一種彩膜基板及其制作方法和顯示面板與流程

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本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種彩膜基板及其制作方法和顯示面板。

背景技術(shù)：

如圖1所示是現(xiàn)有的一彩膜基板的結(jié)構(gòu)示意圖，該彩膜基板包括：襯底基板101，設置于襯底基板101一側(cè)的ITO靜電防護層102，設置于襯底基板另一側(cè)的黑矩陣(BM)103，RGB彩色濾光單元104，平坦層(OC)105和隔墊物(PS)106。該種結(jié)構(gòu)的彩膜基板中，黑矩陣103直接制備在襯底基板101上，厚度一般為RGB彩色濾光單元104的一半左右。這種結(jié)構(gòu)的彩膜基板在制備過程中容易導致RGB彩色濾光單元104與黑矩陣103搭接的部位出現(xiàn)比較大的角段差(圖1中虛線圈標注位置)，因此需要制備比較厚的平坦層105對表面進行平坦化處理，提高了制作成本。另外，還會限制黑矩陣103的厚度，從而限制了黑矩陣103的OD(optical density，光密度)值，存在漏光的風險。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

有鑒于此，本發(fā)明提供一種彩膜基板及其制作方法和顯示面板，以解決現(xiàn)有的彩膜基板彩色濾光單元與黑矩陣搭接的部位角段差較大的問題。

為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供一種彩膜基板，包括：

襯底基板；

設置于所述襯底基板一側(cè)的第一黑矩陣和彩色濾光單元，所述第一黑矩陣限定出多個像素區(qū)域，所述彩色濾光單元僅設置于所述像素區(qū)域內(nèi)；

設置于所述襯底基板另一側(cè)的第二黑矩陣，所述第二黑矩陣對應所述第一黑矩陣和所述彩色濾光單元的交界面設置。

優(yōu)選地，所述第二黑矩陣在所述襯底基板上的正投影完全覆蓋所述第一黑矩陣和所述彩色濾光單元的交界面在所述襯底基板上的正投影。

優(yōu)選地，所述第一黑矩陣的厚度與所述彩色濾光單元的厚度相同或相近。

優(yōu)選地，所述第二黑矩陣的厚度小于所述第一黑矩陣的厚度。

優(yōu)選地，所述彩膜基板還包括：

平坦層，覆蓋于所述第一黑矩陣和所述彩色濾光單元上。

優(yōu)選地，所述彩膜基板還包括：

靜電防護層，覆蓋于所述第二黑矩陣上。

優(yōu)選地，所述彩膜基板還包括：

隔墊物，設置于所述平坦層上。

本發(fā)明還提供一種顯示面板，包括上述彩膜基板。

本發(fā)明還提供一種彩膜基板的制作方法，用于制作上述彩膜基板，包括：

提供一襯底基板的步驟；

在所述襯底基板一側(cè)形成第二黑矩陣的步驟；

在所述襯底基板另一側(cè)形成第一黑矩陣和彩色濾光單元的步驟，所述第一黑矩陣限定出多個像素區(qū)域，所述彩色濾光單元僅設置于所述像素區(qū)域內(nèi)；

其中，所述第二黑矩陣對應所述第一黑矩陣和所述彩色濾光單元的交界面設置。

優(yōu)選地，所述彩色濾光單元包括第一彩色濾光單元、第二彩色濾光單元和第三彩色濾光單元，所述在所述襯底基板另一側(cè)形成第一黑矩陣和彩色濾光單元的步驟包括：

形成第一黑矩陣的圖形，所述第一黑矩陣限定出多個像素區(qū)域；

形成用于制作所述第一彩色濾光單元的第一膜層；在所述第一膜層上形成第一光刻膠層；采用掩膜版，對所述第一光刻膠層進行曝光，并顯影，形成對應所述第一彩色濾光單元所在區(qū)域的光刻膠完全保留區(qū)以及對應其他區(qū)域的光刻膠完全去除區(qū)；對光刻膠完全去除區(qū)的第一膜層進行刻蝕，形成所述第一彩色濾光單元的圖形；剝離剩余的光刻膠；

形成用于制作所述第二彩色濾光單元的第二膜層；在所述第二膜層上形成第二光刻膠層；采用掩膜版，對所述第二光刻膠層進行曝光，并顯影，形成對應所述第二彩色濾光單元所在區(qū)域的光刻膠完全保留區(qū)以及對應其他區(qū)域的光刻膠完全去除區(qū)；對光刻膠完全去除區(qū)的第二膜層進行刻蝕，形成所述第二彩色濾光單元的圖形；剝離剩余的光刻膠；

形成用于制作所述第三彩色濾光單元的第三膜層；在所述第三膜層上形成第三光刻膠層；采用掩膜版，對所述第三光刻膠層進行曝光，并顯影，形成對應所述第三彩色濾光單元所在區(qū)域的光刻膠完全保留區(qū)以及對應其他區(qū)域的光刻膠完全去除區(qū)；對光刻膠完全去除區(qū)的第三膜層進行刻蝕，形成第三彩色濾光單元的圖形；剝離剩余的光刻膠。

優(yōu)選地，在所述襯底基板一側(cè)形成第二黑矩陣，以及在所述襯底基板另一側(cè)形成第一黑矩陣和彩色濾光單元的步驟包括：

在所述襯底基板的一側(cè)形成第二黑矩陣的圖形；

在所述第二黑矩陣上形成靜電防護層；

在所述襯底基板的另一側(cè)形成第一黑矩陣的圖形，所述第一黑矩陣限定出多個像素區(qū)域；

在所述像素區(qū)域中形成所述彩色濾光單元的圖形；

在所述第一黑矩陣和所述彩色濾光單元的表面形成平坦層；

在所述平坦層上形成隔墊物的圖形。

本發(fā)明的上述技術(shù)方案的有益效果如下：

在襯底基板的兩側(cè)分別設置黑矩陣，與彩色濾光單元位于同一側(cè)的第一黑矩陣，與彩色濾光單元同層設置且不交疊，用于間隔彩色濾光單元，由于第一黑矩陣與彩色濾光單元同層設置，兩者之間沒有重疊，可減小彩色濾光單元的角段差，從而可減少用于覆蓋彩色濾光單元的平坦層的厚度，減少平坦層的材料用量，降低成本。同時，位于襯底基板另一側(cè)的第二黑矩陣，對應所述第一黑矩陣和所述彩色濾光單元的交界面設置，可防止因第一黑矩陣和彩色濾光單元之間存在縫隙而產(chǎn)生的漏光，以及防止彩色濾光單元邊緣的光通過襯底基板與附近的光形成混合，保證黑矩陣的OD值，降低漏光的風險。

附圖說明

圖1是現(xiàn)有的一彩膜基板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本發(fā)明實施例一的彩膜基板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為本發(fā)明實施例二的彩膜基板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4-圖12為本發(fā)明一實施例的彩膜基板的制作方法示意圖。

附圖標記說明：

圖1：101-襯底基板，102-ITO靜電防護層，103-黑矩陣，104-RGB彩色濾光單元，105-平坦層和106-隔墊物；

圖2-圖12：201-襯底基板，202-第一黑矩陣，203-彩色濾光單元，2031-紅色彩色濾光單元，2032-綠色彩色濾光單元，2033-藍色彩色濾光單元，204-第二黑矩陣，205-平坦層，206-靜電防護層，207-隔墊物。

具體實施方式

為使本發(fā)明實施例的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點更加清楚，下面將結(jié)合本發(fā)明實施例的附圖，對本發(fā)明實施例的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述。

請參考圖2，圖2為本發(fā)明實施例一的彩膜基板的結(jié)構(gòu)示意圖，該彩膜基板包括：

襯底基板201；

設置于所述襯底基板201一側(cè)的第一黑矩陣202和彩色濾光單元203，所述第一黑矩陣限定出多個像素區(qū)域，所述彩色濾光單元203僅設置于所述像素區(qū)域內(nèi)；即，所述第一黑矩陣202和彩色濾光單元203同層設置，且不交疊。

設置于所述襯底基板201另一側(cè)的第二黑矩陣204，所述第二黑矩陣204對應所述第一黑矩陣202和所述彩色濾光單元203的交界面設置。

本發(fā)明實施例中，在襯底基板201的兩側(cè)分別設置黑矩陣，與彩色濾光單元203位于同一側(cè)的第一黑矩陣202，與彩色濾光單元203同層設置且不交疊，用于間隔彩色濾光單元203，由于第一黑矩陣202與彩色濾光單元203同層設置，兩者之間沒有重疊，可減小彩色濾光單元203的角段差，從而可減少用于覆蓋彩色濾光單元203的平坦層的厚度，減少平坦層的材料用量，降低成本。同時，位于襯底基板201另一側(cè)的第二黑矩陣204，對應所述第一黑矩陣202和所述彩色濾光單元203的交界面設置，可防止因第一黑矩陣202和彩色濾光單元203之間存在縫隙而產(chǎn)生的漏光，以及防止彩色濾光單元203邊緣的光通過襯底基板與附近的光形成混合，保證黑矩陣的OD值，降低漏光的風險。

本發(fā)明實施例中，優(yōu)選地，所述第二黑矩陣204在所述襯底基板201上的正投影完全覆蓋所述第一黑矩陣202和所述彩色濾光單元203的交界面在所述襯底基板201上的正投影，從而可完全比避免因第一黑矩陣202和彩色濾光單元203之間存在縫隙而產(chǎn)生的漏光。

本發(fā)明實施例中，優(yōu)選地，所述第一黑矩陣202的厚度與所述彩色濾光單元203的厚度相同或相近，使得第一黑矩陣202和彩色濾光單元203的表面更加平坦，進一步減少平坦層的厚度，減少平坦層的材料用量，降低成本。

本發(fā)明實施例中，為了降低彩膜基板的整體厚度，以及提高第二黑矩陣204所在側(cè)的平坦度，可以適當?shù)貙⒌诙诰仃?04的厚度設置為較薄一些，優(yōu)選地，所述第二黑矩陣204的厚度小于所述第一黑矩陣202的厚度。

本發(fā)明實施例中，每一所述第一黑矩陣202對應一所述第二黑矩陣204。當然，在本發(fā)明的其他一些實施例中，也不排除，一第一黑矩陣202對應兩個第二黑矩陣204的情況，請參考圖3。

本發(fā)明實施例中，由于所述第一黑矩陣202的主要作用是用于間隔彩色濾光單元203，因而，其線寬可以設置為較小，從而使得彩色濾光單元203可以設置的較寬，提高彩膜基板的開口率。另外，所述第二黑矩陣204的寬度大于所述第一黑矩陣201的寬度，從而能夠完全遮擋住第一黑矩陣202和彩色濾光單元203的邊界。

本發(fā)明實施例的彩膜基板還包括：平坦層205，覆蓋于所述第一黑矩陣202和所述彩色濾光單元203上。

當所述第一黑矩陣202和所述彩色濾光單元203的厚度相同，所述第一黑矩陣202和所述彩色濾光單元203的表面足夠平坦時，在本發(fā)明的其他一些實施例中，也可以不在彩膜基板上設置平坦層。

本發(fā)明實施例的彩膜基板還包括：靜電防護層206，覆蓋于所述第二黑矩陣204上。所述靜電防護層206可以采用ITO等透明導電材料制成。當然，在本發(fā)明的其他一些實施例中，也可以不設置所述靜電防護層。

本發(fā)明實施例的彩膜基板還包括：隔墊物207，設置于所述平坦層205上。當然，在本發(fā)明的其他一些實施例中，彩膜基板上也可以不設置隔墊物，而是在陣列基板上設置。

本發(fā)明實施例還提供一種顯示面板，包括上述任一實施例中的彩膜基板。

本發(fā)明實施例還提供一種彩膜基板的制作方法，用于制作上述實施例中的彩膜基板，包括：

步驟11：提供一襯底基板；

步驟12：在所述襯底基板一側(cè)形成第一黑矩陣和彩色濾光單元，所述第一黑矩陣限定出多個像素區(qū)域，所述彩色濾光單元完全設置于所述像素區(qū)域內(nèi)；

步驟13：在所述襯底基板另一側(cè)形成第二黑矩陣，所述第二黑矩陣對應所述第一黑矩陣和所述彩色濾光單元的交界面設置。

本發(fā)明實施例中，并不對步驟12和步驟13的執(zhí)行順序進行限定，也就是說，可以先執(zhí)行步驟12，在襯底基板的一側(cè)制作第一黑矩陣和彩色濾光單元。再執(zhí)行步驟13，在襯底基板的另一側(cè)制作第二黑矩陣，當然，也可以先執(zhí)行步驟13，在執(zhí)行步驟12。或者，更為特殊的情況下，步驟12和步驟13中的流程也可以混合執(zhí)行。例如，先在襯底基板一側(cè)形成第一黑矩陣，然后，在襯底基板的另一側(cè)形成第二黑矩陣，再在形成第一黑矩陣的一側(cè)形成彩色濾光單元。

本發(fā)明實施例中，在所述襯底基板一側(cè)形成第一黑矩陣和彩色濾光單元時，優(yōu)選地，可以先形成第一黑矩陣，然后在形成彩色濾光單元，因為如果先制作彩色濾光單元，再制作第一黑矩陣，在對第一黑矩陣進行刻蝕的步驟中，如果刻蝕不徹底，有可能會在彩色濾光單元上殘留第一黑矩陣的材料，從而影響彩色濾光單元的顯示。如果刻蝕太過，也會對彩色濾光單元造成影響。

當然，在本發(fā)明的其他一些實施例中，也不排除先形成彩色濾光單元，再形成第一黑矩陣的情況。

請參考圖4-圖12，圖4-圖12為本發(fā)明一實施例的彩膜基板的制作方法示意圖，該制作方法包括以下步驟：

步驟41：請參考圖4，提供一襯底基板201。

步驟42：請參考圖5，在襯底基板201的一側(cè)形成第二黑矩陣204。

步驟43：請參考圖6，在第二黑矩陣204上形成靜電防護層206。

步驟44：請參考圖7，在襯底基板201的另一側(cè)形成第一黑矩陣202。

步驟45-步驟47：請參考圖8-圖10，在第一黑矩陣202的間隙之間，依次形成紅色彩色濾光單元2031、綠色彩色濾光單元2032和藍色彩色濾光單元2033。

步驟48：請參考圖11，在第一黑矩陣202、紅色彩色濾光單元2031、綠色彩色濾光單元2032和藍色彩色濾光單元2033的表面形成平坦層205。

步驟49：請參考圖12，在平坦層205上形成隔墊物207。

在本發(fā)明的一實施例中，優(yōu)選地，所述彩色濾光單元包括第一彩色濾光單元、第二彩色濾光單元和第三彩色濾光單元，所述在所述襯底基板另一側(cè)形成第一黑矩陣和彩色濾光單元的步驟包括：

形成第一黑矩陣的圖形，所述第一黑矩陣限定出多個像素區(qū)域；

上述各實施例中，襯底基板可以為玻璃基板，或者其他類型的襯底基板。