本發(fā)明涉及高溫計的光學瞄準裝置，具體涉及一種視場光闌。

背景技術：

在高溫計的光學瞄準系統(tǒng)中，需要使用分劃線標識目標成像的相對位置，通常采用帶有分劃線的分立分劃板安裝于瞄準系統(tǒng)光路中，采用這種方案需要設計、安裝和調試等技術手段，實現(xiàn)分劃板與視場光闌光學共軛?，F(xiàn)分立分劃板通常安裝在瞄準系統(tǒng)的目鏡組件當中或目鏡組件之前。分立分劃板位置與視場光闌不同，因此分立分劃板到目鏡的光程與視場光闌到目鏡的光程不同，在光學儀器的光學瞄準系統(tǒng)使用過程中，分立分劃板與視場光闌相對位置可能發(fā)生變化，使得分立分劃板在視場中的位置產(chǎn)生移動，尤其是在長期使用，分立分劃板位置發(fā)生較大變化，使得分立分劃板與視場光闌不能確保光學共軛，從而影響光學儀器的正常使用。

技術實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的是提供一種視場光闌，通過本發(fā)明公開的視場光闌，使得分劃線與視場光闌在同一平面上，且分劃線與視場光闌的相對位置不變，避免了現(xiàn)有技術中因視場光闌與分劃線相對位置變化而影響瞄準和成像效果。

為實現(xiàn)上述目標，本發(fā)明提供了一種視場光闌，該視場光闌本體的正面設置有分劃線。

具體地，視場光闌本體正面設置的分劃線通過機械刻劃、掩膜腐蝕或反射率的方法形成。

具體地，視場光闌的分劃線的形狀為“十”字形狀。

具體地，視場光闌的形狀為圓形。

具體地，視場光闌包括：反射鏡，位于視場光闌本體的正面，限定視場范圍；光闌孔，位于反射鏡的中心，形成穿過視場光闌本體中心的通孔，用于傳遞和限定光學系統(tǒng)的成像范圍。

具體地，視場光闌的光闌孔呈喇叭狀，位于該視場光闌反射鏡一端孔徑小于位于視場光闌本體的背面一端孔徑。

具體地，一種高溫計光學瞄準裝置，該高溫計光學瞄準裝置包括本體正面設置有分劃線的視場光闌。

如上所述，本發(fā)明提供的一種視場光闌，分劃線通過機械刻劃、掩膜腐蝕或反射率的方式在視場光闌本體的正面上設置。實現(xiàn)了分劃線與視場光闌在同一平面上，使得分劃線與視場光闌的相對位置不變，從而避免了現(xiàn)有技術中因視場光闌與分劃線相對位置變化，使得分劃線與視場光難光學共軛，影響成像效果。同時，本發(fā)明提供的包括該視場光闌的高溫計光學瞄準裝置，無需對分劃線與視場光闌相對位置進行調試，避免了安裝和調試過程中人為因素造成的影響光學儀器正常使用的問題。

附圖說明

圖1是根據(jù)本發(fā)明第一實施例的視場光闌分劃線圖；

圖2a是根據(jù)本發(fā)明第二實施例的視場光闌主視圖；

圖2b是根據(jù)本發(fā)明第二實施例的視場光闌沿AB方向的剖面圖；

圖2c是根據(jù)本發(fā)明第二實施例視場光闌立體圖；

圖3是根據(jù)本發(fā)明第三實施例的高溫計的光學瞄準系統(tǒng)結構圖。

附圖標記：103、視場光闌，31、分劃線，11、反光鏡面，12、光闌孔，101、可移動物鏡，102、位移傳感器，104、孔徑光闌，105、第一物鏡，106、干涉濾光片定位轉換輪及恒溫器，107、光電探測器及恒溫器，108、第一反射鏡，109、第二物鏡，110、第二反射鏡，111、第三反射鏡，112為目鏡，113為電流放大器及恒溫器。

具體實施方式

為使本發(fā)明的目的、技術方案和優(yōu)點更加清楚明了，下面結合具體實施方式并參照附圖，對本發(fā)明進一步詳細說明。應該理解，這些描述只是示例性的，而并非要限制本發(fā)明的范圍。此外，在以下說明中，省略了對公知結構和技術的描述，以避免不必要地混淆本發(fā)明的概念。

圖1是根據(jù)本發(fā)明第一實施例的視場光闌分劃線圖。

如圖1所示，本發(fā)明實施例中視場光闌103的正面為反射鏡面11，其余部分黑色涂層覆蓋。該視場光闌103本體的正面設置有分劃線31。

其中，視場光闌103中的分劃線31通過機械刻劃、掩膜腐蝕或反射率的方法形成。

更進一步地，如圖1所示，視場光闌103中的分劃線31的形狀為“十”字形狀。

更進一步地，如圖1所示，視場光闌103的形狀為圓形。

本發(fā)明的發(fā)明點在于：分劃線31與視場光闌103一體設計，在視場光闌103本體的正面設置有分劃標識線。

本發(fā)明的技術優(yōu)點在于：通過機械刻劃、掩膜腐蝕或改變反射率等方法在視場光闌103本體的正面形成分劃線31，分劃線31與視場光闌103的鏡面在同一平面上，相對位置不變，避免現(xiàn)有技術中因視場光闌103與分劃線31相對位置變化，影響成像和瞄準效果的缺陷；無需經(jīng)過分劃線31與視場光闌103相對位置調試，就可以準確的達到分劃線31與視場光闌103共軛。

圖2a是根據(jù)本發(fā)明第二實施例的視場光闌主視圖。

如圖2a所示，本發(fā)明實施例中反射鏡面11位于視場光闌103本體的正面。通過調節(jié)反射鏡面11的角度來調節(jié)視場光闌103聚光的范圍。反射鏡面11上的光闌孔12位于反射鏡面11的中心位置，形成穿透視場光闌103本體中心的通孔。光闌孔12用于傳遞和限定關系系統(tǒng)的成像范圍。

優(yōu)選的，如圖2所示，光闌孔12呈喇叭狀，位于反射鏡面11一端孔徑小于位于視場光闌103本體的背面一端孔徑。

圖2b是根據(jù)本發(fā)明的視場光闌沿AB方向的剖面圖。

如圖2b所示，本發(fā)明實施例中視場光闌103剖面圖的反射鏡面11用于反射接收到的光線。視場光闌103剖面圖的光闌孔12用于限定和傳遞光學系統(tǒng)的成像范圍。

圖2c是根據(jù)本發(fā)明第二實施例視場光闌立體圖。

如圖2c所示，立體圖中的反射鏡面11用于接收反射光，可有效調節(jié)聚光范圍。立體圖中的光闌孔12用于傳遞和限定光學系統(tǒng)的成像范圍。

圖3是根據(jù)本發(fā)明的高溫計的光學瞄準系統(tǒng)結構圖。

如圖3所示，本發(fā)明實施例中一種高溫計光學瞄準裝置，包括可移動物鏡101，位移傳感器102，視場光闌103，孔徑光闌104，第一物鏡105,干涉濾光片定位轉換輪及恒溫器106，光電探測器及恒溫器107，第一反光鏡108，第二物鏡109，第二反射鏡110，第三反射鏡111，目鏡112，電流放大器及恒溫器113。其中，視場光闌103為本發(fā)明的設置有分劃線31的視場光闌103。

在現(xiàn)有技術中，通常使用分立式分劃板來定位和計算被瞄準目標的距離，分立式分劃板通常安裝在目鏡組112內，或目鏡組112之前。通過調節(jié)分立式分劃板，使得視場光闌103與分立式分劃板達到光學共軛，從而更精準的觀察到高溫計的數(shù)值。分立式分劃板不僅對潔凈度要求極高，任何微小的灰塵都會在觀測時產(chǎn)生很大的黑點，而且分立式分劃板對其安裝位置的精度要求極高，不易于解決安裝和調試等技術問題。長時間使用分立式分劃板會出現(xiàn)分立式分劃板與視場光闌不易共軛的問題，影響高溫計光學瞄準裝置的正常使用。而本發(fā)明則是直接在視場光闌103的平面上設計分劃線，有效的避免了因長時間使用分立式分劃板與視場光闌不易共軛的問題，確保了高溫計光學瞄準裝置的正常使用，使得高溫計光學瞄準裝置更精確的瞄準。

本發(fā)明提供一種視場光闌103，該視場光闌103的正面為反射鏡面，其余部分黑色涂層覆蓋，該視場光闌103本體的正面設置有分劃線31。通過本發(fā)明的技術方案，實現(xiàn)了分劃線31與視場光闌103在同一平面上，且分劃線31與視場光闌103的相對位置不變，避免了現(xiàn)有技術中因視場光闌103與分劃線31相對位置變化而影響瞄準和成像效果。本發(fā)明還提供了一種包括本發(fā)明中的視場光闌103的高溫計光學瞄準裝置。在使用本發(fā)明的裝置時，無需對分劃板31與視場光闌103的相對位置進行安裝和調試，實現(xiàn)了分劃板31與視場光闌103有效共軛，從而確保了高溫計光學瞄準裝置的正常使用。

應當理解的是，本發(fā)明的上述具體實施方式僅僅用于示例性說明或解釋本發(fā)明的原理，而不構成對本發(fā)明的限制。因此，在不偏離本發(fā)明的精神和范圍的情況下所做的任何修改、等同替換、改進等，均應包含在本發(fā)明的保護范圍之內。此外，本發(fā)明所附權利要求旨在涵蓋落入所附權利要求范圍和邊界、或者這種范圍和邊界的等同形式內的全部變化和修改例。