本發(fā)明涉及平板顯示領(lǐng)域，具體涉及一種掩膜板，還涉及對(duì)掩膜板曝光的方法，還涉及互電容觸控電路面板的制造方法。

背景技術(shù)：

近年來(lái)顯示技術(shù)發(fā)展很快，平板顯示器以其完全不同的顯示和制造技術(shù)使之同傳統(tǒng)的視頻圖像顯示器有很大的差別。傳統(tǒng)的視頻圖像顯示器主要為陰極射線管CRT(Cathode ray tubes)；而平板顯示器與之的主要區(qū)別在于重量和體積(厚度)方面的變化，通常平板顯示器的厚度不超過(guò)10cm，當(dāng)然還有其他的不同，如顯示原理、制造材料、工藝以及視頻圖像顯示驅(qū)動(dòng)方面的各項(xiàng)技術(shù)等。平板顯示器具有完全平面化、輕、薄、省電等特點(diǎn)，符合未來(lái)圖像顯示器發(fā)展的必然趨勢(shì)。目前主要的平板顯示器包括：PDP(Plasma display panel)、LCD(Liquid crystal displays)、FED(Field emission displays)、OLED(Organic light-emittingdiode displays)以及投影顯示技術(shù)(CRT、LCD、LCOS、DLP)等。

光刻(photoetching or lithography)是通過(guò)一系列生產(chǎn)步驟，將襯底基板表面薄膜的特定部分除去的工藝。在此之后，襯底基板表面會(huì)留下帶有微圖形結(jié)構(gòu)的薄膜。通過(guò)光刻工藝過(guò)程，最終在襯底基板上保留的是特征圖形部分。

目前，光刻工藝在平板顯示技術(shù)領(lǐng)域已得到廣泛應(yīng)用，平板顯示基板是經(jīng)過(guò)一系列的清洗、成膜、涂布、曝光、顯影、蝕刻和剝離工藝將薄膜一層層的制作在襯底基板上，其中圖形化工藝是在曝光段完成，曝光是將涂布有光刻膠的襯底基板放置在曝光機(jī)內(nèi)的機(jī)臺(tái)上，用掩膜版(Mask)遮擋后再用曝光機(jī)對(duì)光刻膠盡心曝光，mask的圖案被光刻膠記錄下來(lái)，然后經(jīng)過(guò)顯影后，形成光刻膠圖案。

參閱圖1，現(xiàn)有光刻工藝一般包括：在玻璃襯底500上形成薄膜層400，在薄膜層400上形成光刻膠300，然后將掩膜板100置于光刻膠300上，通過(guò)紫外光照射沿a方向?qū)ζ溥M(jìn)行曝光，然后通過(guò)顯影過(guò)程b，形成紫外光照射的光刻膠圖案310，具體制作的薄膜圖案取決于掩膜板的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)。

然而，采用該掩膜板和曝光方法，一張掩膜板僅能做出一種光刻圖案，針對(duì)制備過(guò)程中不同圖案的曝光時(shí)，需要進(jìn)行掩膜板的更換，操作復(fù)雜且成本較高。

針對(duì)上述存在的問(wèn)題，在本領(lǐng)域希望尋求一種掩膜板、對(duì)其曝光的方法以及互電容觸控電路面板的制造方法，可以實(shí)現(xiàn)同一張掩膜板做出不同的光刻圖案，可減少掩膜板的數(shù)量，進(jìn)而節(jié)省成本。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于提供一種掩膜板、對(duì)其曝光的方法以及互電容觸控電路面板的制造方法，通過(guò)將掩膜板劃分為三個(gè)區(qū)域，每個(gè)區(qū)域采用不同吸光材料制作掩膜板圖案結(jié)構(gòu)，進(jìn)而實(shí)現(xiàn)同一張掩膜板在不同的紫外光曝光下形成不同的光刻膠圖案，有效解決針對(duì)制備過(guò)程中不同圖案的曝光時(shí)，需要進(jìn)行掩膜板的更換，操作復(fù)雜且成本較高的問(wèn)題。

針對(duì)上述現(xiàn)有技術(shù)中的問(wèn)題，本申請(qǐng)?zhí)岢隽艘粋€(gè)技術(shù)方案是：提供一種掩膜板，包括：

掩膜板，所述掩膜板包括第一遮擋區(qū)域、第二遮擋區(qū)域及第三遮擋區(qū)域；

所述第一遮擋區(qū)域采用紫外光波段a的吸光材料作為掩膜板擋光材料；

所述第三遮擋區(qū)域采用紫外光波段b的吸光材料作為掩膜板擋光材料。

其中，所述第二遮擋區(qū)域采用金屬鉻作為掩膜板擋光材料。

針對(duì)上述現(xiàn)有技術(shù)中的問(wèn)題，本申請(qǐng)?zhí)岢隽肆硪粋€(gè)技術(shù)方案是：一種對(duì)掩膜板曝光的方法，包括以下步驟，

在掩膜板上自定義第一遮擋區(qū)域、第二遮擋區(qū)域及第三遮擋區(qū)域；

所述第一遮擋區(qū)域采用紫外光波段a的吸光材料作為掩膜板擋光材料；

所述第三遮擋區(qū)域采用紫外光波段b的吸光材料作為掩膜板擋光材料；

采用紫外光波段a進(jìn)行曝光，然后進(jìn)行蝕刻和光刻膠剝離，形成第一圖層圖案；

采用紫外光波段b進(jìn)行曝光，然后進(jìn)行蝕刻和光刻膠剝離，形成第二圖層圖案。

其中，所述第二遮擋區(qū)域采用金屬鉻作為掩膜板擋光材料線。

針對(duì)上述現(xiàn)有技術(shù)中的問(wèn)題，本申請(qǐng)?zhí)岢隽肆硪粋€(gè)技術(shù)方案是：一種互電容觸控電路面板的制造方法，包括以下步驟，

提供基板；

在所述基板上設(shè)置上述的掩膜板；

其中，掩膜板的第一遮擋區(qū)域、第二遮擋區(qū)域及第三遮擋區(qū)域?qū)?yīng)互電容觸控電路面板的圖層圖案區(qū)；

采用紫外光波段a進(jìn)行曝光，然后進(jìn)行蝕刻和光刻膠剝離；

調(diào)整所述的掩膜板的位置；

采用紫外光波段b進(jìn)行曝光，然后進(jìn)行蝕刻和光刻膠剝離；

移除所述掩膜板。

其中，所述掩膜板的第三遮擋區(qū)域?yàn)榘夹停椅挥谘谀ぐ宓囊粋?cè)，所述第二遮擋區(qū)域位于第三遮擋區(qū)域的凹槽內(nèi)，所述第一遮擋區(qū)域位于第三遮擋區(qū)域的開(kāi)口處。

其中，所述掩膜板的第一遮擋區(qū)域?qū)?yīng)的互電容觸控電路面板的圖層圖案區(qū)為第一扇形區(qū)及端子區(qū)；

所述第二遮擋區(qū)域?qū)?yīng)的互電容觸控電路面板的圖層圖案區(qū)為第一部分觸控區(qū)；

所述第二遮擋區(qū)域?qū)?yīng)的互電容觸控電路面板的圖層圖案區(qū)為第二部分觸控區(qū)和第二扇形區(qū)及端子區(qū)。

其中，所述第一部分觸控區(qū)包括觸控發(fā)射線及除兩端以外的觸控接收線。

其中，其特征在于，所述第二部分觸控區(qū)包括兩端的觸控接收線。

其中，其特征在于，所述第一扇形區(qū)及端子區(qū)包括扇出線及端子線；所述第二扇形區(qū)及端子區(qū)包括扇入線及端子線。

本發(fā)明的有益效果是：本發(fā)明通過(guò)將掩膜板劃分為三個(gè)區(qū)域，即第一遮擋區(qū)域、第二遮擋區(qū)域及第三遮擋區(qū)域，每個(gè)區(qū)域采用不同吸光材料制作掩膜板圖案結(jié)構(gòu)，第一遮擋區(qū)域采用紫外光波段a的吸光材料作為掩膜板擋光材料，第二遮擋區(qū)域采用金屬鉻作為掩膜板擋光材料，第三遮擋區(qū)域采用紫外光波段b的吸光材料作為掩膜板擋光材料，進(jìn)而實(shí)現(xiàn)同一張掩膜板在不同的紫外光曝光下形成不同的光刻膠圖案，有效解決針對(duì)制備過(guò)程中不同圖案的曝光時(shí)，需要進(jìn)行掩膜板的更換，操作復(fù)雜且成本較高的問(wèn)題?？梢詫?shí)現(xiàn)同一張掩膜板做出不同的光刻圖案，可減少掩膜板的數(shù)量，進(jìn)而節(jié)省成本。

附圖說(shuō)明

圖1是現(xiàn)有技術(shù)掩膜板曝光及顯影示意圖；

圖2為本發(fā)明實(shí)施例1提供的一種對(duì)掩膜板曝光的方法的流程圖；

圖3為本發(fā)明實(shí)施例1中采用紫外光波段a進(jìn)行曝光及顯影的示意圖；

圖4為本發(fā)明實(shí)施例1中采用紫外光波段b進(jìn)行曝光及顯影的示意圖；

圖5為本發(fā)明實(shí)施例1中所述現(xiàn)有互電容觸控電路面板電極結(jié)構(gòu)；

圖6為本發(fā)明實(shí)施例1中所述互電容觸控電路面板架構(gòu)；

圖7為本發(fā)明實(shí)施例1中所述互電容觸控電路面板掩模板結(jié)構(gòu)。

附圖標(biāo)記說(shuō)明：

100為現(xiàn)有掩膜板，300為光刻膠，400為薄膜層，500為玻璃襯底，310為紫外光照射的光刻膠圖案，200為本發(fā)明實(shí)施例1所述掩膜板，210為第一遮擋區(qū)域，220為第二遮擋區(qū)域，230為第三遮擋區(qū)域，320為紫外光波段a照射的光刻膠圖案，330為紫外光波段b照射的光刻膠圖案，a為紫外光照射，b為顯影過(guò)程，c為紫外光波段a照射，d為紫外光波段b照射，600為觸控接收線，700為觸控發(fā)射線，810為第一扇形區(qū)及端子區(qū)、820為第二扇形區(qū)及端子區(qū)，830為觸控區(qū)。

在附圖中，相同的部件使用相同的附圖標(biāo)記。附圖并未按照實(shí)際的比例。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。基于本發(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。

實(shí)施例1

圖5為本發(fā)明實(shí)施例1中所述現(xiàn)有互電容觸控面板電極結(jié)構(gòu)，其中包括觸控發(fā)射線700和觸控接收線600。

觸控發(fā)射線700和觸控接收線600由結(jié)構(gòu)相同相互垂直的兩條金屬或氧化物金屬電極構(gòu)成，根據(jù)電路結(jié)構(gòu)特點(diǎn)將屏幕分為：第一扇形區(qū)及端子區(qū)810、第二扇形區(qū)及端子區(qū)820及觸控區(qū)830，如圖6所示。制備上述互電容觸控電路面板架構(gòu)時(shí)，由于觸控發(fā)射線700和觸控接收線600由結(jié)構(gòu)相同相互垂直的兩條金屬或氧化物金屬電極構(gòu)成，觸控發(fā)射線700間距與觸控接收線600間離相同，因此，制備上述互電容觸控電路面板架構(gòu)的一種掩膜板時(shí)，可將采用相同遮擋區(qū)域進(jìn)行曝光。

如圖7所示，制備上述互電容觸控電路面板架構(gòu)的一種掩膜板，包括：

掩膜板，所述掩膜板包括第一遮擋區(qū)域210、第二遮擋區(qū)域220及第三遮擋區(qū)域230；

其中，第一遮擋區(qū)域210、第二遮擋區(qū)域220及第三遮擋區(qū)域230對(duì)應(yīng)互電容觸控電路面板的圖層圖案區(qū)；

所述第一遮擋區(qū)域210采用紫外光波段a的吸光材料作為掩膜板擋光材料；

所述第二遮擋區(qū)域220采用金屬鉻作為掩膜板擋光材料；

所述第三遮擋區(qū)域230采用紫外光波段b的吸光材料作為掩膜板擋光材料。

其中，所述第三遮擋區(qū)域230為凹型，且位于掩膜板的一側(cè)，所述第二遮擋區(qū)域220位于第三遮擋區(qū)域的凹槽內(nèi)，且第二遮擋區(qū)域220的長(zhǎng)度與第三遮擋區(qū)域230的凹槽深度相同，所述第一遮擋區(qū)域210位于第三遮擋區(qū)域230的開(kāi)口處。

其中，所述第一遮擋區(qū)域210對(duì)應(yīng)的互電容觸控電路面板的圖層圖案區(qū)為第一扇形區(qū)及端子區(qū)810；

所述第二遮擋區(qū)域220對(duì)應(yīng)的互電容觸控電路面板的圖層圖案區(qū)為第一部分觸控區(qū)830；

所述第二遮擋區(qū)域230對(duì)應(yīng)的互電容觸控電路面板的圖層圖案區(qū)為第二部分觸控區(qū)830和第二扇形區(qū)及端子區(qū)820。

其中，所述第一部分觸控區(qū)包括觸控發(fā)射線700及除兩端以外的觸控接收線600。

其中，所述第二部分觸控區(qū)包括兩端的觸控接收線600。

其中，所述第一扇形區(qū)及端子區(qū)810包括扇出線及端子線。

其中，所述第二扇形區(qū)及端子區(qū)820包括扇入線及端子線。

如圖2所示，對(duì)上述一種對(duì)掩膜板曝光的方法，包括以下步驟，

在掩膜板200上自定義第一遮擋區(qū)域210、第二遮擋區(qū)域220及第三遮擋區(qū)域230；

所述第一遮擋區(qū)域210采用紫外光波段a的吸光材料作為掩膜板擋光材料；

所述第二遮擋區(qū)域220采用金屬鉻作為掩膜板擋光材料；

所述第三遮擋區(qū)域230采用紫外光波段b的吸光材料作為掩膜板擋光材料；

如圖3所示，采用紫外光波段a進(jìn)行曝光，然后進(jìn)行蝕刻和光刻膠剝離，形成第一圖層圖案；

調(diào)整掩膜板的位置；

如圖4所示，采用紫外光波段b進(jìn)行曝光，然后進(jìn)行蝕刻和光刻膠剝離，形成第二圖層圖案。

其中，步驟二中所述圖層圖案區(qū)為第一扇形區(qū)及端子區(qū)810、觸控發(fā)射線700。

其中，步驟二中所述圖層圖案區(qū)為第二扇形區(qū)及端子區(qū)820、觸控接收線600。

根據(jù)實(shí)施例1通過(guò)將掩膜板劃分為三個(gè)區(qū)域，即第一遮擋區(qū)域210、第二遮擋區(qū)域220及第三遮擋區(qū)域230，每個(gè)區(qū)域采用不同吸光材料制作掩膜板圖案結(jié)構(gòu)，第一遮擋區(qū)域210采用紫外光波段a的吸光材料作為掩膜板擋光材料，第二遮擋區(qū)域采用金屬鉻作為掩膜板擋光材料，第三遮擋區(qū)域230采用紫外光波段b的吸光材料作為掩膜板擋光材料，進(jìn)而實(shí)現(xiàn)同一張掩膜板在不同的紫外光曝光下形成不同的光刻膠圖案，有效解決針對(duì)制備過(guò)程中不同圖案的曝光時(shí)，需要進(jìn)行掩膜板的更換，操作復(fù)雜且成本較高的問(wèn)題?？梢詫?shí)現(xiàn)同一張掩膜板做出不同的光刻圖案，可減少掩膜板的數(shù)量，進(jìn)而節(jié)省成本。

雖然在本文中參照了特定的實(shí)施方式來(lái)描述本發(fā)明，但是應(yīng)該理解的是，這些實(shí)施例僅僅是本發(fā)明的原理和應(yīng)用的示例。因此應(yīng)該理解的是，可以對(duì)示例性的實(shí)施例進(jìn)行許多修改，并且可以設(shè)計(jì)出其他的布置，只要不偏離所附權(quán)利要求所限定的本發(fā)明的精神和范圍。應(yīng)該理解的是，可以通過(guò)不同于原始權(quán)利要求所描述的方式來(lái)結(jié)合不同的從屬權(quán)利要求和本文中所述的特征。還可以理解的是，結(jié)合單獨(dú)實(shí)施例所描述的特征可以使用在其他所述實(shí)施例中。