本發(fā)明涉及半導(dǎo)體晶片加工過程中對晶片進(jìn)行光刻膠涂布的裝置,具體地說是一種雙涂膠單元共用噴嘴架構(gòu)。
背景技術(shù):
目前,在半導(dǎo)體晶片加工過程中光刻膠涂布是至關(guān)重要的一個(gè)環(huán)節(jié),保證光刻膠及時(shí)的涂布以及各個(gè)涂膠單元光刻膠涂布的一致性,對后續(xù)光刻工藝線寬等級(jí)的提升有很大影響。
原來的晶片涂布方式是通過每一個(gè)涂膠腔體單獨(dú)的涂膠臂進(jìn)行光刻膠涂布。但是,這種涂布方式不能保證兩個(gè)涂膠單元滴膠狀態(tài)的一致性;而且,每個(gè)單元配備一個(gè)膠臂對機(jī)臺(tái)的整體成本會(huì)有很大的提升,相對來說機(jī)臺(tái)占用的空間也會(huì)大大增加。但隨著半導(dǎo)體領(lǐng)域的進(jìn)一步發(fā)展,對滴膠的一致性求越來越高,這種傳統(tǒng)的方式已經(jīng)不能滿足目前一般性的生產(chǎn)要求。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
為了解決傳統(tǒng)涂膠單元占用空間過大、滴膠重復(fù)性不一致、設(shè)備膠路成本過高等問題,本發(fā)明的目的在于提供一種雙涂膠單元共用噴嘴架構(gòu)。該雙涂膠單元共用噴嘴架構(gòu)采用雙涂膠單元共用同一膠嘴的架構(gòu)方式,可以保證兩個(gè)涂膠單元的滴膠一致性。
本發(fā)明的目的是通過以下技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)的:
本發(fā)明包括旋轉(zhuǎn)電缸、主軸電機(jī)、承片臺(tái)、收集杯殼體、膠嘴、膠嘴臂及工作臺(tái),其中旋轉(zhuǎn)電缸安裝在工作臺(tái)上,輸出端與所述膠嘴臂的一端相連、帶動(dòng)膠嘴臂轉(zhuǎn)動(dòng),所述膠嘴臂的另一端設(shè)有膠嘴;所述旋轉(zhuǎn)電缸的兩側(cè)對稱設(shè)有安裝在所述工作臺(tái)上的主軸電機(jī),每側(cè)所述主軸電機(jī)的主軸上分別連接有承載晶片的承片臺(tái),每個(gè)所述承片臺(tái)均由各自的主軸電機(jī)驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn),在每個(gè)所述承片臺(tái)的外圍均設(shè)有安裝在工作臺(tái)上的收集杯殼體;所述膠嘴與每個(gè)所述承片臺(tái)及承片臺(tái)上承載晶片的中心同時(shí)在以旋轉(zhuǎn)電缸輸出端為圓心的圓弧上。
其中:所述膠嘴臂為“L”形,該“L”形的豎邊與所述旋轉(zhuǎn)電缸的輸出端相連,所述“L”形橫邊的端部設(shè)有膠嘴;所述膠嘴與每個(gè)所述承片臺(tái)及承片臺(tái)上承載晶片的中心同時(shí)在以旋轉(zhuǎn)電缸的輸出端為圓心、以所述“L”形橫邊為半徑的圓弧上;所述膠嘴臂的初始位 置與兩個(gè)所述承片臺(tái)中心之間的連線相垂直;所述旋轉(zhuǎn)電缸兩側(cè)的主軸電機(jī)的轉(zhuǎn)速相同。
本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)與積極效果為:
1.本發(fā)明通過圓弧布局的架構(gòu)保證雙涂膠單元涂膠過程的精確性,可以有效降低制作成本,保證兩個(gè)涂膠單元的滴膠狀態(tài)一致,最大限度的提高設(shè)備工藝能力。
2.本發(fā)明具有結(jié)構(gòu)簡單、反應(yīng)迅速、安裝方便、成本低等特點(diǎn)。
3.本發(fā)明通過同一膠嘴可以保證兩個(gè)涂膠單元滴膠狀態(tài)的一致性。
附圖說明
圖1為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)俯視圖;
圖2為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)主視圖;
其中:1為旋轉(zhuǎn)電缸,2為主軸電機(jī),3為承片臺(tái),4為收集杯殼體,5為膠嘴,6為膠嘴臂,7為晶片,8為主軸,9為工作臺(tái)。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖對本發(fā)明作進(jìn)一步詳述。
如圖1、圖2所示,本發(fā)明包括旋轉(zhuǎn)電缸1、主軸電機(jī)2、承片臺(tái)3、收集杯殼體4、膠嘴5、膠嘴臂6及工作臺(tái)9,其中工作臺(tái)安裝在晶片加工的工藝單元中,在工作臺(tái)9的下表面分別固接有一個(gè)旋轉(zhuǎn)電缸1及兩個(gè)主軸電機(jī)2,兩個(gè)主軸電機(jī)2對稱設(shè)置在旋轉(zhuǎn)電缸1的兩側(cè)。
在工作臺(tái)9的上表面設(shè)有膠嘴臂6,膠嘴臂6為“L”形,該“L”形的豎邊與旋轉(zhuǎn)電缸1的輸出端相連、由旋轉(zhuǎn)電缸1驅(qū)動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng),“L”形橫邊的端部設(shè)有膠嘴5。每個(gè)主軸電機(jī)2的主軸8均穿過工作臺(tái)9、并分別連接有承載晶片7的承片臺(tái)3,每個(gè)承片臺(tái)3均由各自的主軸電機(jī)2驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn),在每個(gè)承片臺(tái)3的外圍均設(shè)有安裝在工作臺(tái)9上的收集杯殼體4。
膠嘴5與每個(gè)承片臺(tái)3及承片臺(tái)3上承載晶片7的中心同時(shí)在以旋轉(zhuǎn)電缸1的輸出端為圓心、以“L”形橫邊為半徑的圓弧上,并且膠嘴臂6的初始位置要保證“L”形橫邊與兩個(gè)承片臺(tái)3中心之間的連線成垂直狀態(tài)。旋轉(zhuǎn)電缸1兩側(cè)的主軸電機(jī)2的轉(zhuǎn)速相同。
本發(fā)明的旋轉(zhuǎn)電缸1為市購產(chǎn)品,購置于日本IAI公司,型號(hào)為RCP2-RTB-I-28P-20-330-P1-S-1-2-03。
本發(fā)明的工作原理為:
旋轉(zhuǎn)電缸1兩側(cè)的主軸電機(jī)2同轉(zhuǎn)速工作,帶動(dòng)各自連接的承片臺(tái)3同速旋轉(zhuǎn)。旋轉(zhuǎn)電缸1驅(qū)動(dòng)膠嘴臂6以旋轉(zhuǎn)電缸1的輸出端為圓 心進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng),將光刻膠以一致的滴膠狀態(tài)涂布在兩個(gè)承片臺(tái)3承載的晶片7上。
本發(fā)明通過圓弧布局的架構(gòu)保證雙涂膠單元涂膠過程的精確性,可以有效降低制作成本,保證兩個(gè)涂膠單元的滴膠狀態(tài)一致,最大限度的提高設(shè)備工藝能力。