本發(fā)明涉及投影光學系統(tǒng)、曝光裝置和器件制造方法。

背景技術：

通過使用曝光裝置制造意圖用于平面顯示器(fpd)的液晶面板。在曝光裝置中，在掩模上繪制的圖案的圖像被投影到已施加光刻膠的玻璃基板上，并且玻璃基板被曝光。ptl1公開了這種曝光裝置。圖9是根據(jù)現(xiàn)有技術的曝光裝置的示意圖。曝光裝置包括對掩模18進行照明的照明光學系統(tǒng)il和將在掩模18上繪制的圖案投影到基板14上的投影光學系統(tǒng)。投影光學系統(tǒng)包括具有第一反射表面1a和第二反射表面1b的多邊光學部件1、具有第一凹面反射表面17a和第二凹面反射表面17b的凹面鏡17以及凸面鏡2。并且，投影光學系統(tǒng)包括容納以上鏡子的透鏡鏡筒3。在-z方向上從照明光學系統(tǒng)il發(fā)射的光透過掩模18并且通過設置在掩模18下面的多邊光學部件1的第一反射表面1a在+y方向上被重新引導。通過多邊光學部件1的第一反射表面1a重新引導的光按順序被第一凹面反射表面17a、凸面鏡2、第二凹面反射表面17b和第二反射表面1b反射并且落在基板14上。

凸面鏡2具有支撐凸面鏡2的支撐部件15。圖10是沿x-y面切取的投影光學系統(tǒng)的截面圖。支撐部件15是設置在多邊光學系統(tǒng)1與凹面鏡17之間并且在與凸面鏡2和凹面鏡17的光軸垂直的x方向上延伸的梁狀部件。支撐部件15支撐凸面鏡2的與凸面鏡2的反射表面相對的一側。支撐部件15的兩端由透鏡鏡筒3的各支撐表面支撐。

照明光學系統(tǒng)il發(fā)射截面為具有預定寬度的圓弧形狀的照明光束，并且在圓弧形照明區(qū)域內(nèi)對掩模18進行照明。因此，第一反射表面1a、第一凹面反射表面17a、凸面鏡2、第二凹面反射表面17b和第二反射表面1b的各自要被照明的區(qū)域還具有預定尺寸的形狀。圖11是從凹面鏡17側觀看的投影光學系統(tǒng)的平面圖。如圖11所示，凸面鏡2被圓弧形束區(qū)域16包圍。支撐部件15位于上側的束區(qū)域16與下側的束區(qū)域16之間。

如果為了提高分辨率或產(chǎn)量而加寬掩模18的被照明的區(qū)域或者增大待取入投影光學系統(tǒng)中的光的入射角，則投影光學系統(tǒng)中的光束的路徑也被加寬。這種情況下的光束的路徑由圖9中的點線表示。如圖9中的點線所示，被多邊光學部件1反射的光束與支撐凸面鏡2的支撐部件15重疊，并且光束的重疊部分被支撐部件15的上部阻擋或反射。因此，不能提供有利的成像性能。

為了避免支撐部件15使光束變暗，可以增大投影光學系統(tǒng)的尺寸，包括多邊光學部件1、凸面鏡2和透鏡鏡筒3的尺寸。但是，投影光學系統(tǒng)的尺寸的增大導致制造成本的增大和安裝空間的增大。并且，多邊光學部件1和凸面鏡2的尺寸增大，且多邊光學部件1和凸面鏡2的重量因此增大。由此，多邊光學部件1和凸面鏡2的特征值(自然頻率(naturalfrequencies))下降。如果特征值下降，則如果存在干擾，由于這種干擾導致的振動的幅度變大。因此，投影光學系統(tǒng)的像面的位置的變化增大，在基板上執(zhí)行的曝光過程中的成像性能周期性地明顯改變，并且，在基板上投影的圖案畸變。因此，在基板上形成的得到的圖案可能具有缺陷或者包括寬度不均勻的線。

引文列表

專利文獻

ptl1：日本專利公開no.2014-103171

技術實現(xiàn)要素：

問題的解決方案

根據(jù)本發(fā)明的一個方面，提供一種將物體的圖像投影到像面上的投影光學系統(tǒng)。投影光學系統(tǒng)包括：包含第一凹面鏡、凸面鏡和第二凹面鏡的成像光學系統(tǒng)；具有各自重新引導光路的第一反射表面和第二反射表面的光學部件；和支撐凸面鏡的支撐部件。第一反射表面、第一凹面鏡、凸面鏡、第二凹面鏡和第二反射表面在來自物面的光的行進方向上按順序被設置。光學部件具有在面向凸面鏡的一側具有開口的通孔。支撐部件延伸貫穿通孔并且從開口延伸到凸面鏡。

根據(jù)以下參照附圖對示例性實施例的描述，本發(fā)明的其它特征將變得清晰。

附圖說明

圖1是根據(jù)本發(fā)明的第一實施例的曝光裝置的示意圖。

圖2是根據(jù)本發(fā)明的第二實施例的投影光學系統(tǒng)的示意圖，示出多邊光學部件、凸面鏡和周邊元件。

圖3是沿x-y面切取的圖2所示的投影光學系統(tǒng)的截面圖。

圖4是根據(jù)本發(fā)明的第三實施例的投影光學系統(tǒng)的示意圖。

圖5是根據(jù)本發(fā)明的第四實施例的投影光學系統(tǒng)的示意圖，示出多邊光學部件、凸面鏡和周邊元件。

圖6是沿x-y面切取的圖5所示的投影光學系統(tǒng)的截面圖。

圖7是根據(jù)本發(fā)明的第五實施例的投影光學系統(tǒng)的示意圖，示出多邊光學部件、凸面鏡和周邊元件。

圖8是根據(jù)本發(fā)明的第六實施例的投影光學系統(tǒng)的示意圖，示出多邊光學部件、凸面鏡和周邊元件。

圖9是根據(jù)現(xiàn)有技術的曝光裝置的示意圖。

圖10是根據(jù)現(xiàn)有技術的投影光學系統(tǒng)的截面圖。

圖11是從凹面鏡側觀看的根據(jù)現(xiàn)有技術的投影光學系統(tǒng)的平面圖。

具體實施方式

現(xiàn)在將參照附圖描述本發(fā)明的實施例。

第一實施例

圖1是根據(jù)本發(fā)明的第一實施例的包括投影光學系統(tǒng)的曝光裝置的示意圖。根據(jù)第一實施例的曝光裝置在沿y方向移動掩模m與基板s的同時，將在掩模m上繪制的圖案的圖像投影到施加了光刻膠的玻璃基板s上，由此在基板s上執(zhí)行曝光。曝光裝置包括對掩模m進行照明的照明光學系統(tǒng)il1和將在掩模m上繪制的圖案投影到基板s上的投影光學系統(tǒng)。投影光學系統(tǒng)包括具有第一反射表面11a和第二反射表面11b的多邊光學部件11(光學部件)、具有第一凹面反射表面117a和第二凹面反射表面117b的凹面鏡117以及凸面鏡12。第一凹面反射表面117a、第二凹面反射表面117b和凸面鏡12構成在基板s(像面)上聚焦在掩模m(物面)上繪制的圖案的圖像的成像光學系統(tǒng)。凹面鏡117和凸面鏡12共享由沿y方向延伸的點鏈線示出的共用光軸。投影光學系統(tǒng)還包括容納以上的鏡子的透鏡鏡筒13。

多邊光學部件11是其y-z截面為三角或梯形形狀的部件。多邊光學部件11是具有包含第一反射表面11a、第二反射表面11b和表面11c的多個平坦表面的光學部件。多邊光學部件11的第一反射表面11a和第二反射表面11b分別具有反射膜，并且各自具有反射進入的光并由此重新引導光的光路的功能。根據(jù)第一實施例的多邊光學部件11具有通孔11d。通孔11d在y方向上延伸并且在面向凸面鏡12的一側具有開口11e并在與面向凸面鏡12的一側相對的面向透鏡鏡筒13的一側具有開口11f。

在-z方向上從照明光學系統(tǒng)il1發(fā)射的光透過掩模m并且通過位于掩模m下面的多邊光學部件11的第一反射表面11a在+y方向上被重新引導。由此通過多邊光學部件11的第一反射表面11a重新引導的光依次被第一凹面反射表面117a、凸面鏡12、第二凹面反射表面117b和第二反射表面11b反射并且落在基板s上。即，第一反射表面11a、第一凹面反射表面117a、凸面鏡12、第二凹面反射表面117b和第二反射表面11b在來自物面的光的行進方向上按順序被設置。

凸面鏡12具有支撐凸面鏡12的支撐部件101。支撐部件101是z在y方向上延伸的梁狀部件，該y方向與成像光學系統(tǒng)的光軸平行。支撐部件101延伸貫穿多邊光學部件11的通孔11d。多邊光學部件11的通孔11d的內(nèi)徑比支撐部件101的外徑大。由此，支撐部件101不與多邊光學部件11接觸。支撐部件101至少在多邊光學部件11與凸面鏡12之間從設置在面向凸面鏡12的一側的開口11e延伸到凸面鏡12。支撐部件101通過其一端處的支撐表面101a來支撐凸面鏡12或保持凸面鏡12的部件，使得其另一端處的被支撐表面101b被透鏡鏡筒13支撐。因此，支撐部件101形成僅在其被支撐表面101b處被支撐的懸臂。支撐部件101支撐凸面鏡12的與凸面鏡12的反射表面相對的一側。

如上所述，支撐部件101被設置在從第一反射表面11a延伸到第一凹面反射表面117a的光路和從第二凹面反射表面117b延伸到第二反射表面11b的光路外面，并且處于凸面鏡12的與凸面鏡12的反射表面相對的一側，使得支撐部件101不與光路重疊。因此，即使投影光學系統(tǒng)中的束區(qū)域(束通過區(qū)域)被加寬，支撐部件101也不阻擋或反射光束。由此，即使投影光學系統(tǒng)中的束區(qū)域在投影光學系統(tǒng)的尺寸不增大的情況下被加寬，也可保持投影光學系統(tǒng)的有利的成像性能。

并且，由于第一實施例不使用現(xiàn)有技術中使用的支撐部件15，因此不需要在圖11所示的圓弧形狀束區(qū)域16之間設置間隙。即，不在設計限制中包含在圓弧形狀束區(qū)域16之間設置間隙。由此，第一實施例在投影光學系統(tǒng)的設計方面是有益的。因此，即使多邊光學部件11和凸面鏡12具有與在現(xiàn)有技術中使用的那些相同的尺寸，更大入射角(數(shù)值孔徑或na)的光束也可被取入到投影光學系統(tǒng)中或者投影光學系統(tǒng)中的束區(qū)域可被加寬。

當從凹面鏡117(第一凹面反射表面117a或第二凹面反射表面117b)側觀看投影光學系統(tǒng)時，支撐部件101的在凸面鏡12與多邊光學部件11之間延伸的部分可被整形，使得該部分的外周處于凸面鏡12或保持凸面鏡12的部件的外周的內(nèi)側。在這種配置中，可確保防止支撐部件101阻擋投影光學系統(tǒng)中的光路。

凸面鏡12和支撐部件101可通過粘接劑或壓縮彈簧等相互固定。通過粘接劑固定是優(yōu)異的，原因是，當保持凸面鏡12的反射表面的形狀時粘接劑硬化，因此，凸面鏡12的反射表面的形狀不太可能畸變。通過壓縮彈簧的固定是優(yōu)異的，原因是，由于不需要等待粘接劑硬化，因此，可在短時間內(nèi)完成固定工作，即，固定工作十分容易。

支撐部件101可由鋼或纖維增強塑料(frp)等制成。鋼比frp便宜，并且由于易于加工所以是優(yōu)異的。frp與鋼相比具有更高的單位重量的剛度，并且是優(yōu)異的，原因是可使得支撐部件101的特征值(自然頻率)為高并且可由此減小凸面鏡12的振動的幅度。

支撐部件101可以是中空體。如果支撐部件101是中空體，那么支撐部件101可具有輕的重量和高的動態(tài)剛度。并且，如果溫度被調節(jié)的空氣被饋送到支撐部件101的中空中，那么凸面鏡12的溫度變得可控制。因此，可提高投影光學系統(tǒng)的成像性能。

多邊光學部件11的通孔11d被設置在多邊光學部件11的排除被施加光束的區(qū)域的位置處。注意，可在排除被施加光束的區(qū)域的位置處使得通孔11d的直徑盡可能地大。如果使得通孔11d的直徑更大，那么可使得要插入通孔11d中的支撐部件101更大。因此，可增大支撐部件101的剛度。

第二實施例

圖2是根據(jù)本發(fā)明的第二實施例的投影光學系統(tǒng)的示意圖，示出多邊光學部件11、凸面鏡12和周邊元件。圖3是沿x-y面切取的圖2所示的投影光學系統(tǒng)的截面圖。根據(jù)第二實施例的投影光學系統(tǒng)包括與第一實施例相同的多邊光學部件11、支撐多邊光學部件11的支撐框架25、支撐支撐部件101的支撐框架26、保持多邊光學部件11的保持部件27和支撐支撐部件101的支撐軸28。

保持多邊光學部件11的保持部件27與設置在多邊光學部件11中的通孔11d的內(nèi)周接觸并且包圍支撐部件101的外周。保持部件27的內(nèi)徑比支撐部件101的外徑大。由此，保持部件27不與支撐部件101接觸。保持部件27與支撐框架25連接。支撐框架25與透鏡鏡筒13連接。因此，多邊光學部件11借助于保持部件27和支撐框架25被透鏡鏡筒13支撐。

支撐部件101與支撐框架26連接。支撐框架26與透鏡鏡筒13連接。因此，凸面鏡12借助于支撐部件101和支撐框架26被透鏡鏡筒13支撐。

支撐軸28延伸貫穿設置在多邊光學部件11的側面中的通孔、設置在支撐框架25中的通孔和設置在保持部件27中的通孔。因此，支撐軸28使支撐部件101與支撐框架26相互連接。即，支撐軸28用作以支撐部件101的兩端之間的點作為支點支撐支撐部件101的附加支撐部件。

如果不設置支撐軸28，那么支撐部件101形成其尖端被附接凸面鏡12的懸臂。在這種配置中，支撐部件101的自然頻率降低。設置支撐軸28使得能夠在接近凸面鏡12的位置處支撐支撐部件101。在這種配置中，支撐部件101形成在其兩端處被支撐的梁。由此，支撐部件101的自然頻率變高。并且，由于支撐軸28延伸貫穿設置在多邊光學部件11的側面中的開口，因此支撐軸28沒有機會干擾在投影光學系統(tǒng)中行進的光束。

第三實施例

圖4是根據(jù)本發(fā)明的第三實施例的投影光學系統(tǒng)的示意圖。根據(jù)第三實施例的投影光學系統(tǒng)包括與第一實施例中的多邊光學部件相同的多邊光學部件11、作為支撐部件101的替代設置并且支撐凸面鏡12的支撐部件401和支撐支撐部件401的支撐部件46。

與第一實施例同樣，支撐部件401在y方向上延伸貫穿設置在多邊光學部件11中的通孔并且在其尖端處支撐凸面鏡12。設置在多邊光學部件11中的通孔的內(nèi)徑比支撐部件401的外徑大。由此，支撐部件401不與多邊光學部件11接觸。與根據(jù)第一實施例的支撐部件101不同，支撐部件401在凸面鏡12的反射表面的曲率中心40附近包含低剛度部分49。具體而言，低剛度部分49是具有減小的直徑的環(huán)形凹陷。

支撐部件401形成其一端固定到支撐部件46上的懸臂。支撐部件46由具有低的剛度的材料制成。包含低剛度部分49的支撐部件401在凸面鏡12的反射表面的曲率中心40處具有比排除曲率中心40的其它部分低的剛度。

另一方面，曝光裝置包括分別移動掩模m和基板s的臺架。諸如當臺架被驅動時產(chǎn)生的反作用力和從其上安裝曝光裝置的地板傳送的振動的干擾會使支撐部件401振動。以懸臂的形式設置的支撐部件401的振動是圍繞曲率中心40在ωx和ωz方向上出現(xiàn)的旋轉振動。即，凸面鏡12圍繞曲率中心40振動。因此，凸面鏡12的反射表面僅在反射表面的延伸內(nèi)位移，并且凸面鏡12在反射表面的法線方向上的位移減少。由此，由于凸面鏡12的反射表面的位移導致的投影光學系統(tǒng)的成像性能的劣化比根據(jù)現(xiàn)有技術的投影光學系統(tǒng)中的少。根據(jù)第三實施例，例如，投影到基板s上的圖像的偏移減少，并且投影在基板s上的圖案的圖像的畸變因此減少。因此，在基板s上形成的圖案的缺陷和圖案的線寬的不均勻性減少。

低剛度部分49僅需要具有低的剛度。因此，作為凹陷的替代，低剛度部分49可以是諸如彈性鉸鏈部件或低剛度彈性部件的結構。彈性鉸鏈部件是優(yōu)異的，原因是支撐部件401的旋轉振動的中心很容易被設定到鉸鏈部分。低剛度彈性部件的例子包括鋁合金等。這種低剛度彈性部件優(yōu)于彈性鉸鏈部件，原因是低剛度彈性部件不太可能在沖擊時產(chǎn)生塑性變形。

第四實施例

現(xiàn)在將參照圖5和圖6描述根據(jù)本發(fā)明的第四實施例的投影光學系統(tǒng)。圖5是根據(jù)第四實施例的投影光學系統(tǒng)的示意圖，示出多邊光學部件11、凸面鏡12和周邊元件。圖6是沿x-y面切取的圖5所示的投影光學系統(tǒng)的截面圖。根據(jù)第四實施例的投影光學系統(tǒng)包括在第二實施例中使用的元件、移動多邊光學部件11的驅動機構52和移動凸面鏡12的驅動機構53。并且，根據(jù)第四實施例的投影光學系統(tǒng)包括作為在第二實施例中使用的支撐軸28的替代的支撐軸58。

驅動機構52和53分別包括諸如致動器的驅動源。致動器可以是步進馬達或線性馬達等。步進馬達是優(yōu)異的，原因是，由于它是普通的致動器，因此相對便宜，并且由于移動的物體的位置基于驅動脈沖的數(shù)量可控制，因此，位置調整是容易的。線性馬達是線性驅動致動器，并因此不需要將旋轉移動轉換成線性移動的機構，這種機構在使用諸如步進馬達的旋轉驅動致動器的情況下是需要的。由此，線性馬達在結構簡化上是優(yōu)越的。

保持多邊光學部件11的保持部件27具有圓筒形狀，并且與多邊光學部件11的通孔配合。因此，多邊光學部件11和保持部件27相互一體化。并且，支撐部件101以不與保持部件27接觸的方式延伸貫穿保持部件27的鉆孔。并且，多邊光學部件11和支撐多邊光學部件11的支撐框架25分別在其右側面和左側面上具有通孔，與保持部件27連接的支撐軸58延伸貫通這些通孔。支撐軸58以不與其接觸的方式(即，以在其間提供間隙的方式)延伸貫通多邊光學部件11和支撐框架25。

為了在投影光學系統(tǒng)中調整焦點位置和諸如像散的成像性能，多邊光學部件11和凸面鏡12的位置需要被調整。例如，為了調整焦點位置，只需要調整多邊光學部件11的位置。為了調整像散，需要調整凸面鏡12的位置。即，多邊光學部件11和凸面鏡12需要被配置為使得其位置可相互獨立地可調整。因此，第四實施例使用分別對多邊光學部件11和凸面鏡12設置的驅動機構52和53。

驅動機構52被設置在支撐框架25與支撐軸58之間。在與透鏡鏡筒13連接的支撐框架25被固定的情況下，驅動機構52使得支撐軸58的位置能夠被調整。支撐軸58與多邊光學部件11連接并因此與其一體化，且保持部件27介于兩者之間。因此，可通過驅動機構52調整多邊光學部件11的位置。

驅動機構52包含分別設置在支撐框架25的右側面和左側面的兩個驅動機構52。右驅動機構和左驅動機構52分別具有y和z驅動軸。由此，多邊光學部件11可沿y軸和z軸的兩個方向線性移動。并且，如果右和左驅動機構52分別沿y軸的相反的方向被驅動，那么多邊光學部件11圍繞z軸被旋轉驅動。并且，如果右驅動機構和左驅動機構52分別沿z軸的相反方向被驅動，那么多邊光學部件11圍繞y軸被旋轉驅動。

驅動機構53被設置在透鏡鏡筒13與支撐框架26之間。在透鏡鏡筒13被固定的情況下，致動驅動機構53使得能夠調整支撐框架26的位置。因此，借助于支撐框架26和支撐部件101，可通過驅動機構53調整凸面鏡12的位置。驅動機構53包含分別設置在支撐框架26的右側和左側部分下的兩個驅動機構53。右驅動機構和左驅動機構53分別具有x、y和z驅動軸。由此，凸面鏡12可沿x軸、y軸和z軸的三個方向線性移動。

驅動機構53可被設置在凸面鏡12與支撐部件101之間。在這種情況下，在支撐部件101被固定的情況下，致動驅動機構53使得能夠調整凸面鏡12的位置。驅動機構53分別具有x、y和z驅動軸。由此，凸面鏡12可沿x軸、y軸和z軸的三個方向線性移動。如果驅動機構53被設置在透鏡鏡筒13與支撐框架26之間，那么驅動機構53需要驅動三個元件，即凸面鏡12、支撐部件101和支撐框架26。相反，如果驅動機構53被設置在凸面鏡12與支撐部件101之間，那么驅動機構53僅需要驅動凸面鏡12。由此，驅動的物體的總重量減少，并且驅動機構53的尺寸可因此減小，這是有益的。并且，由于驅動的物體(即凸面鏡12)被直接驅動，因此，驅動的精度提高，這也是有益的。

但是，如果驅動機構53被設置在凸面鏡12與支撐部件101之間，那么設置在凸面鏡12周圍的元件的總重量增加。因此，支撐部件101的特征值降低。因此，驅動機構53被設置在透鏡鏡筒13與支撐框架26之間的情況是優(yōu)異的，原因是抑制設置在凸面鏡12周圍的元件的總重量的增加并且防止支撐部件101的特征值的減小。

驅動機構52和53可分別是可用手移動的可手動移動機構?？墒謩右苿拥尿寗訖C構52和驅動機構53由于簡單且便宜因而是優(yōu)異的。這種可手動移動驅動機構52和驅動機構53還是優(yōu)質的，原因是，由于不設置諸如致動器的熱源，因此，投影光學系統(tǒng)的成像性能沒有機會由于發(fā)熱而劣化。

驅動機構52和53均被設置在投影光學系統(tǒng)中的遠離光束的位置處。由此，驅動機構52和53沒有機會干涉光束。

第五實施例

圖7是根據(jù)本發(fā)明的第五實施例的投影光學系統(tǒng)的示意圖，示出多邊光學部件11、凸面鏡12和周邊元件。根據(jù)第五實施例的投影光學系統(tǒng)使用根據(jù)第二實施例的元件和根據(jù)第四實施例的元件的組合。根據(jù)第五實施例的投影光學系統(tǒng)包括多邊光學部件11、支撐多邊光學部件11的支撐框架25、支撐支撐部件101的支撐框架26、保持多邊光學部件11的保持部件27、支撐支撐部件101的支撐軸28、移動多邊光學部件11的驅動機構52、移動凸面鏡12的驅動機構53和支撐軸58。

支撐軸28和58以不與多邊光學部件11接觸且其間存在間隙的方式延伸貫穿設置在多邊光學部件11的側面中的通孔。多邊光學部件11和凸面鏡2可通過各驅動機構52和53彼此獨立且彼此相對地移動。由此，支撐軸28與多邊光學部件11之間的間隙被設定為大于或等于多邊光學部件11和凸面鏡12相對于彼此的移動的長度的尺寸。

支撐軸28和58分別延伸貫穿設置在多邊光學部件11的側面中的通孔。由此，支撐軸28和58沒有機會干涉在投影光學系統(tǒng)中行進的光束。

第六實施例

圖8是根據(jù)本發(fā)明的第六實施例的投影光學系統(tǒng)的示意圖，示出多邊光學部件11、凸面鏡12和周邊元件。根據(jù)第六實施例的投影光學系統(tǒng)使用根據(jù)第四實施例的元件和根據(jù)第三實施例的低剛度部分49的組合。根據(jù)第六實施例的投影光學系統(tǒng)包括多邊光學部件11、支撐多邊光學部件11的支撐框架25、支撐支撐部件101的支撐框架26、保持多邊光學部件11的保持部件27、移動多邊光學部件11的驅動機構52、支撐軸58、移動凸面鏡12的驅動機構53和低剛度部分49。以具有減小的直徑的環(huán)形凹陷的形式設置低剛度部分49。

支撐部件101以不與保持部件27接觸且其間具有間隙的方式延伸貫通保持部件27的鉆孔。由此，由于干擾導致的振動可導致支撐部件101以圍繞凸面鏡12的曲率中心旋轉的方式振動。這種配置產(chǎn)生減少凸面鏡12的反射表面中的位移并因此減少在基板s上投影的圖像的偏移的效果。

如上所述，根據(jù)以上實施例中的每一個，即使在不增大投影光學系統(tǒng)的尺寸的情況下加寬投影光學系統(tǒng)中的束區(qū)域，也防止通過支撐凸面鏡12的支撐部件101或401使光束變暗。因此，提供保持有利的成像性能的投影光學系統(tǒng)。

雖然以上描述了本發(fā)明的幾個實施例，但是本發(fā)明不限于以上的實施例?？稍诒景l(fā)明的范圍內(nèi)對本發(fā)明提出許多變化和修改。例如，雖然凹面鏡117是具有第一凹面反射表面117a和第二凹面反射表面117b的單個部件，但是凹面鏡117可變?yōu)橄嗷オ毩⒌膬蓚€部件：具體而言，具有第一凹面反射表面117a的凹面鏡和具有第二凹面反射表面117b的凹面鏡。支撐凸面鏡12的支撐部件101或401的配置不限于在以上的實施例中使用的那些。支撐部件101或401只需要是即使投影光學系統(tǒng)中的束區(qū)域被加寬也不阻擋或反射在投影光學系統(tǒng)中行進的光束的部件。例如，支撐凸面鏡12的支撐部件101或401可以是彎曲梁或t形部件等。

第七實施例

現(xiàn)在將描述通過使用以上的曝光裝置制造器件(半導體集成電路器件或液晶顯示器件等)的方法。通過以下的步驟制造器件：通過使用以上的曝光裝置在施加了光刻膠的基板(晶片或玻璃基板等)上執(zhí)行曝光的步驟、對基板(光刻膠)進行顯影的步驟和其它已知的步驟。其它已知的步驟包括蝕刻、抗蝕劑剝離、切割、接合和封裝等。通過根據(jù)第七實施例的器件制造方法，可以制造質量比現(xiàn)有技術好的器件。

雖然已參照示例性實施例說明了本發(fā)明，但應理解，本發(fā)明不限于公開的示例性實施例。所附權利要求的范圍應被賦予最寬的解釋以包含所有的變更方式以及等同的結構和功能。

本申請要求在2014年12月2日提交的日本專利申請no.2014-244333的權益，其通過引用全文并入本文。