] 液晶顯示器件（Liquid Crystal Display,簡稱LCD)和有機(jī)電致發(fā)光器件 (Organic electroluminescent device,簡稱0LED)等顯示器件已成為人們生活中的必需 品，隨著人們需求的提高，為了提高顯示器件的顯示品質(zhì)，避免陣列基板和彩膜基板對盒時 的偏差影響顯示器件開口率和出現(xiàn)漏光的問題，彩色濾光片與陣列基板集成在一起的集成 技術(shù)（Color Filter on Array,簡稱C0A)應(yīng)運(yùn)而生，C0A技術(shù)就是將黑矩陣和彩色濾光片 設(shè)置于陣列基板上。
[0003] 如圖1中所示，現(xiàn)有的C0A基板中在對應(yīng)黑矩陣8上方的位置處不設(shè)置彩色濾光 片9,直接將公共電極層11設(shè)置在黑矩陣8上，由于彩色濾光片9的膜層厚度較大，這樣就 會產(chǎn)生"段差現(xiàn)象"，使公共電極層11與數(shù)據(jù)線之間的總的膜層厚度較小，從而會使得數(shù)據(jù) 線與公共電極層之間產(chǎn)生較大的寄生電容，產(chǎn)生較大的信號延遲，降低顯示器的畫面的顯 示質(zhì)量。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0004] 本發(fā)明的實施例提供一種C0A基板及其制作方法和顯示裝置，解決了現(xiàn)有的技術(shù) 方案中由于公共電極層直接形成在黑矩陣上而造成的數(shù)據(jù)線與公共電極層之間會產(chǎn)生較 大寄生電容的問題，避免產(chǎn)生信號延遲，提高了顯示器的畫面的顯示質(zhì)量。
[0005] 為達(dá)到上述目的，本發(fā)明的實施例采用如下技術(shù)方案：
[0006] 第一方面，提供一種C0A基板，所述C0A基板包括：黑矩陣、形成在所述黑矩陣上的 彩色濾光片、公共電極層和有機(jī)絕緣膜層，所述公共電極層形成在所述有機(jī)絕緣膜層上，其 中：
[0007] 所述有機(jī)絕緣膜層設(shè)置在所述彩色濾光片上，并覆蓋所述彩色濾光片的位置；
[0008] 所述有機(jī)絕緣膜層的材料為相對介電常數(shù)小于10的有機(jī)絕緣材料。
[0009] 可選的，所述C0A基板還包括：第二層鈍化層和像素電極層，其中：
[0010] 所述第二層鈍化層設(shè)置在所述公共電極層上，并覆蓋所述公共電極層的位置；
[0011] 所述像素電極層設(shè)置在所述第二層鈍化層上；
[0012] 所述第二層鈍化層的材料為相對介電常數(shù)小于5的有機(jī)材料。
[0013] 可選的，所述有機(jī)絕緣膜層的材料為相對介電常數(shù)小于5的有機(jī)絕緣材料。
[0014] 可選的，所述有機(jī)絕緣膜層的厚度大于或者等于lum。
[0015] 可選的，所述第二層鈍化層的厚度大于或者等于lum。
[0016] 第二方面，提供一種C0A基板的制作方法，其特征在于，所述方法包括：
[0017] 在所述基板上形成黑矩陣；
[0018] 在所述黑矩陣上形成覆蓋所述基板的彩色濾光片；
[0019] 采用相對介電常數(shù)小于10的有機(jī)絕緣材料，在所述彩色濾光片上形成覆蓋所述 彩色濾光片的有機(jī)絕緣膜層；
[0020] 在所述有機(jī)絕緣膜層上形成公共電極層。
[0021] 可選的，所述方法還包括：
[0022] 采用相對介電常數(shù)小于5的有機(jī)材料，在所述公共電極層上形成覆蓋所述公共電 極層的第二層鈍化層；
[0023] 在所述第二層鈍化層上形成像素電極層。
[0024] 可選的，所述采用相對介電常數(shù)小于10的有機(jī)絕緣材料，在所述彩色濾光片上形 成覆蓋所述彩色濾光片的有機(jī)絕緣膜層，包括：
[0025] 采用相對介電常數(shù)小于5的有機(jī)絕緣材料，在所述彩色濾光片上形成一層厚度大 于或者等于lum的有機(jī)絕緣層薄膜；
[0026] 通過構(gòu)圖工藝處理所述有機(jī)絕緣層薄膜形成覆蓋所述彩色濾光片的所述有機(jī)絕 緣膜層。
[0027] 可選的，所述采用相對介電常數(shù)小于5的有機(jī)材料，在所述公共電極層上形成覆 蓋所述公共電極層的第二層鈍化層，包括：
[0028] 采用相對介電常數(shù)小于5的有機(jī)材料，在所述公共電極層上形成厚度大于或者等 于lum并覆蓋所述公共電極層的所述第二層鈍化層。
[0029] 第三方面，提供一種顯示裝置，所述顯示裝置包括第一方面所述的任一 C0A基板。
[0030] 本發(fā)明的實施例提供的C0A基板及其制作方法和顯示裝置，通過采用相對介電常 數(shù)小于10的有機(jī)絕緣材料，在彩色濾光片上形成有機(jī)絕緣膜層，從而使得數(shù)據(jù)線與公共電 極層之間的總的膜層厚度增加，同時有機(jī)絕緣膜層的材料的相對介電常數(shù)減小，這樣最終 形成的C0A基板中的數(shù)據(jù)線與公共電極層之間的寄生電容遠(yuǎn)遠(yuǎn)小于現(xiàn)有技術(shù)方案中的C0A 基板中的數(shù)據(jù)線與公共電極層之間的寄生電容，解決了現(xiàn)有的技術(shù)方案中由于公共電極層 直接形成在黑矩陣上而造成的數(shù)據(jù)線與公共電極層之間會產(chǎn)生較大寄生電容的問題，避免 產(chǎn)生信號延遲，提高了顯示器的畫面的顯示質(zhì)量。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0031] 為了更清楚地說明本發(fā)明實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實施例或現(xiàn) 有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本 發(fā)明的一些實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以 根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0032] 圖1為現(xiàn)有技術(shù)方案中提供的一種C0A基板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0033] 圖2為本發(fā)明的實施例提供的一種C0A基板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0034] 圖3為本發(fā)明的實施例提供的另一種C0A基板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0035] 圖4為本發(fā)明的實施例提供的又一種C0A基板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0036] 圖5為本發(fā)明的實施例提供的再一種C0A基板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0037] 圖6為本發(fā)明的實施例提供的一種C0A基板的制作方法的流程示意圖；
[0038] 圖7為本發(fā)明的實施例提供的另一種C0A基板的制作方法的流程示意圖。
[0039] 附圖標(biāo)記：1-基板；2-柵極；3-柵絕緣層；4-有源層；5-源極；6-漏極；7-第一 層鈍化層；8-黑矩陣；9-彩色濾光片；10-有機(jī)絕緣膜層；11-公共電極層；12-第二層鈍化 層；13-像素電極層。

【具體實施方式】
[0040] 下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完 整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例，而不是全部的實施例?；?本發(fā)明中的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他 實施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0041] 本發(fā)明的實施例提供一種C0A基板，參照圖2和圖3所不，該C0A基板包括：基板 1、柵極2、柵絕緣層3、有源層4、源極5、漏極6、第一層鈍化層7、黑矩陣8、形成在黑矩陣8 上的彩色濾光片9、有機(jī)絕緣膜層10和形成在有機(jī)絕緣膜層10上的公共電極層11，其中：
[0042] 有機(jī)絕緣膜層10設(shè)置在彩色濾光片上，并覆蓋彩色濾光片的位置。
[0043] 有機(jī)絕緣膜層10的材料為相對介電常數(shù)小于10的有機(jī)絕緣材料。
[0044] 具體的，本實施例在彩色濾光片上設(shè)置了有機(jī)絕緣膜層，這樣數(shù)據(jù)線與公共電極 層之間的總厚度大于現(xiàn)有技術(shù)中的數(shù)據(jù)線與公共電極層之間的厚度。同時，本實施例中的 有機(jī)絕緣膜層采用具有較低相對介電常數(shù)的有機(jī)絕緣材料形成，不會增大數(shù)據(jù)線與公共電 極層之間的相對介電常數(shù)，從而可以有效的減小數(shù)據(jù)線與公共電極層之間的寄生電容。進(jìn) 一步，由于在彩色濾光片上設(shè)置了有機(jī)絕緣膜層，可以對彩色濾光片進(jìn)行平坦化處理，不會 出現(xiàn)因為彩色濾光片以及公共電極層中段差的存在而造成液晶分子排列混亂的問題，進(jìn)一 步提高了顯示器件的對比度。
[0045] 其中，基板可以是玻璃基板或石英基板等；柵極、源極和漏極可以是采用金屬材料 等形成的；柵絕緣層可以是采用氮化硅，也可以使用氧化硅和氮氧化硅等形成的；有源層 可以是采用金屬氧化物半導(dǎo)體材料等形成的；第一層鈍化層可以是采用氮化硅或透明的有 機(jī)樹脂材料等形成的；公共電極層可以是采用氧化銦錫（Indium tin oxide，簡稱ΙΤ0)或 者摻銦氧化鋅（indium-doped zinc oxide,簡稱ΙΖ0)等形成的。
[0046] 本發(fā)明的實施例提供的C0A基板，通過采用相對介電常數(shù)小于10的有機(jī)絕緣材 料，在C0A基板的彩色濾光片上形成形成有機(jī)絕緣膜層，從而使得數(shù)據(jù)線與公共電極層之 間的總的膜層厚度增加，同時有機(jī)絕緣膜層的材料的相對介電常數(shù)減小，這樣最終形成的 C0A基板中的數(shù)據(jù)線與公共電極層之間的寄生電容遠(yuǎn)遠(yuǎn)小于現(xiàn)有技術(shù)方案中的C0A基板中 的數(shù)據(jù)線與公共電極層之間的寄生電容，解決了現(xiàn)有的技術(shù)方案中由于公共電極層直接形 成在黑矩陣上而造成的數(shù)據(jù)線與公共電極層之間會產(chǎn)生較大寄生電容的問題，避免產(chǎn)生信 號延遲，提高了顯示器的畫面的顯示質(zhì)量。
[0047] 進(jìn)一步，參照圖4和圖5所示，該C0A基板還包括：第二層鈍化層12和像素電極層 13,其中：
[0048] 第二層鈍化層12設(shè)置在公共電極層11上，并覆蓋公共電極層11的位置。
[0049] 像素電極層13設(shè)置在第二層鈍化層12上。
[0050] 第二層鈍化層12的材料為相對介電常數(shù)小于5的有機(jī)材料。
[0051] 具體的，當(dāng)顯示器的像素尺寸較大一般為顯示器中子像素的寬度大于l〇〇um時， 本實施例中的鈍化層采用相對介電常數(shù)較小的有機(jī)材料形成，例如可以為亞克力樹脂或者 聚酰胺樹脂等。這樣，即使像素尺寸較大，像素電機(jī)與公共電極之間的正對面積較大，但是 由于本實施例中的鈍化層的相對介電常數(shù)小于現(xiàn)有技術(shù)方案中的鈍化層的相對介電常數(shù)， 避免出現(xiàn)公共電極與像素電極之間的存儲電容過大的問題，使得公共電極與像素電極之間 的存儲電容仍可以保持在合適的范圍內(nèi)，不會影響形成的COA基板的性能。需要說明的是， 當(dāng)顯示器的像素尺寸較小一般為顯示器中子像素的寬度小于30um時，可以采用相對介電 常數(shù)較大的材料，例如氮化硅或者氮氧化硅等相對介電常數(shù)大于5的無機(jī)材料，同時設(shè)置 鈍化層的厚度在2000?6000A之間，避免出現(xiàn)公共電極與像素電極之間的存儲電容過小 的問題。
[0052] 其中，優(yōu)選的有機(jī)絕緣膜層的材料為相對介電常數(shù)小于5的有機(jī)絕緣材料。
[0053] 具體的，有機(jī)絕緣膜層的材料可以為亞克力樹脂或者聚酰胺樹脂等。
[0054] 有機(jī)絕緣膜層的厚度大于或者等于lum。
[0055] 具體的，有機(jī)絕緣膜層的厚度設(shè)置為大于或者等于lum，該厚度可以保證形成的有 機(jī)絕緣膜層兼具平坦效果，或者也可對有機(jī)絕緣膜層和彩色濾光片上層進(jìn)行平坦化處理， 再形成公共電極層，確保最終形成的C0A基板不會出現(xiàn)由于彩色濾光片及公共電極層的 "段差"的存在而出現(xiàn)液晶分子排列混亂的問題，更好的實現(xiàn)液晶顯示器的顯示效果。
[0056] 第二層鈍化層的厚度大于或者等于lum。
[0057] 具體的，設(shè)置鈍化層的厚度大于或者等于lum，可以進(jìn)一步避免當(dāng)像素尺寸過大 時，公共電極與像素電極之間出現(xiàn)存儲電容過大的問題。
[0058] 本發(fā)明的實施例提供的C0A基板，通過采用相對介電常數(shù)小于10的有機(jī)絕緣材 料，在C0A基板的彩色濾光片上形成有機(jī)絕緣膜層，從而使得數(shù)據(jù)線與公共電極層之間的 總的膜層厚度增加，同時有機(jī)絕緣膜層的材料的相對介電常數(shù)減小，這樣最終形成的C0A 基板中的數(shù)據(jù)線與公共電極層之間的寄生電容遠(yuǎn)遠(yuǎn)小于現(xiàn)有技術(shù)方案中的C0A基板中的 數(shù)據(jù)線與公共電極層之間的寄生電容，解決了現(xiàn)有的技術(shù)方案中由于公共電極層直接形成 在黑矩陣上而造成的數(shù)據(jù)線與公共電極層之間會產(chǎn)生較大寄生電容的問題，避免產(chǎn)生信號 延遲，提高了顯示器的畫面的顯示質(zhì)量。進(jìn)而，可以提升C0A基板的性能，進(jìn)一步提高顯示 畫面的顯示效果。
[0059] 本發(fā)明的實施例提供一種C0A基板的制作方法，參照圖3所示，該方法包括以下步 驟：
[0060] 101、在基板上形成黑矩陣。
[0061] 102、在黑矩陣上形成覆蓋基板的彩色濾光片。
[0062] 103、采用相對介電常數(shù)小于10的有機(jī)絕緣材料，在彩色濾光片上形成覆蓋彩色 濾光片的有機(jī)絕緣膜層。
[0063] 具體的，可以利用化學(xué)汽相沉積法或者磁控濺射的方法在整個基板上涂敷一層有 機(jī)絕緣材料薄膜，之后通過曝光、顯影、刻蝕形成有機(jī)絕緣膜層。該有機(jī)絕緣膜層的材料可 以為亞克力樹脂或者聚酰亞胺樹脂等。
[0064] 104、在有機(jī)絕緣膜層上形成公共電極層。
[0065] 具體的，采用磁控濺射的方法沉積一層厚度在300A?500A之間的ΙΤ0或者 ΙΖ0,之后經(jīng)過曝光、顯影、刻蝕形成公共電極層。
[0066] 本發(fā)明的實施例提供的C0A基板的制作方法，通過采用相對介電常數(shù)小于10的有 機(jī)絕緣材料，在彩色濾光片上形成有機(jī)絕緣膜層，從而使得數(shù)據(jù)線與公共電極層之間的總 的膜層厚度增加，同時有機(jī)絕緣膜層的材料的相對介電常數(shù)減小，這樣最終形成的C0A基 板中的數(shù)據(jù)線與公共電極層之間的寄生電容遠(yuǎn)遠(yuǎn)小于現(xiàn)有技術(shù)方案中的C0A基板中的數(shù) 據(jù)線與公共電極層之間的寄生電容，解決了現(xiàn)有的技術(shù)方案中由于公共電極層直接形成在 黑矩陣上而造成的數(shù)據(jù)線與公共電極層之間會產(chǎn)生較大寄生電容的問題，避免產(chǎn)生信號延 遲，提高了顯示器的畫面的顯示質(zhì)量。
[0067] 本發(fā)明的實施例提供一種C0A基板的制作方法，參照圖4所示，該方法包括以下步 驟：
[0068] 201、在基板上形成包括柵極、柵線和柵線引線的柵金屬層。
[0069] 具體的，可以采用磁控濺射的方法在基板例如玻璃基板或石英基板上沉積一層 厚度在丨000人至7000人的金屬薄膜，該金屬薄膜通?？梢圆捎描€、鋁、鋁鎳合金、鑰鎢合 金、鉻、或銅等金屬，也可以使用上述幾種材料薄膜的組合結(jié)構(gòu)。然后，用掩模板通過曝光、 顯影、刻蝕、剝離等構(gòu)圖工藝處理，在基板的一定區(qū)域上形成柵金屬層。
[0070] 202、在柵金屬層上形成一層?xùn)沤^緣層。
[0071] 具體的，可以利用化學(xué)汽相沉積法或者磁控濺射的方法在玻璃基板上沉積厚度為 1000人至6000人的柵電極絕緣層薄膜，該柵絕緣層薄膜的材料通常是氮化硅，也可以使 用氧化硅和氮氧化硅等。
[0072] 203、在柵絕緣層上形成有源層、源極、漏極和數(shù)據(jù)線。
[0073] 具體的，可以利用化學(xué)汽相沉積法在柵絕緣層上沉積金屬氧化物半導(dǎo)體薄膜，然 后對金屬氧化物半導(dǎo)體薄膜進(jìn)行一次構(gòu)圖工藝形成有源層，即在光刻膠涂覆后，用普通的 掩模板對基板進(jìn)行曝光、顯影、刻蝕形成有源層即可。
[0074] 進(jìn)而，采用和制作柵線類似的方法，在基板上沉積一層類似于柵金屬的厚度在 1000人到7000人金屬薄膜。通過構(gòu)圖工藝處理在一定區(qū)域形成源極、漏極和數(shù)據(jù)線。
[0075] 204、制作覆蓋有源層、源極、漏極和數(shù)據(jù)線的第一層鈍化層。
[0076] 具體的，采用和柵絕緣層以及有源層相類似的方法，在整個基板上涂覆一層厚度 在1000人到6000人的第一層鈍化層，其材料通常是氮化硅或透明的有機(jī)樹脂材料。
[0077] 205、在第一層鈍化層上形成黑矩陣。
[0078] 206、在黑矩陣上形成覆蓋基板的彩色濾光片。
[0079] 207、采用相對介電常數(shù)小于5的有機(jī)絕緣材料，在彩色濾光片上形成一層厚度大 于或者等于lum的有機(jī)絕緣層薄膜。
[0080] 208、通過構(gòu)圖工藝處理該有機(jī)絕緣層薄膜形成覆蓋彩色濾光片的有機(jī)絕緣膜層。
[0081] 209、在有機(jī)絕緣膜層上形成公共電極層。
[0082] 具體的，采用磁控濺射的方法沉積一層厚度在300A?500A之間的ιτο或者 ΙΖ0,之后經(jīng)過曝光、顯影、刻蝕形成公共電極層。
[0083] 210、采用相對介電常數(shù)小于5的有機(jī)材料，在公共電極層上形成覆蓋公共電極層 的第二層鈍化層。
[0084] 其中，第二層鈍化層的厚度大于或者等于lum。
[0085] 具體的，采用和柵絕緣層以及有源層相類似的方法，在整個基板上涂覆一層鈍化 層，其材料可以根據(jù)像素的尺寸來選擇，當(dāng)像素的尺寸較大時，第二層鈍化層的材料為相對 介電常數(shù)小于5的有機(jī)材料，例如：亞克力樹脂或者聚酰亞胺樹脂。
[0086] 211、在第二層鈍化層上形成像素電極層。
[0087] 采用磁控濺射的方法在第二層鈍化層上沉積ΙΤ0或者ΙΖ0,然后經(jīng)過曝光、顯影、 刻蝕形成像素電極層。
[0088] 本發(fā)明的實施例提供的C0A基板的制作方法，通過采用相對介電常數(shù)小于10的有 機(jī)絕緣材料，在彩色濾光片上形成有機(jī)絕緣膜層，從而使得數(shù)據(jù)線與公共電極層之間的總 的膜層厚度增加，同時有機(jī)絕緣膜層的材料的相對介電常數(shù)減小，這樣最終形成的C0A基 板中的數(shù)據(jù)線與公共電極層之間的寄生電容遠(yuǎn)遠(yuǎn)小于現(xiàn)有技術(shù)方案中的C0A基板中的數(shù) 據(jù)線與公共電極層之間的寄生電容，解決了現(xiàn)有的技術(shù)方案中由于公共電極層直接形成在 黑矩陣上而造成的數(shù)據(jù)線與公共電極層之間會產(chǎn)生較大寄生電容的問題，避免產(chǎn)生信號延 遲，提高了顯示器的畫面的顯示質(zhì)量。進(jìn)而，可以提升C0A基板的性能，進(jìn)一步提高顯示畫 面的顯示效果。
[0089] 本發(fā)明的實施例提供一種顯示裝置，該顯示裝置包括本發(fā)明的實施例中提供的 C0A基板。
[0090] 本發(fā)明的實施例提供的顯示裝置，通過采用相對介電常數(shù)小于10的有機(jī)絕緣材 料，在顯示裝置的C0A基板的彩色濾光片上形成形成有機(jī)絕緣膜層，從而使得數(shù)據(jù)線與公 共電極層之間的總的膜層厚度增加，同時有機(jī)絕緣膜層的材料的相對介電常數(shù)減小，這樣 最終形成的C0A基板中的數(shù)據(jù)線與公共電極層之間的寄生電容遠(yuǎn)遠(yuǎn)小于現(xiàn)有技術(shù)方案中 的C0A基板中的數(shù)據(jù)線與公共電極層之間的寄生電容，解決了現(xiàn)有的技術(shù)方案中由于公共 電極層直接形成在黑矩陣上而造成的數(shù)據(jù)線與公共電極層之間會產(chǎn)生較大寄生電容的問 題，避免產(chǎn)生信號延遲，提高了顯示器的畫面的顯示質(zhì)量。進(jìn)而，可以提升C0A基板的性能， 進(jìn)一步提高顯示畫面的顯示效果。
[0091] 以上所述，僅為本發(fā)明的【具體實施方式】，但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此，任何 熟悉本【技術(shù)領(lǐng)域】的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到變化或替換，都應(yīng)涵 蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)以所述權(quán)利要求的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。
【權(quán)利要求】
1. 一種COA基板，所述COA基板包括：黑矩陣、形成在所述黑矩陣上的彩色濾光片和公 共電極層，其特征在于，所述C0A基板還包括：有機(jī)絕緣膜層，所述公共電極層形成在所述 有機(jī)絕緣膜層上，其中： 所述有機(jī)絕緣膜層設(shè)置在所述彩色濾光片上，并覆蓋所述彩色濾光片的位置； 所述有機(jī)絕緣膜層的材料為相對介電常數(shù)小于10的有機(jī)絕緣材料。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的C0A基板，其特征在于，所述C0A基板還包括：第二層鈍化層 和像素電極層，其中： 所述第二層鈍化層設(shè)置在所述公共電極層上，并覆蓋所述公共電極層的位置； 所述像素電極層設(shè)置在所述第二層鈍化層上； 所述第二層鈍化層的材料為相對介電常數(shù)小于5的有機(jī)材料。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的C0A基板，其特征在于， 所述有機(jī)絕緣膜層的材料為相對介電常數(shù)小于5的有機(jī)絕緣材料。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的C0A基板，其特征在于， 所述有機(jī)絕緣膜層的厚度大于或者等于lum。
5. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的COA基板，其特征在于， 所述第二層鈍化層的厚度大于或者等于lum。
6. -種COA基板的制作方法，其特征在于，所述方法包括： 在基板上形成黑矩陣； 在所述黑矩陣上形成覆蓋所述基板的彩色濾光片； 采用相對介電常數(shù)小于10的有機(jī)絕緣材料，在所述彩色濾光片上形成覆蓋所述彩色 濾光片的有機(jī)絕緣膜層； 在所述有機(jī)絕緣膜層上形成公共電極層。
7. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，所述方法還包括： 采用相對介電常數(shù)小于5的有機(jī)材料，在所述公共電極層上形成覆蓋所述公共電極層 的第二層鈍化層； 在所述第二層鈍化層上形成像素電極層。
8. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，所述采用相對介電常數(shù)小于10的有機(jī)絕 緣材料，在所述彩色濾光片上形成覆蓋所述彩色濾光片的有機(jī)絕緣膜層，包括： 采用相對介電常數(shù)小于5的有機(jī)絕緣材料，在所述彩色濾光片上形成一層厚度大于或 者等于lum的有機(jī)絕緣層薄膜； 通過構(gòu)圖工藝處理所述有機(jī)絕緣層薄膜形成覆蓋所述彩色濾光片的所述有機(jī)絕緣膜 層。
9. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于，所述采用相對相對介電常數(shù)小于5的有機(jī) 材料在所述公共電極層上形成覆蓋所述公共電極層的第二層鈍化層，包括 ： 采用相對介電常數(shù)小于5的有機(jī)材料，在所述公共電極層上形成厚度大于或者等于 lum并覆蓋所述公共電極層的所述第二層鈍化層。
10. -種顯示裝置，其特征在于，所述顯示裝置包括權(quán)利要求1?5任一所述的C0A基 板。
【文檔編號】G02F1/1343GK104298040SQ201410602819
【公開日】2015年1月21日 申請日期:2014年10月31日 優(yōu)先權(quán)日:2014年10月31日
【發(fā)明者】張鋒, 曹占鋒, 姚琪 申請人:京東方科技集團(tuán)股份有限公司