背景技術(shù)：
當(dāng)今，可拍照的手機(jī)攝像頭、計(jì)算機(jī)內(nèi)置攝像頭、汽車攝像頭及監(jiān)視器攝像頭等數(shù)碼光學(xué)成像設(shè)備中，為消除紅外光線對(duì)CCD及CMOS模式成像鏡頭色彩失真的影響，紅外截止濾光片已成為不可或缺的元器件?，F(xiàn)階段數(shù)碼光學(xué)成像設(shè)備的發(fā)展趨勢(shì)是：一方面產(chǎn)品的外觀尺寸要更加薄型化，另一方面設(shè)備的圖像又能夠在更大程度上得到真實(shí)的還原。而目前市場(chǎng)上出現(xiàn)的數(shù)碼光學(xué)成像設(shè)備使用的紅外截止濾光片，一般是在濾片基板的一側(cè)鍍32～40層、厚度為4000～5000nm的紅外截止鍍膜，即人們常說(shuō)的IRcut鍍膜；另一側(cè)鍍厚度為200～400nm的抗反射鍍膜，即人們常說(shuō)的AR鍍膜。在對(duì)濾片基板實(shí)施上述鍍膜后，濾片基板兩側(cè)膜厚存在巨大差異，導(dǎo)致濾片在使用波段下存有較多的反射光殘量，光的穿透率指標(biāo)最高只能達(dá)到96％，從而導(dǎo)致攝像頭成像時(shí)的光暈現(xiàn)象，使影像清晰度難以達(dá)到理想的程度。在對(duì)數(shù)碼光學(xué)成像產(chǎn)品外觀尺寸更加薄型化的要求下，人們已將紅外截止濾光片的濾片基板厚度降至0.3mm以下，有的甚至已經(jīng)降至0.21mm，濾片基板的超薄化加之濾片基板兩側(cè)膜厚的巨大差異導(dǎo)致基板產(chǎn)生了巨大的內(nèi)應(yīng)力，使超薄基板產(chǎn)生了嚴(yán)重的彎曲變形，此時(shí)對(duì)濾片的切割加工通常也要在化學(xué)膠貼合狀態(tài)下才能完成、對(duì)切割后的濾片通常還要使用對(duì)環(huán)境存在污染的溶劑才能清洗干凈；同時(shí)還由于基板的彎曲，極易導(dǎo)致在機(jī)械加工過(guò)程中產(chǎn)品的破碎。因此，無(wú)論從產(chǎn)品外觀尺寸的薄型化、還是從設(shè)備的圖像能夠得到真實(shí)的還原、還是從產(chǎn)品加工的破碎率、亦或是從加工工藝對(duì)環(huán)境的影響方面考慮，現(xiàn)有數(shù)碼光學(xué)成像設(shè)備使用的紅外截止濾光片都已經(jīng)無(wú)法滿足人們的要求。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
本發(fā)明的目的就是提供一種改進(jìn)的紅外截止濾光片，它能有效地解決現(xiàn)有數(shù)碼光學(xué)成像設(shè)備使用的紅外截止濾光片采用一側(cè)鍍IRcut鍍膜、另一側(cè)鍍AR鍍膜存在的在使用波段下反射光殘量多、光的穿透率指標(biāo)最高只能達(dá)到96％、攝像頭成像時(shí)出現(xiàn)光暈現(xiàn)象、影像清晰度不理想的問(wèn)題，而且它還能有效地解決現(xiàn)有數(shù)碼光學(xué)成像設(shè)備使用的紅外截止濾光片當(dāng)基板厚度降至0.3mm以下時(shí)在一側(cè)鍍IRcut鍍膜、另一側(cè)鍍AR鍍膜因巨大厚度差異產(chǎn)生內(nèi)應(yīng)力致使基板彎曲變形的問(wèn)題，同時(shí)它仍然能有效地解決現(xiàn)有數(shù)碼光學(xué)成像設(shè)備使用的紅外截止濾光片由于內(nèi)應(yīng)力導(dǎo)致基板彎曲需在化學(xué)膠貼合狀態(tài)下切割加工、對(duì)切割后產(chǎn)品需使用對(duì)環(huán)境有污染的溶劑的問(wèn)題，它依然能夠有效地解決由于基板彎曲極易導(dǎo)致在機(jī)械加工過(guò)程中產(chǎn)品破碎的問(wèn)題。

本發(fā)明的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的：紅外截止濾光片，具有小于0.3mm厚度的超薄基板，在基 板的兩個(gè)側(cè)面分別設(shè)置透明鍍膜，基板上兩個(gè)側(cè)面設(shè)置的透明鍍膜為相對(duì)于基板對(duì)稱設(shè)置的紅外截止鍍膜，基板的每個(gè)側(cè)面上設(shè)置的紅外截止鍍膜為17～21奇數(shù)層的紅外截止鍍膜的復(fù)合膜膜堆，基板每個(gè)側(cè)面上設(shè)置的17～21奇數(shù)層的紅外截止鍍膜的復(fù)合膜膜堆為兩種不同折射率的、間隔排列的紅外截止鍍膜的復(fù)合膜膜堆，基板每個(gè)側(cè)面上設(shè)置的17～21奇數(shù)層的兩種不同折射率的、間隔排列的紅外截止鍍膜的復(fù)合膜膜堆為2100～2600nm疊加厚度的紅外截止鍍膜的復(fù)合膜膜堆。

作為本發(fā)明的進(jìn)一步方案，紅外截止濾光片的基板每個(gè)側(cè)面上設(shè)置的17～21奇數(shù)層的兩種不同折射率的、間隔排列的紅外截止鍍膜的復(fù)合膜膜堆為由緊貼基板側(cè)面設(shè)置相對(duì)高折射率紅外截止鍍膜層起始的、按照每層紅外截止鍍膜高低折射率由內(nèi)向外間隔排列的復(fù)合膜膜堆。

作為本發(fā)明的另一種進(jìn)一步方案，紅外截止濾光片的基板每個(gè)側(cè)面上設(shè)置的17～21奇數(shù)層的兩種不同折射率的、間隔排列的紅外截止鍍膜的復(fù)合膜膜堆為由緊貼基板側(cè)面設(shè)置相對(duì)低折射率紅外截止鍍膜層起始的、按照每層紅外截止鍍膜低高折射率由內(nèi)向外間隔排列的復(fù)合膜膜堆。

作為本發(fā)明進(jìn)一步方案的優(yōu)選方案，紅外截止濾光片的基板每個(gè)側(cè)面上設(shè)置的兩種不同折射率的、間隔排列的紅外截止鍍膜為19～21奇數(shù)層的紅外截止鍍膜的復(fù)合膜膜堆，基板每個(gè)側(cè)面上設(shè)置的19～21奇數(shù)層的兩種不同折射率的、間隔排列的紅外截止鍍膜的復(fù)合膜膜堆為2300～2600nm疊加厚度的紅外截止鍍膜的復(fù)合膜膜堆。

作為本發(fā)明的另一種進(jìn)一步方案的優(yōu)選方案，紅外截止濾光片的基板每個(gè)側(cè)面上設(shè)置的兩種不同折射率的、間隔排列的紅外截止鍍膜為19～21奇數(shù)層的紅外截止鍍膜的復(fù)合膜膜堆，基板每個(gè)側(cè)面上設(shè)置的19～21奇數(shù)層的兩種不同折射率的、間隔排列的紅外截止鍍膜的復(fù)合膜膜堆為2300～2600nm疊加厚度的紅外截止鍍膜的復(fù)合膜膜堆。

作為本發(fā)明進(jìn)一步方案的優(yōu)選方案的更進(jìn)一步的優(yōu)選，紅外截止濾光片的基板每個(gè)側(cè)面上設(shè)置的兩種不同折射率的、間隔排列的紅外截止鍍膜為19層的紅外截止鍍膜的復(fù)合膜膜堆，基板每個(gè)側(cè)面上設(shè)置的19層的兩種不同折射率的、間隔排列的紅外截止鍍膜的復(fù)合膜膜堆為2300～2400nm疊加厚度的紅外截止鍍膜的復(fù)合膜膜堆。

作為本發(fā)明另一種進(jìn)一步方案的優(yōu)選方案的更進(jìn)一步的優(yōu)選，紅外截止濾光片的基板每個(gè)側(cè)面上設(shè)置的兩種不同折射率的、間隔排列的紅外截止鍍膜為19層的紅外截止鍍膜的復(fù)合膜膜堆，基板每個(gè)側(cè)面上設(shè)置的19層的兩種不同折射率的、間隔排列的紅外截止鍍膜的復(fù)合膜膜堆為2300～2400nm疊加厚度的紅外截止鍍膜的復(fù)合膜膜堆。

本發(fā)明由于在基板的兩個(gè)側(cè)面相對(duì)于基板是對(duì)稱設(shè)置紅外截止鍍膜，因而濾片基板兩側(cè) 鍍膜厚度均等，在基板每個(gè)側(cè)面上設(shè)置的紅外截止鍍膜為17～21奇數(shù)層、兩種不同折射率的紅外截止鍍膜間隔排列、紅外截止鍍膜的疊加厚度為2100～2600nm條件下，濾片在使用波段下的反射光殘量可控制在0.1％以下，光的穿透率指標(biāo)可以達(dá)到99.6％，采用本發(fā)明紅外截止濾光片的攝像頭成像無(wú)光暈現(xiàn)象，影像清晰；本發(fā)明由于在基板的兩個(gè)側(cè)面相對(duì)于基板是對(duì)稱設(shè)置紅外截止鍍膜，因而濾片基板兩側(cè)鍍膜厚度均等，在基板每個(gè)側(cè)面上設(shè)置的紅外截止鍍膜為17～21奇數(shù)層、兩種不同折射率的紅外截止鍍膜間隔排列、紅外截止鍍膜的疊加厚度為2100～2600nm條件下，盡管濾片基板厚度在0.3mm以下，甚至已降至0.21mm，基板內(nèi)部依不會(huì)存在因鍍膜而生的附加內(nèi)應(yīng)力，因而基板也不存在因這種內(nèi)應(yīng)力而導(dǎo)致的彎曲變形；本發(fā)明盡管濾片基板厚度在0.3mm以下，甚至已降至0.21mm，因?yàn)榛鍍?nèi)部不存在因鍍膜而生的附加內(nèi)應(yīng)力、基板也不存在因這種內(nèi)應(yīng)力而導(dǎo)致的彎曲變形，因而對(duì)濾片的切割加工已經(jīng)不需要在化學(xué)膠貼合狀態(tài)下完成，對(duì)切割后的濾片只要在超音波純水中洗凈、甩干即可，而不需要再使用對(duì)環(huán)境存在污染的溶劑進(jìn)行清洗，避免了對(duì)環(huán)境的污染；本發(fā)明盡管濾片基板厚度在0.3mm以下，甚至已降至0.21mm，因?yàn)榛鍍?nèi)部不存在因鍍膜而生的內(nèi)應(yīng)力、基板也不存在因這種內(nèi)應(yīng)力而導(dǎo)致的彎曲變形，因而由濾片的機(jī)械切割加工導(dǎo)致的產(chǎn)品破碎率極大地降低，產(chǎn)品的成品率得到極大地提升。不僅如此，本發(fā)明由于在基板的每個(gè)側(cè)面上設(shè)置的紅外截止鍍膜選用了17～21奇數(shù)層、疊加厚度選擇為2100～2600nm，因而在基板兩個(gè)側(cè)面上設(shè)置的紅外截止鍍膜的總層數(shù)及總疊加厚度和傳統(tǒng)濾片設(shè)置紅外截止鍍膜選用32～40層、疊加厚度選擇為4000～5000nm相當(dāng)，而且還完全省去了傳統(tǒng)濾片的抗反射光鍍膜，簡(jiǎn)化了生產(chǎn)工藝，尤其是在基板的每個(gè)側(cè)面上設(shè)置的紅外截止鍍膜選用19或21層、疊加厚度選擇為2300～2600nm時(shí)，本發(fā)明的紅外截止濾光片在使用波段下的反射光殘量、光的穿透率以及采用本發(fā)明紅外截止濾光片的攝像頭成像的清晰度指標(biāo)更能夠得到保證；本發(fā)明中，基板的厚度雖在0.3mm以下，但沒(méi)有鍍膜內(nèi)應(yīng)力導(dǎo)致的彎曲變形，鍍膜后的超薄基板與基板兩個(gè)側(cè)面上對(duì)稱設(shè)置的奇數(shù)層紅外截止鍍膜構(gòu)成了一個(gè)完整的膜系，加之紅外截止鍍膜層與層的排列呈現(xiàn)為兩種不同折射率鍍膜的間隔排列方式，充分利用光的干涉現(xiàn)象將膜面反射光消除，不僅使濾片在使用波段下的反射光殘量、光的穿透率以及采用本發(fā)明紅外截止濾光片的攝像頭成像的清晰度指標(biāo)進(jìn)一步得到保證，而且還保證了光線在垂直于基板平面方向上的雙向可逆?zhèn)鬟f。

附圖說(shuō)明 圖1是本發(fā)明紅外截止濾光片第一種實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)原理圖，圖2是本發(fā)明紅外截止濾光片第二種實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)原理圖，圖3是本發(fā)明紅外截止濾光片與傳統(tǒng)紅外截止濾光片的光譜曲線對(duì)比圖，下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步說(shuō)明。

具體實(shí)施方式 圖1示出了本發(fā)明紅外截止濾光片第一種實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)，圖中A表示“相 對(duì)高折射率紅外截止鍍膜層”，B表示“相對(duì)低折射率紅外截止鍍膜層”，C表示“基板”。紅外截止濾光片具有小于0.3mm厚度的超薄基板C，在基板C的兩個(gè)側(cè)面分別設(shè)置透明鍍膜，基板C上兩個(gè)側(cè)面設(shè)置的透明鍍膜為相對(duì)于基板C對(duì)稱設(shè)置的紅外截止鍍膜，基板C的每個(gè)側(cè)面上設(shè)置的紅外截止鍍膜為17～21奇數(shù)層的紅外截止鍍膜的復(fù)合膜膜堆，基板C每個(gè)側(cè)面上設(shè)置的17～21奇數(shù)層的紅外截止鍍膜的復(fù)合膜膜堆為兩種不同折射率的、間隔排列的紅外截止鍍膜的復(fù)合膜膜堆，基板C每個(gè)側(cè)面上設(shè)置的17～21奇數(shù)層的兩種不同折射率的、間隔排列的紅外截止鍍膜的復(fù)合膜膜堆具體為由緊貼基板C側(cè)面設(shè)置相對(duì)高折射率紅外截止鍍膜層A起始的、按照每層紅外截止鍍膜高低折射率由內(nèi)向外間隔排列的復(fù)合膜膜堆，基板C每個(gè)側(cè)面上設(shè)置的17～21奇數(shù)層的兩種不同折射率的、間隔排列的紅外截止鍍膜的復(fù)合膜膜堆為2100～2600nm疊加厚度的紅外截止鍍膜的復(fù)合膜膜堆，基板C每個(gè)側(cè)面上設(shè)置的兩種不同折射率的、間隔排列的紅外截止鍍膜優(yōu)先選用19～21奇數(shù)層的紅外截止鍍膜的復(fù)合膜膜堆，基板C每個(gè)側(cè)面上設(shè)置的19～21奇數(shù)層的兩種不同折射率的、間隔排列的紅外截止鍍膜的復(fù)合膜膜堆優(yōu)先選擇2300～2600nm疊加厚度的紅外截止鍍膜的復(fù)合膜膜堆，基板C每個(gè)側(cè)面上設(shè)置的兩種不同折射率的、間隔排列的紅外截止鍍膜進(jìn)一步優(yōu)選19層的紅外截止鍍膜的復(fù)合膜膜堆，基板C每個(gè)側(cè)面上設(shè)置的19層的兩種不同折射率的、間隔排列的紅外截止鍍膜的復(fù)合膜膜堆進(jìn)一步優(yōu)選2300～2400nm疊加厚度的紅外截止鍍膜的復(fù)合膜膜堆，基板C所用的材料選用玻璃或石英晶體，相對(duì)高折射率紅外截止鍍膜層A選用折射率大于2.0的TiO₂、Ta₂O₅、Nb₂O₃等電介質(zhì)材料，相對(duì)低折射率紅外截止鍍膜層B選用折射率小于1.6的SiO₂、MgF₂等電介質(zhì)材料。

圖2示出了本發(fā)明紅外截止濾光片第二種實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)，圖中A表示“相對(duì)高折射率紅外截止鍍膜層”，B表示“相對(duì)低折射率紅外截止鍍膜層”，C表示“基板”。紅外截止濾光片具有小于0.3mm厚度的超薄基板C，在基板C的兩個(gè)側(cè)面分別設(shè)置透明鍍膜，基板C上兩個(gè)側(cè)面設(shè)置的透明鍍膜為相對(duì)于基板C對(duì)稱設(shè)置的紅外截止鍍膜，基板C的每個(gè)側(cè)面上設(shè)置的紅外截止鍍膜為17～21奇數(shù)層的紅外截止鍍膜的復(fù)合膜膜堆，基板C每個(gè)側(cè)面上設(shè)置的17～21奇數(shù)層的紅外截止鍍膜的復(fù)合膜膜堆為兩種不同折射率的、間隔排列的紅外截止鍍膜的復(fù)合膜膜堆，基板C每個(gè)側(cè)面上設(shè)置的17～21奇數(shù)層的兩種不同折射率的、間隔排列的紅外截止鍍膜的復(fù)合膜膜堆具體為由緊貼基板C側(cè)面設(shè)置相對(duì)低折射率紅外截止鍍膜層B起始的、按照每層紅外截止鍍膜低高折射率由內(nèi)向外間隔排列的復(fù)合膜膜堆，基板C每個(gè)側(cè)面上設(shè)置的17～21奇數(shù)層的兩種不同折射率的、間隔排列的紅外截止鍍膜的復(fù)合膜膜堆為2100～2600nm疊加厚度的紅外截止鍍膜的復(fù)合膜膜堆，基板C每個(gè)側(cè)面上設(shè)置的兩種不同折射率的、 間隔排列的紅外截止鍍膜優(yōu)先選用19～21奇數(shù)層的紅外截止鍍膜的復(fù)合膜膜堆，基板C每個(gè)側(cè)面上設(shè)置的19～21奇數(shù)層的兩種不同折射率的、間隔排列的紅外截止鍍膜的復(fù)合膜膜堆優(yōu)先選擇2300～2600nm疊加厚度的紅外截止鍍膜的復(fù)合膜膜堆，基板C每個(gè)側(cè)面上設(shè)置的兩種不同折射率的、間隔排列的紅外截止鍍膜進(jìn)一步優(yōu)選19層的紅外截止鍍膜的復(fù)合膜膜堆，基板C每個(gè)側(cè)面上設(shè)置的19層的兩種不同折射率的、間隔排列的紅外截止鍍膜的復(fù)合膜膜堆進(jìn)一步優(yōu)選2300～2400nm疊加厚度的紅外截止鍍膜的復(fù)合膜膜堆，基板C所用的材料選用玻璃或石英晶體，高折射率紅外截止鍍膜層A選用折射率大于2.0的TiO₂、Ta₂O₅、Nb₂O₃等電介質(zhì)材料，低折射率紅外截止鍍膜層B選用折射率小于1.6的SiO₂、MgF₂等電介質(zhì)材料。

圖3示出了本發(fā)明紅外截止濾光片與傳統(tǒng)紅外截止濾光片的光譜曲線對(duì)比情況，圖中水平坐標(biāo)代表光的波段，以nm為單位，圖中縱向坐標(biāo)代表光的穿透率，以％為單位。本發(fā)明紅外截止濾光片的光譜曲線用粗實(shí)線繪制，傳統(tǒng)紅外截止濾光片的光譜曲線用細(xì)實(shí)線繪制，傳統(tǒng)紅外截止濾光片在使用波段下的光穿透率最高值只能達(dá)到96％，而本發(fā)明紅外截止濾光片在使用波段下的光穿透率最高值可以達(dá)到99.6％。