本發(fā)明涉及一種UV-CTP，具體是指一種用于UV-CTP的感光層。

背景技術：

眾所周知，平印版的制版過程至少需要兩步 來完成，一是將涂布了感光組合物的印版通過蒙片(如，正片型和負片型蒙片)在特定的光源下曝光，由此而形成一個光影像潛影；二是把上面曝光之后的印版進行一個所謂的后續(xù)的顯影步驟，通過這個過程，除去多余的涂層。預涂感光平版是以鋁或聚酯為支持體的片狀材料，并且能通過上述兩個步驟制得同時具有親油和親水性的表面，適合于平版印刷。通常，在一個負片型系統(tǒng)中，曝光部位由于涂層的聚合或交聯(lián)發(fā)生變化，變成顯影液不溶或難溶，從而可以在顯影步驟中將印版未曝光部位的涂層除去。反之，在一個正片型系統(tǒng)中，顯影步驟是將印版曝光部位的材料除去。顯影步驟通常包括用顯影劑漂洗和洗滌，通常在一個含有顯影劑的處理單元中進行顯影。陽圖型平印版所用的顯影劑通常是強堿，陰圖型顯影液中除強堿外通常還含有有機溶劑，如苯甲醇等。當然，光影像的顯影也有用加熱方法或其它方式來完成的。

上述的兩種(即濕和熱)顯影過程的缺點是耗時、成本很高。而且，當采用揮發(fā)性有機物或強堿作為顯影劑時，這些廢液地處理將帶來環(huán)境問題。

隨著印刷工業(yè)的發(fā)展和人們生活水平的提高，世界各國對環(huán)保的要求越來越高，這樣就需要一種在印刷前不需要化學處理或者不需任何處理的印版，這不但會有利于環(huán)保，而且這還將有利于減少印刷成本、減少印刷間的空間及減少印刷作業(yè)的準備時間。

在成像之后印刷之前不需處理的正片型印版的結(jié)構(gòu)已被公開(如見美國專利No.5,1 02,771；5,225,316和5,314,785)。這些專利公開了以含有丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯聚合物的感光涂層為基礎的印版和光酸產(chǎn)生系統(tǒng)。當圖像暴露在光輻射下時，在光照射區(qū)域的聚合物分解形成親水性，而在沒有光照射的區(qū)域的聚合物保持親墨性。

在成像后印刷前不需處理的預涂感光負片型平版也是該領域已知的。在成像和印刷之間不需處理步驟印版的種類在美國專利No.3,231,378；3,285,745；和3,409,487中公開。這些印版含有一種包含酚醛樹脂、環(huán)氧乙烷聚合物和光增感劑的感光組合物。當其暴露在光化輻射下時，使酚醛樹脂發(fā)生氧化，從而增加了親墨性。這些印版的缺點是它們在印刷過程中親墨性易減少，以至于需要嚴格控制印刷機上的墨/水間的平衡才能保證正常的印刷，有時還會使印版變得不可操作。美國專利No.3,793,033公開了在組成物中加人羥基乙基纖維素酯。獲得的印版不會瞎版(即印刷時平版不受墨，圖像損失)，并只需對印刷機上的墨/水 平衡進行較少的控制。該組成的一個明顯的不利條件是要用需固化的酚醛樹脂來獲得合適的印刷機印數(shù)。這樣就需要在制得的印版前體上形成一個雙層系統(tǒng)，即在含酚醛樹脂層上應再加一層增感劑層。如果在固化后不涂布增感劑層那么酚醛樹脂在固化時將分解。

另一類在成像和印刷間不需處理的負片型印版是那些基于多層感光層的印版。通常， 如在美國專利No.4,600,679和4,104,072及歐洲專利公開號No.450,199中所描述的，這些結(jié)構(gòu)在最靠近版基有一個親水感光層，一個用于光硬化的附加層與第一層連接。這些結(jié)構(gòu)通常用以芳香類重氮化合物為基礎的負片型感光組合物作為最靠近版基的親水層。這些印版的一個缺點是其有起臟(即背景部位上墨)和污染印刷機的趨勢。這個缺點需要在印刷前先用合適的清洗劑(即潤版液)清洗印版。因此，重氮化合物和樹脂的加入對于用于“無處理”版的印版是有害的。PCT申請?zhí)朜o.93-05446中公開的印版，其中親水層中沒有重氮成分， 因此消除了由于殘留的未反應的重氮物質(zhì)所引起的印刷機污染問題。所述的版包括版/版基，最接近版基的感光聚合親水層，和一個第二靠近版基的隔開的感光聚合物疏水層。感光親水層是以不含重氮化合物的可聚合物質(zhì)為基礎版的官能度是通過兩個層曝光在光化輻射下失去水溶性和硬化而獲得的。該版只需一個裝有墨和潤版液的印刷機以在曝光后獲得好的印刷品，而不需在印刷前進行預洗版。由于該結(jié)構(gòu)有外部疏水層，如果在印刷前不 處理除去背景部分的疏水物質(zhì)那么就不能獲得與常規(guī)的版相同的著水著墨性能。

技術實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于提供一種用于UV-CTP的感光層，使得UV-CTP版在紫外線光源曝光后可直接用自來水沖洗或不經(jīng)任何沖洗加工步驟，即可上機印刷、并可得到高的耐印力。

本發(fā)明的目的通過下述技術方案實現(xiàn)：

一種用于UV-CTP的感光層，包含以下六種組分：(1)一種 -(X)-(Y)-(Z)-結(jié)構(gòu)的不飽和水溶性聚合物，和(2)一種可光聚合的預聚體、和(3)一種多官能團單體，和(4)一種或一種以上的光聚合引發(fā)劑，和(5)一種或一種以上的染料或顏 料，和(6)一種或一種以上的溶劑；其中，X代表含有磺酸基團的共聚單元，Y代表含有兩個不飽和雙鍵的支鏈的羧酸共聚單元，Z代表含有一個不飽和雙鍵支鏈的丙烯酸酯共聚單元；X選自乙烯磺酸、苯乙烯磺酸、異戊二烯磺酸，X占共聚物的10％～20％摩爾比。

Y是含有兩個不飽和雙鍵的支鏈的丙烯酸或 甲基丙烯酸共聚單元。

Y是含有一個不飽和雙鍵取代的GMA接枝的丙烯酸或甲基丙烯酸共聚單元。

Y占共聚物的20％～40％摩爾比。

Z是含一個不飽和雙鍵取代基團的丙烯酸酯或甲基丙烯酸共聚單元。

Z占共聚物的30％～50％摩爾比。

本發(fā)明與現(xiàn)有技術相比，具有如下的優(yōu)點和有益效果：

1、本發(fā)明中平印版的制作方法，在經(jīng)過電解粗化和陽極氧化并進行封孔處理后的鋁版基上涂布上述適合于UV-CTP的免化學處理陰圖感光組成物之前，用本發(fā)明-(X)-(Y)-(Z) -結(jié)構(gòu)的不飽和水溶性聚合物對鋁版基進行親水化處理。該平印版適合于使用UV-CTP制版機制版。該平印版在使用UV-CTP制版機掃描曝光后，可以不使用顯影液顯影而使用自來水沖洗，即得到可印刷的平印版。該平印版在使用UV-CTP制版機掃描曝光后，不經(jīng)過任何處理直接可以裝版到印刷機印刷；

2、本發(fā)明由于采用組分和方法，使之具有諸多優(yōu)點，即感光度高、網(wǎng)點還愿性好，在用紫外線光源曝光后可直接用自來水沖洗或不經(jīng)任何沖洗加工步驟即可上機印刷。印版圖文部分親油性好，空白部分不上臟，并可得到高的耐印力，尤其適合UV-CTP制版機。

具體實施方式

為使本發(fā)明的目的、技術方案和優(yōu)點更加清楚明白，下面結(jié)合實施例，對本發(fā)明作進一步的詳細說明，本發(fā)明的示意性實施方式及其說明僅用于解釋本發(fā)明，并不作為對本發(fā)明的限定。

實施例1

本發(fā)明適合于UV-CTP的免化學處理陰圖感光組成物主要包含以下六種組分：(1)一種 -(X)-(Y)-(Z)-結(jié)構(gòu)的不飽和水溶性聚合物，和(2)一種可光聚合的預聚體、和(3)一種多官能團單體，和(4)一種或一種以上的光聚合引發(fā)劑，和(5)一種或一種以上的染料或顏料，和(6)一種或一種以上的溶劑；其中，X代表含有磺酸基團的共聚單元，Y代表含有兩個不飽和雙鍵的支鏈的羧酸共聚單元，Z代表含有一個不飽和雙鍵支鏈的丙烯酸酯共聚單元。

本發(fā)明中X選自乙烯磺酸、苯乙烯磺酸、異戊 二烯磺酸。X占共聚物的10％摩爾比。Y是含有兩個不飽和雙鍵的支鏈的丙烯酸或甲基丙烯酸共聚單元。或者，Y是含有一個不飽和雙鍵取代的GMA接枝的丙烯酸或甲基丙烯酸共 聚單元。Y占共聚物的20％摩爾比。Z是含一個不飽和雙鍵取代基團的丙烯酸酯或甲基丙烯酸共聚單元。Z占共聚物的30％摩爾比。-(X)-(Y)-(Z)-結(jié)構(gòu)的不飽和水溶性聚合物中，不飽和雙鍵總數(shù)占聚合物的60％摩爾比。

本發(fā)明中在經(jīng)過電解粗化和陽極氧化并進行封孔處理后的鋁版基上涂布上述的適合于UV-CTP的免化學處理陰圖感光組成物。

本發(fā)明中在經(jīng)過電解粗化和陽極氧化并進行封孔處理后的鋁版基 上涂布上述適合于UV-CTP的免化學處理陰圖感光組成物之前，用本發(fā)明-(X)-(Y)-(Z) -結(jié)構(gòu)的不飽和水溶性聚合物對鋁版基進行親水化處理。該平印版適合于使用UV-CTP制版 機制版。該平印版在使用UV-CTP制版機掃描曝光后，可以不使用顯影液顯影而使用自來水沖洗，即得到可印刷的平印版。該平印版在使用UV-CTP制版機掃描曝光后，不經(jīng)過任何處理直接可以裝版到印刷機印刷。

實施例2

本發(fā)明感光組合物中-(X)-(Y)-(Z)-結(jié)構(gòu)的聚合物是一種含不飽和雙鍵的水溶性 聚合物。其中，X代表含有磺酸基團的共聚單元，Y代表含有兩個不飽和雙鍵支鏈的羧酸共聚單元，Z代表含有一個不飽和雙鍵支鏈的丙烯酸酯共聚單元。

作為X代表的共聚單元，只要是含有烯類不飽和基團和磺酸基團的化合物都可以。烯類不飽和基團保證與其它單元共聚，磺酸基團保證較好的水溶性。X可選自乙烯磺酸、苯乙烯磺酸、異戊二烯磺酸等。X在整個聚合物中所占的比例在10％～20％摩爾比范圍內(nèi)，優(yōu)選 15％～25％。低于10％時印版的空白部分容易留底，高于20％時印版的親墨性不佳。

作為Y代表的共聚單元，是含有兩個不飽和雙鍵的支鏈的丙烯酸或甲基丙烯酸共聚單元。其中含兩個不飽和雙鍵的支鏈是通過先在丙烯酸或甲基丙烯酸上接枝GMA單體，然后再在GMA上接枝烯類不飽和雙鍵來達到的。可以用來接枝的烯類不飽和單體可以選自丙烯 酰氯、甲基丙烯酰氯、異氰酸烯丙酯以及異氰酸基乙基甲基丙烯酸酯等。Y在整個聚合物 中起到調(diào)整親水性和光交聯(lián)固化速度的作用，通過在Y上引入兩個不飽和基團，可以大大提高聚合物中不飽和雙鍵的比例，本發(fā)明中根據(jù)需要甚至可使不飽和雙鍵在整個聚合物中 的比例達到150％，這樣可極大地提高光固化速度，同時又可以保證足夠的親水性。Y在整個聚合物中所占的比例在20％～40％摩爾比范圍內(nèi)為佳，優(yōu)選25％～30％。

作為Z代表的共聚單元，Z是含一個不飽和雙鍵取代基團的丙烯酸酯或甲基丙烯酸共聚單元?？捎玫谋┧狨タ蛇x自丙烯酸β羥乙酯、甲基丙烯酸β羥乙酯、羥甲基丙烯酸甲酯等?？捎玫慕又Φ膯误w有丙烯酰氯、甲基丙烯酰氯、異氰酸烯丙酯以及異氰酸基乙基甲基丙烯酸酯等。Z在整個共聚物所占的比例在的30％～50％摩爾比范圍內(nèi)為佳，優(yōu)選35％～ 45％。

-(X)-(Y)-(Z)-結(jié)構(gòu)的不飽和水溶性聚合物中，不飽和雙鍵總數(shù)占聚合物的60~80％ 摩爾比，優(yōu)選65~75％。低于60％時，不能得到高的固化速度和高的交聯(lián)密度；高于80 ％時，對于樹脂的存放穩(wěn)定性不利。

-(X)-(Y)-(Z)-結(jié)構(gòu)的不飽和水溶性聚合物占整個感光層干重的40％～80％，優(yōu)選 50％-70％。低于40％時，空白部分的涂層不易擦除，易發(fā)生空白部位上臟的弊病；高于80 ％時，涂層親墨性不佳，易瞎版。

以上所述的具體實施方式，對本發(fā)明的目的、技術方案和有益效果進行了進一步詳細說明，所應理解的是，以上所述僅為本發(fā)明的具體實施方式而已，并不用于限定本發(fā)明的保護范圍，凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所做的任何修改、等同替換、改進等，均應包含在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。