本發(fā)明涉及發(fā)光技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置及包括該波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置的投影系統(tǒng)。

背景技術(shù)：

隨著工業(yè)發(fā)展水平的不斷提高，光源的運(yùn)用場(chǎng)合越來(lái)越多樣化，例如用于背投電視或投影儀的圖像投影，或用作汽車(chē)、船、飛機(jī)等的照明。而不同的運(yùn)用場(chǎng)合對(duì)光源的波長(zhǎng)要求各不相同。目前主要采用具有預(yù)定波長(zhǎng)的激發(fā)光源來(lái)照射波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置，以激發(fā)波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置中的波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換材料，來(lái)獲得不同波長(zhǎng)的光。

但是，現(xiàn)有技術(shù)中波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置的散熱性能較差，從而影響了所述波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置的發(fā)光效率。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置及包括該波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置的投影系統(tǒng)，以提高所述波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置的散熱效果，從而提高所述波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置的發(fā)光效率。

為解決上述問(wèn)題，本發(fā)明實(shí)施例提供了如下技術(shù)方案：

一種波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置，包括：

激發(fā)光源，用于發(fā)出激發(fā)光；

發(fā)光模塊，所述發(fā)光模塊包括發(fā)光層和導(dǎo)熱基層，用于接收所述激發(fā)光，將其轉(zhuǎn)換成特定波長(zhǎng)的光線射出；

位于所述發(fā)光模塊背離所述激發(fā)光源一側(cè)的第一振動(dòng)系統(tǒng)，用于帶動(dòng)所述發(fā)光模塊沿第一預(yù)設(shè)方向做往復(fù)運(yùn)動(dòng)。

優(yōu)選的，所述往復(fù)運(yùn)動(dòng)為簡(jiǎn)諧振動(dòng)。

優(yōu)選的，所述第一振動(dòng)系統(tǒng)包括：

與所述發(fā)光模塊滑動(dòng)連接的滑軌；

相對(duì)設(shè)置在所述滑軌兩端的第一電磁端子和第二電磁端子；

固定于所述發(fā)光模塊朝向所述第一電磁端子一端的第一磁子，所述第一磁子與所述第一電磁端子通過(guò)彈性部件固定連接；

固定于所述發(fā)光模塊朝向所述第二電磁端子一端的第二磁子，所述第二磁子與所述第二電磁端子通過(guò)彈性部件固定連接；

分別與所述第一電磁端子和第二電子端子電連接的電磁控制器，所述電磁控制器以預(yù)設(shè)頻率調(diào)節(jié)所述第一電磁端子和第二電磁端子的磁性。

優(yōu)選的，所述滑軌與所述發(fā)光模塊的接觸面涂覆有潤(rùn)滑劑，或所述發(fā)光模塊與所述滑軌之間設(shè)置有滾珠，所述發(fā)光模塊與所述滑軌通過(guò)所述滾珠滑動(dòng)連接。

優(yōu)選的，所述電磁控制器包括：

第一電源調(diào)節(jié)器，與所述第一電源調(diào)節(jié)器兩端電連接的第一導(dǎo)線，所述第一導(dǎo)線螺旋纏繞在所述第一電磁端子上；

第二電源調(diào)節(jié)器，與所述第二電源調(diào)節(jié)器電連接的第二導(dǎo)線，所述第二導(dǎo)線螺旋纏繞在所述第二電磁端子上；

其中，所述第一電源調(diào)節(jié)器和第二電源調(diào)節(jié)器的輸出信號(hào)為脈沖信號(hào)。

優(yōu)選的，所述脈沖信號(hào)為正弦脈沖信號(hào)或梯形脈沖信號(hào)，所述第一電源調(diào)節(jié)器和第二電源調(diào)節(jié)器的輸出信號(hào)的脈沖頻率相同。

優(yōu)選的，所述導(dǎo)熱基層為透射式導(dǎo)熱基層，或者所述導(dǎo)熱基層為反射式導(dǎo)熱基層。

優(yōu)選的，當(dāng)所述導(dǎo)熱基層為反射式導(dǎo)熱基層時(shí)，所述發(fā)光模塊還包括：

固定于所述導(dǎo)熱基層背離所述發(fā)光層一側(cè)的熱電制冷芯片，所述熱電制冷芯片用于調(diào)節(jié)所述導(dǎo)熱基層背離所述發(fā)光層一側(cè)端面的溫度。

優(yōu)選的，還包括：

位于所述發(fā)光模塊背離所述激發(fā)光源一側(cè)的第二振動(dòng)系統(tǒng)，用于帶動(dòng)所述發(fā)光模塊沿第二預(yù)設(shè)方向做周期性勻速往復(fù)運(yùn)動(dòng)。

優(yōu)選的，所述發(fā)光模塊沿第二預(yù)設(shè)方向做周期性勻速往復(fù)運(yùn)動(dòng)的周期大于或等于所述發(fā)光模塊沿第一預(yù)設(shè)方向做往復(fù)運(yùn)動(dòng)的周期。

優(yōu)選的，所述發(fā)光層包括沿第一預(yù)定方向設(shè)置的多個(gè)發(fā)光區(qū)域，所述多個(gè)發(fā)光區(qū)域包括：紅色發(fā)光區(qū)域、綠色發(fā)光區(qū)域、藍(lán)色發(fā)光區(qū)域、黃色發(fā)光區(qū)域中的至少兩種。

優(yōu)選的，所述多個(gè)發(fā)光區(qū)域沿第一預(yù)設(shè)方向的寬度不完全相同。

優(yōu)選的，所述發(fā)光層通過(guò)硅膠或樹(shù)脂與熒光粉混合成型，

或者所述發(fā)光層通過(guò)熒光粉與無(wú)機(jī)粘接劑燒結(jié)成型，

或者所述發(fā)光層為包含熒光粉的發(fā)光陶瓷。

一種包括上述任一項(xiàng)所述波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置的投影系統(tǒng)。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，上述技術(shù)方案具有以下優(yōu)點(diǎn)：

本發(fā)明實(shí)施例所提供的波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置，除包括：用于發(fā)出激發(fā)光的激發(fā)光源和用于接收所述激發(fā)光并將其轉(zhuǎn)換成特定波長(zhǎng)的光線射出的發(fā)光模塊外，還包括位于所述發(fā)光模塊背離所述激發(fā)光源一側(cè)，用于帶動(dòng)所述發(fā)光模塊沿第一預(yù)設(shè)方向做往復(fù)運(yùn)動(dòng)的第一振動(dòng)系統(tǒng)，從而使得本發(fā)明實(shí)施例所提供的波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置中，通過(guò)所述發(fā)光模塊的往復(fù)運(yùn)動(dòng)增加了所述激發(fā)光的會(huì)聚光斑在單位時(shí)間內(nèi)的掃描面積，而非讓所述激發(fā)光的會(huì)聚光斑的掃描面積固定集中于所述發(fā)光模塊的某一區(qū)域，有效降低了所述發(fā)光模塊中的發(fā)光層在單位時(shí)間和單位面積下所承受的能量密度，提高了所述波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置的散熱效果，提高了所述波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置的發(fā)光效率。

附圖說(shuō)明

為了更清楚地說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例所提供的波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例所提供的波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置中，所述發(fā)光模塊和所述激發(fā)光源發(fā)出的激發(fā)光的會(huì)聚光斑b以及光斑在發(fā)光模塊上的相對(duì)運(yùn)動(dòng)軌跡a的俯視圖；

圖3為本發(fā)明另一個(gè)實(shí)施例所提供的波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4為本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例所提供的波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置中，發(fā)光模塊的位移x-時(shí)間t曲線示意圖；

圖5為本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例所提供的波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置中，發(fā)光模塊做簡(jiǎn)諧強(qiáng)迫振動(dòng)時(shí)的受力分析圖；

圖6為本發(fā)明又一個(gè)實(shí)施例所提供的波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖7為本發(fā)明再一個(gè)實(shí)施例所提供的波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖8為本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例所提供的波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置中，第一電源調(diào)節(jié)器輸出的電流信號(hào)隨時(shí)間的變化的曲線示意圖；

圖9為本發(fā)明另一個(gè)實(shí)施例所提供的波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置中，第一電源調(diào)節(jié)器輸出的電流信號(hào)隨時(shí)間的變化的曲線示意圖；

圖10為本發(fā)明又一個(gè)實(shí)施例所提供的波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖11為本發(fā)明另一個(gè)實(shí)施例所提供的波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置中，所述發(fā)光模塊、所述激發(fā)光源發(fā)出的激發(fā)光的會(huì)聚光斑d以及光斑在所述發(fā)光模塊上的運(yùn)動(dòng)軌跡c的俯視圖；

圖12為本發(fā)明另一個(gè)實(shí)施例所提供的波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置中，發(fā)光模塊中多個(gè)發(fā)光區(qū)域的俯視圖。

具體實(shí)施方式

正如背景技術(shù)部分所述，現(xiàn)有技術(shù)中波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置的散熱性能較差，從而影響了所述波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置的發(fā)光效率。

有鑒于此，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置，包括：

激發(fā)光源，用于發(fā)出激發(fā)光；

發(fā)光模塊，所述發(fā)光模塊包括發(fā)光層和導(dǎo)熱基層，用于接收所述激發(fā)光，將其轉(zhuǎn)換成特定波長(zhǎng)的光線射出；

位于所述發(fā)光模塊背離所述激發(fā)光源一側(cè)的第一振動(dòng)系統(tǒng)，用于帶動(dòng)所述發(fā)光模塊沿第一預(yù)設(shè)方向做往復(fù)運(yùn)動(dòng)。

相應(yīng)的，本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種包括上述波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置的投影系統(tǒng)。

本發(fā)明實(shí)施例所提供的波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置及包括該波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置的投影系統(tǒng)，除包括：用于發(fā)出激發(fā)光的激發(fā)光源和用于接收所述激發(fā)光并將其轉(zhuǎn)換成特定波長(zhǎng)的光線射出的發(fā)光模塊外，還包括位于所述發(fā)光模塊背離所述激發(fā)光源一側(cè)，用于帶動(dòng)所述發(fā)光模塊沿第一預(yù)設(shè)方向做往復(fù)運(yùn)動(dòng)的第一振動(dòng)系統(tǒng)，從而使得本發(fā)明實(shí)施例所提供的波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置中，通過(guò)所述發(fā)光模塊的往復(fù)運(yùn)動(dòng)增加了所述激發(fā)光的會(huì)聚光斑在單位時(shí)間內(nèi)的掃描面積，而非讓所述激發(fā)光的會(huì)聚光斑的掃描面積固定集中于所述發(fā)光模塊的某一區(qū)域，有效降低了所述發(fā)光模塊中的發(fā)光層在單位時(shí)間和單位面積下所承受的能量密度，提高了所述波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置的散熱效果，提高了所述波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置的發(fā)光效率。

下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。

在下面的描述中闡述了很多具體細(xì)節(jié)以便于充分理解本發(fā)明，但是本發(fā)明還可以采用其他不同于在此描述的其它方式來(lái)實(shí)施，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以在不違背本發(fā)明內(nèi)涵的情況下做類(lèi)似推廣，因此本發(fā)明不受下面公開(kāi)的具體實(shí)施例的限制。

本發(fā)明實(shí)施例提供了一種波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置，如圖1所示，該波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置包括：

激發(fā)光源100，所述激發(fā)光源100用于發(fā)出激發(fā)光；

發(fā)光模塊200，所述發(fā)光模塊200包括發(fā)光層201和導(dǎo)熱基層202，用于接收所述激發(fā)光，并將其轉(zhuǎn)換成特定波長(zhǎng)的光線射出，其中，所述發(fā)光層201用于接收所述激發(fā)光并將其轉(zhuǎn)換成特定波長(zhǎng)的光線射出，所述導(dǎo)熱基層201用于提高所述發(fā)光層201的散熱效果；

位于所述發(fā)光模塊200背離所述激發(fā)光源100一側(cè)的第一振動(dòng)系統(tǒng)300，用于帶動(dòng)所述發(fā)光模塊200沿第一預(yù)設(shè)方向做往復(fù)運(yùn)動(dòng)。

需要說(shuō)明的是，本發(fā)明實(shí)施例對(duì)所述特定波長(zhǎng)不做具體限定，具體視所述波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置的應(yīng)用需求而定。

如圖2所示，圖2中示出了本發(fā)明實(shí)施例所提供的波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置工作過(guò)程中，所述發(fā)光模塊200的俯視圖、所述激發(fā)光源100發(fā)出的激發(fā)光的會(huì)聚光斑b以及光斑在發(fā)光模塊上的相對(duì)運(yùn)動(dòng)軌跡a。從圖2中可以看出，本發(fā)明所提供的波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置中，通過(guò)所述發(fā)光模塊200的往復(fù)運(yùn)動(dòng)增加了所述激發(fā)光的會(huì)聚光斑在單位時(shí)間內(nèi)的掃描面積，而非讓所述激發(fā)光的會(huì)聚光斑的掃描面積固定集中于所述發(fā)光模塊200的某一區(qū)域，有效降低了所述發(fā)光模塊中的發(fā)光層201在單位時(shí)間和單位面積下所承受的能量密度，提高了所述波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置的散熱效果，提高了所述波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置的發(fā)光效率。

在上述實(shí)施例的基礎(chǔ)上，在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，如圖3所示，所述波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置還包括位于所述激發(fā)光源100和所述發(fā)光模塊200之間的透鏡400，用于會(huì)聚所述激發(fā)光源100發(fā)出的激發(fā)光，提高所述激發(fā)光源100發(fā)出的激發(fā)光的光線利用率。

在上述任一實(shí)施例的基礎(chǔ)上，在本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，所述往復(fù)運(yùn)動(dòng)為簡(jiǎn)諧振動(dòng)。由于在簡(jiǎn)諧振動(dòng)中，所述發(fā)光模塊200受到的作用力只有回復(fù)力，而所述發(fā)光模塊200受到的回復(fù)力大小與所述發(fā)光模塊200偏離平衡位置的距離成正比，且總是指向平衡位置，即所述發(fā)光模塊200偏離平衡位置越遠(yuǎn)，所述發(fā)光模塊200受到的回復(fù)力越大，反之，所述發(fā)光模塊200偏離平衡位置越少，所述發(fā)光模塊200受到的回復(fù)力越小，當(dāng)所述發(fā)光模塊200位于平衡位置時(shí)，所述發(fā)光模塊200受到的回復(fù)力為零。如圖4所示，圖中示出了所述發(fā)光模塊200的位移x-時(shí)間t曲線示意圖，其中o代表平衡位置。從圖4中可以看出，所述發(fā)光模塊200的振動(dòng)曲線遵從正弦規(guī)律或余弦規(guī)律，是一條正弦或余弦曲線。其函數(shù)關(guān)系式為f＝-kx，其中，f表示所述發(fā)光模塊200受到的回復(fù)力；a表示振幅，即所述發(fā)光模塊200偏離平衡位置最遠(yuǎn)處與該平衡位之間的距離；ω表示角頻率，t表示周期，即所述發(fā)光模塊200的運(yùn)動(dòng)周期，x表示所述發(fā)光模塊200各時(shí)刻的位移，k為比例系數(shù)，如在彈簧振子系統(tǒng)中，k為彈簧的勁度系數(shù)。

由上可知，所述發(fā)光模塊200在做簡(jiǎn)諧振動(dòng)的過(guò)程中，在運(yùn)動(dòng)至不同位置時(shí)具有不同的速率，從而使得本發(fā)明實(shí)施例所提供的波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置可以針對(duì)所述發(fā)光模塊200的不同區(qū)域具有不同的散熱效果，以滿足同一波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置中不同區(qū)域的不同散熱需求，提高所述波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置的散熱效率。

由于往復(fù)運(yùn)動(dòng)為簡(jiǎn)諧振動(dòng)，光斑b相對(duì)于發(fā)光模塊200的運(yùn)動(dòng)速度是隨著發(fā)光模塊200的位置不斷變化的，當(dāng)發(fā)光模塊200運(yùn)動(dòng)到平衡位置時(shí)，光斑b相對(duì)于發(fā)光模塊200的運(yùn)動(dòng)速度最大，而當(dāng)發(fā)光模塊200運(yùn)動(dòng)到與平衡位置相距最遠(yuǎn)的兩端時(shí)，光斑b相對(duì)于發(fā)光模塊200的運(yùn)動(dòng)速度最小。因此，在發(fā)光層201上，沿第一預(yù)設(shè)方向所在直線，以發(fā)光模塊200在平衡位置處的光斑照射位置為中心，分別向發(fā)光層201兩端方向，波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換材料的光轉(zhuǎn)換效率依次提高。即靠近中心位置處的波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換材料的光轉(zhuǎn)換效率最低(即產(chǎn)熱最高)，而遠(yuǎn)離中心位置處的波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換材料的光轉(zhuǎn)換效率相對(duì)較高(即產(chǎn)熱低)。

在上述實(shí)施例的基礎(chǔ)上，在本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，所述簡(jiǎn)諧振動(dòng)為簡(jiǎn)諧強(qiáng)迫振動(dòng)。如圖5所示，在簡(jiǎn)諧強(qiáng)迫振動(dòng)中，所述發(fā)光模塊200受到的作用力除了回復(fù)力f外，還有阻尼力cx'和周期改變的外力f0cosωt(即激擾力或擾力)，故所述發(fā)光模塊200受到的外力大小與頻率都有外界調(diào)節(jié)而定，不受所述發(fā)光模塊200本身振動(dòng)的影響。具體分析如下：

由牛頓第二定律可知，所述發(fā)光模塊200的運(yùn)動(dòng)函數(shù)關(guān)系式為：

mx"+cx'+kx＝f0cosωt＝kacosωt..............(1)

其中，x表示所發(fā)光模塊200偏離其平衡位置的位移，x'表示所述發(fā)光模塊200的速度；x"表示所述發(fā)光模塊200的加速度，m表示所述發(fā)光模塊200的質(zhì)量，c表示所述發(fā)光模塊200受到阻尼力的阻尼系數(shù)，t表示所述發(fā)光模塊200的運(yùn)動(dòng)時(shí)間，f＝f0cosωt表示所述發(fā)光模塊200受到的擾力，f0為擾力的力幅(即擾力的最大值)，ω為擾力的頻率，簡(jiǎn)稱擾頻，而a定義為a＝f0/k，即所述發(fā)光模塊200在靜力條件下受一個(gè)大小為f0的力作用時(shí)的位移，它是與時(shí)間無(wú)關(guān)的常量。

(1)式是簡(jiǎn)諧強(qiáng)迫振動(dòng)(又稱“受迫振動(dòng)”)的動(dòng)力學(xué)方程形式，是一個(gè)二階常系數(shù)線性非齊次微分方程，求解穩(wěn)態(tài)下的方程特解為：

x(t)＝acos(ωt-θ).........(2)

其中，a是振幅，θ是位移相對(duì)激勵(lì)的相角，均是與時(shí)間無(wú)關(guān)的常數(shù)。由此可見(jiàn)，本發(fā)明實(shí)施例所提供的波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置中，所述發(fā)光模塊200在做簡(jiǎn)諧強(qiáng)迫振動(dòng)時(shí)，其振動(dòng)曲線仍然遵從正弦規(guī)律或余弦規(guī)律，是一條正弦或余弦曲線。在上述實(shí)施例的基礎(chǔ)上，在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，如圖6所示，所述第一振動(dòng)系統(tǒng)300包括：

與所述發(fā)光模塊200滑動(dòng)連接的滑軌301；

相對(duì)設(shè)置在所述滑軌301兩端的第一電磁端子302和第二電磁端子303；

固定于所述發(fā)光模塊200朝向所述第一電磁端子302一端的第一磁子304，所述第一磁子304與所述第一電磁端子302通過(guò)彈性部件固定連接；

固定于所述發(fā)光模塊200朝向所述第二電磁端子303一端的第二磁子306，所述第二磁子306與所述第二電磁端子303通過(guò)彈性部件固定連接；

分別與所述第一電磁端子302和所述第二電磁端子303電連接的電磁控制器307，所述電磁控制器307以預(yù)設(shè)頻率調(diào)節(jié)所述第一電磁端子302和所述第二電磁端子303的磁性。

具體的，所述波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置工作時(shí)，所述電磁控制器307先通過(guò)調(diào)節(jié)所述第一電磁端子302和所述第二電磁端子303的磁性，使得所述第一電磁端子302與所述第一磁子304之間的作用力為吸引力，所述第二電磁端子303與所述第二磁子306之間作用力為排斥力，此時(shí)，所述發(fā)光模塊200朝向所述第一電磁端子302一側(cè)運(yùn)動(dòng)，在這個(gè)運(yùn)動(dòng)過(guò)程中，所述第一電磁端子302與所述第一磁子304之間的彈性部件逐漸壓縮，所述第二電磁端子303與所述第二磁子306之間的彈性部件逐漸拉伸，當(dāng)所述發(fā)光模塊200向所述第一電磁端子302移動(dòng)至第一預(yù)設(shè)位置時(shí)，所述電磁控制器307通過(guò)調(diào)節(jié)所述第一電磁端子302和所述第二電磁端子303的磁性，使得所述第一電磁端子302與所述第一磁子304之間的作用力變換為排斥力，所述第二電磁端子303與所述第二磁子306之間的作用力變?yōu)槲?，所述發(fā)光模塊200停止向所述第一電磁端子302運(yùn)動(dòng)，轉(zhuǎn)向所述第二電磁端子303運(yùn)動(dòng)，直至向所述第二電磁端子303運(yùn)動(dòng)至第二預(yù)設(shè)位置時(shí)，所述電磁控制器307再次調(diào)節(jié)所述第一電磁端子302和所述第二電磁端子303的磁性，使得所述第一電磁端子302與所述第一磁子304之間的作用力變回吸引力，所述第二電磁端子303與所述第二磁子306之間的作用力變回吸引力，以此類(lèi)推，實(shí)現(xiàn)所述發(fā)光模塊200的諧振振動(dòng)。

在上述實(shí)施例的基礎(chǔ)上，在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，如圖7所示，所述電磁控制器307包括：

第一電源調(diào)節(jié)器3071，與所述第一電源調(diào)節(jié)器3071兩端電連接的第一導(dǎo)線3072，所述第一導(dǎo)線3072螺旋纏繞在所述第一電磁端子302上，所述第一電源調(diào)節(jié)器3071通過(guò)調(diào)節(jié)輸入所述第一導(dǎo)線3072內(nèi)的電流方向，調(diào)節(jié)所述第一電磁端子302的磁性，通過(guò)調(diào)節(jié)流入所述第一導(dǎo)線3072的電流大小，調(diào)節(jié)所述第一電磁端子302與所述第一磁子304之間的作用力大??；

第二電源調(diào)節(jié)器3073，與所述第二電源調(diào)節(jié)器3073電連接的第二導(dǎo)線3074，所述第二導(dǎo)線3074螺旋纏繞在所述第二電磁端子303，所述第二電源調(diào)節(jié)器3073通過(guò)調(diào)節(jié)流入所述第二導(dǎo)線3074的電流方向，調(diào)節(jié)所述第二電磁端子303的磁性，通過(guò)調(diào)節(jié)流入所述第二導(dǎo)線3074的電流的大小，調(diào)節(jié)所述第二電磁端子303與所述第二磁子306之間的作用力大小。優(yōu)選的，所述第一電源調(diào)節(jié)器3071和第二電源調(diào)節(jié)器3073的輸出信號(hào)為脈沖信號(hào)。

需要說(shuō)明的是，在本發(fā)明實(shí)施例中，所述第一電源調(diào)節(jié)器3071與所述第二電源調(diào)節(jié)器3073的輸出信號(hào)的脈沖頻率相同，以保證所述第一電磁端子302與所述第一磁子304之間的作用力方向和所述第二電磁端子303與所述第二磁子306之間的作用力方向同時(shí)變化，使得所述發(fā)光模塊200做周期性簡(jiǎn)諧振動(dòng)。

如圖8和圖9所示，圖8和圖9示出了本發(fā)明一個(gè)具體實(shí)施例中，所述第一電源調(diào)節(jié)器3071輸出的電流信號(hào)隨時(shí)間的變化的兩種曲線示意圖。需要說(shuō)明的是，在本實(shí)施例中，當(dāng)所述第一磁子304與所述第二磁子306磁性相反時(shí)，所述第一電源調(diào)節(jié)器3071輸出的電流信號(hào)與所述第二電源調(diào)節(jié)器3073輸出的電流信號(hào)大小相同，方向相同；當(dāng)所述第一磁子304與所述第二磁子306磁性相同時(shí)，所述第一電源調(diào)節(jié)器3071輸出的電流信號(hào)與所述第二電源調(diào)節(jié)器3073輸出的電流信號(hào)大小相同，方向相反，本發(fā)明對(duì)此并不做限定，具體視情況而定。

還需要說(shuō)明的是，在本發(fā)明的其他實(shí)施例中，還可以采用其他方式使得所述發(fā)光模塊200做往復(fù)運(yùn)動(dòng)甚至簡(jiǎn)諧振動(dòng)，如機(jī)械振動(dòng)馬達(dá)、高頻線性振動(dòng)馬達(dá)等，本發(fā)明對(duì)此并不做限定，具體視情況而定。

在上述任一實(shí)施例的基礎(chǔ)上，在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，所述滑軌301與所述發(fā)光模塊200之間的接觸面涂覆有潤(rùn)滑劑，以降低所述滑軌301與所述發(fā)光模塊200之間的滑動(dòng)摩擦力；在本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施例中，所述滑軌301與所述發(fā)光模塊200之間設(shè)置有滾珠，所述發(fā)光模塊200與所述滑軌301之間通過(guò)所述滾珠滑動(dòng)電連接，以降低所述發(fā)光模塊200與所述滑軌301之間的摩擦力，本發(fā)明對(duì)此并不做限定，在本發(fā)明的其他實(shí)施例中，所述發(fā)光模塊200與所述滑軌301之間還可以通過(guò)其他方式滑動(dòng)連接，具體視情況而定。

在上述任一實(shí)施例的基礎(chǔ)上，在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，所述導(dǎo)熱基層202可以為透射式導(dǎo)熱基層202，也可以為反射式導(dǎo)熱基層202，本發(fā)明對(duì)此并不做限定，具體視情況而定。需要說(shuō)明的是，當(dāng)所述導(dǎo)熱基層202為透射式導(dǎo)熱基層202時(shí)，所述導(dǎo)熱基層202可以為藍(lán)寶石層，也可以為透明氮化硅陶瓷層等；當(dāng)所述導(dǎo)熱基層202為反射式導(dǎo)熱基層202時(shí)，所述導(dǎo)熱基層202可以為單一的陶瓷反射基板，也可以為反射膜與散熱基板的組合結(jié)構(gòu)，本發(fā)明對(duì)此并不做限定，具體視情況而定。

在上述實(shí)施例的基礎(chǔ)上，當(dāng)所述導(dǎo)熱基層202為反射式導(dǎo)熱基層202時(shí)，在本發(fā)明一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，如圖10所示，所述發(fā)光模塊200還包括：固定于所述導(dǎo)熱基層202背離所述發(fā)光層201一側(cè)的熱電制冷芯片203，所述熱電制冷芯片203用于調(diào)節(jié)所述導(dǎo)熱基層202背離所述發(fā)光層201一側(cè)端面的溫度，從而進(jìn)一步增強(qiáng)所述波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置的散熱效果。

具體的，在本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，所述熱電制冷片203與所述導(dǎo)熱基層202之間通過(guò)粘接層固定連接，所述熱電制冷片203與所述發(fā)光模塊200一起做往復(fù)運(yùn)動(dòng)，從而使得所述波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置工作時(shí)，所述熱電制冷片203通電后，通過(guò)調(diào)節(jié)其電壓或電流，從而調(diào)節(jié)所述導(dǎo)熱基層202背離所述激發(fā)光源100一側(cè)的溫度，從而實(shí)現(xiàn)所述導(dǎo)熱基層202的溫度調(diào)節(jié)。需要說(shuō)明的是，在本發(fā)明實(shí)施例中，所述粘接層優(yōu)選為導(dǎo)熱層，以保證所述熱電制冷片203與所述導(dǎo)熱基層202之間良好的傳熱效果，提高所述熱電制冷片的散熱效果。

在上述任一實(shí)施例的基礎(chǔ)上，在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，所述波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置還包括：

位于所述發(fā)光模塊200背離所述激發(fā)光源100一側(cè)的第二振動(dòng)系統(tǒng)(圖中未示出)，用于帶動(dòng)所述發(fā)光模塊200沿第二預(yù)設(shè)方向做周期性勻速往復(fù)運(yùn)動(dòng)，其中，所述第二預(yù)設(shè)方向與所述第一預(yù)設(shè)方向不平行，以增加所述激光光源的光斑在單位時(shí)間內(nèi)的掃描面積，從而進(jìn)一步降低所述發(fā)光模塊200內(nèi)的發(fā)光層201在單位時(shí)間和單位面積下所承受的能量密度，提高所述波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置的發(fā)光效率和可靠性。

在上述實(shí)施例的基礎(chǔ)上，在本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，所述第一預(yù)設(shè)方向和所述第二預(yù)設(shè)方向垂直。如圖11所示，圖11中示出了本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例所提供的波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置工作過(guò)程中，所述發(fā)光模塊200的俯視圖、所述激發(fā)光源100發(fā)出的激發(fā)光的會(huì)聚光斑d以及光斑在所述發(fā)光模塊200上的運(yùn)動(dòng)軌跡c。從圖11中可以看出，本發(fā)明所提供的波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置中，第一預(yù)設(shè)方向與第二預(yù)設(shè)方向相垂直，通過(guò)所述發(fā)光模塊200的第一預(yù)設(shè)方向往復(fù)運(yùn)動(dòng)和第二預(yù)設(shè)方向的往復(fù)運(yùn)動(dòng)，進(jìn)一步增加了所述激發(fā)光的會(huì)聚光斑d在單位時(shí)間內(nèi)的掃描面積，從而有效降低了所述發(fā)光模塊中的發(fā)光層201在單位時(shí)間和單位面積下所承受的能量密度，提高了所述波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置的散熱效果，提高了所述波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置的發(fā)光效率。

在上述實(shí)施例的基礎(chǔ)上，在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，所述發(fā)光模塊200沿第二預(yù)設(shè)方向做周期性勻速往復(fù)運(yùn)動(dòng)的周期大于或等于所述發(fā)光模塊200沿第一預(yù)設(shè)方向做往復(fù)運(yùn)動(dòng)的周期，避免發(fā)光模塊200沿第二預(yù)設(shè)方向運(yùn)動(dòng)頻率過(guò)高而使同一區(qū)域在一個(gè)周期內(nèi)被多次照射。優(yōu)選的，所述發(fā)光模塊200沿第二預(yù)設(shè)方向做周期性往復(fù)運(yùn)動(dòng)的運(yùn)動(dòng)速率位于0m/s-1.5m/s范圍內(nèi)，不包括左端點(diǎn)值(需要說(shuō)明的是，左端點(diǎn)值即為只包括第一預(yù)設(shè)方向運(yùn)動(dòng)的方案)，包括右端點(diǎn)值。

在上述任一實(shí)施例的基礎(chǔ)上，在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，如圖12所示，所述發(fā)光層201包括沿第一預(yù)設(shè)方向設(shè)置的多個(gè)發(fā)光區(qū)域，所述多個(gè)發(fā)光區(qū)域包括：紅色發(fā)光區(qū)域r、綠色發(fā)光區(qū)域g、藍(lán)色發(fā)光區(qū)域b、黃色發(fā)光區(qū)域y中的至少兩種，即所述多個(gè)發(fā)光區(qū)域可以包括紅色發(fā)光區(qū)域r、綠色發(fā)光區(qū)域g、藍(lán)色發(fā)光區(qū)域b、黃色發(fā)光區(qū)域y中兩種，也可以包括紅色發(fā)光區(qū)域r、綠色發(fā)光區(qū)域g、藍(lán)色發(fā)光區(qū)域b、黃色發(fā)光區(qū)域y中的三種，還可以包括紅色發(fā)光區(qū)域r、綠色發(fā)光區(qū)域g、藍(lán)色發(fā)光區(qū)域b、黃色發(fā)光區(qū)域y四種，本發(fā)明對(duì)此并不做限定，具體視情況而定。

需要說(shuō)明的是，在上述實(shí)施例的基礎(chǔ)上，在本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，所述多個(gè)發(fā)光區(qū)域沿第一預(yù)設(shè)方向的寬度不完全相同，從而使得本發(fā)明實(shí)施例所提供的波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置可以根據(jù)所述多個(gè)發(fā)光區(qū)域中各發(fā)光區(qū)域的寬度來(lái)調(diào)整相應(yīng)各色光的占比。在本發(fā)明其他實(shí)施例中，所述多個(gè)發(fā)光區(qū)域沿第一預(yù)設(shè)方向的寬度也可以相同，本發(fā)明實(shí)施例對(duì)所述多個(gè)發(fā)光區(qū)域的寬度并不做限定，具體視所述波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置的發(fā)光需求而定。

在上述實(shí)施例的基礎(chǔ)上，在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，所述發(fā)光層201通過(guò)硅膠與熒光粉混合成型；在本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施例中，所述發(fā)光層201通過(guò)樹(shù)脂與熒光粉混合成型；在本發(fā)明的又一個(gè)實(shí)施例中，所述發(fā)光層201通過(guò)熒光粉與無(wú)機(jī)粘接劑燒結(jié)成型；在本發(fā)明的再一個(gè)實(shí)施例中，所述發(fā)光層201為包括含熒光粉的發(fā)光陶瓷，優(yōu)選的，所述發(fā)光層201為包括純相的熒光陶瓷，在本發(fā)明的其他實(shí)施例中，所述發(fā)光層201還可以通過(guò)其他形式形成，本發(fā)明對(duì)此并不做限定，具體視情況而定。

相應(yīng)的，本發(fā)明實(shí)施例還包括了一種包括上述任一實(shí)施例所提供的波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置的投影系統(tǒng)。

綜上所述，本發(fā)明實(shí)施例所提供的波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置和包括該波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置的投影系統(tǒng)，除包括：用于發(fā)出激發(fā)光的激發(fā)光源100和用于接收所述激發(fā)光并將其轉(zhuǎn)換成特定波長(zhǎng)的光線射出的發(fā)光模塊200外，還包括位于所述發(fā)光模塊200背離所述激發(fā)光源100一側(cè)，用于帶動(dòng)所述發(fā)光模塊200沿第一預(yù)設(shè)方向做往復(fù)運(yùn)動(dòng)的第一振動(dòng)系統(tǒng)300，從而使得本發(fā)明實(shí)施例所提供的波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置中，通過(guò)所述發(fā)光模塊200的往復(fù)運(yùn)動(dòng)增加了所述激發(fā)光的會(huì)聚光斑在單位時(shí)間內(nèi)的掃描面積，而非讓所述激發(fā)光的會(huì)聚光斑的掃描面積固定集中于所述發(fā)光模塊200的某一區(qū)域，有效降低了所述發(fā)光模塊200中的發(fā)光層在單位時(shí)間和單位面積下所承受的能量密度，提高了所述波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置的散熱效果，提高了所述波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置的發(fā)光效率。

本說(shuō)明書(shū)中各個(gè)部分采用遞進(jìn)的方式描述，每個(gè)部分重點(diǎn)說(shuō)明的都是與其他部分的不同之處，各個(gè)部分之間相同相似部分互相參見(jiàn)即可。

對(duì)所公開(kāi)的實(shí)施例的上述說(shuō)明，使本領(lǐng)域?qū)I(yè)技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)或使用本發(fā)明。對(duì)這些實(shí)施例的多種修改對(duì)本領(lǐng)域的專業(yè)技術(shù)人員來(lái)說(shuō)將是顯而易見(jiàn)的，本文中所定義的一般原理可以在不脫離本發(fā)明的精神或范圍的情況下，在其它實(shí)施例中實(shí)現(xiàn)。因此，本發(fā)明將不會(huì)被限制于本文所示的實(shí)施例，而是要符合與本文所公開(kāi)的原理和新穎特點(diǎn)相一致的最寬的范圍。