液晶顯示面板及其制作方法、液晶顯示裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種液晶顯示面板及其制作方法、液晶顯示裝置，其中，所述液晶顯示面板包括：相對設(shè)置的第一基板和第二基板，設(shè)置于所述第一基板和所述第二基板之間的多個(gè)支撐柱，各所述支撐柱的第一端均與所述第一基板連接，設(shè)置于所述第二基板上的薄膜結(jié)構(gòu)，所述薄膜結(jié)構(gòu)的表面設(shè)置有凹凸結(jié)構(gòu)，所述薄膜結(jié)構(gòu)的表面與所述支撐柱的第二端相互接觸，以使所述支撐柱的第一端至所述第二基板遠(yuǎn)離所述支撐柱的一側(cè)距離相同，其中，所述支撐柱的第二端為靠近所述薄膜結(jié)構(gòu)的一端。本發(fā)明能夠使得液晶顯示裝置的液晶盒的盒厚均勻，從而使得光透過率均勻，進(jìn)而改善液晶顯示裝置顯示不均的現(xiàn)象。
【專利說明】
液晶顯示面板及其制作方法、液晶顯示裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示【技術(shù)領(lǐng)域】，具體涉及一種液晶顯示面板及其制作方法、液晶顯示裝置

【背景技術(shù)】
[0002]薄膜晶體管液晶顯不器(ThinFilm Transistor Liquid Crystal Display,TFT-LCD)以其體積小、功耗低和無輻射等特點(diǎn)，成為目前可跨越所有尺寸的顯示技術(shù)，應(yīng)用的領(lǐng)域非常廣泛，如電視、筆記本電腦、監(jiān)視器或手機(jī)等。
[0003]如圖1所示，圖1是現(xiàn)有技術(shù)中液晶顯示裝置中支撐柱的結(jié)構(gòu)圖，液晶顯示裝置是由相對設(shè)置的陣列基板2和彩膜基板I對位貼合形成的一個(gè)液晶盒，當(dāng)陣列基板2和彩膜基板I對位貼合時(shí)，需要在陣列基板2和彩膜基板I之間采用起支撐作用的支撐柱3以保持液晶盒的盒厚。液晶顯示裝置中支撐柱3包括主支撐柱和輔支撐柱共同起到支撐液晶盒的盒厚作用，其中，主支撐柱和輔支撐柱之間存在一定的高度差，而主支撐柱主要對支撐液晶顯示面板的液晶盒盒厚起決定性作用，輔支撐柱在液晶顯示面板受到外力時(shí)起提高彈力的作用。現(xiàn)有技術(shù)中一般通過光刻的方法來制作支撐柱，但是，在制作支撐柱的過程中，由于曝光的能量均一性等原因，位于陣列基板2或彩膜基板I上的一部分區(qū)域的主支撐柱高度會低于位于其他區(qū)域的主支撐柱的高度，從而導(dǎo)致現(xiàn)有技術(shù)中的陣列基板2和彩膜基板I對位成盒后盒厚不均，從而使得光透過率發(fā)生變化，引起液晶顯示裝置出現(xiàn)顯示不均，影響了液晶顯示裝置的顯示效果。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明的目的是提供一種液晶顯示面板及其制作方法、液晶顯示裝置，以解決現(xiàn)有的液晶顯示裝置中盒厚不均勻造成的光透過率發(fā)生變化，從而導(dǎo)致液晶顯示裝置出現(xiàn)顯示不均的現(xiàn)象。
[0005]第一方面，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種液晶顯示面板，包括:
[0006]第一基板；
[0007]與第一基板相對設(shè)置的第二基板；
[0008]設(shè)置于所述第一基板和所述第二基板之間的多個(gè)支撐柱，各所述支撐柱的第一端均與所述第一基板連接；
[0009]設(shè)置于所述第二基板上的薄膜結(jié)構(gòu)，所述薄膜結(jié)構(gòu)的表面設(shè)置有凹凸結(jié)構(gòu)，所述薄膜結(jié)構(gòu)的表面與所述支撐柱的第二端相互接觸，以使所述支撐柱的第一端至所述第二基板遠(yuǎn)離所述支撐柱的一側(cè)距離相同，其中，所述支撐柱的第二端為靠近所述薄膜結(jié)構(gòu)的一端。
[0010]第二方面，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種液晶顯示裝置，包括背光模組和第一方面所述的液晶顯示面板。
[0011]第三方面，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種液晶顯示面板的制作方法，包括:
[0012]提供第一基板和第_■基板；
[0013]在所述第一基板上形成支撐柱層，圖案化所述支撐柱層形成多個(gè)支撐柱，各支撐柱的第一端均與所述第一基板連接；
[0014]在所述第二基板上形成薄膜層，圖案化所述薄膜層形成薄膜結(jié)構(gòu)，在所述薄膜結(jié)構(gòu)上部形成凹凸結(jié)構(gòu)，以使所述薄膜結(jié)構(gòu)的表面與所述支撐柱的第二端相互接觸，以使所述支撐柱的第一端至所述第二基板遠(yuǎn)離所述支撐柱的一側(cè)距離相同，其中，所述支撐柱的第二端為靠近所述薄膜結(jié)構(gòu)的一端。
[0015]本發(fā)明實(shí)施例提供的液晶顯示面板及其制作方法、液晶顯示裝置，通過在第二基板上的薄膜結(jié)構(gòu)的表面設(shè)置凹凸結(jié)構(gòu)，薄膜結(jié)構(gòu)的表面與所述支撐柱的第二端相互接觸，使得所述支撐柱的第一端至所述第二基板遠(yuǎn)離所述支撐柱的一側(cè)之間的距離相同。由于在支撐柱第二端對應(yīng)的區(qū)域設(shè)置凹槽或者隔墊物，使得第一基板和第二基板對位成盒后，液晶盒厚均勻，從而使得光透過率均勻，進(jìn)而改善液晶顯示裝置顯示不均的現(xiàn)象。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0016]下面將通過參照附圖詳細(xì)描述本發(fā)明的示例性實(shí)施例，使本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員更清楚本發(fā)明的上述及其他特征和優(yōu)點(diǎn)，附圖中:
[0017]圖1是現(xiàn)有技術(shù)中液晶顯示裝置中支撐柱的結(jié)構(gòu)圖；
[0018]圖2是本發(fā)明實(shí)施例一提供的液晶顯示面板的俯視圖；
[0019]圖3是沿圖2中HHl的剖面圖；
[0020]圖4是本發(fā)明實(shí)施例二提供的液晶顯示面板的剖面圖；
[0021]圖5a是液晶顯示面板制作過程中曝光機(jī)臺的高度分布示意圖；
[0022]圖5b是與圖5a對應(yīng)的液晶顯示面板各區(qū)域的支撐柱的高度分布曲線圖；
[0023]圖6a所示是本發(fā)明實(shí)施例三提供的液晶顯示面板的剖面圖；
[0024]圖6b是與圖5b中位于區(qū)域D2中的主支撐柱對應(yīng)的液晶顯示面板的剖面圖；
[0025]圖7是與圖6a對應(yīng)的液晶顯示面板的另一種剖面圖；
[0026]圖8是本發(fā)明實(shí)施例四提供的液晶顯示面板的剖面圖；
[0027]圖9是本發(fā)明實(shí)施例五提供的液晶顯示面板的剖面圖；
[0028]圖10是本發(fā)明實(shí)施例六提供的液晶顯示面板的制作方法的流程圖。

【具體實(shí)施方式】
[0029]下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對本發(fā)明作進(jìn)一步的詳細(xì)說明?？梢岳斫獾氖?，此處所描述的具體實(shí)施例僅僅用于解釋本發(fā)明，而非對本發(fā)明的限定。另外還需要說明的是，為了便于描述，附圖中僅示出了與本發(fā)明相關(guān)的部分而非全部內(nèi)容，并且附圖中相同或類似的標(biāo)號表示相同或類似的元件或具有相同或類似功能的元件。
[0030]如圖2和圖3所示，圖2是本發(fā)明實(shí)施例一提供的液晶顯示面板的俯視圖，圖3是沿圖2中HHl的剖面圖，所述液晶顯示面板包括:第一基板11，與第一基板11相對設(shè)置的第二基板12，設(shè)置于第一基板11和第二基板12之間的多個(gè)支撐柱17，各支撐柱17的第一端均與所述第一基板11連接，設(shè)置于第二基板12上的薄膜結(jié)構(gòu)14，薄膜結(jié)構(gòu)14的表面設(shè)置有凹凸結(jié)構(gòu)，薄膜結(jié)構(gòu)14的表面與支撐柱17的第二端相互接觸，以使得支撐柱17的第一端至第二基板12遠(yuǎn)離支撐柱的一側(cè)距離相同，其中，支撐柱17的第二端為靠近薄膜結(jié)構(gòu)14的一端。此外，所述液晶顯示面板包括顯示區(qū)域G和圍繞顯示區(qū)域G的非顯示區(qū)域，在非顯示區(qū)域可以設(shè)置集成電路13。
[0031]優(yōu)選的，第一基板11可以為彩膜基板，第二基板12可以為陣列基板，如圖3所示，所述液晶顯示面板包括陣列基板12、彩膜基板11、液晶層(未圖示)和支撐柱17，其中，陣列基板12和彩膜基板11通過框狀密封材料(未圖示)粘合，液晶層被密封封裝在陣列基板12和彩膜基板11之間。彩膜基板11主要包括位于彩膜基板11內(nèi)側(cè)的黑色矩陣15和彩色濾光膜16，黑色矩陣15由黑色絕緣材料制成，其為具有多個(gè)開口(未圖示)的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，彩色濾光膜16分別對應(yīng)設(shè)置在黑色矩陣15的開口內(nèi)，支撐柱17的第一端設(shè)置于彩膜基板11內(nèi)側(cè)，支撐柱17的第二端為靠近薄膜結(jié)構(gòu)14的一端，支撐柱17的第一端可以設(shè)置于彩膜基板11內(nèi)側(cè)黑色矩陣15對應(yīng)的區(qū)域。
[0032]在本實(shí)施例中，薄膜結(jié)構(gòu)14的表面設(shè)置有凹凸結(jié)構(gòu)，支撐柱17的第二端與薄膜結(jié)構(gòu)14的表面相互接觸，例如:如圖2和圖3所示。在制作支撐柱的過程中，由于曝光機(jī)等原因，制成的支撐柱的高度不一致，比如，區(qū)域B對應(yīng)的支撐柱b的高度最低，區(qū)域C對應(yīng)的支撐柱c的高度介于區(qū)域A對應(yīng)的支撐柱a和區(qū)域B對應(yīng)的支撐柱b的高度之間，區(qū)域A對應(yīng)的支撐柱a的高度最高，因此，可以在區(qū)域A的支撐柱a對應(yīng)的薄膜結(jié)構(gòu)上設(shè)置第一凹槽al，在區(qū)域C的支撐柱c對應(yīng)的薄膜結(jié)構(gòu)上設(shè)置第二凹槽Cl，在區(qū)域B的支撐柱b的第二端與薄膜結(jié)構(gòu)的表面接觸，其中，第一凹槽al的深度大于第二凹槽Cl的深度，使得區(qū)域B的支撐柱b的第一端、區(qū)域C的支撐柱c的第一端以及區(qū)域A的支撐柱a的第一端至所述第二基板遠(yuǎn)離所述支撐柱的一側(cè)距離相同，從而陣列基板12和彩膜基板11對位貼合后形成的液晶盒的盒厚均勻。
[0033]在本實(shí)施例的優(yōu)選實(shí)施例中，所述支撐柱為主支撐柱和輔支撐柱，所述主支撐柱的直徑大于所述輔支撐柱的直徑。各支撐柱的第一端至所述第二基板遠(yuǎn)離支撐柱的一側(cè)距離相同，也即各支撐柱的第一端至所述薄膜結(jié)構(gòu)靠近第二基板的一側(cè)距離相同。
[0034]本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解，本實(shí)施例只是對薄膜結(jié)構(gòu)設(shè)置凹槽的一個(gè)具體實(shí)施例，在本發(fā)明的另一些實(shí)施例中，可以區(qū)域B對應(yīng)的薄膜結(jié)構(gòu)14上設(shè)置第一隔墊物，在區(qū)域C對應(yīng)的薄膜結(jié)構(gòu)14上設(shè)置第二隔墊物，在區(qū)域A的支撐柱的第二端與薄膜結(jié)構(gòu)14的表面接觸，其中，第一隔墊物的高度大于第二隔墊物的高度，使得區(qū)域B的支撐柱的第一端、區(qū)域C的支撐柱的第一端以及區(qū)域A的支撐柱的第一端至所述第二基板遠(yuǎn)離所述支撐柱的一側(cè)距離相同，從而陣列基板12和彩膜基板11對位貼合后形成的液晶盒厚均勻。此外，還有其他的實(shí)施方式，本實(shí)施例只是一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例，只要各支撐柱的第一端至第二基板遠(yuǎn)離支撐柱的一側(cè)距離相同即可，因此，不應(yīng)以圖2和圖3中的示意性結(jié)構(gòu)作為對本發(fā)明實(shí)施例的限制。
[0035]需要說明的是，圖3中示意性的示出了位于陣列基板上的薄膜結(jié)構(gòu)，由于所述陣列基板的結(jié)構(gòu)可以多種，因此相應(yīng)的，所述陣列基板上的膜層也可以多樣。本實(shí)施例中并沒有對陣列基板上的膜層或結(jié)構(gòu)進(jìn)行細(xì)化，只要支撐柱的第一端位于彩膜基板上，支撐柱的第二端距離所述薄膜結(jié)構(gòu)靠近陣列基板一側(cè)的距離相同即可。因此，不應(yīng)以圖3作為對本實(shí)施例結(jié)構(gòu)的限制。并且，為清楚反映本實(shí)施例的重點(diǎn)，圖3中，所述陣列基板上的不相關(guān)膜層都已相應(yīng)省略，不應(yīng)以此限制本實(shí)施例。
[0036]還需要說明的是，在本發(fā)明的另一些實(shí)施例中，所述第一基板可以為陣列基板，所述第二基板可以為彩膜基板，所述彩膜基板包括位于所述彩膜基板內(nèi)側(cè)的黑色矩陣。
[0037]進(jìn)一步的，在本實(shí)施例中，還提供了液晶顯示裝置，包括背光模組和上述實(shí)施例所述的液晶顯示面板。
[0038]本發(fā)明實(shí)施例提供的液晶顯示面板和液晶顯示裝置，通過在第二基板的薄膜結(jié)構(gòu)上設(shè)置凹凸結(jié)構(gòu)，薄膜結(jié)構(gòu)的表面與支撐柱的第二端相互接觸，支撐柱的第一端至第二基板源極支撐柱的一側(cè)距離相同，從而使得第一基板和第二基板對位貼合后的液晶盒盒厚均勻，透光率相同，從而改善液晶顯示面板顯示不均的現(xiàn)象，提高液晶顯示面板的顯示效果。
[0039]實(shí)施例二
[0040]如圖4所示是本發(fā)明實(shí)施例二提供的液晶顯示面板的剖面圖,所述液晶顯示面板中的支撐柱為主支撐柱。
[0041]具體地,所述液晶顯示面板包括:
[0042]第一基板11，與第一基板11相對設(shè)置的第二基板12,設(shè)置于第一基板11和第二基板12之間的多個(gè)支撐柱，所述多個(gè)支撐柱包括主支撐柱17和輔支撐柱18，其中，主支撐柱17的直徑大于輔支撐柱18的直徑，各支撐柱的第一端均與第一基板11連接，設(shè)置于第二基板12上的薄膜結(jié)構(gòu)14，薄膜結(jié)構(gòu)14的表面設(shè)置有凹凸結(jié)構(gòu)，薄膜結(jié)構(gòu)14的表面與主支撐柱17的第二端相互接觸，以使主支撐柱17的第一端至第二基板12遠(yuǎn)離主支撐柱17的一側(cè)距離相同，其中，所述主支撐柱17的第二端為靠近薄膜結(jié)構(gòu)的一端。
[0043]進(jìn)一步的，在本實(shí)施例中，還提供了液晶顯示裝置，包括背光模組和上述實(shí)施例所述的液晶顯示面板。
[0044]本實(shí)施例中，薄膜結(jié)構(gòu)表面的凹凸結(jié)構(gòu)的設(shè)置與本發(fā)明第一實(shí)施例基本相同，由于主支撐柱一般起支撐液晶盒盒厚的作用，因此，只需要薄膜結(jié)構(gòu)的表面與主支撐柱的第二端相互接觸，主支撐柱的第一端至第二基板遠(yuǎn)離主支撐柱的一側(cè)距離相同，就可以保證第一基板和第二基板對位貼合后液晶盒的盒厚均勻。本領(lǐng)域技術(shù)人員參考實(shí)施例一公開的內(nèi)容可理解，此處不再贅述。
[0045]實(shí)施例三
[0046]圖5a是液晶顯示面板制作過程中曝光機(jī)臺棱鏡的高度分布示意圖，在制作支撐柱的過程中，由于曝光機(jī)臺棱鏡接續(xù)部分曝光能量比正常區(qū)域的曝光能量小，一般小15mj，所述曝光機(jī)可采用紫外線進(jìn)行曝光，且曝光分成了兩次，因而導(dǎo)致曝光機(jī)臺棱鏡接續(xù)部分對應(yīng)的支撐柱的高度比正常區(qū)域中支撐柱的高度低。如圖5a所示，例如:在曝光機(jī)臺棱鏡M4和曝光機(jī)臺棱鏡M5接續(xù)部分，該曝光機(jī)臺棱鏡尖的長度為16.8mm,除掉棱鏡尖后曝光機(jī)臺棱鏡的長度為105_，不同的曝光機(jī)具有不同的曝光機(jī)臺棱鏡長度，該接續(xù)部分包括接續(xù)的中間部分Dl和接續(xù)的邊緣部分D2，由于接續(xù)的中間部分Dl和接續(xù)的邊緣部分D2曝光能量均小于正常區(qū)域E的曝光能量，且該部分分為兩次累加進(jìn)行曝光，因而導(dǎo)致M4和M5的接續(xù)的中間部分Dl對應(yīng)的支撐柱的高度低于接續(xù)的邊緣部分D2對應(yīng)的支撐柱，且二者對應(yīng)的支撐柱的高度均低于正常區(qū)域E對應(yīng)的支撐柱的高度。如圖5b所示，圖5b是與圖5a對應(yīng)的液晶顯示面板各支撐柱的高度分布曲線圖，圖中，矩形方框表示支撐柱高度差異較大區(qū)域，從圖中可以看出，點(diǎn)E對應(yīng)的主支撐柱的高度為區(qū)域E的主支撐柱高度，點(diǎn)Dl對應(yīng)的主支撐柱的高度為區(qū)域Dl對應(yīng)的主支撐柱的高度，點(diǎn)D2對應(yīng)的主支撐柱的高度為區(qū)域D2對應(yīng)的主支撐柱的高度，支撐柱高度差異較大區(qū)域的寬度約為20mm，在區(qū)域Dl中主支撐柱的高度明顯下降，區(qū)域Dl對應(yīng)的主支撐柱的高度比顯示區(qū)域E對應(yīng)的主支撐柱的高度低約0.1ym,區(qū)域D2對應(yīng)的主支撐柱的高度比正常區(qū)域E對應(yīng)的主支撐柱的高度低約0.05 μ m。因而，通過在薄膜結(jié)構(gòu)上設(shè)置凹凸結(jié)構(gòu)來消除主支撐柱高度不均勻造成的液晶盒盒厚不均的現(xiàn)象。
[0047]如圖6a所示是本發(fā)明實(shí)施例三提供的液晶顯示面板的剖面圖，圖6a是分別與圖5b中位于區(qū)域E、區(qū)域D2和區(qū)域Dl中的主支撐柱對應(yīng)區(qū)域的液晶顯示面板的剖面圖，由于液晶顯示面板整體剖面圖較大，因此此處僅示出位于區(qū)域E、區(qū)域D2和區(qū)域Dl三個(gè)位置的剖面圖。在本實(shí)施例中，各支撐柱的第一端均設(shè)置在第一基板11上，支撐柱的第二端與位于第二基板22上的薄膜結(jié)構(gòu)的表面接觸。具體地，所述薄膜結(jié)構(gòu)包括:位于第二基板22上的公共電極結(jié)構(gòu)19，位于公共電極結(jié)構(gòu)19上的絕緣層20，位于絕緣層20上的像素電極21，像素電極21通過過孔與絕緣層20下方的開關(guān)器件電連接，具體地，開關(guān)器件包括源極、漏極和柵極，像素電極21通過過孔與開關(guān)器件的漏極30電連接。像素電極21和公共電極結(jié)構(gòu)19都為透明電極，透明電極可通過氧化銦錫(ITO)、銦錫氧化物(IZO)、上述材料的組合或者其他透明導(dǎo)電材料制造。絕緣層20包括深度不同的凹槽，各凹槽的底部與主支撐柱的第二端相互接觸。
[0048]具體地，薄膜結(jié)構(gòu)除了上述膜層外，如圖6a所示，在公共電極結(jié)構(gòu)19和第二基板22之間，所述薄膜結(jié)構(gòu)還可包括:位于第二基板22上的緩沖層23，位于緩沖層23上的多晶娃層24,覆蓋多晶娃層24的柵絕緣層25,位于柵絕緣層上25的第一電極26以及第一公共電極27,所述第一電極26包括開關(guān)器件的柵極；覆蓋第一電極26和第一公共電極27的第二絕緣層28，位于第二絕緣層28上的源極29和漏極30，所述源極29和漏極30通過貫穿所述第二絕緣層28和柵極絕緣層25的過孔與所述多晶硅層24電連接，覆蓋源極29、漏極30及第二絕緣層28的平坦化層31。所述第一公共電極27與位于平坦化層31上的公共電極19通過過孔電連接(未圖示)。
[0049]具體地，如圖6a所示，可以在絕緣層20上設(shè)置深度不同的凹槽，絕緣層20的厚度可以為lOOnm，在區(qū)域E中的主支撐柱171對應(yīng)區(qū)域的絕緣層20中設(shè)置第一凹槽e，所述第一凹槽的深度為0.1 μ m，使得第一凹槽e的底部與主支撐柱171的第二端相互接觸；在區(qū)域D2中的主支撐柱172對應(yīng)區(qū)域的絕緣層20中設(shè)置第二凹槽d2，所述第二凹槽d2的深度為0.05 μ m，使得第二凹槽d2的底部與主支撐柱172的第二端相互接觸；區(qū)域Dl中的支撐柱173對應(yīng)區(qū)域的絕緣層20表面和區(qū)域Dl中的支撐柱173的第二端相互接觸。所述第一凹槽e和第二凹槽d2采用半灰階掩膜(halftone)工藝在同一工藝步驟中形成,通過控制形成第一凹槽e和第二凹槽d2上方的透過掩膜板的光強(qiáng)，從而制作出符合工藝要求的不同深度的凹槽。從而使得區(qū)域D1、區(qū)域D2以及區(qū)域E對應(yīng)的支撐柱的第二端都與薄膜結(jié)構(gòu)的表面接觸，進(jìn)而各支撐柱的第一端至陣列基板遠(yuǎn)離支撐柱的一側(cè)距離相同，使得第一基板11和第二基板12對位貼合后形成的液晶盒盒厚均勻，光穿透率均勻，從而改善液晶顯示面板顯示不均的現(xiàn)象。
[0050]作為本實(shí)施例圖6a的一種變形，如圖6b所示，圖6b是與圖5b中位于區(qū)域D2中的主支撐柱對應(yīng)的液晶顯示面板的剖面圖，也可以在公共電極結(jié)構(gòu)19上形成第二凹槽d2，所述第二凹槽d2的深度為0.05 μ m，之后在形成第二凹槽d2的公共電極結(jié)構(gòu)19上形成絕緣層20。
[0051]優(yōu)選的，第一基板11為彩膜基板，第二基板12為陣列基板，需要說明的是，圖6a-圖6b所描述的液晶顯示面板中的陣列基板結(jié)構(gòu)僅僅用于解釋本發(fā)明，而非對本發(fā)明的限定。本實(shí)施例只是一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例，所有現(xiàn)有的陣列基板的結(jié)構(gòu)均可應(yīng)用于本發(fā)明。
[0052]還需要說明的是，本實(shí)施例中所列舉的第一凹槽、第二凹槽的深度僅僅用于解釋本發(fā)明，本實(shí)施例只是設(shè)置不同深度凹槽的一個(gè)具體實(shí)施例。在實(shí)際應(yīng)用中，可根據(jù)不同主支撐柱的高度設(shè)置不同深度的凹槽，因此，不應(yīng)以第一凹槽和第二凹槽的具體數(shù)值作為對本發(fā)明實(shí)施例的限定。
[0053]在本實(shí)施例的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，所述薄膜結(jié)構(gòu)在圖6b所示的結(jié)構(gòu)的基礎(chǔ)上可以做一些改變，相同之處不再重復(fù)。如圖7所示，圖7是本發(fā)明另一個(gè)實(shí)施例的液晶顯示面板的剖面圖，圖7只示出了區(qū)域D2的結(jié)構(gòu)，在區(qū)域D2中的支撐柱對應(yīng)區(qū)域的絕緣層20內(nèi)設(shè)置第二凹槽d2，所述第二凹槽d2的深度為0.1 μ m，在第二凹槽d2內(nèi)設(shè)置隔墊物e2，該隔墊物e2的厚度為0.05 μ m,隔墊物e2的表面與區(qū)域D2中的支撐柱172的第二端相互接觸，從而使得區(qū)域D1、區(qū)域D2以及區(qū)域E對應(yīng)的支撐柱的第二端都與薄膜結(jié)構(gòu)的表面接觸，進(jìn)而各支撐柱的第一端至陣列基板遠(yuǎn)離支撐柱的一側(cè)距離相同，使得第一基板11和第二基板12對位貼合后形成的液晶盒盒厚均勻，光穿透率均勻，從而改善液晶顯示面板顯示不均的現(xiàn)象。
[0054]在本實(shí)施例的優(yōu)選實(shí)施例中，所述第二凹槽d2與第一凹槽dl在同一工藝步驟中形成，且第一凹槽dl和第二凹槽d2的深度相同，在第二凹槽d2內(nèi)設(shè)置隔墊物e2，該隔墊物e2的材料與像素電極21的材料相同，且與像素電極21在同一個(gè)工藝步驟中形成。
[0055]在本發(fā)明的另一些實(shí)施例中，所述第一基板可以為陣列基板，所述第二基板可以為彩膜基板，所述彩膜基板包括位于所述陣列基板內(nèi)側(cè)的黑色矩陣。
[0056]本發(fā)明實(shí)施例提供的液晶顯示面板，各主支撐柱的第二端與薄膜結(jié)構(gòu)的表面相互接觸，主支撐柱的第一端至陣列基板遠(yuǎn)離主支撐柱的一側(cè)距離相同，從而使得液晶盒各區(qū)域盒厚均勻，能夠改善液晶顯示面板顯示不均的現(xiàn)象，此外，將主支撐柱設(shè)置于凹槽內(nèi)，還能夠防止主支撐柱滑入像素電極與開關(guān)器件進(jìn)行電連接時(shí)的過孔內(nèi)，從而能夠避免漏光現(xiàn)象，此外，通過在凹槽內(nèi)設(shè)置隔墊物，可以改善公共電極的信號延遲。
[0057]實(shí)施例四
[0058]如圖8所示是本發(fā)明實(shí)施例四提供的液晶顯示面板的剖面圖，在本實(shí)施例中，各支撐柱的第一端均設(shè)置在彩膜基板上，支撐柱的第二端與薄膜結(jié)構(gòu)的表面接觸，各支撐柱和本發(fā)明實(shí)施例三中的支撐柱相同，與第三實(shí)施例的不同之處在于，本實(shí)施例中陣列基板上的薄膜結(jié)構(gòu)上包括高度不同的隔墊物，各所述隔墊物的表面與所述主支撐柱的第二端相互接觸。
[0059]具體地，如圖5b和圖8所示，可以在薄膜結(jié)構(gòu)14上設(shè)置高度不同的隔墊物，支撐柱171為圖5b中區(qū)域E對應(yīng)的支撐柱，支撐柱172為圖5b中區(qū)域D2對應(yīng)的支撐柱，支撐柱173為圖5b中區(qū)域Dl對應(yīng)的支撐柱，將區(qū)域E中的支撐柱171對應(yīng)區(qū)域的薄膜結(jié)構(gòu)14的表面與支撐柱171的第二端相互接觸，將區(qū)域D2中的支撐柱172對應(yīng)區(qū)域的薄膜結(jié)構(gòu)14的表面設(shè)置第一隔墊物Π，所述第一隔墊物的厚度為0.05 μ m，使得第一隔墊物Π的表面與支撐柱172的第二端相互接觸，將區(qū)域Dl中的支撐柱173對應(yīng)區(qū)域的薄膜結(jié)構(gòu)14的表面設(shè)置第二隔墊物f2，所述第二隔墊物f2的厚度為0.1 μ m，使得第二隔墊物f2的表面與支撐柱173的第二端相互接觸。所述第一隔墊物fl和第二隔墊物f2在同一個(gè)工藝步驟中形成，所述第一隔墊物fl和第二隔墊物f2的材料與像素電極21的材料相同，且與像素電極21在同一個(gè)工藝步驟中形成。
[0060]優(yōu)選的，所述第一隔墊物fl和第二隔墊物f2的形狀為塊狀、條狀、三角形或者多邊形中的任意一種。
[0061]在本發(fā)明的另一些實(shí)施例中，所述第一基板可以為陣列基板，所述第二基板可以為彩膜基板，所述彩膜基板包括位于所述陣列基板內(nèi)側(cè)的黑色矩陣。
[0062]需要說明的是，本實(shí)施例中所列舉的第一隔墊物fl、第二隔墊物f2的厚度僅僅用于解釋本發(fā)明，本實(shí)施例只是設(shè)置不同厚度隔墊物的一個(gè)具體實(shí)施例。在實(shí)際應(yīng)用中，可根據(jù)不同主支撐柱的高度設(shè)置不同厚度的隔墊物，因此，不應(yīng)以第一隔墊物fl和第二隔墊物f2的具體數(shù)值作為對本發(fā)明實(shí)施例的限定。
[0063]本發(fā)明第四實(shí)施例通過在絕緣層的表面設(shè)置厚度不同的隔墊物，使得區(qū)域D1、區(qū)域D2以及區(qū)域E對應(yīng)的支撐柱的第二端都與薄膜結(jié)構(gòu)的表面接觸，進(jìn)而各支撐柱的第一端至陣列基板遠(yuǎn)離支撐柱的一側(cè)距離相同，使得陣列基板和彩膜基板對位貼合后形成的液晶盒盒厚均勻，光穿透率均勻，從而改善液晶顯示面板顯示不均的現(xiàn)象。
[0064]實(shí)施例五
[0065]如圖9所示是本發(fā)明實(shí)施例五提供的液晶顯示面板的剖面圖，在本實(shí)施例中，各支撐柱的第一端均設(shè)置在彩膜基板上，支撐柱的第二端與薄膜結(jié)構(gòu)的表面接觸，各支撐柱為本發(fā)明實(shí)施例三和實(shí)施例四中的支撐柱，與第三實(shí)施例和第四實(shí)施例的不同之處在于，本實(shí)施例中陣列基板上的薄膜結(jié)構(gòu)中的絕緣層上包括深度不同的凹槽以及高度不同的隔墊物，各所述凹槽的底部與所述主支撐柱的第二端相互接觸以及各所述隔墊物與所述主支撐柱的第二端相互接觸。
[0066]具體地，如圖5b和圖9所示，可以在薄膜結(jié)構(gòu)14上設(shè)置深度不同的凹槽和高度不同的隔墊物，支撐柱171為圖5b中顯示正常區(qū)域?qū)?yīng)的支撐柱，支撐柱172為圖5b中區(qū)域D2對應(yīng)的支撐柱，支撐柱173為圖5b中區(qū)域Dl對應(yīng)的支撐柱，將區(qū)域E中的支撐柱171對應(yīng)區(qū)域的薄膜結(jié)構(gòu)14的表面設(shè)置第一凹槽d3，所述第一凹槽d3的深度為0.05 μ m,使得第一凹槽d3的表面與支撐柱171的第二端相互接觸，將陣列基板上區(qū)域D2中的支撐柱172對應(yīng)區(qū)域的薄膜結(jié)構(gòu)14的表面與支撐柱172的第二端相互接觸，將陣列基板上區(qū)域中Dl的支撐柱173對應(yīng)區(qū)域的薄膜結(jié)構(gòu)14的表面設(shè)置第一隔墊物f3，所述第一隔墊物f3的厚度為0.05 μ m，使得第一隔墊物f3的表面與支撐柱173的第二端相互接觸。所述第一隔墊物f 3與所述像素電極的材料相同，且與所述像素電極在同一個(gè)工藝步驟中形成。
[0067]優(yōu)選的，所述隔墊物的形狀為塊狀、條狀、三角形或者多邊形中的任意一種。
[0068]在本發(fā)明的另一些實(shí)施例中，所述第一基板可以為陣列基板，所述第二基板可以為彩膜基板，所述彩膜基板包括位于所述陣列基板內(nèi)側(cè)的黑色矩陣。
[0069]需要說明的是，本實(shí)施例中所列舉的第一凹槽d3的深度以及第一隔墊物f3的厚度僅僅用于解釋本發(fā)明，本實(shí)施例只是一個(gè)具體實(shí)施例。在實(shí)際應(yīng)用中，可根據(jù)不同主支撐柱的高度設(shè)置不同深度的凹槽和不同厚度的隔墊物，因此，不應(yīng)以第一凹槽d3的深度以及第一隔墊物f3的厚度作為對本發(fā)明實(shí)施例的限定。
[0070]本發(fā)明第五實(shí)施例通過在絕緣層的表面設(shè)置深度不同的凹槽和高度不同的隔墊物，使得區(qū)域D1、區(qū)域D2以及區(qū)域E對應(yīng)的支撐柱的第二端都與薄膜結(jié)構(gòu)的表面接觸，進(jìn)而各支撐柱的第一端至陣列基板遠(yuǎn)離支撐柱的一側(cè)距離相同，使得陣列基板和彩膜基板對位貼合后形成的液晶盒盒厚均勻，光穿透率均勻，從而改善液晶顯示面板顯示不均的現(xiàn)象。
[0071]實(shí)施例六
[0072]如圖10所示是本發(fā)明實(shí)施例六提供的液晶顯示面板的制作方法的流程圖，該方法用于制作上述實(shí)施例提供的液晶顯示面板，具體地，所述液晶顯示面板的制作方法包括:
[0073]步驟11、提供第一基板和第二基板。
[0074]在本實(shí)施例中，所述第一基板可以為彩膜基板，所述第二基板可以為陣列基板，所述彩膜基板包括位于所述陣列基板內(nèi)側(cè)的黑色矩陣，或者，所述第一基板可以為陣列基板，所述第二基板可以為彩膜基板。
[0075]步驟12、在所述第一基板上形成支撐柱層，圖案化所述支撐柱層形成多個(gè)支撐柱，各支撐柱的第一端均與所述第一基板連接。
[0076]在本步驟中，采用光刻的方法在第一基板上形成多個(gè)支撐柱，所述支撐柱為主支撐柱和輔支撐柱，或者所述支撐柱為主支撐柱。但是，在制作主支撐柱的過程中，由于曝光機(jī)等原因，會使得制作出來的主支撐柱的高度存在一定的差異，例如:兩個(gè)主支撐柱的高度會相差0.1 μ m至丨J 0.5 μ m等。
[0077]步驟13、在所述第二基板上形成薄膜層，圖案化所述薄膜層形成薄膜結(jié)構(gòu)，在所述薄膜結(jié)構(gòu)上部形成凹凸結(jié)構(gòu)，以使所述薄膜結(jié)構(gòu)的表面與所述支撐柱的第二端相互接觸，以使所述支撐柱的第一端至所述第二基板遠(yuǎn)離所述支撐柱的一側(cè)距離相同，其中，所述支撐柱的第二端為靠近所述薄膜結(jié)構(gòu)的一端。
[0078]在本步驟中，所述薄膜結(jié)構(gòu)可包括位于第二基板上的公共電極結(jié)構(gòu)，位于所述公共電極結(jié)構(gòu)上的絕緣層，位于所述絕緣層上的像素電極，所述像素電極通過過孔與所述絕緣層下方的開關(guān)器件電連接，可以在所述絕緣層上形成深度不同的凹槽，各凹槽的底部與所述主支撐柱的第二端相互接觸，或者可以在所述絕緣層上形成深度不同的凹槽，部分凹槽內(nèi)形成高度不同的隔墊物，各所述凹槽的底部與所述主支撐柱的第二端相互接觸以及各所述隔墊物與所述主支撐柱的第二端相互接觸，或者可以在所述絕緣層上形成高度不同的隔墊物，各所述隔墊物的表面與所述主支撐柱的第二端相互接觸，或者可以在所述絕緣層上形成深度不同的凹槽以及高度不同的隔墊物，各所述凹槽的底部與所述主支撐柱的第二端相互接觸以及各所述隔墊物與所述主支撐柱的第二端相互接觸。
[0079]本發(fā)明實(shí)施例六提供的液晶顯示面板的制作方法，通過在第二基板的薄膜結(jié)構(gòu)上形成凹凸結(jié)構(gòu)，薄膜結(jié)構(gòu)的表面與支撐柱的第二端相互接觸，支撐柱的第一端至第二基板源極支撐柱的一側(cè)距離相同，從而使得第一基板和第二基板對位貼合后的液晶盒盒厚均勻，透光率相同，從而改善液晶顯示面板顯示不均的現(xiàn)象，提高液晶顯示面板的顯示效果。
[0080]注意，上述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例及所運(yùn)用技術(shù)原理。本領(lǐng)域技術(shù)人員會理解，本發(fā)明不限于這里所述的特定實(shí)施例，對本領(lǐng)域技術(shù)人員來說能夠進(jìn)行各種明顯的變化、重新調(diào)整和替代而不會脫離本發(fā)明的保護(hù)范圍。因此，雖然通過以上實(shí)施例對本發(fā)明進(jìn)行了較為詳細(xì)的說明，但是本發(fā)明不僅僅限于以上實(shí)施例，在不脫離本發(fā)明構(gòu)思的情況下，還可以包括更多其他等效實(shí)施例，而本發(fā)明的范圍由所附的權(quán)利要求范圍決定。
【權(quán)利要求】
1.一種液晶顯示面板，其特征在于，包括: 第一基板； 與第一基板相對設(shè)置的第二基板； 設(shè)置于所述第一基板和所述第二基板之間的多個(gè)支撐柱，各所述支撐柱的第一端均與所述第一基板連接； 設(shè)置于所述第二基板上的薄膜結(jié)構(gòu)，所述薄膜結(jié)構(gòu)的表面設(shè)置有凹凸結(jié)構(gòu)，所述薄膜結(jié)構(gòu)的表面與所述支撐柱的第二端相互接觸，以使所述支撐柱的第一端至所述第二基板遠(yuǎn)離所述支撐柱的一側(cè)距離相同，其中，所述支撐柱的第二端為靠近所述薄膜結(jié)構(gòu)的一端。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示面板，其特征在于，所述第一基板為彩膜基板，所述第二基板為陣列基板，所述彩膜基板包括位于所述彩膜基板內(nèi)側(cè)的黑色矩陣。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的液晶顯示面板，其特征在于，所述支撐柱包括主支撐柱和輔支撐柱，所述主支撐柱的直徑大于所述輔支撐柱的直徑。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的液晶顯示面板，其特征在于，所述支撐柱為主支撐柱。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一所述的液晶顯示面板，其特征在于，所述薄膜結(jié)構(gòu)還包括位于所述第二基板上的公共電極結(jié)構(gòu)，位于所述公共電極結(jié)構(gòu)上的絕緣層，位于所述絕緣層上的像素電極，所述像素電極通過過孔與所述絕緣層下方的開關(guān)器件電連接。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的液晶顯示面板，其特征在于，所述絕緣層包括深度不同的凹槽，各凹槽的底部與所述主支撐柱的第二端相互接觸。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的液晶顯示面板，其特征在于，所述絕緣層包括深度不同的凹槽，部分凹槽內(nèi)設(shè)有高度不同的隔墊物，各所述凹槽的底部與所述主支撐柱的第二端相互接觸以及各所述隔墊物與所述主支撐柱的第二端相互接觸。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的液晶顯示面板，其特征在于，所述絕緣層上包括高度不同的隔墊物，各所述隔墊物的表面與所述主支撐柱的第二端相互接觸。
9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的液晶顯示面板，其特征在于，所述絕緣層上包括深度不同的凹槽以及高度不同的隔墊物，各所述凹槽的底部與所述主支撐柱的第二端相互接觸以及各所述隔墊物與所述主支撐柱的第二端相互接觸。
10.根據(jù)權(quán)利要求7或8或9所述的液晶顯示面板，其特征在于，所述隔墊物的材料與所述像素電極的材料相同，所述隔墊物與所述像素電極在同一個(gè)工藝步驟中形成。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的液晶顯示面板，其特征在于，所述隔墊物的形成為塊狀、條狀、三角形或多邊形中的任意一種。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示面板，其特征在于，所述第一基板為陣列基板，所述第二基板為彩膜基板，所述彩膜基板包括位于所述陣列基板內(nèi)側(cè)的黑色矩陣。
13.一種液晶顯示裝置，其特征在于，包括背光模組和如權(quán)利要求1-12任一項(xiàng)所述的液晶顯示面板。
14.一種液晶顯示面板的制作方法，其特征在于，包括: 提供第一基板和第二基板； 在所述第一基板上形成支撐柱層，圖案化所述支撐柱層形成多個(gè)支撐柱，各支撐柱的第一端均與所述第一基板連接； 在所述第二基板上形成薄膜層，圖案化所述薄膜層形成薄膜結(jié)構(gòu)，在所述薄膜結(jié)構(gòu)上部形成凹凸結(jié)構(gòu)，以使所述薄膜結(jié)構(gòu)的表面與所述支撐柱的第二端相互接觸，以使所述支撐柱的第一端至所述第二基板遠(yuǎn)離所述支撐柱的一側(cè)距離相同，其中，所述支撐柱的第二端為靠近所述薄膜結(jié)構(gòu)的一端。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的液晶顯示裝置制造方法，其特征在于，所述第一基板為彩膜基板，所述第二基板為陣列基板，所述彩膜基板包括位于所述陣列基板內(nèi)側(cè)的黑色矩陣。
16.根據(jù)權(quán)利要求14所述的液晶顯示裝置制造方法，其特征在于，所述第一基板為陣列基板，所述第二基板為彩膜基板，所述彩膜基板包括位于所述陣列基板內(nèi)側(cè)的黑色矩陣。
【文檔編號】G02F1/1333GK104460121SQ201410800023
【公開日】2015年3月25日 申請日期:2014年12月19日 優(yōu)先權(quán)日:2014年12月19日
【發(fā)明者】文亮 申請人:廈門天馬微電子有限公司, 天馬微電子股份有限公司