技術(shù)特征：
1.一種掩膜圖形的優(yōu)化方法，所述掩膜圖形用于最佳焦平面位置的測(cè)量，其特征在于，包括：S01，提供初始掩膜圖形上的不同區(qū)域的預(yù)設(shè)的透過(guò)率和相位，初始掩膜圖形對(duì)應(yīng)相移掩膜；S02，建立目標(biāo)函數(shù)，獲得預(yù)設(shè)的透過(guò)率和相位下的目標(biāo)函數(shù)值，該目標(biāo)函數(shù)值為當(dāng)前目標(biāo)函數(shù)值，其中，目標(biāo)函數(shù)為部分相干光源照明、預(yù)定焦深范圍內(nèi)不同離焦量下光刻空間像強(qiáng)度分布所對(duì)應(yīng)的圖形位置偏移量對(duì)離焦量的斜率；S03，以預(yù)設(shè)的透過(guò)率和相位為起始點(diǎn)，在優(yōu)化算法的預(yù)設(shè)條件下，利用優(yōu)化算法獲得優(yōu)化后的透過(guò)率和相位；S04，通過(guò)目標(biāo)函數(shù)獲得優(yōu)化后的透過(guò)率和相位下的目標(biāo)函數(shù)值，該目標(biāo)函數(shù)值為優(yōu)化目標(biāo)函數(shù)值；S05，根據(jù)當(dāng)前目標(biāo)函數(shù)值和優(yōu)化目標(biāo)函數(shù)值的差值，確定優(yōu)化后的透過(guò)率和相位是否為最優(yōu)掩膜圖形的透過(guò)率和相位參數(shù)；若否，則重新設(shè)定優(yōu)化算法的預(yù)設(shè)條件，將優(yōu)化后的透過(guò)率和相位作為預(yù)設(shè)的透過(guò)率和相位，并返回步驟S03。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，部分相干光源的光源面被劃分為多個(gè)光源點(diǎn)，所述光刻空間像強(qiáng)度分布為每個(gè)光源點(diǎn)下光刻空間像強(qiáng)度分布的疊加。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，部分相干光源的光源面被劃分為多個(gè)光源點(diǎn)的方法包括：取部分相干光源的光源面的外切正方形，將外切正方形柵格化分為正方形子區(qū)域，將每個(gè)正方形子區(qū)域的中心點(diǎn)作為一個(gè)光源點(diǎn)。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，優(yōu)化算法包括模擬退火算法、遺傳算法、蟻群算法、梯度算法。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，優(yōu)化算法為模擬退火算法，根據(jù)當(dāng)前目標(biāo)函數(shù)值和優(yōu)化目標(biāo)函數(shù)值的差值，確定優(yōu)化后的透過(guò)率和相位是否為最優(yōu)掩膜圖形的透過(guò)率和相位參數(shù)包括：判斷當(dāng)前目標(biāo)函數(shù)值和優(yōu)化目標(biāo)函數(shù)值的差值Δf是否不小于0，若是，則確定優(yōu)化后的透過(guò)率和相位為最優(yōu)掩膜圖形的透過(guò)率和相位；若Δf小于0，則判斷e(Δf/T0)是否大于0-1之間的隨機(jī)數(shù)，若是，則確定優(yōu)化后的透過(guò)率和相位為最優(yōu)掩膜圖形的透過(guò)率和相位參數(shù)，T0為模擬退火的當(dāng)前溫度。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，其特征在于，在判斷e(Δf/T0)是否大于0-1之間的隨機(jī)數(shù)之后還包括：若小于所述隨機(jī)數(shù)，則判斷是否滿足預(yù)定終止條件，若是，則進(jìn)入終止優(yōu)化步驟。7.一種掩膜圖形的優(yōu)化系統(tǒng)，所述掩膜圖形用于最佳焦平面位置的測(cè)量，其特征在于，包括：初始掩膜圖形提供單元，用于提供初始掩膜圖形上的不同區(qū)域的預(yù)設(shè)的透過(guò)率和相位，初始掩膜圖形對(duì)應(yīng)相移掩膜；目標(biāo)函數(shù)建立單元，用于建立目標(biāo)函數(shù)，其中，目標(biāo)函數(shù)為部分相干光源照明、預(yù)定焦深范圍內(nèi)不同離焦量下光刻空間像強(qiáng)度分布所對(duì)應(yīng)的圖形位置偏移量對(duì)離焦量的斜率；當(dāng)前目標(biāo)函數(shù)值獲取單元，用于獲得預(yù)設(shè)的透過(guò)率和相位下的目標(biāo)函數(shù)值，該目標(biāo)函數(shù)值為當(dāng)前目標(biāo)函數(shù)值；優(yōu)化單元，用于以預(yù)設(shè)的透過(guò)率和相位為起始點(diǎn)，在優(yōu)化算法的預(yù)設(shè)條件下，利用優(yōu)化算法獲得優(yōu)化后的透過(guò)率和相位；優(yōu)化目標(biāo)函數(shù)值獲取單元，用于通過(guò)目標(biāo)函數(shù)獲得優(yōu)化后的透過(guò)率和相位下的目標(biāo)函數(shù)值，該目標(biāo)函數(shù)值為優(yōu)化目標(biāo)函數(shù)值；最優(yōu)掩膜圖形判斷單元，用于根據(jù)當(dāng)前目標(biāo)函數(shù)值和優(yōu)化目標(biāo)函數(shù)值的差值，確定優(yōu)化后的透過(guò)率和相位是否為最優(yōu)掩膜圖形的透過(guò)率和相位參數(shù)；預(yù)設(shè)條件重設(shè)單元，用于優(yōu)化后的透過(guò)率和相位不是最優(yōu)掩膜圖形的透過(guò)率和相位參數(shù)時(shí)，重新設(shè)定優(yōu)化算法的預(yù)設(shè)條件，并將優(yōu)化后的透過(guò)率和相位作為預(yù)設(shè)的透過(guò)率和相位。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的系統(tǒng)，其特征在于，還包括光源點(diǎn)劃分單元，用于將部分相干光源的光源面劃分為多個(gè)光源點(diǎn)，所述光刻空間像強(qiáng)度分布為每個(gè)光源點(diǎn)下光刻空間像強(qiáng)度分布的疊加。9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的系統(tǒng)，其特征在于，光源點(diǎn)劃分單元中，取部分相干光源的光源面的外切正方形，將外切正方形柵格化分為正方形子區(qū)域，將每個(gè)正方形子區(qū)域的中心點(diǎn)作為一個(gè)光源點(diǎn)。10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的系統(tǒng)，其特征在于，優(yōu)化算法包括模擬退火算法、遺傳算法、蟻群算法、梯度算法。11.根據(jù)權(quán)利要求7所述的系統(tǒng)，其特征在于，優(yōu)化算法為模擬退火算法，最優(yōu)掩膜圖形判斷單元中，判斷當(dāng)前目標(biāo)函數(shù)值和優(yōu)化目標(biāo)函數(shù)值的差值Δf是否不小于0，若是，則確定優(yōu)化后的透過(guò)率和相位為最優(yōu)掩膜圖形的透過(guò)率和相位；若Δf小于0，則判斷e(Δf/T0)是否大于0-1之間的隨機(jī)數(shù)，若是，則確定優(yōu)化后的透過(guò)率和相位為最優(yōu)掩膜圖形的透過(guò)率和相位參數(shù)，T0為模擬退火的當(dāng)前溫度。12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的系統(tǒng)，其特征在于，還包括終止判斷單元，用于在判斷e(Δf/T0)小于0-1之間的隨機(jī)數(shù)之后，判斷是否滿足預(yù)定終止條件，若是，則進(jìn)入終止優(yōu)化。13.一種最佳焦平面位置測(cè)量方法，其特征在于，采用如權(quán)利要求1-6中任一項(xiàng)所述的掩膜圖形的優(yōu)化方法獲得的最優(yōu)掩膜圖形的透過(guò)率和相位參數(shù)對(duì)應(yīng)的掩膜圖形進(jìn)行最佳焦平面位置的測(cè)量。