本發(fā)明是關(guān)于移動體裝置、曝光裝置、平板顯示器的制造方法、組件制造方法及移動體驅(qū)動方法，詳言之，是關(guān)于沿既定2維平面驅(qū)動移動體的移動體裝置及移動體驅(qū)動方法、包含前述移動體裝置的曝光裝置、使用前述曝光裝置的平板顯示器的制造方法及使用前述曝光裝置的組件制造方法。

背景技術(shù)：

一直以來，于制造液晶顯示組件、半導(dǎo)體組件(集成電路等)等電子組件(微組件)的微影制程，是使用一邊使光罩(photomask)或標(biāo)線片(以下，統(tǒng)稱「光罩」)與玻璃板或晶圓(以下，統(tǒng)稱「基板」)沿既定掃描方向(scan方向)同步移動、一邊將形成在光罩的圖案使用能量束轉(zhuǎn)印至基板上的步進(jìn)掃描(step&scan)方式的曝光裝置(所謂的掃描步進(jìn)機(jī)(亦稱掃描機(jī)))等。

作為此種曝光裝置，以具備使用基板載臺裝置所具有的棒狀反射鏡(長條鏡)求出曝光對象基板于水平面內(nèi)的位置信息的光干涉儀計(jì)系統(tǒng)者廣為人知(例如，參照專利文獻(xiàn)1)。

此處，使用光干涉儀系統(tǒng)求出基板的位置信息的情形時(shí)，無法忽視所謂空氣波動的影響。此外，上述空氣波動的影響雖能藉由編碼器系統(tǒng)的使用加以降減，但因近年來基板的大型化，欲準(zhǔn)備一能涵蓋基板全移動范圍的標(biāo)尺是非常困難的。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

[專利文獻(xiàn)1]美國專利申請公開第2010/0018950號說明書

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

用來解決課題的手段

本發(fā)明有鑒于上述情事而生，其第1觀點(diǎn)是一種移動體裝置，其具備：可沿著包含彼此正交的第1及第2方向的既定2維平面移動的第1移動體；可沿該第1方向與該第1移動體同步移動；第1測量系，包含標(biāo)尺及讀頭中的一方設(shè)置在該第1移動體且該標(biāo)尺與該讀頭中的另一方設(shè)置在該第2移動體的第1編碼器系統(tǒng)，根據(jù)該讀頭的輸出求出至少于該第2方向的該第1移動體的位置信息的第2移動體；用來求出該第2移動體于該第1方向的位置信息的第2測量系；以及根據(jù)該第1及第2測量系的輸出，進(jìn)行該第1移動體于該2維平面內(nèi)的位置控制的位置控制系。

此處，本說明書中，所謂「同步移動」，是指第1及第2移動體在大致維持相對位置關(guān)系的狀態(tài)下移動之意，并不限于位置(移動方向及速度)必須是在嚴(yán)密一致的狀態(tài)下移動的情形。

據(jù)此，第1移動體于第2方向的位置信息可以第1編碼器系統(tǒng)加以求出。此處，由于第2移動體是與第1移動體同步往第1方向移動，因此第1編碼器系統(tǒng)可與第1移動體于第1方向的位置無關(guān)地求出該第1移動體于第2方向的位置信息。而且，第1移動體于第1方向的位置信息可根據(jù)第2測量系的輸出加以求出。如以上所述，第1編碼器系統(tǒng)僅需涵蓋第1移動體于第2方向的移動范圍即可，效率佳。

本發(fā)明第2觀點(diǎn)是一種曝光裝置，其具備：既定物體被保持在該第1移動體的本發(fā)明第1觀點(diǎn)的移動體裝置；以及一邊將保持既定圖案的圖案保持體與該第1移動體同步驅(qū)動于該第2方向、一邊使用能量束透過該圖案保持體于該物體形成該圖案的圖案形成裝置。

本發(fā)明第3觀點(diǎn)是一種平板顯示器的制造方法，其包含：使用本發(fā)明第2觀點(diǎn)的曝光裝置使前述物體曝光，以及使曝光后前述物體顯影。

本發(fā)明第4觀點(diǎn)是一種組件制造方法，其包含；使用本發(fā)明第2觀點(diǎn)的曝光裝置使前述物體曝光，以及使曝光后前述物體顯影。

本發(fā)明第5觀點(diǎn)是一種移動體的驅(qū)動方法，是沿著包含彼此正交的第1及第2方向的既定2維平面驅(qū)動移動體，其包含：根據(jù)在第1移動體與和該第1移動體相向配置的第2移動體中的一方設(shè)置讀頭，且在該第1及第2移動體中的另一方設(shè)置標(biāo)尺的編碼器系統(tǒng)的輸出，將該第1移動體驅(qū)動于該第2方向的動作；將該第1移動體驅(qū)動于該第1方向的動作；在該第1移動體往該第1方向移動時(shí)，將該第2移動體與該第1移動體同步驅(qū)動于該第1方向的動作；以及根據(jù)從該編碼器系統(tǒng)的輸出求出的該第1移動體于該第2方向的位置信息，和該第2移動體于該第1方向的位置信息，進(jìn)行該第1移動體于該2維平面內(nèi)的位置控制的動作。

本發(fā)明第6觀點(diǎn)是一種移動體裝置，其具備：可往第1方向移動的第1移動體；與該第1移動體相向配置，可往與該第1方向交叉的第2方向移動的第2移動體；對應(yīng)該第1移動體于該第2方向的動作，使該第2移動體往該第2方向移動的驅(qū)動系；包含發(fā)出測量光束的讀頭及該測量光束照射的標(biāo)尺中的一方配置在該第1移動體、該讀頭及該標(biāo)尺中的另一方配置在該第2移動體的第1編碼器系統(tǒng)，根據(jù)接收透過該標(biāo)尺的該測量光束的該讀頭的輸出，求出該第1移動體與該第2移動體間的相對位置信息的第1測量系；求出與該相對位置信息不同的該第2移動體的位置信息的第2測量系；以及根據(jù)該第1及第2測量系的輸出進(jìn)行該第1移動體的位置控制的位置控制系。

附圖說明

圖1是概略顯示第1實(shí)施方式的液晶曝光裝置的構(gòu)成的圖。

圖2是顯示圖1的液晶曝光裝置所具備的基板載臺裝置的一例的圖。

圖3(A)是概略顯示光罩編碼器系統(tǒng)的構(gòu)成的圖，圖3(B)是光罩編碼器系統(tǒng)的一部分(圖3(A)的A部)的放大圖。

圖4(A)是概略顯示基板編碼器系統(tǒng)的構(gòu)成的圖，圖4(B)及圖4(C)是基板編碼器系統(tǒng)的一部分(圖4(A)的B部)的放大圖。

圖5是基板編碼器系統(tǒng)所具有的讀頭單元的側(cè)視圖。

圖6是圖5的C－C線剖面圖。

圖7是基板編碼器系統(tǒng)的概念圖。

圖8是顯示以液晶曝光裝置的控制系為中心構(gòu)成的主控制裝置的輸出入關(guān)系的方塊圖。

圖9(A)是顯示光罩編碼器系統(tǒng)于曝光動作時(shí)的動作的圖(其1)，圖9(B)是顯示基板編碼器系統(tǒng)于曝光動作時(shí)的動作的圖(其1)。

圖10(A)是顯示光罩編碼器系統(tǒng)于曝光動作時(shí)的動作的圖(其2)，圖10(B)是顯示基板編碼器系統(tǒng)于曝光動作時(shí)的動作的圖(其2)。

圖11(A)是顯示光罩編碼器系統(tǒng)于曝光動作時(shí)的動作的圖(其3)，圖11(B)是顯示基板編碼器系統(tǒng)于曝光動作時(shí)的動作的圖(其3)。

圖12(A)是顯示光罩編碼器系統(tǒng)于曝光動作時(shí)的動作的圖(其4)，圖12(B)是顯示基板編碼器系統(tǒng)于曝光動作時(shí)的動作的圖(其4)。

圖13(A)是顯示光罩編碼器系統(tǒng)于曝光動作時(shí)的動作的圖(其5)，圖13(B)是顯示基板編碼器系統(tǒng)于曝光動作時(shí)的動作的圖(其5)。

圖14(A)是顯示光罩編碼器系統(tǒng)于曝光動作時(shí)的動作的圖(其6)，圖14(B)是顯示基板編碼器系統(tǒng)于曝光動作時(shí)的動作的圖(其6)。

圖15(A)是顯示光罩編碼器系統(tǒng)于曝光動作時(shí)的動作的圖(其7)，圖15(B)是顯示基板編碼器系統(tǒng)于曝光動作時(shí)的動作的圖(其7)。

圖16(A)是顯示光罩編碼器系統(tǒng)于曝光動作時(shí)的動作的圖(其8)，圖16(B)是顯示基板編碼器系統(tǒng)于曝光動作時(shí)的動作的圖(其8)。

圖17是第2實(shí)施方式的光罩編碼器系統(tǒng)的部分放大圖。

圖18是第3實(shí)施方式的基板編碼器系統(tǒng)的部分放大圖。

具體實(shí)施方式

《第1實(shí)施方式》

以下，使用圖1～圖16(B)說明第1實(shí)施方式。

圖1中概略顯示了第1實(shí)施方式的液晶曝光裝置10的構(gòu)成。液晶曝光裝置10是以例如用于液晶顯示設(shè)備(平板顯示器)等的矩形(方型)玻璃基板P(以下，僅稱為基板P)為曝光對象物的步進(jìn)掃描方式的投影曝光裝置、所謂的掃描機(jī)(scanner)。

液晶曝光裝置10，具有照明系12、保持形成有電路圖案等的光罩M的光罩載臺裝置14、投影光學(xué)系16、裝置本體18、保持表面(圖1中朝向+Z側(cè)的面)涂有抗蝕劑(感應(yīng)劑)的基板P的基板載臺裝置20，以及此等的控制系等。以下，是設(shè)曝光時(shí)光罩M與基板P相對投影光學(xué)系16分別掃描的方向?yàn)閄軸方向、于水平面內(nèi)與X軸正交的方向?yàn)閅軸方向，和X軸及Y軸正交的方向?yàn)閆軸方向，繞X軸、Y軸及Z軸旋轉(zhuǎn)的方向分別為θx、θy及θz方向進(jìn)行說明。而且，于X軸、Y軸及Z軸方向的位置分別為X位置、Y位置及Z位置進(jìn)行說明。

照明系12，具有與例如美國專利第5,729,331號說明書等所揭示的照明系相同構(gòu)成。照明系12，是使從未圖示的光源(例如水銀燈)射出的光分別經(jīng)由未圖示的反射鏡、分光鏡、光閘(shutter)、波長選擇濾波器、各種透鏡等而作為曝光用照明光(照明光)IL照射于光罩M。照明光IL，是使用例如i線(波長365nm)、g線(波長436nm)、h線(波長405nm)等的光(或上述i線、g線、h線的合成光)。

光罩載臺裝置14，包含將光罩M以例如真空吸附加以保持的光罩保持具40、用來于掃描方向(X軸方向)以既定長行程驅(qū)動光罩保持具40并于Y軸方向及θz方向適當(dāng)?shù)募右晕⒎?qū)動的光罩驅(qū)動系91(圖1中未圖示。參照圖8)，以及用來求出光罩保持具40于XY平面內(nèi)的位置信息(亦含θz方向的旋轉(zhuǎn)量信息。以下同)的光罩位置測量系。光罩保持具40是由例如美國專利申請公開第2008/0030702號說明書所揭示的由形成有俯視矩形開口部的框狀構(gòu)件構(gòu)成。光罩保持具40是透過例如空氣軸承(未圖示)裝載在固定于裝置本體18的部分上架臺部18a的一對光罩導(dǎo)件42上。光罩驅(qū)動系91包含例如線性馬達(dá)(未圖示)。

光罩位置測量系具備光罩編碼器系統(tǒng)48，光罩編碼器系統(tǒng)48包含透過編碼器基座43固定在上架臺部18a的一對編碼器讀頭單元44(以下，僅稱為讀頭單元44)，和在光罩保持具40的下面對應(yīng)上述一對讀頭單元44配置的多個(gè)編碼器標(biāo)尺46(圖1中在往紙面深度方向重迭。參照圖3(A))。關(guān)于光罩編碼器系統(tǒng)48的構(gòu)成，待后詳述。

投影光學(xué)系16配置在光罩載臺裝置14的下方。投影光學(xué)系16具有與例如美國專利第6,552,775號說明書等所揭示的投影光學(xué)系相同構(gòu)成，是所謂的多透鏡投影光學(xué)系，具備例如兩側(cè)遠(yuǎn)心的等倍系且形成正立正像的多個(gè)(本實(shí)施方式中例如是11只。參照圖3(A))的光學(xué)系。

于液晶曝光裝置10，當(dāng)以來自照明系12的照明光IL照明光罩M上的照明區(qū)域時(shí)，藉由通過光罩M的照明光，透過投影光學(xué)系16將該照明區(qū)域內(nèi)的光罩M的電路圖案的投影像(部分正立像)，形成于基板P上與照明區(qū)域共軛的照明光的照射區(qū)域(曝光區(qū)域)。接著，藉由光罩M相對照明區(qū)域(照明光IL)于掃描方向相對移動且基板P相對曝光區(qū)域(照明光IL)于掃描方向相對移動，據(jù)以進(jìn)行基板P上的1個(gè)照射(shot)區(qū)域的掃描曝光，于該照射區(qū)域轉(zhuǎn)印形成在光罩M的圖案。

裝置本體18支承上述光罩載臺裝置14及投影光學(xué)系16，透過多個(gè)防振裝置19設(shè)置在無塵室的地面11上。裝置本體18，具有與例如美國專利申請公開第2008/0030702號說明書所揭示的裝置本體相同的構(gòu)成，具有支承上述投影光學(xué)系16的架臺部18a(亦稱光學(xué)平臺等)、一對下架臺部18b(圖1中，由于是于紙面深度方向重迭，僅顯示一方。參照圖2。)及一對中架臺部18c。

基板載臺裝置20是用來將基板P相對投影光學(xué)系16(曝光光IL)高精度定位之物，沿水平面(X軸方向及Y軸方向)以既定長行程驅(qū)動基板P并于6自由度方向微驅(qū)動該基板P?；遢d臺裝置20的構(gòu)成雖無特別限定，但以使用例如美國專利申請公開第2008/129762號說明書、或美國專利申請公開第2012/0057140號說明書等所揭示的包含門型(gantry)的2維粗動載臺，和相對該2維粗動載臺微驅(qū)動的微動載臺的所謂的粗微動構(gòu)成的載臺裝置較佳。

圖2中顯示了于本實(shí)施方式的液晶曝光裝置10所使用的所謂粗微動構(gòu)成的基板載臺裝置20的一例。基板載臺裝置20，具備一對底座22、Y粗動載臺24、X粗動載臺26、重量抵消裝置28、Y步進(jìn)導(dǎo)件30、微動載臺32。

底座22由延伸于Y軸方向的構(gòu)件構(gòu)成，在與裝置本體18振動上絶緣的狀態(tài)下，設(shè)置在地面11上。而且，于裝置本體18的一對下架臺部18b之間配置有輔助底座23。Y粗動載臺24具有架設(shè)在一對底座22間的一對(圖2中一方未圖示)的X梁25。前述輔助底座23從下方支承X梁25的長邊方向中間部。Y粗動載臺24，是透過用來將基板P驅(qū)動于6自由度方向的基板驅(qū)動系93(圖2中未圖示。參照圖8)的一部分的多個(gè)Y線性馬達(dá)，在一對底座22上于Y軸方向以既定長行程被驅(qū)動。X粗動載臺26是在架設(shè)于一對X梁25間的狀態(tài)裝載于Y粗動載臺24上。X粗動載臺26透過作為基板驅(qū)動系93的一部分的多個(gè)X線性馬達(dá)，在Y粗動載臺24上于X軸方向以既定長行程被驅(qū)動。而且，X粗動載臺26相于對Y粗動載臺24的往Y軸方向的相對移動受機(jī)械性的限制，而與Y粗動載臺24一體的往Y軸方向移動。

重量抵消裝置28插入在一對X梁25之間，且機(jī)械性連接于X粗動載臺26。據(jù)此，重量抵消裝置28即與X粗動載臺26一體的于X軸及/或Y軸方向以既定長行程移動。Y步進(jìn)導(dǎo)件30由延伸于X軸方向的構(gòu)件構(gòu)成，機(jī)械性的連接于Y粗動載臺24。據(jù)此，Y步進(jìn)導(dǎo)件30即與Y粗動載臺24一體的于Y軸方向以既定長行程移動。上述重量抵消裝置28透過多個(gè)空氣軸承裝載于Y步進(jìn)導(dǎo)件30上。重量抵消裝置28，在X粗動載臺26僅于X軸方向移動時(shí)，是于靜止?fàn)顟B(tài)的Y步進(jìn)導(dǎo)件30上移動于X軸方向，在X粗動載臺26于Y軸方向移動時(shí)(亦包含伴隨往X軸方向的移動的情形)則與Y步進(jìn)導(dǎo)件30一體的(以不會從Y步進(jìn)導(dǎo)件30脫落的方式)于Y軸方向移動。

微動載臺32由俯視矩形的板狀(或箱形)構(gòu)件構(gòu)成，在中央部透過球面軸承裝置29相對XY平面成擺動自如的狀態(tài)被重量抵消裝置28從下方支承。于微動載臺32的上面固定有基板保持具34，于該基板保持具34上裝載基板P。微動載臺32透過包含X粗動載臺26所具有的固定子與微動載臺32所具有的可動子、構(gòu)成上述基板驅(qū)動系93(圖2中未圖示。參照圖8)的一部分的多個(gè)線性馬達(dá)33(例如、音圈馬達(dá))，相對X粗動載臺26被微驅(qū)動于6自由度方向。而且，微動載臺32是藉由透過上述多個(gè)線性馬達(dá)33由X粗動載臺26賦予的推力，與該X粗動載臺26一起于X軸及/或Y軸方向以既定長行程移動。以上說明的基板載臺裝置20的構(gòu)成(除測量系外)，以揭露于例如美國專利申請公開第2012/0057140號說明書。

而且，基板載臺裝置20具有用來求出微動載臺32(亦即基板保持具34及基板P)的6自由度方向位置信息的基板位置測量系?；逦恢脺y量系，如圖8所示，包含用來求出基板P的Z軸、θx、θy方向(以下，稱Z傾斜方向)的位置信息的Z傾斜位置測量系98及用來求出基板P于XY平面內(nèi)的位置信息的基板編碼器系統(tǒng)50。Z傾斜位置測量系98，如圖2所示，具備多個(gè)包含安裝在微動載臺32下面的探針36a，和安裝在重量抵消裝置28的目標(biāo)36b的Z傳感器36。多個(gè)Z傳感器36，例如是繞著與通過微動載臺32中心的Z軸平行的軸線以既定間隔、例如配置有4個(gè)(至少3個(gè))。主控制裝置90(參照圖8)根據(jù)上述多個(gè)Z傳感器36的輸出，求出微動載臺32的Z位置信息及θx及θy方向的旋轉(zhuǎn)量信息。包含上述Z傳感器36的Z傾斜位置測量系98的構(gòu)成，例如已詳細(xì)揭露于美國專利申請公開第2010/0018950號說明書?；寰幋a器系統(tǒng)50的構(gòu)成留待后敘。

其次，使用圖3(A)及圖3(B)說明光罩編碼器系統(tǒng)48的構(gòu)成。如圖3(A)的示意圖所示，在光罩保持具40的光罩M(詳言之，是用來收容光罩M的未圖示的開口部)的+Y側(cè)及－Y側(cè)區(qū)域，分別配置有多個(gè)編碼器標(biāo)尺46(以下，僅稱標(biāo)尺46)。而且，為易于理解，圖3(A)中，多個(gè)標(biāo)尺46是以實(shí)線標(biāo)示，且配置在光罩保持具40的上面，但實(shí)際上，如圖1所示，多個(gè)標(biāo)尺46是以多個(gè)標(biāo)尺46各個(gè)的下面的Z位置與光罩M的下面(圖案面)的Z位置一致的方式，配置在光罩保持具40的下面?zhèn)取?/p>

本實(shí)施方式的光罩保持具40，于光罩M的+Y側(cè)及－Y側(cè)的區(qū)域，分別有標(biāo)尺46于X軸方向以既定間隔例如配置有3個(gè)。亦即，光罩保持具40，合計(jì)有例如6個(gè)標(biāo)尺46。多個(gè)標(biāo)尺46的每一個(gè)，除了在光罩M的+Y側(cè)與－Y側(cè)以紙面上下對稱的方式配置外，為實(shí)質(zhì)相同之物。標(biāo)尺46，例如是由以石英玻璃形成的延伸于X軸方向的俯視矩形的板狀(帶狀)的構(gòu)件構(gòu)成。光罩保持具40例如是以陶瓷形成，多個(gè)標(biāo)尺46是固定于光罩保持具40。

如圖3(B)所示，于標(biāo)尺46的下面(本實(shí)施方式中，為朝向－Z側(cè)的面)中、寬度方向的一側(cè)(圖3(B)中，為－Y側(cè))的區(qū)域，形成有X標(biāo)尺47x。而且，于標(biāo)尺46的下面中、寬度方向的另一側(cè)(圖3(B)中，為+Y側(cè))的區(qū)域，形成有Y標(biāo)尺47y。X標(biāo)尺47x是由具有以既定節(jié)距于X軸方向形成(以X軸方向?yàn)橹芷诜较?的延伸于Y軸方向的多個(gè)格子線的反射型繞射格子(X光柵)構(gòu)成。同樣地，Y標(biāo)尺47y是由具有以既定節(jié)距于Y軸方向形成(以Y軸方向?yàn)橹芷诜较?延伸于X軸方向的多個(gè)格子線的反射型繞射格子(Y光柵)構(gòu)成。于本實(shí)施方式的X標(biāo)尺47x及Y標(biāo)尺47y，多個(gè)格子線是以例如10nm以下的間隔形成。而且，圖3(A)及圖3(B)中，為便于圖示，格子間的間隔(節(jié)距)是顯示的遠(yuǎn)較實(shí)際寬。其他圖中亦同。

而且，如圖1所示，于上架臺部18a的上面固定有一對編碼器基座43。一對編碼器基座43，其中一方配置在+X側(cè)的光罩導(dǎo)件42的－X側(cè)、另一方配置在－X側(cè)的光罩導(dǎo)件42的+X側(cè)(亦即一對光罩導(dǎo)件42間的區(qū)域)。而且，上述投影光學(xué)系16的一部分配置在一對編碼器基座43之間。編碼器基座43，如圖3(A)所示，由延伸于X軸方向的構(gòu)件構(gòu)成。于一對編碼器基座43各個(gè)的長邊方向中央部，固定有編碼器讀頭單元44(以下，僅稱讀頭單元44)。亦即，讀頭單元44是透過編碼器基座43固定在裝置本體18(參照圖1)。一對讀頭單元44，除在光罩M的+Y側(cè)與－Y側(cè)于紙面上下對稱配置外，為實(shí)質(zhì)相同之物，以下僅針對其中一方(－Y側(cè))加以說明。

如圖3(B)所示，讀頭單元44具有由俯視矩形的板狀構(gòu)件構(gòu)成的單元基座(unit base)45。于單元基座45，固定有于X軸方向分離配置的一對X讀頭49x及于X軸方向分離配置的一對Y讀頭49y。亦即，光罩編碼器系統(tǒng)48具有例如4個(gè)X讀頭49x、并具有例如4個(gè)Y讀頭49y。而且，圖3(B)中，雖然一X讀頭49x與一Y讀頭49y是收容在一箱體內(nèi)，另一X讀頭49x與另一Y讀頭49y收容在不同的一箱體內(nèi)，但上述一對X讀頭49x及一對Y讀頭49y亦可分別獨(dú)立配置。而且，圖3(B)中，雖為易于理解，而顯示成將一對X讀頭49x與一對Y讀頭49y配置在標(biāo)尺46的上方(+Z側(cè))，但實(shí)際上，一對X讀頭49x是配置在X標(biāo)尺47y下方、一對Y讀頭49y是配置在Y標(biāo)尺47y下方(參照圖1)。

一對X讀頭49x及一對Y讀頭49y，例如是為避免因振動等使得一對X讀頭49x間的距離及一對Y讀頭49y間的距離產(chǎn)生變化，而相對單元基座45固定。而且，單元基座45本身，亦是為避免一對X讀頭49x間的距離及一對Y讀頭49y間的距離，例如因溫度變化等而產(chǎn)生變化，而以熱膨脹率較標(biāo)尺46低(或與標(biāo)尺46同等)的材料形成。

X讀頭49x及Y讀頭49y，是例如美國專利申請公開第2008/0094592號說明書所揭示的所謂的繞射干涉方式的編碼器讀頭，對對應(yīng)的標(biāo)尺(X標(biāo)尺47x、Y標(biāo)尺47y)照射測量光束并接收來自該標(biāo)尺的光束，據(jù)以將光罩保持具40(亦即，光罩M。參照圖3(A))的位移量信息供應(yīng)至主控制裝置90(參照圖8)。亦即，于光罩編碼器系統(tǒng)48，是以例如4個(gè)X讀頭49x與相向于該X讀頭49x的X標(biāo)尺47x(視光罩保持具40的X位置而不同)，構(gòu)成用來求出光罩M的X軸方向的位置信息的例如4個(gè)X線性編碼器92x(圖3(B)中未圖示。參照圖8)，以例如4個(gè)Y讀頭49y與相向于該Y讀頭49y的Y標(biāo)尺47y(視光罩保持具40的X位置而不同)，構(gòu)成用來求出光罩M的Y軸方向的位置信息的例如4個(gè)Y線性編碼器92y(圖3(B)中未圖示。參照圖8)。

主控制裝置90，如圖8所示，根據(jù)例如4個(gè)X線性編碼器92x及例如4個(gè)Y線性編碼器92y的輸出，例如以10nm以下的分解能力求出光罩保持具40(參照圖3(A))的X軸方向及Y軸方向的位置信息。而且，主控制裝置90，根據(jù)例如4個(gè)X線性編碼器92x(或例如4個(gè)Y線性編碼器92y)中的至少2個(gè)的輸出，求出光罩保持具40的θz位置信息(旋轉(zhuǎn)量信息)。主控制裝置90，根據(jù)從上述光罩編碼器系統(tǒng)48的測量值求出的光罩保持具40于XY平面內(nèi)的位置信息，使用光罩驅(qū)動系91控制光罩保持具40于XY平面內(nèi)的位置。

此處，如圖3(A)所示，于光罩保持具40，如上所述，在光罩M的+Y側(cè)及－Y側(cè)區(qū)域的每一個(gè)于X軸方向以既定間隔例如配置有3個(gè)標(biāo)尺46。而且，在讀頭單元44(一對X讀頭49x、一對Y讀頭49y(分別參照圖3(B))的全部)相向于上述于X軸方向以既定間隔配置的例如3個(gè)標(biāo)尺46中最靠+X側(cè)的標(biāo)尺46的位置，和讀頭單元44相向于最靠－X側(cè)的標(biāo)尺46的位置之間，光罩保持具40被驅(qū)動于X軸方向。

此外，本實(shí)施方式的光罩載臺裝置14，如圖3(B)所示，一個(gè)讀頭單元44所具有的一對X讀頭49x及一對Y讀頭49y各個(gè)的間隔，是被設(shè)定得較相鄰的標(biāo)尺46間的間隔大。據(jù)此，光罩編碼器系統(tǒng)48，一對X讀頭49x中至少有一方隨時(shí)相向于X標(biāo)尺47x，且一對Y讀頭49y中隨時(shí)至少有一方隨時(shí)相向于Y標(biāo)尺47y。從而，光罩編碼器系統(tǒng)48能不斷地將光罩保持具40(參照圖3(A))的位置信息供應(yīng)至主控制裝置90(參照圖8)。

具體而言，例如光罩保持具40(參照圖3(A))往+X側(cè)移動的情形時(shí)，光罩編碼器系統(tǒng)48即以一對讀頭49x的雙方相向于相鄰一對X標(biāo)尺47x中+X側(cè)的X標(biāo)尺47x的第1狀態(tài)(圖3(B)所示的狀態(tài))、－X側(cè)的X讀頭49x相向于上述相鄰一對X標(biāo)尺47x間的區(qū)域(不與任一X標(biāo)尺47x相向)而+X側(cè)的X讀頭49x相向于上述+X側(cè)的X標(biāo)尺47x的第2狀態(tài)、－X側(cè)的X讀頭49x相向于－X側(cè)的X標(biāo)尺47x且+X側(cè)的X讀頭49x相向于+X側(cè)的X標(biāo)尺47x的第3狀態(tài)、－X側(cè)的X讀頭49x相向于－X側(cè)的標(biāo)尺47x而+X側(cè)的X讀頭49x相向于一對X標(biāo)尺47x間的區(qū)域(不與任一X標(biāo)尺47x相向)的第4狀態(tài)，及一對讀頭49x的雙方相向于－X側(cè)的X標(biāo)尺47x的第5狀態(tài)、的順序移動。因此，至少一方的X讀頭49x隨時(shí)會相向于X標(biāo)尺47x。

主控制裝置90(參照圖8)，于上述第1、第3及第5狀態(tài)，根據(jù)一對X讀頭49x的輸出的平均值，求出光罩保持具40的X位置信息。而且，主控制裝置90，于上述第2狀態(tài)，僅根據(jù)+X側(cè)的X讀頭49x的輸出求出光罩保持具40的X位置信息，于上述第4狀態(tài)，僅根據(jù)－X側(cè)的X讀頭49x的輸出求出光罩保持具40的X位置信息。因此，光罩編碼器系統(tǒng)48的測量值不會中斷。

其次，說明基板編碼器系統(tǒng)50的構(gòu)成?；寰幋a器系統(tǒng)50，如圖1所示，具備配置在基板載臺裝置20的多個(gè)編碼器標(biāo)尺52(圖1中于紙面深度方向重迭。參照圖4(A))、固定在上架臺部18a下面的編碼器基座54、固定在編碼器基座54下面的多個(gè)編碼器標(biāo)尺56及一對編碼器讀頭單元60。

如圖4(A)的示意圖所示，本實(shí)施方式的基板載臺裝置20中，于基板P的+Y側(cè)及－Y側(cè)的區(qū)域，于X軸方向以既定間隔分別例如配置有5個(gè)編碼器標(biāo)尺52(以下，僅稱標(biāo)尺52)。亦即，基板載臺裝置20，合計(jì)具有例如10個(gè)標(biāo)尺52。多個(gè)標(biāo)尺52的每一個(gè)，除在基板P的+Y側(cè)與－Y側(cè)于紙面上下對稱配置外，實(shí)質(zhì)上為相同之物。標(biāo)尺52與上述光罩編碼器系統(tǒng)48的標(biāo)尺46(分別參照圖3(A))同樣地，由例如以石英玻璃形成、延伸于X軸方向的俯視矩形的板狀(帶狀)構(gòu)件構(gòu)成。

而且，圖1及圖4(A)中，雖為易于理解而將多個(gè)標(biāo)尺52顯示成固定在基板保持具34的上面，但實(shí)際上，如圖2所示，多個(gè)標(biāo)尺52是在與基板保持具34分離的狀態(tài)，透過標(biāo)尺座51固定于微動載臺32(而且，于圖2中，是顯示多個(gè)標(biāo)尺52配置在基板P的+X側(cè)及－X側(cè)的情形)。但亦可視情形，實(shí)際于基板保持具34上固定多個(gè)標(biāo)尺52。以下，是假設(shè)多個(gè)標(biāo)尺52配置在基板保持具34上的情形進(jìn)行說明。

如圖4(B)所示，在標(biāo)尺52上面的寬度方向一側(cè)(圖4(B)中為－Y側(cè))的區(qū)域，形成有X標(biāo)尺53x。而且，在標(biāo)尺52上面的寬度方向另一側(cè)(圖4(B)中為+Y側(cè))的區(qū)域，形成有Y標(biāo)尺53y。由于X標(biāo)尺53x及Y標(biāo)尺53y的構(gòu)成與形成在上述光罩編碼器系統(tǒng)48的標(biāo)尺46(分別參照圖3(A))的X標(biāo)尺47x及Y標(biāo)尺47y(分別參照圖3(B))相同，因此省略其說明。

編碼器基座54，由圖5及圖6可知，具備由固定在上架臺部18a下面的延伸于Y軸方向的板狀構(gòu)件構(gòu)成的第1部分54a，和由固定在第1部分54a下面的延伸于Y軸方向的XZ剖面U字形構(gòu)件構(gòu)成的第2部分54b，整體形成為延伸于Y軸方向的筒狀。如圖4(A)所示，編碼器基座54的X位置與投影光學(xué)系16的中心的X位置大致一致，但是配置成編碼器基座54與投影光學(xué)系16不會接觸。而且，編碼器基座54可與投影光學(xué)系16在+Y側(cè)與－Y側(cè)分離配置。于編碼器基座54的下面，如圖6所示，固定有一對Y線性導(dǎo)件63a。一對Y線性導(dǎo)件63a，分別由延伸于Y軸方向的構(gòu)件構(gòu)成，于X軸方向以既定間隔彼此平行配置。

于編碼器基座54的下面固定有多個(gè)編碼器標(biāo)尺56(以下，僅稱標(biāo)尺56)。本實(shí)施方式中，標(biāo)尺56，如圖1所示，在較投影光學(xué)系16靠+Y側(cè)的區(qū)域例如有2個(gè)、在較投影光學(xué)系16靠－Y側(cè)的區(qū)域例如有2個(gè)，分別于Y軸方向分離配置。亦即，于編碼器基座54，合計(jì)例如固定有4個(gè)標(biāo)尺56。多個(gè)標(biāo)尺56的每一個(gè)，實(shí)質(zhì)為相同之物。標(biāo)尺56是由延伸于Y軸方向的俯視矩形的板狀(帶狀)構(gòu)件構(gòu)成，與配置在基板載臺裝置20的標(biāo)尺52同樣地，例如是以石英玻璃形成。而且，為便于理解，于圖4(A)中，雖是以實(shí)線表示多個(gè)標(biāo)尺56，并顯示成配置在編碼器基座54的上面，但多個(gè)標(biāo)尺56，實(shí)際上是如圖1所示，配置在編碼器基座54的下面?zhèn)取?/p>

如圖4(C)所示，在標(biāo)尺56下面的寬度方向一側(cè)(圖4(C)中為+X側(cè))的區(qū)域，形成有X標(biāo)尺57x。而且，在標(biāo)尺56下面的寬度方向另一側(cè)(圖4(C)中為－X側(cè))的區(qū)域，形成有Y標(biāo)尺57y。X標(biāo)尺57x及Y標(biāo)尺57y的構(gòu)成，由于與形成在上述光罩編碼器系統(tǒng)48的標(biāo)尺46(分別參照圖3(A))的X標(biāo)尺47x及Y標(biāo)尺47y(分別參照圖3(B))相同，因此省略其說明。

回到圖1，一對編碼器讀頭單元60(以下，僅稱讀頭單元60)是在編碼器基座54的下方于Y軸方向分離配置。一對讀頭單元60的每一個(gè)，除圖1中在紙面左右對稱配置的外，實(shí)質(zhì)為相同之物，因此以下僅針對一方(－Y側(cè))加以說明。讀頭單元60，如圖5所示，具備Y滑件臺62、一對X讀頭64x、一對Y讀頭64y(圖5中，一對X讀頭64x因隱藏在紙面內(nèi)側(cè)故未圖示。參照圖4(C))、一對X讀頭66x(圖5中，一方的X讀頭66x未圖示。參照圖4(B))、一對Y讀頭66y(圖5中，一方的Y讀頭66y未圖示。參照圖4(B))，以及將用來Y滑件臺62驅(qū)動于Y軸方向的皮帶驅(qū)動裝置68。

Y滑件臺62由俯視矩形的板狀構(gòu)件構(gòu)成，在編碼器基座54的下方對該編碼器基座54透過既定間隙配置。而且，Y滑件臺62的Z位置被設(shè)定為與基板載臺裝置20所具有的基板保持具34(分別參照圖1)的Z傾斜位置無關(guān)地，較該基板保持具34靠+Z側(cè)。

于Y滑件臺62的上面，如圖6所示，固定有相對上述Y線性導(dǎo)件63a透過未圖示的滾動體(例如循環(huán)式的多個(gè)球)于Y軸方向滑動自如地卡合的多個(gè)(相對1只Y線性導(dǎo)件63a，例如2個(gè)(參照圖5))Y滑件63b。Y線性導(dǎo)件63a與對應(yīng)該Y線性導(dǎo)件63a的Y滑件63b，構(gòu)成例如美國專利第6,761,482號說明書所揭示的機(jī)械性Y線性導(dǎo)件裝置63，Y滑件臺62透過一對Y線性導(dǎo)件裝置63相對編碼器基座54被直行引導(dǎo)于Y軸方向。

皮帶驅(qū)動裝置68，如圖5所示，具備旋轉(zhuǎn)驅(qū)動裝置68a、滑輪68b及皮帶68c。而且，針對－Y側(cè)的Y滑件臺62的驅(qū)動與+Y側(cè)的Y滑件臺62(圖5中未圖示。參照圖4(A))的驅(qū)動，可獨(dú)立的配置皮帶驅(qū)動裝置68，亦可以一個(gè)皮帶驅(qū)動裝置68一體驅(qū)動一對Y滑件臺62。

旋轉(zhuǎn)驅(qū)動裝置68a具備固定于編碼器基座54、未圖示的旋轉(zhuǎn)馬達(dá)。該旋轉(zhuǎn)馬達(dá)的旋轉(zhuǎn)數(shù)、旋轉(zhuǎn)方向由主控制裝置90(參照圖8)加以控制。滑輪68b，被旋轉(zhuǎn)驅(qū)動裝置68a繞與X軸平行的軸線旋轉(zhuǎn)驅(qū)動。而且，雖未圖示，但皮帶驅(qū)動裝置68具有相對上述滑輪68b于Y軸方向分離配置、以繞與X軸平行的軸線旋轉(zhuǎn)自如的狀態(tài)安裝在編碼器基座54的另一滑輪。皮帶68c，其一端及另一端連接于Y滑件臺62，且長邊方向中間部的2處以被賦予既定張力的狀態(tài)卷掛在上述滑輪68b及上述另一滑輪(未圖示)。皮帶68c的一部分插通在編碼器基座54內(nèi)，以抑止例如來自皮帶68c的粉塵附著于標(biāo)尺52、56等。Y滑件臺62，藉由滑輪68b被旋轉(zhuǎn)驅(qū)動、進(jìn)而被皮帶68c牽引而于Y軸方向以既定行程往復(fù)移動。

主控制裝置90(參照圖8)，將一方(+Y側(cè))的讀頭單元60在較投影光學(xué)系16配置在+Y側(cè)的例如2個(gè)標(biāo)尺56的下方、并將另一方(－Y側(cè))的讀頭單元60在較投影光學(xué)系16配置在－Y側(cè)的例如2個(gè)標(biāo)尺56的下方，于Y軸方向以既定行程適當(dāng)?shù)耐津?qū)動。而且，作為驅(qū)動Y滑件臺62的致動器，本實(shí)施方式中雖是使用包含帶齒的滑輪68b與包含帶齒的皮帶68c的皮帶驅(qū)動裝置68，但不限于此，亦可使用包含無齒滑輪與皮帶的摩擦齒輪裝置。而且，牽引Y滑件臺62的可撓性構(gòu)件不限于皮帶，亦可以是例如繩索、金屬線、煉條等。此外，用來驅(qū)動Y滑件臺62的致動器的種類不限于皮帶驅(qū)動裝置68，亦可以是例如線性馬達(dá)、進(jìn)給螺桿裝置等的其他驅(qū)動裝置。

X讀頭64x、Y讀頭64y(圖5中未圖示。參照圖6)、X讀頭66x及Y讀頭66y的每一個(gè)，是與上述光罩編碼器系統(tǒng)48所具有的X讀頭49x、Y讀頭49y相同的所謂的繞射干涉方式的編碼器讀頭，被固定于Y滑件臺62。此處，于讀頭單元60，一對Y讀頭64y、一對X讀頭64x、一對Y讀頭66y及一對X讀頭66x是以各個(gè)的彼此間距離，不會因例如振動等而變化的方式，相對Y滑件臺62固定。而且，Y滑件臺62本身，亦是為避免一對Y讀頭64y、一對X讀頭64x、一對Y讀頭66y及一對X讀頭66x個(gè)個(gè)的彼此間距離因例如溫度變化而產(chǎn)生，而以熱膨脹率較標(biāo)尺52、56低(或與標(biāo)尺52、56同等)的材料形成。

如圖7所示，一對X讀頭64x的每一個(gè)對X標(biāo)尺57x上的于Y軸方向彼此分離的2處(2點(diǎn))照射測量光束，一對Y讀頭64y的每一個(gè)對Y標(biāo)尺57y上于Y軸方向彼此分離的2處(2點(diǎn))照射測量光束。于基板編碼器系統(tǒng)50，藉由上述X讀頭64x及Y讀頭64y接收來自對應(yīng)的標(biāo)尺的光束，據(jù)以將Y滑件臺62(圖7中未圖示。參照圖5及圖6)的位移量信息供應(yīng)至主控制裝置90(參照圖8)。亦即，于基板編碼器系統(tǒng)50，是以例如4個(gè)X讀頭64x與相向于該X讀頭64x的X標(biāo)尺57x(視Y滑件臺62的Y位置而不同)，構(gòu)成用來求出一對Y滑件臺62(亦即一對讀頭單元60(參照圖1))的每一個(gè)于Y軸方向的位置信息的例如4個(gè)X線性編碼器96x(圖7中未圖示。參照圖8)，以例如4個(gè)Y讀頭64y與相向于該Y讀頭64y的Y標(biāo)尺57y(視Y滑件臺62的Y位置而不同)，構(gòu)成用來求出一對Y滑件臺62的每一個(gè)于Y軸方向的位置信息的例如4個(gè)Y線性編碼器96y(圖7中未圖示。參照圖8)。

主控制裝置90，如圖8所示，根據(jù)例如4個(gè)X線性編碼器96x及例如4個(gè)Y線性編碼器96y的輸出，將一對讀頭單元60(參照圖1)各個(gè)的X軸方向及Y軸方向的位置信息以例如10nm以下的分解能力加以求出。而且，主控制裝置90，根據(jù)與一方的讀頭單元60對應(yīng)的例如2個(gè)X線性編碼器96x(或例如2個(gè)Y線性編碼器96y)的輸出求出該一方的讀頭單元60的θz位置信息(旋轉(zhuǎn)量信息)，并根據(jù)與另一方的讀頭單元60對應(yīng)的例如2個(gè)X線性編碼器96x(或例如2個(gè)Y線性編碼器96y)的輸出求出該另一方的讀頭單元60的θz位置信息(旋轉(zhuǎn)量信息)。主控制裝置90根據(jù)一對讀頭單元60各個(gè)的XY平面內(nèi)的位置信息，使用皮帶驅(qū)動裝置68控制讀頭單元60的Y軸方向位置。

此處，如圖4(A)所示，于編碼器基座54，如上所述，于投影光學(xué)系16的+Y側(cè)及－Y側(cè)的區(qū)域的每一個(gè)，于Y軸方向以既定間隔例如配置有2個(gè)標(biāo)尺56。而且，在上述于Y軸方向以既定間隔配置的例如2個(gè)標(biāo)尺56中、讀頭單元60(一對X讀頭64x、一對Y讀頭64y(分別參照圖4(C))的全部)相向于+Y側(cè)標(biāo)尺56的位置與讀頭單元60相向于－Y側(cè)標(biāo)尺56的位置之間，Y滑件臺62被驅(qū)動于Y軸方向。

與上述光罩編碼器系統(tǒng)48同樣地，于基板編碼器系統(tǒng)50，一個(gè)讀頭單元60所具有的一對X讀頭64x及一對Y讀頭64y各個(gè)的間隔，如圖4(C)所示，亦被設(shè)定得較相鄰標(biāo)尺56間的間隔寬。據(jù)此，于基板編碼器系統(tǒng)50，一對X讀頭64x中隨時(shí)至少有一方會相向于X標(biāo)尺57x，且一對Y讀頭64y中隨時(shí)至少有一方會相向于Y標(biāo)尺57y。從而，基板編碼器系統(tǒng)50即能測量值不中斷的情形下，求出Y滑件臺62(讀頭單元60)的位置信息。

而且，如圖7所示，一對X讀頭66x的每一個(gè)對X標(biāo)尺53x上于X軸方向彼此分離的2處(2點(diǎn))照射測量光束、一對Y讀頭66y的每一個(gè)對Y標(biāo)尺53y上于X軸方向彼此分離的2處(2點(diǎn))照射測量光束?；寰幋a器系統(tǒng)50，藉由上述X讀頭66x及Y讀頭66y接收來自對應(yīng)的標(biāo)尺的光束，據(jù)以將基板保持具34(圖7中未圖示。參照圖2)的位移量信息供應(yīng)至主控制裝置90(參照圖8)。亦即，于基板編碼器系統(tǒng)50，是以例如4個(gè)X讀頭66x與相向于該X讀頭66x的X標(biāo)尺53x(視基板保持具34的X位置而不同)，構(gòu)成用來求出基板P的X軸方向的位置信息的例如4個(gè)X線性編碼器94x(圖7中未圖示。參照圖8)，以例如4個(gè)Y讀頭66y與相向于該Y讀頭66y的Y標(biāo)尺53y(視基板保持具34的X位置而不同)，構(gòu)成用來求出基板P的Y軸方向的位置信息的例如4個(gè)Y線性編碼器94y(圖7中未圖示。參照圖8)。

主控制裝置90，如圖8所示，以例如4個(gè)X線性編碼器94x及例如4個(gè)Y線性編碼器94y的輸出，以及上述4個(gè)X線性編碼器96x及例如4個(gè)Y線性編碼器96y的輸出(亦即，一對讀頭單元60各個(gè)的XY平面內(nèi)的位置信息)，將基板保持具34(參照圖2)的X軸方向及Y軸方向的位置信息，以例如10nm以下的分解能力加以求出。而且，主控制裝置90，根據(jù)例如4個(gè)X線性編碼器94x(或例如4個(gè)Y線性編碼器94y)中的至少2個(gè)的輸出，求出基板保持具34的θz位置信息(旋轉(zhuǎn)量信息)。主控制裝置90，根據(jù)從上述基板編碼器系統(tǒng)50的測量值求出的基板保持具34的XY平面內(nèi)的位置信息，使用基板驅(qū)動系93控制基板保持具34的XY平面內(nèi)的位置。

而且，如圖4(A)所示，于基板保持具34，如上所述，在基板P的+Y側(cè)及－Y側(cè)區(qū)域的每一個(gè)，于X軸方向以既定間隔配置有例如5個(gè)標(biāo)尺52。而且，在上述于X軸方向以既定間隔配置的例如5個(gè)標(biāo)尺52中、讀頭單元60(一對X讀頭66x、一對Y讀頭66y(分別參照圖4(B))的全部)相向于最靠+X側(cè)的標(biāo)尺52的位置與讀頭單元60相向于最靠－X側(cè)的標(biāo)尺52的位置之間，基板保持具34被驅(qū)動于X軸方向。

并且與上述光罩編碼器系統(tǒng)48同樣地，一個(gè)讀頭單元60所具有的一對X讀頭66x及一對Y讀頭66y各個(gè)的間隔，如圖4(B)所示，被設(shè)定得較相鄰標(biāo)尺52間的間隔寬。據(jù)此，于基板編碼器系統(tǒng)50，一對X讀頭66x中隨時(shí)至少有一方會相向于X標(biāo)尺53x，且一對Y讀頭66y中隨時(shí)至少有一方會相向于Y標(biāo)尺53y。因此，基板編碼器系統(tǒng)50能在不中斷測量值的情形下，求出基板保持具34(參照圖4(A))的位置信息。

回到圖6，防塵套55是由XZ剖面形成為U字形的延伸于Y軸方向的構(gòu)件構(gòu)成，上述編碼器基座54的第2部分54b及Y滑件臺62透過既定間隙插入一對相向面間。于防塵套55的下面形成有使X讀頭66x及Y讀頭66y通過的開口部。據(jù)此，即能抑制從Y線性導(dǎo)件裝置63、皮帶68c等產(chǎn)生的粉塵附著于標(biāo)尺52。此外，于編碼器基座54的下面固定有一對防塵板55a(圖5中未圖示)。標(biāo)尺56配置在一對防塵板55a之間，以抑制從Y線性導(dǎo)件裝置63等產(chǎn)生的粉塵附著于標(biāo)尺56。

圖8中，顯示了以液晶曝光裝置10(參照圖1)的控制系為中心構(gòu)成的統(tǒng)籌控制構(gòu)成各部的主控制裝置90的輸出入關(guān)系的方塊圖。主控制裝置90包含工作站(或微電腦)等、統(tǒng)籌控制液晶曝光裝置10的構(gòu)成各部。

以上述方式構(gòu)成的液晶曝光裝置10(參照圖1)，在主控制裝置90(參照圖8)的管理下，藉由未圖示的光罩裝載器進(jìn)行光罩M對光罩載臺裝置14上的裝載，并藉由未圖示的基板裝載器進(jìn)行基板P對基板載臺裝置20(基板保持具34)上的裝載。然后，由主控制裝置90使用未圖示的對準(zhǔn)檢測系實(shí)施對準(zhǔn)測量，該對準(zhǔn)測量結(jié)束后，即對設(shè)定在基板P上的多個(gè)照射區(qū)域進(jìn)行逐次的步進(jìn)掃描(step&scan)方式的曝光動作。

其次，使用圖9(A)～圖16(B)說明曝光動作時(shí)的光罩載臺裝置14及基板載臺裝置20的一個(gè)動作例。而且，以下的說明，雖是以在1片基板P上設(shè)定4個(gè)照射區(qū)域的情形(所謂取4面的情形)為例，但在一片基板P上設(shè)定的照射區(qū)域的數(shù)量及配置是可適當(dāng)變更的。

圖9(A)中顯示了對準(zhǔn)動作結(jié)束后的光罩載臺裝置14，圖9(B)中則顯示了對準(zhǔn)動作結(jié)束后的基板載臺裝置20(不過，基板保持具34以外的構(gòu)件未圖示。以下同)。曝光處理，例如圖9(B)所示，是從設(shè)定在基板P的－Y側(cè)且+X側(cè)的第1照射區(qū)域S₁開始進(jìn)行。于光罩載臺裝置14，如圖9(A)所示，根據(jù)光罩編碼器系統(tǒng)48(參照圖8)的輸出進(jìn)行光罩M的定位，使光罩M的+X側(cè)的端部位于較來自照明系12的照明光IL(分別參照圖1)照射的照明區(qū)域(不過，圖9(A)所示的狀態(tài)下，尚未對光罩M照射照明光IL)略靠－X側(cè)。具體而言，例如相對照明區(qū)域?qū)⒐庹諱的圖案區(qū)域的+X側(cè)端部往－X側(cè)配置在用來以既定速度進(jìn)行掃描曝光所需的助走距離(亦即，為達(dá)既定速度所需的加速距離)處，于該位置設(shè)置標(biāo)尺46以能藉由光罩編碼器系統(tǒng)48測量光罩M的位置。而且，于基板載臺裝置20，如圖9(B)所示，則根據(jù)基板編碼器系統(tǒng)50(參照圖8)的輸出進(jìn)行基板P的定位，使第1照射區(qū)域S₁的+X側(cè)的端部位于較來自投影光學(xué)系16的照明光IL(參照圖1)照射的曝光區(qū)域(不過，圖9(B)所示的狀態(tài)下，尚未對基板P照射照明光IL)略靠－X側(cè)。具體而言，例如對曝光區(qū)域?qū)⒒錚的第1照射區(qū)域S₁的+X側(cè)端部往－X側(cè)配置在用來以既定速度進(jìn)行掃描曝光所需的助走距離(亦即，為達(dá)既定速度所需的加速距離)處，于該位置設(shè)置標(biāo)尺52以能藉由基板編碼器系統(tǒng)50測量基板P的位置。而且，在結(jié)束照射區(qū)域的掃描曝光而使光罩M及基板P分別減速側(cè)，同樣的亦是將標(biāo)尺46、52設(shè)置成在使光罩M及基板P進(jìn)一步移動至從掃描曝光時(shí)的速度減速至既定速度為止所需的減速距離為止，能以光罩編碼器系統(tǒng)48、基板編碼器系統(tǒng)50分別測量光罩M、基板P的位置。或者，亦可在加速中及減速中的至少一方的動作中，能以和光罩編碼器系統(tǒng)48、基板編碼器系統(tǒng)50不同的測量系分別測量光罩M及基板P的位置。

接著，如圖10(A)所示，將光罩保持具40驅(qū)動(加速、等速驅(qū)動及減速)于+X方向，并與該光罩保持具40同步，如圖10(B)所示，將基板保持具34驅(qū)動(加速、等速驅(qū)動及減速)于+X方向。驅(qū)動光罩保持具40時(shí)，主控制裝置90(參照圖8)根據(jù)光罩編碼器系統(tǒng)48(參照圖8)的輸出進(jìn)行光罩M的位置控制，并根據(jù)基板編碼器系統(tǒng)50(參照圖8)的輸出進(jìn)行基板P的位置控制。將基板保持具34驅(qū)動于X軸方向時(shí)，一對讀頭單元60是處于靜止?fàn)顟B(tài)。將光罩保持具40及基板保持具34等速驅(qū)動于X軸方向的期間，于基板P照射通過光罩M及投影光學(xué)系16的照明光IL(分別參照圖1)，據(jù)此將光罩M具有的光罩圖案轉(zhuǎn)印至照射區(qū)域S₁。

當(dāng)對基板P上的第1照射區(qū)域S₁的光罩圖案的轉(zhuǎn)印結(jié)束時(shí)，于基板載臺裝置20，如圖11(B)所示，為進(jìn)行對設(shè)定在第1照射區(qū)域S₁的+Y側(cè)的第2照射區(qū)域S₂的曝光動作，根據(jù)基板編碼器系統(tǒng)50(參照圖8)的輸出往－Y方向驅(qū)動(Y步進(jìn))基板保持具34既定距離(基板P的寬度方向尺寸的大致一半距離)。于上述基板保持具34的Y步進(jìn)動作時(shí)中，光罩保持具40，如圖11(A)所示，是在光罩M的－X側(cè)端部位于較照明區(qū)域(不過，圖11(A)所示狀態(tài)下，光罩M未被照明)略靠+X側(cè)的狀態(tài)靜止。

此處，如圖11(B)所示，于上述基板保持具34的Y步進(jìn)動作時(shí)，于基板載臺裝置20，一對讀頭單元60與基板保持具34同步被驅(qū)動于Y軸方向。亦即，主控制裝置90(參照圖8)一邊根據(jù)基板編碼器系統(tǒng)50(參照圖8)中的Y線性編碼器94y的輸出透過基板驅(qū)動系93(參照圖8)將基板保持具34往Y軸方向驅(qū)動至目標(biāo)位置，一邊根據(jù)Y線性編碼器96y(參照圖8)的輸出將一對讀頭單元60透過對應(yīng)的皮帶驅(qū)動裝置68(參照圖8)往Y軸方向驅(qū)動。此時(shí)，主控制裝置90同步(一對讀頭單元60追隨基板保持具34的方式)驅(qū)動一對讀頭單元60與基板保持具34。因此，與基板保持具34的Y位置(亦包含基板保持具34的移動中)無關(guān)地，從X讀頭66x、Y讀頭66y(分別參照圖7)照射的測量光束的每一個(gè)不會脫離X標(biāo)尺53x、Y標(biāo)尺53y(分別參照圖7)。換言之，只要以基板保持具34于Y軸方向的移動中(Y步進(jìn)動作中)從X讀頭66x、Y讀頭66y照射的測量光束的每一個(gè)不會脫離X標(biāo)尺53x、Y標(biāo)尺53y的程度，亦即以發(fā)自X讀頭66x、Y讀頭66y的測量光束進(jìn)行的測量不會中斷(可持續(xù)測量)的程度，同步使一對讀頭單元60與基板保持具34往Y軸方向移動即可。

當(dāng)基板保持具34的Y步進(jìn)動作結(jié)束時(shí)，如圖12(A)所示，根據(jù)光罩編碼器系統(tǒng)48(參照圖8)的輸出將光罩保持具40驅(qū)動于－X方向，并與該光罩保持具40同步，如圖12(B)所示，根據(jù)基板編碼器系統(tǒng)50(參照圖8)的輸出將基板保持具34驅(qū)動于－X方向。據(jù)此，光罩圖案即轉(zhuǎn)印至第2照射區(qū)域S₂。此時(shí)，一對讀頭單元60亦處于靜止?fàn)顟B(tài)。

當(dāng)對第2照射區(qū)域S₂的曝光動作結(jié)束時(shí)，于光罩載臺裝置14，如圖13(A)所示，光罩保持具40驅(qū)動于+X方向，根據(jù)光罩編碼器系統(tǒng)48(參照圖8)的輸出將光罩M定位于光罩M的－X側(cè)端部較照明區(qū)域略位于+X側(cè)。而且，于基板載臺裝置20，如圖13(B)所示，為進(jìn)行對設(shè)定在第2照射區(qū)域S₂的－X側(cè)的第3照射區(qū)域S₃的曝光動作，基板保持具34被驅(qū)動于+X方向，根據(jù)基板編碼器系統(tǒng)50(參照圖8)的輸出將基板P定位于第3照射區(qū)域S₃的－X側(cè)端部較曝光區(qū)域略位于+X側(cè)。于圖13(A)及圖13(B)所示的光罩保持具40及基板保持具34的移動動作時(shí)，從照明系12(參照圖1)并無照明光IL照射于光罩M(參照圖13(A))及基板P(參照圖13(B))。亦即，圖13(A)及圖13(B)所示的光罩保持具40及基板保持具34的移動動作，僅為光罩M及基板P的定位動作(X步進(jìn)動作)。

當(dāng)光罩M及基板P的X步進(jìn)動作結(jié)束時(shí)，于光罩載臺裝置14，如圖14(A)所示，根據(jù)光罩編碼器系統(tǒng)48(參照圖8)的輸出將光罩保持具40驅(qū)動于－X方向，并與該光罩保持具40同步，如圖14(B)所示，根據(jù)基板編碼器系統(tǒng)50(參照圖8)的輸出將基板保持具34驅(qū)動于－X方向。據(jù)此，光罩圖案即被轉(zhuǎn)印至第3照射區(qū)域S₃。此時(shí)，一對讀頭單元60亦處于靜止?fàn)顟B(tài)。

當(dāng)對第3照射區(qū)域S₃的曝光動作結(jié)束時(shí)，于基板載臺裝置20，如圖15(B)所示，為進(jìn)行對設(shè)定在第3照射區(qū)域S₃的－Y側(cè)的第4照射區(qū)域S₄的曝光動作，將基板保持具34于+Y方向驅(qū)動(Y步進(jìn)驅(qū)動)既定距離。此時(shí)，與圖11(B)所示的基板保持具34的Y步進(jìn)動作時(shí)同樣地，光罩保持具40為靜止?fàn)顟B(tài)(參照圖15(A))。而且，一對讀頭單元60是與基板保持具34同步(以追隨基板保持具34的方式)被驅(qū)動于+Y方向。

當(dāng)基板保持具34的Y步進(jìn)動作結(jié)束時(shí)，如圖16(A)所示，根據(jù)光罩編碼器系統(tǒng)48(參照圖8)的輸出將光罩保持具40驅(qū)動于+X方向，并與該光罩保持具40同步，如圖16(B)所示，根據(jù)基板編碼器系統(tǒng)50(參照圖8)的輸出將基板保持具34驅(qū)動于+X方向。據(jù)此，光罩圖案即被轉(zhuǎn)印至第4照射區(qū)域S₄。此時(shí)，一對讀頭單元60亦處于靜止?fàn)顟B(tài)。

如以上的說明，根據(jù)本實(shí)施方式的液晶曝光裝置10，由于用來求出光罩M的XY平面內(nèi)的位置信息的光罩編碼器系統(tǒng)48及用來求出基板P的XY平面內(nèi)的位置信息的基板編碼器系統(tǒng)50(分別參照圖1)的每一個(gè)，對對應(yīng)的標(biāo)尺照射的測量光束的光路長較短，因此與例如習(xí)知干涉儀系統(tǒng)相較能降低空氣波動的影響。從而，能提升光罩M及基板P的定位精度。而且，由于空氣波動的影響小，因此能省略使用習(xí)知干涉儀系統(tǒng)時(shí)必須的部分空調(diào)設(shè)備，能降低成本。

再者，于使用干涉儀系統(tǒng)的情形時(shí)，過去是需要將大且重的棒狀反射鏡裝備于光罩載臺裝置14及基板載臺裝置20，但本實(shí)施方式的光罩編碼器系統(tǒng)48及基板編碼器系統(tǒng)50，由于不需上述棒狀反射鏡，因此可將包含光罩保持具40的系統(tǒng)，及包含基板保持具34的系統(tǒng)分別作得小型、輕量化，且重量平衡較佳，據(jù)此可提升光罩M、基板P的位置控制性。此外，與使用干涉儀系統(tǒng)的情形相較，由于需調(diào)整處較少，因此能降低光罩載臺裝置14及基板載臺裝置20的成本，亦能提升維修保養(yǎng)性。而且，組裝時(shí)的調(diào)整亦容易(或不要)。

而且，于本實(shí)施方式的基板編碼器系統(tǒng)50，由于是將一對讀頭單元60與基板P同步驅(qū)動(使之追隨)于Y軸方向，據(jù)以求出基板P的Y位置信息的構(gòu)成，因此無需于基板載臺裝置20側(cè)配置延伸于Y軸方向的標(biāo)尺(或于裝置本體18側(cè)于Y軸方向排列多個(gè)讀頭)。因此，能簡化基板位置測量系的構(gòu)成，進(jìn)而可降低成本。

而且，本實(shí)施方式的光罩編碼器系統(tǒng)48，由于是將相鄰的一對編碼器讀頭(X讀頭49x、Y讀頭49y)的輸出，一邊根據(jù)光罩保持具40的X位置適當(dāng)?shù)那袚Q、一邊求出該光罩保持具40的XY平面內(nèi)的位置信息，因此即使是將多個(gè)標(biāo)尺46于X軸方向以既定間隔(彼此分離)配置，亦能在不中斷的情形下求出光罩保持具40的位置信息。因此，無需準(zhǔn)備與光罩保持具40的移動行程同等長度(本實(shí)施方式的標(biāo)尺46的約3倍長度)的標(biāo)尺，不僅可降低成本，亦尤其適合本實(shí)施方式般的使用大型光罩M的液晶曝光裝置10。本實(shí)施方式的基板編碼器系統(tǒng)50，亦是同樣的將多個(gè)標(biāo)尺52于X軸方向、將多個(gè)標(biāo)尺56于Y軸方向分別以既定間隔配置，因此無需準(zhǔn)備與基板P的移動行程同等長度的標(biāo)尺，由適合使用大型基板P的液晶曝光裝置10。

《第2實(shí)施方式》

其次，使用圖17說明第2實(shí)施方式。本第2實(shí)施方式的構(gòu)成，除光罩編碼器系統(tǒng)148的部分構(gòu)成外，與上述第1實(shí)施方式相同，因此，以下僅針對相異點(diǎn)加以說明，對與上述第1實(shí)施方式具有相同構(gòu)成及功能的要件，賦予與上述第1實(shí)施方式相同的附圖標(biāo)記并省略其說明。

如圖17所示，本第2實(shí)施方式的光罩編碼器系統(tǒng)148中，于讀頭單元144的單元基座45固定有多個(gè)傳感器70。主控制裝置90(圖17中未圖示。參照圖8)，透過貫通編碼器基座43及上架臺部18a的貫通孔72，使用多個(gè)傳感器70檢測固定在裝置本體18的上架臺部18a的標(biāo)尺56上形成的未圖示的標(biāo)記(或形成在標(biāo)尺56的格子線)，據(jù)以求出Y讀頭49y及X讀頭49x相對標(biāo)尺56(亦即裝置本體18)在與XY平面平行的方向的位移量信息。主控制裝置90一邊使用上述位移量信息(傳感器70的輸出)更正光罩編碼器系統(tǒng)148的測量值(Y讀頭49y及X讀頭49x的輸出)、一邊進(jìn)行光罩保持具40的位置控制。傳感器70的種類并無特別限定，可使用例如與空間像測量傳感器相同的影像傳感器。

根據(jù)本第2實(shí)施方式，基板保持具34的位置控制的基準(zhǔn)標(biāo)尺56，亦具有光罩保持具40的位置控制的基準(zhǔn)的功能。亦即，可使光罩編碼器系統(tǒng)148與基板編碼器系統(tǒng)50為一個(gè)系統(tǒng)(封閉系)，因此與例如以另一構(gòu)件(例如投影光學(xué)系16(參照圖1))作為光罩保持具40的位置控制的基準(zhǔn)的情形相較，不會受該另一構(gòu)件的姿勢變化的影響。從而，能提升光罩M及基板P的定位精度。

《第3實(shí)施方式》

其次，使用圖18說明第3實(shí)施方式。本第3實(shí)施方式的構(gòu)成，除基板編碼器系統(tǒng)150的部分構(gòu)成外，與上述第1實(shí)施方式相同，因此，以下僅針對相異點(diǎn)加以說明，對與上述第1實(shí)施方式具有相同構(gòu)成及功能的要件，賦予與上述第1實(shí)施方式相同的附圖標(biāo)記并省略其說明。

如圖18所示，本第3實(shí)施方式的基板編碼器系統(tǒng)150所具有的讀頭單元160中，X讀頭66x、Y讀頭66y的每一個(gè)是相對Y滑件臺62安裝成可透過Z致動器76于Z軸方向以微小行程移動。Z致動器76的種類無特別限定，可使用例如凸輪裝置、壓電組件、線性馬達(dá)等。于基板編碼器系統(tǒng)150，藉由未圖示的Z傳感器隨時(shí)測量X讀頭66x、Y讀頭66y的每一個(gè)與基板載臺裝置20所具有的標(biāo)尺52表面間的距離。

一般皆知，于使用本實(shí)施方式般的繞射干涉方式的編碼器讀頭的線性編碼器系統(tǒng)，會因標(biāo)尺表面的Z位置變化，使得編碼器讀頭的輸出產(chǎn)生誤差(本實(shí)施方式的情形，因基板保持具34的Z位置，使得X讀頭66x、Y讀頭66y的每一個(gè)于Z軸方向亦具有感度)(例如參照美國專利申請公開第2008/0094592號說明書)。因此，主控制裝置90(圖18中未圖示。參照圖8)根據(jù)上述Z傳感器的輸出，適當(dāng)?shù)貙⒍鄠€(gè)X讀頭66x、Y讀頭66y的每一個(gè)微幅驅(qū)動于Z軸方向，據(jù)以抑制因上述標(biāo)尺的Z位置變化引起的誤差的產(chǎn)生。從而，提升基板P的定位精度。作為Z傳感器，例如可使用于CD驅(qū)動裝置等所使用的光拾取方式的Z傳感器，亦可例如于X讀頭66x(或Y讀頭66y)使用美國專利第7,561,280號說明書所揭示的2維編碼器讀頭，以一個(gè)編碼器讀頭與基板保持具34的X軸方向(或Y軸方向)的位置信息一起求出Z軸方向的位置信息。

以上說明的第1～第3實(shí)施方式的構(gòu)成可適當(dāng)?shù)募右宰兏＠?，于上述?實(shí)施方式的光罩編碼器系統(tǒng)48、基板編碼器系統(tǒng)50中，編碼器讀頭及標(biāo)尺的配置可以是相反的。亦即，例如用來求出光罩保持具40的位置信息的X線性編碼器92x、Y線性編碼器92y，可以是于光罩保持具40安裝編碼器讀頭、于編碼器基座43安裝標(biāo)尺的構(gòu)成。而且，用來求出基板保持具34的位置信息的X線性編碼器94x、Y線性編碼器94y，可以是于基板保持具34安裝編碼器讀頭、于Y滑件臺62安裝標(biāo)尺。在此情況下，安裝于基板保持具34的編碼器讀頭，例如以沿X軸方向配置多個(gè)、能彼此切換動作的構(gòu)成較佳。同樣地，用來求出Y滑件臺62的位置信息的X線性編碼器96x、Y線性編碼器96y，可以是于Y滑件臺62安裝標(biāo)尺、于編碼器基座54(裝置本體18)安裝編碼器讀頭。在此情況下，安裝于編碼器基座54的編碼器讀頭，例如以沿Y軸方向配置多個(gè)、能彼此切換動作的構(gòu)成較佳。于基板保持具34及編碼器基座54固定編碼器讀頭時(shí)，可共享固定于Y滑件臺62的標(biāo)尺。

此外，雖是針對于基板編碼器系統(tǒng)50，在基板載臺裝置20側(cè)固定多個(gè)延伸于X軸方向的標(biāo)尺52、在裝置本體18(編碼器基座54)側(cè)固定多個(gè)延伸于Y軸方向的標(biāo)尺56的情形作了說明，但不限于此，亦可于基板載臺裝置20側(cè)固定多個(gè)延伸于Y軸方向的標(biāo)尺、于裝置本體18側(cè)固定多個(gè)延伸于X軸方向的標(biāo)尺。在此情況下，讀頭單元60是在基板P的曝光動作時(shí)與基板保持具34同步被驅(qū)動于X軸方向。

而且，雖是針對于光罩編碼器系統(tǒng)48將例如3個(gè)標(biāo)尺46于X軸方向分離配置，于基板編碼器系統(tǒng)50將例如2個(gè)標(biāo)尺52于Y軸方向、將例如5個(gè)標(biāo)尺56于X軸方向分別分離配置的情形作了說明，但標(biāo)尺的數(shù)量不限于此，例如可視光罩M、基板P的大小、或移動行程適當(dāng)?shù)丶右宰兏?。此外，多個(gè)標(biāo)尺不一定須分離配置，亦可例如用一個(gè)較長的標(biāo)尺(于上述實(shí)施方式的情形，例如標(biāo)尺46的約3倍長度的標(biāo)尺、標(biāo)尺52的約2倍長度的標(biāo)尺、標(biāo)尺56的約5倍長度的標(biāo)尺)。

而且，雖是針對于標(biāo)尺46、52、56各自的表面獨(dú)立形成X標(biāo)尺與Y標(biāo)尺的情形做了說明，但不限于此，亦可使用例如XY2維標(biāo)尺。在此情況下，編碼器讀頭亦可使用XY2維讀頭。此外，雖是針對使用繞射干涉方式的編碼器系統(tǒng)的情形做了說明，但不限于此，亦可使用所謂的拾取(pick-up)方式、磁力方式等其他編碼器，例如可使用美國專利第6,639,686號說明書等所揭露的所謂的掃描編碼器等。而且，Y滑件臺62的位置信息亦可以編碼器系統(tǒng)以外的測量系統(tǒng)(例如光干涉儀系統(tǒng))加以求出。

而且，基板載臺裝置20，只要至少能沿水平面以長行程驅(qū)動基板P即可，視情形，無法進(jìn)行6自由度方向的微定位也可以。上述第1～第3實(shí)施方式的基板編碼器系統(tǒng)亦非常適合適用于此種2維載臺裝置。

而且，照明光可以是ArF準(zhǔn)分子雷射光(波長193nm)、KrF準(zhǔn)分子雷射光(波長248nm)等的紫外光、F₂雷射光(波長157nm)等的真空紫外光。此外，作為照明光，例如DFB半導(dǎo)體雷射或光纖雷射發(fā)出的紅外線帶發(fā)出的紅外線帶、或可見光帶的單一波長的雷射光，以例如摻雜有鉺(或鉺及鐿兩者)的光纖放大器加以増幅，使用非線性光學(xué)結(jié)晶加以波長轉(zhuǎn)換為紫外光的諧波。而且，亦可使用固體雷射(波長：355nm、266nm)等。

而且，雖針對投影光學(xué)系16為具備復(fù)數(shù)只光學(xué)系只多透鏡方式的投影光學(xué)系的情形左做了說明，但投影光學(xué)系的只數(shù)不限于此，只要是1只以上即可。此外，不限于多透鏡方式的投影光學(xué)系，亦可以是使用歐夫納反射鏡的投影光學(xué)系等。而且，投影光學(xué)系16可以是放大系、或縮小系。

而且，曝光裝置的用途不限于將液晶顯示組件圖案轉(zhuǎn)印至方型玻璃板片的液晶用曝光裝置，亦能廣泛的適用于例如有機(jī)EL(Electro-Luminescence)面板制造用的曝光裝置、半導(dǎo)體制造用的曝光裝置、用來制造薄膜磁頭、微機(jī)器及DNA芯片等的曝光裝置。此外，不僅僅是半導(dǎo)體組件等的微組件，為制造光曝光裝置、EUV曝光裝置、X線曝光裝置及電子束曝光裝置等所使用的標(biāo)線片或光罩，而將電路圖案轉(zhuǎn)印至玻璃基板或硅晶圓等曝光裝置的制造，亦能適用。

而且，作為曝光對象的物體不限于玻璃板，亦可以是例如晶圓、陶瓷基板、薄膜構(gòu)件、或光罩母板(空白光罩)等其他物體。此外，曝光對象物為平板顯示器用基板的場合，該基板的厚度無特限定，亦包含例如薄膜狀(具可撓性的片狀構(gòu)件)。而且，本實(shí)施方式的曝光裝置，在曝光對象物為一邊長度、或?qū)情L500mm以上的基板時(shí)尤其有效。

液晶顯示組件(或半導(dǎo)體組件)等的電子組件，是經(jīng)由進(jìn)行組件的功能性能設(shè)計(jì)的步驟、依據(jù)此設(shè)計(jì)步驟制作光罩(或標(biāo)線片)的步驟、制作玻璃基板(或晶圓)的步驟、以上述各實(shí)施方式的曝光裝置及其曝光方法將光罩(標(biāo)線片)的圖案轉(zhuǎn)印至玻璃基板的微影步驟、對曝光后的玻璃基板進(jìn)行顯影的顯影步驟、將殘存抗蝕劑部分以外的部分的露出構(gòu)件以蝕刻加以去除的蝕刻步驟、將蝕刻后不要的抗蝕劑去除的抗蝕劑除去步驟，以及組件組裝步驟、檢査步驟等而制造出。在此情況下，于微影步驟使用上述實(shí)施方式的曝光裝置實(shí)施前述曝光方法，于玻璃基板上形成組件圖案，因此能以良好的生產(chǎn)性制造高積體度的組件。

此外，援用與上述實(shí)施方式引用的曝光裝置等相關(guān)的所有公報(bào)、國際公開、美國專利申請公開說明書及美國專利說明書的揭示作為本說明書記載的一部分。

產(chǎn)業(yè)上的可利用性

如以上的說明，本發(fā)明的移動體裝置及移動體的驅(qū)動方法，非常適合沿既定2維平面驅(qū)動移動體。又。本發(fā)明的曝光裝置非常適合于物體形成既定圖案。此外，本發(fā)明的平板顯示器的制造方法，非常適合平板顯示器的生產(chǎn)。再者，本發(fā)明的組件制造方法非常適合微組件的生產(chǎn)。

附圖標(biāo)記說明

10 液晶曝光裝置

14 光罩載臺裝置

20 基板載臺裝置

34 基板保持具

40 光罩保持具

44 讀頭單元

46 標(biāo)尺

48 光罩編碼器系統(tǒng)

50 基板編碼器系統(tǒng)

52 標(biāo)尺

56 編碼器標(biāo)尺

60 讀頭單元

90 主控制裝置

M 光罩

P 基板