1.一種用于曝光的光源模塊單元，其特征在于，包括：
光源板，其構(gòu)成為，多個單位紫外線發(fā)光元件以矩陣形態(tài)的列陣構(gòu)造安裝于電路基板上，并裝載于支撐板；
光學(xué)板，其具有如下構(gòu)造，多個單位聚光透鏡以從與所述發(fā)光元件分別對應(yīng)的位置相對主光軸向穿過所述光源板上的紫外線發(fā)光元件列陣的中心的任意基準(zhǔn)中心軸線側(cè)偏心的狀態(tài)的矩陣形態(tài)的列陣結(jié)構(gòu)設(shè)置在以與所述光源板相互面對的形態(tài)配置于所述紫外線發(fā)光元件的光射出側(cè)的透鏡板。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于曝光的光源模塊單元，其特征在于，
所述單位聚光透鏡越是逐漸遠(yuǎn)離穿過所述光源板上的紫外線發(fā)光元件列陣的中心的任意的基準(zhǔn)中心軸線側(cè)而配置于靠近邊緣的位置，相對所對應(yīng)的單位紫外線發(fā)光元件的主光軸的偏心量越是增加，并形成矩形形態(tài)的列陣構(gòu)造，從而使得從各個單位紫外線發(fā)光元件所照射的擴(kuò)散光聚光在收光區(qū)域，所述收光區(qū)域設(shè)定于曝光裝置的光學(xué)系統(tǒng)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于曝光的光源模塊單元，其特征在于，
所述紫外線發(fā)光元件以芯片或封裝中所選擇的某一個形態(tài)或兩者混合的形態(tài)的LED光源安裝于單一或多個單位電路基板。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于曝光的光源模塊單元，其特征在于，
所述紫外線發(fā)光元件以芯片或封裝中所選擇的某一個形態(tài)或兩者混合的形態(tài)的LED光源安裝于單一的電路基板。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任意一項(xiàng)所述的用于曝光的光源模塊單元，其特征在于，
所述單位聚光透鏡以兩面凸透鏡形成。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任意一項(xiàng)所述的用于曝光的光源模塊單元，其特征在于，
所述單位聚光透鏡以兩面凸透鏡形成，所述兩面凸透鏡具有根據(jù)進(jìn)行列陣的排列位置相互不同光學(xué)構(gòu)造的曲率面。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任意一項(xiàng)所述的用于曝光的光源模塊單元，其特征在于，
相對從所述紫外線發(fā)光元件至收光區(qū)域A的光學(xué)距離“a”，從穿過所述光源板上的紫外線發(fā)光元件列陣的中心O的基準(zhǔn)中心軸線側(cè)分離的紫外線發(fā)光元件的分離距離“b”、以及所述紫外線發(fā)光元件和聚光透鏡的面對面分離距離“c”、以及所述各個紫外線發(fā)光元件的中心軸和聚光透鏡的中心軸之間的偏心距離“x”、以及收光區(qū)域A的直徑“t”的關(guān)系設(shè)定為，聚光透鏡的偏心距離“x”的基準(zhǔn)滿足“x＝b*c/a”，并且所述“x”的范圍滿足“bc(2b-t)/2ab<x<bc(2b+t)/2ab”。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任意一項(xiàng)所述的用于曝光的光源模塊單元，其特征在于，
相互對應(yīng)的所述單位紫外線發(fā)光元件和單位聚光透鏡的面對面分離距離c和所述聚光透鏡的直徑d滿足1.0c<d<2.5c的條件。
9.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任意一項(xiàng)所述的用于曝光的光源模塊單元，其特征在于，
所述光源板和所述光學(xué)板設(shè)置為，被殼體支撐而以可裝卸于曝光裝置的狀態(tài)得到單元化。
10.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任意一項(xiàng)所述的用于曝光的光源模塊單元，其特征在于，
在所述光源板和所述光學(xué)板的周圍還包括散熱裝置。
11.一種曝光裝置，其包括：曝光工作臺，其用于對涂覆有感光劑的用于曝光的基板進(jìn)行支撐；驅(qū)動裝置，其對所述曝光工作臺以能夠在X-Y平面坐標(biāo)上進(jìn)行移動的狀態(tài)進(jìn)行驅(qū)動；用于曝光的光源模塊單元，其設(shè)置為向掩膜射出照明光，所述掩膜用于形成所述基板的曝光圖案；光學(xué)系統(tǒng)，其設(shè)置于所述基板和用于曝光的光源模塊單元之間；以及控制裝置，其對所述驅(qū)動裝置和用于曝光的光源單元的驅(qū)動聯(lián)系起來進(jìn)行控制，
所述曝光裝置的特征在于，所述用于曝光的光源模塊單元包括：
光源板，其構(gòu)成為，多個單位紫外線發(fā)光元件以矩陣形態(tài)的列陣構(gòu)造安裝于電路基板上，并裝載于支撐板；
光學(xué)板，其具有如下構(gòu)造，多個單位聚光透鏡以從與所述發(fā)光元件分別對應(yīng)的位置相對主光軸向穿過所述光源板上的紫外線發(fā)光元件列陣的中心的任意基準(zhǔn)中心軸線側(cè)偏心的狀態(tài)的矩陣形態(tài)的列陣結(jié)構(gòu)設(shè)置在以與所述光源板相互面對的形態(tài)配置于所述發(fā)光元件的光射出側(cè)的透鏡板。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的曝光裝置，其特征在于，
所述單位聚光透鏡越是逐漸遠(yuǎn)離穿過所述光源板上的紫外線發(fā)光元件列陣的中心的任意的基準(zhǔn)中心軸線側(cè)而配置于靠近邊緣的位置，相對所對應(yīng)的單位紫外線發(fā)光元件的主光軸的偏心量越是增加，并形成矩形形態(tài)的列陣構(gòu)造，從而構(gòu)成為使得從各個單位紫外線發(fā)光元件所照射的擴(kuò)散光聚光在收光區(qū)域，所述收光區(qū)域設(shè)定于曝光裝置的光學(xué)系統(tǒng)。
13.根據(jù)權(quán)利要求11或12所述的曝光裝置，其特征在于，
相對從所述紫外線發(fā)光元件至收光區(qū)域A的光學(xué)距離“a”，從穿過所述光源板上的紫外線發(fā)光元件列陣的中心O的基準(zhǔn)中心軸線側(cè)分離的紫外線發(fā)光元件的分離距離“b”、以及所述紫外線發(fā)光元件和聚光透鏡的面對面分離距離“c”、以及所述各個紫外線發(fā)光元件的中心軸和聚光透鏡的中心軸之間的偏心距離“x”、以及收光區(qū)域A的直徑“t”的關(guān)系為，聚光透鏡的偏心距離“x”的基準(zhǔn)滿足“x＝b*c/a”，并且所述“x”的范圍滿足“bc(2b-t)/2ab<x<bc(2b+t)/2ab”。