本發(fā)明申請(qǐng)是國(guó)際申請(qǐng)日為2013年8月12日、國(guó)際申請(qǐng)?zhí)枮閜ct/jp2013/071823、進(jìn)入中國(guó)國(guó)家階段的國(guó)家申請(qǐng)?zhí)枮?01380047645.4、發(fā)明名稱為“基板處理裝置及元件制造方法”的發(fā)明申請(qǐng)的分案申請(qǐng)。

本發(fā)明涉及對(duì)位于基板支承部件的曲面上的基板實(shí)施處理的基板處理裝置及元件制造方法。

背景技術(shù)：

在光刻工序所使用的曝光裝置中，已知下述專利文獻(xiàn)所公開的那樣的、使圓筒狀或者圓柱狀的光罩旋轉(zhuǎn)而對(duì)基板進(jìn)行曝光的曝光裝置(例如，參照專利文獻(xiàn)1)。

不僅在使用板狀的光罩的情況下，即使在使用圓筒狀或者圓柱狀的光罩對(duì)基板進(jìn)行曝光的情況下，為了將光罩的圖案的像良好地投影曝光在基板上，也需要準(zhǔn)確地獲取光罩的圖案的位置信息。為此，期望研究出能夠準(zhǔn)確地獲取圓筒狀或者圓柱狀的光罩的位置信息、且能夠準(zhǔn)確地調(diào)整該光罩與基板的位置關(guān)系的技術(shù)。

因此，在專利文獻(xiàn)1所公開的曝光裝置中，公開了如下結(jié)構(gòu)：在光罩中的圖案形成面的規(guī)定區(qū)域中，相對(duì)于圖案以規(guī)定的位置關(guān)系形成位置信息獲取用的標(biāo)記(刻度、格子等)，利用編碼器系統(tǒng)檢測(cè)標(biāo)記，由此獲取圖案形成面的周向上的圖案的位置信息、或者光罩的旋轉(zhuǎn)軸向上的位置信息。

另外，近年來(lái)也提出了如下裝置：為了將大型顯示面板(液晶、有機(jī)el等)等電子元件形成于具有撓性的樹脂薄膜、塑料片材、極薄玻璃片材等，將卷繞成輥狀的具有撓性的長(zhǎng)條狀的薄膜或片材(以下，也稱為撓性基板)拉出，在該撓性基板的表面涂敷光感應(yīng)層，并在該光感應(yīng)層上曝光電子電路用的各種圖案(例如，專利文獻(xiàn)2)。

在先技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：日本特開2008－076650號(hào)公報(bào)

專利文獻(xiàn)2：日本特開2010－217877號(hào)公報(bào)

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

如上述專利文獻(xiàn)2所公開的在撓性基板上實(shí)施處理的基板處理裝置中，要求抑制基板的伸縮，提高處理的精度。

本發(fā)明的方案是鑒于上述情況而研發(fā)出的，其目的在于提供一種抑制基板的伸縮，提高處理的精度的基板處理裝置及元件制造方法。

根據(jù)本發(fā)明的第1方案，提供一種基板處理裝置，其具備：基板支承部件，具有從規(guī)定軸以固定半徑彎曲的曲面，且基板的一部分被卷繞于所述曲面而支承所述基板；處理部，從軸觀察時(shí)配置在所述基板支承部件的周圍，并對(duì)位于周向中特定位置的所述曲面上的所述基板實(shí)施處理；溫度調(diào)節(jié)裝置，對(duì)供給到所述基板支承部件之前的所述基板的溫度進(jìn)行調(diào)節(jié)。

也可以是，具備：搬送裝置，其以使所述基板從所述特定位置通過(guò)的方式，使所述基板沿搬送所述基板的搬送方向移動(dòng)，所述溫度調(diào)節(jié)裝置，對(duì)從所述基板支承部件的所述特定位置通過(guò)的所述基板的所述搬送方向的上游側(cè)進(jìn)行溫度調(diào)節(jié)。

也可以是，所述溫度調(diào)節(jié)裝置具備介質(zhì)調(diào)節(jié)裝置，該介質(zhì)調(diào)節(jié)裝置使經(jīng)過(guò)溫度調(diào)節(jié)的介質(zhì)流通至搬送所述基板的空間。

也可以是，所述基板支承部件的所述曲面為第1曲面，所述溫度調(diào)節(jié)裝置具備：引導(dǎo)部件，其具有從與所述軸平行的平行基準(zhǔn)軸以固定半徑彎曲而成的第2曲面，并使所述基板的一部分接觸所述第2曲面；介質(zhì)調(diào)節(jié)裝置，其使經(jīng)過(guò)溫度調(diào)節(jié)的介質(zhì)流通至所述引導(dǎo)部件的周圍的空間。

也可以是，所述溫度調(diào)節(jié)裝置具備供給高溫介質(zhì)的第1介質(zhì)供給部、和供給溫度比所述高溫介質(zhì)低的低溫介質(zhì)的第2介質(zhì)供給部，所述溫度調(diào)節(jié)裝置使所述高溫介質(zhì)與所述低溫介質(zhì)混合來(lái)作為所述介質(zhì)而流通。

也可以是，所述基板支承部件的所述曲面為第1曲面，所述溫度調(diào)節(jié)裝置具備：引導(dǎo)部件，其具有從與所述軸平行的平行基準(zhǔn)軸以固定半徑彎曲而成的第2曲面，并使所述基板的一部分接觸所述第2曲面；引導(dǎo)部件溫度調(diào)節(jié)裝置，其調(diào)節(jié)所述引導(dǎo)部件的溫度。

也可以是，所述第2曲面的半徑與所述基板支承部件的所述曲面的半徑相同。

也可以是，具備：第1圖案檢測(cè)裝置，其包括第1檢測(cè)探針，該第1檢測(cè)探針用于檢測(cè)離散或者連續(xù)地形成于所述基板上的特定圖案，該第1檢測(cè)探針配置在所述基板支承部件的周圍；第2圖案檢測(cè)裝置，其包括第2檢測(cè)探針，該第2檢測(cè)探針用于在不與所述第1檢測(cè)探針重疊的位置檢測(cè)所述特定圖案，該第2檢測(cè)探針配置在以下位置：能夠檢測(cè)位于通過(guò)所述溫度調(diào)節(jié)裝置而被調(diào)節(jié)溫度且被卷繞于曲面之前的所述基板上的所述特定圖案的位置；控制裝置，其基于所述第1圖案檢測(cè)裝置及所述第2圖案檢測(cè)裝置的檢測(cè)結(jié)果，對(duì)所述溫度調(diào)節(jié)裝置進(jìn)行控制。

也可以是，具備：溫度測(cè)量裝置，其對(duì)所述基板的溫度進(jìn)行測(cè)量；控制裝置，其基于所述溫度測(cè)量裝置的檢測(cè)結(jié)果，對(duì)所述溫度調(diào)節(jié)裝置進(jìn)行控制。

也可以是，所述處理部具備對(duì)曝光用光所包括的投影像的倍率進(jìn)行調(diào)整的倍率調(diào)整裝置，所述處理部是對(duì)位于所述特定位置的所述基板實(shí)施所述曝光用光的照射處理的裝置；所述倍率調(diào)整裝置，根據(jù)通過(guò)所述第1圖案檢測(cè)裝置及所述第2圖案檢測(cè)裝置的輸出而求出的所述特定圖案的變化，修正所述投影像的倍率。

也可以是，所述處理部具備使曝光用光所包括的投影像的位置偏移的像偏移調(diào)整裝置，所述像偏移調(diào)整裝置根據(jù)通過(guò)所述第1圖案檢測(cè)裝置及所述第2圖案檢測(cè)裝置的輸出而求出的所述特定圖案的變化，使所述像的位置偏移。

也可以是，還具備：基板支承部件溫度調(diào)節(jié)裝置，其對(duì)所述基板支承部件的溫度進(jìn)行調(diào)節(jié)。

根據(jù)本發(fā)明的第2方案，提供一種元件制造方法，其使用本發(fā)明的第1方案的基板處理裝置而在基板上形成圖案。

根據(jù)本發(fā)明的第3方案，提供一種元件制造方法，其包括：一邊沿基板支承部件的在所述長(zhǎng)度方向彎曲而成的支承面對(duì)具有撓性的長(zhǎng)條狀的基板的長(zhǎng)度方向的一部分進(jìn)行支承，一邊以規(guī)定的速度沿所述長(zhǎng)度方向搬送所述基板；在所述基板支承部件的支承面中的所述長(zhǎng)度方向的特定位置，將構(gòu)成所述電子元件的圖案轉(zhuǎn)印至被支承于所述支承面的所述基板上；進(jìn)行溫度控制，以使相對(duì)于所述基板支承部件的支承面位于搬送方向的上游側(cè)的所述基板的溫度與在所述支承面的所述基板的溫度成為規(guī)定的差。

發(fā)明效果

根據(jù)本發(fā)明的方案，在基板處理裝置及元件制造方法中，能夠抑制基板的伸縮，提高處理的精度。

附圖說(shuō)明

圖1是表示第1實(shí)施方式的元件制造系統(tǒng)的構(gòu)成的圖。

圖2是表示第1實(shí)施方式涉及的處理裝置(曝光裝置)的整體構(gòu)成的示意圖。

圖3是表示圖2中的照明區(qū)域及投影區(qū)域的配置的示意圖。

圖4是表示適用于圖2的處理裝置(曝光裝置)的投影光學(xué)系統(tǒng)的構(gòu)成的示意圖。

圖5是適用于圖2的處理裝置(曝光裝置)的旋轉(zhuǎn)筒的立體圖。

圖6是用于說(shuō)明適用于圖2的處理裝置(曝光裝置)的檢測(cè)探針與讀取裝置之間的關(guān)系的立體圖。

圖7是沿旋轉(zhuǎn)中心線方向觀察到的第1實(shí)施方式涉及的刻度圓盤的用于說(shuō)明讀取裝置的位置的圖。

圖8是說(shuō)明第1實(shí)施方式涉及的溫度調(diào)節(jié)裝置的說(shuō)明圖。

圖9是說(shuō)明對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的一個(gè)例子的說(shuō)明圖。

圖10是對(duì)由基板的伸縮導(dǎo)致的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的變化的一個(gè)例子進(jìn)行示意性說(shuō)明的說(shuō)明圖。

圖11是表示對(duì)第1實(shí)施方式涉及的處理裝置(曝光裝置)的處理進(jìn)行修正的步驟的一個(gè)例子的流程圖。

圖12是表示第2實(shí)施方式涉及的處理裝置(曝光裝置)的整體構(gòu)成的示意圖。

圖13是表示第3實(shí)施方式涉及的處理裝置(曝光裝置)的整體構(gòu)成的示意圖。

圖14是表示第4實(shí)施方式涉及的處理裝置(曝光裝置)的整體構(gòu)成的示意圖。

圖15是表示第5實(shí)施方式涉及的處理裝置(曝光裝置)的整體構(gòu)成的示意圖。

圖16是表示第6實(shí)施方式涉及的處理裝置(曝光裝置)的整體構(gòu)成的示意圖。

圖17是表示使用有第1實(shí)施方式涉及的處理裝置(曝光裝置)的元件制造方法的流程圖。

具體實(shí)施方式

參照附圖對(duì)用于實(shí)施本發(fā)明的方式(實(shí)施方式)進(jìn)行詳細(xì)地說(shuō)明。本發(fā)明不受以下的實(shí)施方式所記載的內(nèi)容限定。另外，以下記載的構(gòu)成要素包括本領(lǐng)域技術(shù)人員容易想到且實(shí)質(zhì)上相同的技術(shù)。此外，以下記載的構(gòu)成要素能夠適當(dāng)組合。另外，在不脫離本發(fā)明宗旨的范圍內(nèi)也能夠省略、替換或者改變各種構(gòu)成要素。例如，在以下的實(shí)施方式中，作為元件對(duì)制造柔性顯示器的情況進(jìn)行說(shuō)明，但不限于此。作為元件也能夠制造布線基板、半導(dǎo)體基板等。

(第1實(shí)施方式)

在第1實(shí)施方式中，對(duì)基板實(shí)施曝光處理的基板處理裝置是曝光裝置。另外，曝光裝置被組裝在對(duì)曝光后的基板實(shí)施各種處理而制造元件的元件制造系統(tǒng)中。首先，對(duì)元件制造系統(tǒng)進(jìn)行說(shuō)明。

＜元件制造系統(tǒng)＞

圖1是表示第1實(shí)施方式的元件制造系統(tǒng)的構(gòu)成的圖。圖1所示的元件制造系統(tǒng)1是制造作為元件的柔性顯示器的生產(chǎn)線(柔性顯示器生產(chǎn)線)。作為柔性顯示器，例如有有機(jī)el顯示器等。該元件制造系統(tǒng)1是從將具有撓性的基板p卷繞成輥狀的供給用輥fr1送出該基板p，并對(duì)送出的基板p連續(xù)地實(shí)施各種處理后，將處理后的基板p作為具有撓性的元件卷繞于回收用輥fr2的、所謂卷對(duì)卷(rolltoroll)的方式。在第1實(shí)施方式的元件制造系統(tǒng)1中，示出了作為薄膜狀的片材的基板p被從供給用輥fr1送出，且從供給用輥fr1送出的基板p依次經(jīng)過(guò)n臺(tái)處理裝置u1、u2、u3、u4、u5、…un直至被卷繞于回收用輥fr2為止的例子。首先，對(duì)作為元件制造系統(tǒng)1的處理對(duì)象的基板p進(jìn)行說(shuō)明。

基板p例如使用樹脂薄膜、由不銹鋼等金屬或者合金形成的箔(foil)等。作為樹脂薄膜的材質(zhì)，例如包含聚乙烯樹脂、聚丙烯樹脂、聚酯樹脂、乙烯乙烯酯共聚物樹脂、聚氯乙烯樹脂、纖維素樹脂、聚酰胺樹脂、聚酰亞胺樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚苯乙烯樹脂、乙酸乙烯酯樹脂中的一種或者兩種以上。

優(yōu)選的是，基板p選定熱膨脹系數(shù)不是明顯較大的材料，以使得實(shí)際上能夠忽視因在對(duì)基板p實(shí)施的各種處理中受熱而產(chǎn)生的變形量。熱膨脹系數(shù)例如可以通過(guò)將無(wú)機(jī)填料混合于樹脂薄膜中而設(shè)定為比與工藝溫度等相應(yīng)的閾值小。無(wú)機(jī)填料例如可以是氧化鈦、氧化鋅、氧化鋁、氧化硅等。另外，基板p可以是通過(guò)浮式法等制造的厚度為100μm左右的極薄玻璃的單層體，也可以是在該極薄玻璃上粘貼上述樹脂薄膜、箔等而成的層疊體。

這樣構(gòu)成的基板p，被卷繞成輥狀而成為供給用輥fr1，該供給用輥fr1被安裝于元件制造系統(tǒng)1。安裝有供給用輥fr1的元件制造系統(tǒng)1，對(duì)從供給用輥fr1送出的基板p重復(fù)執(zhí)行用于制造一個(gè)元件的各種處理。因此，處理后的基板p成為多個(gè)元件連接的狀態(tài)。就是說(shuō)，從供給用輥fr1送出的基板p成為多件同時(shí)處理用的基板。另外，基板p可以是預(yù)先通過(guò)規(guī)定的前處理對(duì)其表面進(jìn)行改性而使其活性化的部件，或者，也可以是在表面上形成有用于精密圖案化的微細(xì)的隔壁構(gòu)造(凹凸構(gòu)造)的部件。

處理后的基板p被卷繞成輥狀作為回收用輥fr2而被回收?；厥沼幂乫r2安裝于未圖示的切割裝置。安裝有回收用輥fr2的切割裝置將處理后的基板p按每個(gè)元件分割(切割)而成為多個(gè)元件。基板p的尺寸例如為，寬度方向(成為短邊的方向)的尺寸為10cm～2m左右，長(zhǎng)度方向(成為長(zhǎng)邊的方向)的尺寸為10m以上。此外，基板p的尺寸不限于上述的尺寸。

接下來(lái)，參照?qǐng)D1，對(duì)元件制造系統(tǒng)1進(jìn)行說(shuō)明。在圖1中，x方向、y方向及z方向?yàn)檎坏闹苯亲鴺?biāo)系。x方向是在水平面內(nèi)將供給用輥fr1及回收用輥fr2連結(jié)的方向，是圖1中的左右方向。y方向是在水平面內(nèi)與x方向正交的方向，是圖1中的前后方向。y方向是供給用輥fr1及回收用輥fr2的軸方向。z方是向鉛垂方向，是圖1中的上下方向。

元件制造系統(tǒng)1具備供給基板p的基板供給裝置2、對(duì)由基板供給裝置2供給來(lái)的基板p實(shí)施各種處理的處理裝置u1～un、對(duì)由處理裝置u1～un實(shí)施了處理的基板p進(jìn)行回收的基板回收裝置3、和對(duì)元件制造系統(tǒng)1的各裝置進(jìn)行控制的上位控制裝置5。

基板供給裝置2能夠旋轉(zhuǎn)地安裝有供給用輥fr1?；骞┙o裝置2具有從安裝的供給用輥fr1送出基板p的驅(qū)動(dòng)輥dr1、和調(diào)整基板p的寬度方向(y方向)上的位置的邊緣位置控制器epc1。驅(qū)動(dòng)輥dr1一邊夾持基板p的表背兩面一邊旋轉(zhuǎn)，將基板p從供給用輥fr1朝向回收用輥fr2的搬送方向送出，由此將基板p供給處理裝置u1un。這時(shí)，邊緣位置控制器epc1，以使得基板p在寬度方向的端部(邊緣)的位置相對(duì)于目標(biāo)位置位于±十幾μm幾十μm左右的范圍內(nèi)的方式使基板p在寬度方向上移動(dòng)，從而修正基板p的寬度方向(y方向)上的位置。

基板回收裝置3上能夠旋轉(zhuǎn)地安裝有回收用輥fr2?；寤厥昭b置3具有將處理后的基板p拉向回收用輥fr2側(cè)的驅(qū)動(dòng)輥dr2、和調(diào)整基板p的寬度方向(y方向)上的位置的邊緣位置控制器epc2?；寤厥昭b置3通過(guò)驅(qū)動(dòng)輥dr2一邊夾持基板p的表背兩面一邊旋轉(zhuǎn)，將基板p拉向搬送方向并且使回收用輥fr2旋轉(zhuǎn)，由此卷繞基板p。這時(shí)，邊緣位置控制器epc2與邊緣位置控制器epc1同樣地構(gòu)成，修正基板p的寬度方向上的位置，以免基板p的寬度方向的端部(邊緣)在寬度方向上產(chǎn)生不均。

處理裝置u1是將感光性功能液涂敷于從基板供給裝置2供給來(lái)的基板p的表面的涂敷裝置。作為感光性功能液，例如可以使用抗蝕劑、感光性硅烷耦合劑材料、uv固化樹脂液等。處理裝置u1從基板p的搬送方向的上游側(cè)開始依次設(shè)有涂敷機(jī)構(gòu)gp1和干燥機(jī)構(gòu)gp2。涂敷機(jī)構(gòu)gp1具有使基板p卷繞的壓印輥r1、和與壓印輥r1相對(duì)的涂敷輥r2。涂敷機(jī)構(gòu)gp1在被供給的基板p卷繞于壓印輥r1的狀態(tài)下，通過(guò)壓印輥r1及涂敷輥r2夾持基板p。而且，涂敷機(jī)構(gòu)gp1通過(guò)使壓印輥r1及涂敷輥r2旋轉(zhuǎn)，一邊使基板p沿搬送方向移動(dòng)，一邊通過(guò)涂敷輥r2涂敷感光性功能液。干燥機(jī)構(gòu)gp2吹出熱風(fēng)或干燥空氣等干燥用空氣，除去感光性功能液中所包含的溶質(zhì)(溶劑或者水分)，并使涂敷有感光性功能液的基板p干燥，由此在基板p上形成感光性功能層。

處理裝置u2是加熱裝置，為了使形成于基板p的表面的感光性功能層穩(wěn)定，將從處理裝置u1搬送來(lái)的基板p加熱至規(guī)定溫度(例如，幾十℃～120℃左右)。處理裝置u2從基板p的搬送方向的上游側(cè)開始依次設(shè)有加熱腔室ha1和冷卻腔室ha2。加熱腔室ha1在其內(nèi)部設(shè)有多個(gè)輥及多個(gè)空氣轉(zhuǎn)向桿(airturnbar)，多個(gè)輥及多個(gè)空氣轉(zhuǎn)向桿構(gòu)成基板p的搬送路徑。多個(gè)輥以旋轉(zhuǎn)接觸基板p的背面的方式設(shè)置，多個(gè)空氣轉(zhuǎn)向桿以不接觸狀態(tài)設(shè)置于基板p的表面?zhèn)取６鄠€(gè)輥及多個(gè)空氣轉(zhuǎn)向桿是為了加長(zhǎng)基板p的搬送路徑，而形成蛇行狀的搬送路徑的配置。從加熱腔室部ha1內(nèi)通過(guò)的基板p，一邊沿蛇行狀的搬送路徑被搬送一邊被加熱至規(guī)定溫度。冷卻腔室ha2使基板p冷卻至環(huán)境溫度，以使在加熱腔室部ha1加熱后的基板p的溫度與之后工序(處理裝置u3)的環(huán)境溫度一致。冷卻腔室ha2在其內(nèi)部設(shè)有多個(gè)輥，與加熱腔室ha1同樣地，多個(gè)輥是加長(zhǎng)基板p的搬送路徑，而形成蛇行狀的搬送路徑的配置。從冷卻腔室ha2內(nèi)通過(guò)的基板p，一邊沿蛇行狀的搬送路徑被搬送一邊被冷卻。在冷卻腔室ha2的搬送方向上的下游側(cè)，設(shè)有驅(qū)動(dòng)輥dr3，驅(qū)動(dòng)輥dr3一邊夾持從冷卻腔室ha2通過(guò)后的基板p一邊旋轉(zhuǎn)，由此將基板p朝向處理裝置u3供給。

處理裝置(基板處理裝置)u3是曝光裝置，對(duì)從處理裝置u2供給來(lái)的表面形成有感光性功能層的基板(感光基板)p，將顯示器用的電路或布線等的圖案進(jìn)行投影曝光(轉(zhuǎn)印)。詳細(xì)內(nèi)容留作后述，處理裝置u3對(duì)透過(guò)型或者反射型的圓筒光罩(光罩)dm照射照明光束，將照明光束透過(guò)圓筒光罩(光罩)dm或者由其反射而得到的投影光束投影曝光于基板p。處理裝置u3具有將從處理裝置u2供給來(lái)的基板p送至搬送方向的下游側(cè)的驅(qū)動(dòng)輥dr4、和調(diào)整基板p的寬度方向(y方向)上的位置的邊緣位置控制器epc。驅(qū)動(dòng)輥dr4一邊夾持基板p的表背兩面一邊旋轉(zhuǎn)，將基板p送出至搬送方向的下游側(cè)，由此將基板p朝向曝光位置供給。邊緣位置控制器epc與邊緣位置控制器epc1同樣地構(gòu)成，修正基板p的寬度方向上的位置，以使曝光位置上的基板p的寬度方向成為目標(biāo)位置。處理裝置u3通過(guò)溫度調(diào)節(jié)裝置60調(diào)整邊緣位置控制器epc供給的基板p的溫度之后，由驅(qū)動(dòng)輥dr5搬送基板p。

另外，處理裝置u3具備緩沖部dl，該緩沖部dl具有在對(duì)曝光后的基板p賦予松弛度的狀態(tài)下，將基板p送至搬送方向的下游側(cè)的兩組驅(qū)動(dòng)輥dr6、dr7。兩組驅(qū)動(dòng)輥dr6、dr7在基板p的搬送方向上相隔規(guī)定的間隔而配置。驅(qū)動(dòng)輥dr6夾持搬送的基板p的上游側(cè)而旋轉(zhuǎn)，驅(qū)動(dòng)輥dr7夾持搬送的基板p的下游側(cè)而旋轉(zhuǎn)，由此將基板p朝向處理裝置u4供給。這時(shí)，基板p由于被賦予松弛度，因此能夠吸收在比驅(qū)動(dòng)輥dr7靠搬送方向的下游側(cè)所產(chǎn)生的搬送速度的變動(dòng)，從而能夠消除搬送速度的變動(dòng)導(dǎo)致的對(duì)基板p的曝光處理的影響。另外，在處理裝置u3內(nèi)，為了將圓筒光罩(光罩)dm的光罩圖案的一部分的像和基板p進(jìn)行相對(duì)地對(duì)位(對(duì)準(zhǔn))，而設(shè)有檢測(cè)預(yù)先形成在基板p上的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的對(duì)準(zhǔn)顯微鏡amg1、amg2。

處理裝置u4是濕式處理裝置，其對(duì)從處理裝置u3搬送來(lái)的曝光后的基板p，進(jìn)行濕式的顯影處理、無(wú)電解電鍍處理等。處理裝置u4在其內(nèi)部具有：沿鉛垂方向(z方向)分層的3個(gè)處理槽bt1、bt2、bt3、和搬送基板p的多個(gè)輥。多個(gè)輥以成為基板p依次從3個(gè)處理槽bt1、bt2、bt3的內(nèi)部通過(guò)的搬送路徑的方式配置。在處理槽bt3的搬送方向上的下游側(cè)，設(shè)有驅(qū)動(dòng)輥dr8，驅(qū)動(dòng)輥dr8一邊夾持從處理槽bt3通過(guò)后的基板p一邊旋轉(zhuǎn)，由此將基板p朝向處理裝置u5供給。

雖省略圖示，但處理裝置u5是干燥裝置，其對(duì)從處理裝置u4搬送來(lái)的基板p進(jìn)行干燥。處理裝置u5將在處理裝置u4中經(jīng)濕式處理的基板p所附著的水分含量調(diào)整為規(guī)定的水分含量。通過(guò)處理裝置u5被干燥的基板p經(jīng)過(guò)幾個(gè)處理裝置，被搬送至處理裝置un。而且，在以處理裝置un處理后，基板p被基板回收裝置3的回收用輥fr2卷起。

上位控制裝置5對(duì)基板供給裝置2、基板回收裝置3及多個(gè)處理裝置u1～un進(jìn)行統(tǒng)括控制。上位控制裝置5控制基板供給裝置2及基板回收裝置3，而使基板p從基板供給裝置2朝向基板回收裝置3搬送。另外，上位控制裝置5一邊使基板p的搬送同步，一邊控制多個(gè)處理裝置u1～un，從而執(zhí)行對(duì)基板p的各種處理。

＜曝光裝置(基板處理裝置)＞

接下來(lái)，參照?qǐng)D2至圖4，對(duì)第1實(shí)施方式的作為處理裝置u3的曝光裝置(基板處理裝置)的構(gòu)成進(jìn)行說(shuō)明。圖2是表示第1實(shí)施方式的曝光裝置(基板處理裝置)的整體構(gòu)成的圖。圖3是表示圖2所示的曝光裝置的照明區(qū)域及投影區(qū)域的配置的圖。圖4是表示圖2所示的曝光裝置的投影光學(xué)系統(tǒng)的構(gòu)成的圖。

如圖2所示，處理裝置u3包括曝光裝置(處理機(jī)構(gòu))ex、搬送裝置9和溫度調(diào)節(jié)裝置60。曝光裝置ex通過(guò)搬送裝置9供給基板p(片材、薄膜等)。曝光裝置ex是所謂的掃描曝光裝置，一邊使圓筒光罩dm的旋轉(zhuǎn)和具有撓性的基板p的傳送同步驅(qū)動(dòng)，一邊經(jīng)由投影倍率為等倍(×1)的投影光學(xué)系統(tǒng)pl(pl1～pl6)將形成在圓筒光罩dm上的圖案的像投影至基板p。此外，圖2所示的曝光裝置ex，將直角坐標(biāo)系xyz的y軸設(shè)定為與第1筒部件21的旋轉(zhuǎn)中心線ax1平行。同樣地，曝光裝置ex將直角坐標(biāo)系xyz的y軸設(shè)定為與作為旋轉(zhuǎn)筒的第2筒部件22的旋轉(zhuǎn)中心線ax2平行。

如圖2所示，曝光裝置ex具備光罩保持裝置12、照明機(jī)構(gòu)iu、投影光學(xué)系統(tǒng)pl、及控制裝置14。曝光裝置ex使保持在光罩保持裝置12上的圓筒光罩dm旋轉(zhuǎn)移動(dòng)，并且通過(guò)搬送裝置9搬送基板p。照明機(jī)構(gòu)iu通過(guò)照明光束el1以均勻的亮度對(duì)保持在光罩保持裝置12上的圓筒光罩dm的一部分(照明區(qū)域ir)進(jìn)行照明。投影光學(xué)系統(tǒng)pl將圓筒光罩dm上的照明區(qū)域ir中的圖案的像投影至由搬送裝置9搬送的基板p的一部分(投影區(qū)域pa)中。隨著圓筒光罩dm的移動(dòng)，配置于照明區(qū)域ir的圓筒光罩dm上的部位會(huì)發(fā)生變化，另外，隨著基板p的移動(dòng)，配置于投影區(qū)域pa的基板p上的部位會(huì)發(fā)生變化。由此，圓筒光罩dm上的規(guī)定的圖案(光罩圖案)的像被投影于基板p。控制裝置14控制曝光裝置ex的各部分，使各部分執(zhí)行處理。另外，在本實(shí)施方式中，控制裝置14控制搬送裝置9。

此外，控制裝置14可以是上述元件制造系統(tǒng)1的統(tǒng)括控制多個(gè)處理裝置的上位控制裝置5的一部分或者全部。另外，控制裝置14也可以是被上位控制裝置5控制的、與上位控制裝置5不同的裝置?？刂蒲b置14例如包含計(jì)算機(jī)系統(tǒng)。計(jì)算機(jī)系統(tǒng)例如包含cpu及各種存儲(chǔ)器或os、周邊設(shè)備等硬件。處理裝置u3的各部分的動(dòng)作的過(guò)程以程序的形式存儲(chǔ)在計(jì)算機(jī)可讀取的記錄介質(zhì)的存儲(chǔ)部中，通過(guò)計(jì)算機(jī)系統(tǒng)讀取并執(zhí)行該程序，來(lái)進(jìn)行各種處理。計(jì)算機(jī)系統(tǒng)能夠與互聯(lián)網(wǎng)或局域網(wǎng)系統(tǒng)連接的情況下，也包括主頁(yè)提供環(huán)境(或者顯示環(huán)境)。另外，計(jì)算機(jī)可讀取的記錄介質(zhì)包含軟盤、光磁盤、rom、cd－rom等可移動(dòng)介質(zhì)、內(nèi)置于計(jì)算機(jī)系統(tǒng)中的硬盤等存儲(chǔ)裝置。計(jì)算機(jī)可讀取的記錄介質(zhì)也包括：如經(jīng)由互聯(lián)網(wǎng)等網(wǎng)絡(luò)和/或電話線路等通信線路發(fā)送程序的情況下的通信線那樣，在短時(shí)間內(nèi)動(dòng)態(tài)地保持程序的介質(zhì)；如該情況下的成為服務(wù)器或客戶端的計(jì)算機(jī)系統(tǒng)內(nèi)部的易失性存儲(chǔ)器那樣，將程序保持一定時(shí)間的介質(zhì)。另外，程序可以是用于實(shí)現(xiàn)處理裝置u3的一部分功能的程序，也可以是通過(guò)與已記錄在計(jì)算機(jī)系統(tǒng)中的程序組合而能夠?qū)崿F(xiàn)處理裝置u3的功能的程序。上位控制裝置5與控制裝置14同樣地，能夠利用計(jì)算機(jī)系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)。

如圖2所示，光罩保持裝置12具備：保持圓筒光罩dm的第1筒部件21；支承第1筒部件21的引導(dǎo)輥23；根據(jù)控制裝置14的控制指令，第1驅(qū)動(dòng)部26驅(qū)動(dòng)第1筒部件21的驅(qū)動(dòng)輥24；及檢測(cè)第1筒部件21的位置的第1檢測(cè)器25。

第1筒部件21是具有從作為規(guī)定軸的旋轉(zhuǎn)中心線ax1(以下，也稱為第1中心軸ax1)以固定半徑彎曲的曲面的圓筒部件，繞規(guī)定軸旋轉(zhuǎn)。第1筒部件21形成第1面p1，該第1面p1配置有圓筒光罩dm上的照明區(qū)域ir。在本實(shí)施方式中，第1面p1包含使線段(母線)繞與該線段平行的軸(第1中心軸ax1)旋轉(zhuǎn)而成的面(以下，稱為圓筒面)。圓筒面例如是圓筒的外周面、圓柱的外周面等。第1筒部件21由例如玻璃或石英等構(gòu)成，是具有一定壁厚的圓筒狀，其外周面(圓筒面)形成第1面p1。即，在本實(shí)施方式中，圓筒光罩dm上的照明區(qū)域ir彎曲成從旋轉(zhuǎn)中心線ax1具有固定半徑r1的圓筒面狀。這樣，第1筒部件21具有從作為規(guī)定軸的旋轉(zhuǎn)中心線ax1以固定半徑彎曲的曲面。而且，第1筒部件21被驅(qū)動(dòng)輥24驅(qū)動(dòng)，能夠繞作為規(guī)定軸的旋轉(zhuǎn)中心線ax1旋轉(zhuǎn)。

圓筒光罩dm作為透過(guò)型的平面狀片光罩而制作成，該透過(guò)型的平面狀片光罩例如是通過(guò)鉻等遮光層在平坦性良好的長(zhǎng)條狀的極薄玻璃板(例如厚度100～500μm)的一個(gè)面上形成圖案而成的。光罩保持裝置12使圓筒光罩dm仿照第1筒部件21的外周面的曲面而彎曲，在卷繞(粘貼)于該曲面的狀態(tài)下使用。圓筒光罩dm具有未形成圖案的圖案非形成區(qū)域，并在圖案非形成區(qū)域中安裝于第1筒部件21。圓筒光罩dm能夠相對(duì)于第1筒部件21拆卸(release)。

此外，也可以代替由極薄玻璃板構(gòu)成圓筒光罩dm并將該圓筒光罩dm卷繞于由透明圓筒母材形成的第1筒部件21的結(jié)構(gòu)，而是在由透明圓筒母材形成的第1筒部件21的外周面上，直接描繪形成基于鉻等遮光層而實(shí)現(xiàn)的光罩圖案并使其一體化。在該情況下，第1筒部件21也作為圓筒光罩dm的圖案的支承部件發(fā)揮功能。

第1檢測(cè)器25能夠光學(xué)地檢測(cè)第1筒部件21的旋轉(zhuǎn)位置，例如由旋轉(zhuǎn)編碼器等構(gòu)成。第1檢測(cè)器25將表示所檢測(cè)到的第1筒部件21的旋轉(zhuǎn)位置的信息，例如來(lái)自后述的編碼器讀頭的雙相信號(hào)等輸出至控制裝置14。包含電動(dòng)馬達(dá)等致動(dòng)器的第1驅(qū)動(dòng)部26按照從控制裝置14輸入的控制信號(hào)，來(lái)調(diào)整用于使驅(qū)動(dòng)輥24旋轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)矩及旋轉(zhuǎn)速度?？刂蒲b置14通過(guò)基于第1檢測(cè)器25的檢測(cè)結(jié)果控制第1驅(qū)動(dòng)部26，來(lái)控制第1筒部件21的旋轉(zhuǎn)位置。而且，控制裝置14控制保持在第1筒部件21上的圓筒光罩dm的旋轉(zhuǎn)位置和旋轉(zhuǎn)速度的一方或者雙方。

第2筒部件22是具有從作為規(guī)定軸的旋轉(zhuǎn)中心線ax2(以下，也稱為第2中心軸ax2)以固定半徑彎曲的曲面(第1曲面)的圓筒部件，是繞規(guī)定軸旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)筒。第2筒部件22形成第2面(支承面)p2，該第2面(支承面)p2將包含來(lái)自投影光學(xué)系統(tǒng)pl的成像光束所投射的基板p上的投影區(qū)域pa在內(nèi)的一部分支承為圓弧狀(圓筒狀)。另外，第2筒部件22是通過(guò)從包含電動(dòng)馬達(dá)等致動(dòng)器的第2驅(qū)動(dòng)部36供給的轉(zhuǎn)矩而旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動(dòng)輥dr5。

這樣，第2筒部件22是驅(qū)動(dòng)輥dr5，并且兼作支承曝光(處理)對(duì)象的基板p的基板支承部件(基板載臺(tái))。即，第2筒部件22也可以是曝光裝置ex的一部分。而且，第2筒部件22能夠繞第2筒部件22的旋轉(zhuǎn)中心線ax2(第2中心軸ax2)旋轉(zhuǎn)，基板p仿照第2筒部件22上的外周面(圓筒面)彎曲成圓筒面狀，在彎曲的部分的一部分上配置投影區(qū)域pa。

在本實(shí)施方式中，如圖2所示，在從第2筒部件22的第2中心軸ax2觀察時(shí)，到達(dá)至投影區(qū)域pa的成像光束el2中的、從投影區(qū)域pa的各中心點(diǎn)通過(guò)的主光線，分別隔著中心面p3而在周向上配置在角度θ的位置上，并到達(dá)第1特定位置px1、第2特定位置px2。而且，在從旋轉(zhuǎn)中心線ax2觀察時(shí)，位于第1特定位置px1和第2特定位置px2之間的特定位置px，是位于第2筒部件22的曲面上的基板p的被平均地曝光的區(qū)域的中心。

搬送裝置9具備驅(qū)動(dòng)輥dr4、第2筒部件22(驅(qū)動(dòng)輥dr5)、驅(qū)動(dòng)輥dr6。搬送裝置9使基板p沿搬送基板p的搬送方向移動(dòng)，以使得基板p從第1特定位置px1、特定位置px及第2特定位置px2通過(guò)。第2驅(qū)動(dòng)部36按照從控制裝置14輸出的控制信號(hào)，來(lái)調(diào)整使第2筒部件22旋轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)矩。

在本實(shí)施方式中，從搬送路徑的上游向驅(qū)動(dòng)輥dr4搬送來(lái)的基板p經(jīng)由驅(qū)動(dòng)輥dr4被搬送至溫度調(diào)節(jié)裝置60。溫度調(diào)節(jié)裝置60按照從控制裝置14輸出的控制信號(hào)，調(diào)整向第2筒部件22供給之前的基板p的溫度。經(jīng)由溫度調(diào)節(jié)裝置60調(diào)節(jié)溫度后的基板p被第1引導(dǎo)部件31、第2引導(dǎo)部件32引導(dǎo)，而向第2筒部件22搬送?；錺被支承于第2筒部件22的表面，向第3引導(dǎo)部件33搬送。經(jīng)由第3引導(dǎo)部件33的基板p，向搬送路徑的下游搬送。此外，第2筒部件22(驅(qū)動(dòng)輥dr5)的旋轉(zhuǎn)中心線ax2與驅(qū)動(dòng)輥dr4、dr6的各旋轉(zhuǎn)中心線均設(shè)定為與y軸平行。

在第2筒部件22的周圍，配置有限制搬送基板p的搬送方向、且引導(dǎo)基板p的第1引導(dǎo)部件31、第2引導(dǎo)部件32及第3引導(dǎo)部件33。第2筒部件22卷繞基板p的一部分，支承從基板p開始與第2面p2的曲面接觸的搬送方向的進(jìn)入位置ia到基板p開始從第2面p2的曲面離開的搬送方向的脫離位置oa為止的基板p。第2引導(dǎo)部件32及第3引導(dǎo)部件33，例如通過(guò)沿基板p的搬送方向移動(dòng)，來(lái)調(diào)整搬送路徑中作用于基板p的張力等。另外，第2引導(dǎo)部件32及第3引導(dǎo)部件33，例如通過(guò)沿基板p的搬送方向移動(dòng)，能夠調(diào)整卷繞于第2筒部件22的外周的上述進(jìn)入位置ia及脫離位置oa等。此外，搬送裝置9、第1引導(dǎo)部件31、第2引導(dǎo)部件32及第3引導(dǎo)部件33只要能沿投影光學(xué)系統(tǒng)pl的投影區(qū)域pa搬送基板p即可，能夠適當(dāng)改變搬送裝置9、第1引導(dǎo)部件31、第2引導(dǎo)部件32及第3引導(dǎo)部件33的構(gòu)成。

第2檢測(cè)器35例如由旋轉(zhuǎn)編碼器等構(gòu)成，光學(xué)地檢測(cè)第2筒部件22的旋轉(zhuǎn)位置。第2檢測(cè)器35將表示所檢測(cè)到的第2筒部件22的旋轉(zhuǎn)位置的信息(例如，后述的來(lái)自編碼器讀頭en1、en2、en3、en4、en5的雙相信號(hào)等)輸出至控制裝置14。控制裝置14通過(guò)基于第2檢測(cè)器35的檢測(cè)結(jié)果控制第2驅(qū)動(dòng)部36，來(lái)控制第2筒部件22的旋轉(zhuǎn)位置，使第1筒部件21(圓筒光罩dm)和第2筒部件22同步移動(dòng)(同步旋轉(zhuǎn))。此外，關(guān)于第2檢測(cè)器35的詳細(xì)構(gòu)成將后述。

本實(shí)施方式的曝光裝置ex是假定了搭載所謂多透鏡方式的投影光學(xué)系統(tǒng)pl的曝光裝置。投影光學(xué)系統(tǒng)pl具備對(duì)圓筒光罩dm的圖案中的一部分的像進(jìn)行投影的多個(gè)投影組件。例如，在圖2中，在中心面p3的左側(cè)沿y方向以固定間隔配置有三個(gè)投影組件(投影光學(xué)系統(tǒng))pl1、pl3、pl5，在中心面p3的右側(cè)也沿y方向以固定間隔配置有三個(gè)投影組件(投影光學(xué)系統(tǒng))pl2、pl4、pl6。

在這種多透鏡方式的曝光裝置ex中，利用掃描使通過(guò)多個(gè)投影組件pl1～pl6而被曝光的區(qū)域(投影區(qū)域pa1～pa6)的y方向上的端部相互重合，由此投影所期望的圖案的整體像。這種曝光裝置ex具有如下優(yōu)點(diǎn)：即使在圓筒光罩dm上的圖案的y方向尺寸增大從而必然產(chǎn)生對(duì)y方向的寬度較大的基板p進(jìn)行處理的必要性的情況下，也只需沿y方向增設(shè)投影組件pl、和與投影組件pl對(duì)應(yīng)的照明機(jī)構(gòu)iu側(cè)的組件即可，因此能夠容易地應(yīng)對(duì)面板尺寸(基板p的寬度)的大型化。

此外，曝光裝置ex也可以不是多透鏡方式。例如，在基板p的寬度方向上的尺寸在某種程度上較小的情況下等，曝光裝置ex也可以通過(guò)一個(gè)投影組件而將圖案的整個(gè)寬度的像投影至基板p。另外，多個(gè)投影組件pl1～pl6可以分別投影與一個(gè)元件對(duì)應(yīng)的圖案。即，曝光裝置ex也可以通過(guò)多個(gè)投影組件并行地投影多個(gè)元件用的圖案。

本實(shí)施方式的照明機(jī)構(gòu)iu具備光源裝置13及照明光學(xué)系統(tǒng)。照明光學(xué)系統(tǒng)具備與多個(gè)投影組件pl1～pl6分別對(duì)應(yīng)地沿y軸方向排列的多個(gè)(例如六個(gè))照明組件il。光源裝置13例如包含水銀燈等燈光源、或者激光二極管、發(fā)光二極管(led)等固體光源。光源裝置13所射出的照明光是例如從燈光源射出的明線(g線、h線、i線)、krf準(zhǔn)分子激光(波長(zhǎng)248nm)等遠(yuǎn)紫外光(duv光)、arf準(zhǔn)分子激光(波長(zhǎng)193nm)等。從光源裝置射出的照明光的照度分布均勻，例如經(jīng)由光纖等導(dǎo)光部件而被分配至多個(gè)照明組件il。

多個(gè)照明組件il分別包含透鏡等多個(gè)光學(xué)部件。在本實(shí)施方式中，將從光源裝置13射出并從多個(gè)照明組件il中的任一個(gè)通過(guò)的光稱為照明光束el1。多個(gè)照明組件il分別包含例如積分器光學(xué)系統(tǒng)、柱狀透鏡、復(fù)眼透鏡等，通過(guò)均勻的照度分布的照明光束el1對(duì)照明區(qū)域ir進(jìn)行照明。在本實(shí)施方式中，多個(gè)照明組件il配置于圓筒光罩dm的內(nèi)側(cè)。多個(gè)照明組件il分別從圓筒光罩dm的內(nèi)側(cè)對(duì)形成在圓筒光罩dm的外周面上的光罩圖案的各照明區(qū)域ir進(jìn)行照明。

圖3是表示本實(shí)施方式中的照明區(qū)域ir及投影區(qū)域pa的配置的圖。此外，在圖3中圖示出了從－z側(cè)觀察配置于第1筒部件21上的圓筒光罩dm上的照明區(qū)域ir時(shí)的平面圖(圖3中的左側(cè)的圖)、和從+z側(cè)觀察配置于第2筒部件22上的基板p上的投影區(qū)域pa時(shí)的平面圖(圖3中的右側(cè)的圖)。圖3中的附圖標(biāo)記xs表示第1筒部件21或者第2筒部件22的旋轉(zhuǎn)方向(移動(dòng)方向)。

多個(gè)照明組件il分別對(duì)圓筒光罩dm上的第1照明區(qū)域ir1到第6照明區(qū)域ir6進(jìn)行照明。例如，第1照明組件il對(duì)第1照明區(qū)域ir1進(jìn)行照明，第2照明組件il對(duì)第2照明區(qū)域ir2進(jìn)行照明。

將第1照明區(qū)域ir1設(shè)為沿y方向細(xì)長(zhǎng)的梯形狀的區(qū)域進(jìn)行說(shuō)明，但是，如投影光學(xué)系統(tǒng)(投影組件)pl那樣，在形成中間像面的構(gòu)成的投影光學(xué)系統(tǒng)的情況下，為了能夠在該中間像的位置配置具有梯形開口的視場(chǎng)光闌板，也可以設(shè)為包含該梯形開口的長(zhǎng)方形的區(qū)域。第3照明區(qū)域ir3及第5照明區(qū)域ir5分別為形狀與第1照明區(qū)域ir1相同的區(qū)域，且沿y軸方向空出固定間隔地配置。另外，第2照明區(qū)域ir2是關(guān)于中心面p3而與第1照明區(qū)域ir1對(duì)稱的梯形狀(或者長(zhǎng)方形)的區(qū)域。第4照明區(qū)域ir4及第6照明區(qū)域ir6分別為與第2照明區(qū)域ir2相同形狀的區(qū)域，且沿y軸方向空出固定間隔地配置。

如圖3所示，在沿第1面p1的周向觀察第1照明區(qū)域ir1到第6照明區(qū)域ir6的各區(qū)域的情況下，以使相鄰的梯形狀的照明區(qū)域的斜邊部的三角部重合(重疊)的方式配置。因此，例如通過(guò)第1筒部件21的旋轉(zhuǎn)而從第1照明區(qū)域ir1通過(guò)的圓筒光罩dm上的第1區(qū)域a1，和通過(guò)第1筒部件21的旋轉(zhuǎn)而從第2照明區(qū)域ir2通過(guò)的圓筒光罩dm上的第2區(qū)域a2有一部分重復(fù)。

在本實(shí)施方式中，圓筒光罩dm包括：形成有圖案的圖案形成區(qū)域a3、和未形成圖案的圖案非形成區(qū)域a4。該圖案非形成區(qū)域a4以呈框狀地包圍圖案形成區(qū)域a3的方式配置，具有遮蔽照明光束el1的特性。圓筒光罩dm的圖案形成區(qū)域a3隨著第1筒部件21的旋轉(zhuǎn)而沿移動(dòng)方向xs移動(dòng)，圖案形成區(qū)域a3中的y軸方向上的各部分區(qū)域從第1照明區(qū)域ir1至第6照明區(qū)域ir6中的任一個(gè)通過(guò)。換言之，第1照明區(qū)域ir1至第6照明區(qū)域ir6以將圖案形成區(qū)域a3的y軸方向上的整個(gè)寬度覆蓋的方式配置。

如圖2所示，沿y軸方向排列的多個(gè)投影組件pl1～pl6分別與第1至第6照明組件il一對(duì)一地對(duì)應(yīng)，將在由相對(duì)應(yīng)的照明組件照亮的照明區(qū)域ir內(nèi)所顯現(xiàn)的圓筒光罩dm的局部圖案的像，投影至基板p上的各投影區(qū)域pa。

例如，第1投影組件pl1與第1照明組件il相對(duì)應(yīng)，將由第1照明組件il照亮的第1照明區(qū)域ir1(參照?qǐng)D3)中的圓筒光罩dm的圖案的像，投影至基板p上的第1投影區(qū)域pa1。第3投影組件pl3、第5投影組件pl5分別與第3照明組件il、第5照明組件il相對(duì)應(yīng)。第3投影組件pl3及第5投影組件pl5在從y軸方向觀察時(shí)配置在與第1投影組件pl1重合的位置。

另外，第2投影組件pl2與第2照明組件il相對(duì)應(yīng)，將由第2照明組件il照亮的第2照明區(qū)域ir2(參照?qǐng)D3)中的圓筒光罩dm的圖案的像，投影至基板p上的第2投影區(qū)域pa2。第2投影組件pl2在從y軸方向觀察時(shí)配置在隔著中心面p3而與第1投影組件pl1對(duì)稱的位置。

第4投影組件pl4、第6投影組件pl6分別與第4照明組件il、第6照明組件il對(duì)應(yīng)地配置，第4投影組件pl4以及第6投影組件pl6在從y軸方向觀察時(shí)配置在與第2投影組件pl2重合的位置。

此外，在本實(shí)施方式中，將從照明機(jī)構(gòu)iu的各照明組件il到達(dá)至圓筒光罩dm上的各照明區(qū)域ir1～ir6內(nèi)的光設(shè)為照明光束el1。另外，將受到與各照明區(qū)域ir1～ir6中所顯現(xiàn)的圓筒光罩dm的部分圖案相應(yīng)的強(qiáng)度分布調(diào)制后入射至各投影組件pl1～pl6并到達(dá)至各投影區(qū)域pa1～pa6內(nèi)的光，設(shè)為成像光束el2。而且，如圖2所示，在從第2筒部件22的第2中心軸ax2觀察時(shí)，到達(dá)至各投影區(qū)域pa1～pa6內(nèi)的成像光束el2中的、從投影區(qū)域pa1～pa6的各中心點(diǎn)通過(guò)的主光線，隔著中心面p3而在周向上分別配置在角度θ的位置(特定位置)。

如圖3所示，第1照明區(qū)域ir1中的圖案的像被投影至第1投影區(qū)域pa1，第3照明區(qū)域ir3中的圖案的像被投影至第3投影區(qū)域pa3，第5照明區(qū)域ir5中的圖案的像被投影至第5投影區(qū)域pa5。在本實(shí)施方式中，第1投影區(qū)域pa1、第3投影區(qū)域pa3及第5投影區(qū)域pa5以沿y軸方向并排為一列的方式配置。

另外，第2照明區(qū)域ir2中的圖案的像被投影至第2投影區(qū)域pa2。在本實(shí)施方式中，第2投影區(qū)域pa2在從y軸方向觀察時(shí)關(guān)于中心面p3而與第1投影區(qū)域pa1對(duì)稱地配置。另外，第4照明區(qū)域ir4中的圖案的像被投影至第4投影區(qū)域pa4，第6照明區(qū)域ir6中的圖案的像被投影至第6投影區(qū)域pa6。在本實(shí)施方式中，第2投影區(qū)域pa2、第4投影區(qū)域pa4及第6投影區(qū)域pa6以沿y軸方向并排為一列的方式配置。

第1投影區(qū)域pa1至第6投影區(qū)域pa6分別以如下方式配置：在沿第2面p2的周向觀察的情況下，在與第2中心軸ax2平行的方向上相鄰的投影區(qū)域(第奇數(shù)個(gè)和第偶數(shù)個(gè))彼此的端部(梯形的三角部分)重合。因此，例如通過(guò)第2筒部件22的旋轉(zhuǎn)而從第1投影區(qū)域pa1通過(guò)的基板p上的第3區(qū)域a5，與通過(guò)第2筒部件22的旋轉(zhuǎn)而從第2投影區(qū)域pa2通過(guò)的基板p上的第4區(qū)域a6有一部分重復(fù)。第1投影區(qū)域pa1和第2投影區(qū)域pa2的各自的形狀等設(shè)定為：使第3區(qū)域a5和第4區(qū)域a6重復(fù)的區(qū)域中的曝光量與不重復(fù)的區(qū)域的曝光量實(shí)質(zhì)上相同。而且，第1投影區(qū)域pa1至第6投影區(qū)域pa6以將曝光在基板p上的曝光區(qū)域a7的y方向上的整個(gè)寬度覆蓋的方式配置。

接下來(lái)，參照?qǐng)D4說(shuō)明本實(shí)施方式的投影光學(xué)系統(tǒng)pl的詳細(xì)構(gòu)成。此外，在本實(shí)施方式中，第2投影組件pl2至第5投影組件pl5分別為與第1投影組件pl1相同的構(gòu)成。因此，以第1投影組件pl1的構(gòu)成為代表而說(shuō)明投影光學(xué)系統(tǒng)pl，省略第2投影組件pl2至第5投影組件pl5的各自的說(shuō)明。

圖4所示的第1投影組件pl1具備：第1光學(xué)系統(tǒng)41，其使配置于第1照明區(qū)域ir1的圓筒光罩dm的圖案的像在中間像面p7上成像；第2光學(xué)系統(tǒng)42，其使第1光學(xué)系統(tǒng)41所形成的中間像的至少一部分在基板p的第1投影區(qū)域pa1內(nèi)再成像；和第1視場(chǎng)光闌43，其配置于供中間像形成的中間像面p7。

另外，第1投影組件pl1具備：聚焦修正光學(xué)部件44、像偏移修正光學(xué)部件45、旋轉(zhuǎn)修正機(jī)構(gòu)46及倍率修正用光學(xué)部件47。聚焦修正光學(xué)部件44是對(duì)形成在基板p上的光罩的圖案像(以下稱為投影像)的聚焦?fàn)顟B(tài)進(jìn)行微調(diào)整的聚焦調(diào)整裝置。另外，像偏移修正光學(xué)部件45是使投影像在像面內(nèi)微少地橫向偏移的偏移調(diào)整裝置。倍率修正用光學(xué)部件47是對(duì)投影像的倍率進(jìn)行微少修正的倍率調(diào)整裝置。旋轉(zhuǎn)修正機(jī)構(gòu)46是使投影像在像面內(nèi)微少旋轉(zhuǎn)的偏移調(diào)整裝置。

來(lái)自圓筒光罩dm的圖案的成像光束el2從第1照明區(qū)域ir1沿法線方向(d1)射出，從聚焦修正光學(xué)部件44通過(guò)而入射至像偏移修正光學(xué)部件45。透過(guò)像偏移修正光學(xué)部件45后的成像光束el2由作為第1光學(xué)系統(tǒng)41的要素的第1偏轉(zhuǎn)部件50的第1反射面(平面鏡)p4反射，從第1透鏡組51通過(guò)而由第1凹面鏡52反射，并再次從第1透鏡組51通過(guò)而由第1偏轉(zhuǎn)部件50的第2反射面(平面鏡)p5反射，而入射至第1視場(chǎng)光闌43。從第1視場(chǎng)光闌43通過(guò)后的成像光束el2由作為第2光學(xué)系統(tǒng)42的要素的第2偏轉(zhuǎn)部件57的第3反射面(平面鏡)p8反射，從第2透鏡組58通過(guò)而由第2凹面鏡59反射，并再次從第2透鏡組58通過(guò)而由第2偏轉(zhuǎn)部件57的第4反射面(平面鏡)p9反射，而入射至倍率修正用光學(xué)部件47。從倍率修正用光學(xué)部件47射出的成像光束el2入射至基板p上的第1投影區(qū)域pa1，在第1照明區(qū)域ir1內(nèi)顯現(xiàn)的圖案的像等倍(×1)地投影至第1投影區(qū)域pa1。

將圖2所示的圓筒光罩dm的半徑設(shè)為半徑r1，將卷繞于第2筒部件22上的基板p的圓筒狀的表面的半徑設(shè)為半徑r2，在使半徑r1和半徑r2相等的情況下，各投影組件pl1～pl6的光罩側(cè)的成像光束el2的主光線以從圓筒光罩dm的旋轉(zhuǎn)中心線ax1通過(guò)的方式傾斜，但其傾斜角與基板側(cè)的成像光束el2的主光線的傾斜角θ(相對(duì)于中心面p3為±θ)相同。

第2偏轉(zhuǎn)部件57的第3反射面p8與第2光軸ax4所成的角度θ3，和第1偏轉(zhuǎn)部件50的第2反射面p5與第1光軸ax3所成的角度θ2實(shí)質(zhì)上相同。另外，第2偏轉(zhuǎn)部件57的第4反射面p9與第2光軸ax4所成的角度θ4，和第1偏轉(zhuǎn)部件50的第1反射面p4與第1光軸ax3所成的角度θ1實(shí)質(zhì)上相同。為了提供上述的傾斜角θ，使圖4所示的第1偏轉(zhuǎn)部件50的第1反射面p4相對(duì)于第1光軸ax3的角度θ1比45°僅小δθ1，并使第2偏轉(zhuǎn)部件57的第4反射面p9相對(duì)于第2光軸ax4的角度θ4比45°僅小δθ4。δθ1和δθ4相對(duì)于圖2所示的角度θ設(shè)定為δθ1＝δθ4＝θ/2的關(guān)系。

圖5是適用于圖2的處理裝置(曝光裝置)的旋轉(zhuǎn)筒的立體圖。圖6是用于說(shuō)明適用于圖2的處理裝置(曝光裝置)的檢測(cè)探針與讀取裝置的關(guān)系的立體圖。圖7是用于說(shuō)明在旋轉(zhuǎn)中心線ax2方向上觀察第1實(shí)施方式涉及的刻度圓盤sd時(shí)的、讀取裝置的位置的說(shuō)明圖。此外，在圖5中，為了方便，僅圖示出第2投影區(qū)域pa2～第4投影區(qū)域pa4，省略了第1投影區(qū)域pa1、第5投影區(qū)域pa5、第6投影區(qū)域pa6的圖示。

圖2所示的第2檢測(cè)器35是光學(xué)地檢測(cè)第2筒部件22的旋轉(zhuǎn)位置的部件，包含高真圓度的刻度圓盤(刻度部件)sd、和作為讀取裝置的編碼器讀頭en1、en2、en3、en4、en5。

刻度圓盤sd固定在與第2筒部件22的旋轉(zhuǎn)軸st正交的第2筒部件22的端部。因此，刻度圓盤sd與旋轉(zhuǎn)軸st一同繞旋轉(zhuǎn)中心線ax2一體地旋轉(zhuǎn)。在刻度圓盤sd的外周面上刻設(shè)有例如刻度(格子)作為刻度部gp?？潭炔縢p沿第2筒部件22旋轉(zhuǎn)的周向呈環(huán)狀地排列，且與第2筒部件22一同在旋轉(zhuǎn)軸st(第2中心軸ax2)的周圍旋轉(zhuǎn)。編碼器讀頭en1、en2、en3、en4、en5在從旋轉(zhuǎn)軸st(第2中心軸ax2)觀察時(shí)配置于刻度部gp的周圍。編碼器讀頭en1、en2、en3、en4、en5與刻度部gp相對(duì)配置，能夠以非接觸的方式讀取刻度部gp。另外，編碼器讀頭en1、en2、en3、en4、en5配置于第2筒部件22的周向上的不同位置。

編碼器讀頭en1、en2、en3、en4、en5是對(duì)刻度部gp的切線方向(xz面內(nèi))的位移的變動(dòng)具有測(cè)量靈敏度(檢測(cè)靈敏度)的讀取裝置。如圖5所示，在用設(shè)置方位線le1、le2、le3、le4、le5表示編碼器讀頭en1、en2、en3、en4、en5的設(shè)置方位(以旋轉(zhuǎn)中心線ax2為中心的xz面內(nèi)的角度方向)的情況下，如圖7所示，以設(shè)置方位線le1、le2相對(duì)于中心面p3成為角度±θ°的方式配置編碼器讀頭en1、en2。此外，在本實(shí)施方式中，例如角度θ為15°。

圖4所示的投影組件pl1～pl6是將基板p設(shè)為被處理物體、并對(duì)基板p實(shí)施照射光的照射處理的曝光裝置ex的處理部。曝光裝置ex相對(duì)于基板p而使2個(gè)成像光束el2的主光線入射至基板p。投影組件pl1、pl3、pl5為第1處理部，投影組件pl2、pl4、pl6為第2處理部，相對(duì)于基板p而使2個(gè)成像光束el2的主光線入射至基板p上的各位置成為對(duì)基板p實(shí)施照射光的照射處理的特定位置。特定位置是在從第2筒部件22的第2中心軸ax2觀察時(shí)，為第2筒部件22上的曲面的基板p中的、隔著中心面p3而在周向上為角度±θ的位置。編碼器讀頭en1的設(shè)置方位線le1與從第奇數(shù)個(gè)投影組件pl1、pl3、pl5的各投影區(qū)域(投影視場(chǎng))pa1、pa3、pa5的中心點(diǎn)通過(guò)的主光線相對(duì)于中心面p3的傾斜角θ一致，編碼器讀頭en2的設(shè)置方位線le2與從第偶數(shù)個(gè)投影組件pl2、pl4、pl6的各投影區(qū)域(投影視場(chǎng))pa2、pa4、pa6的中心點(diǎn)通過(guò)的主光線相對(duì)于中心面p3的傾斜角θ一致。因此，編碼器讀頭en1成為對(duì)位于將第1特定位置px1與第2中心軸ax2連結(jié)的方向上的刻度部gp進(jìn)行讀取的讀取裝置。而且，編碼器讀頭en2成為對(duì)位于將第2特定位置px2與第2中心軸ax2連結(jié)的方向上的刻度部gp進(jìn)行讀取的讀取裝置。

編碼器讀頭en4配置于基板p的傳送方向的后方側(cè)、即曝光位置(投影區(qū)域)的近前方，且設(shè)定在設(shè)置方位線le4上，該設(shè)置方位線le4是使編碼器讀頭en1的設(shè)置方位線le1繞旋轉(zhuǎn)中心線ax2的軸朝向基板p的傳送方向的后方側(cè)旋轉(zhuǎn)而得到的。另外，在設(shè)置方位線le5上設(shè)定編碼器讀頭en5，該設(shè)置方位線le5是使編碼器讀頭en1的設(shè)置方位線le1繞旋轉(zhuǎn)中心線ax2的軸朝向基板p的傳送方向的后方側(cè)旋轉(zhuǎn)而得到的。

另外，編碼器讀頭en3相對(duì)于編碼器讀頭en1、en2配置于隔著旋轉(zhuǎn)中心線ax2的相反側(cè)，其設(shè)置方位線le3設(shè)定于中心面p3上。

作為刻度部件的刻度圓盤sd以低熱膨脹的金屬、玻璃、陶瓷等為母材，且為了提高測(cè)量分辨率而以成為盡可能大的直徑(例如直徑20cm以上)的方式制作。在圖5中，刻度圓盤sd的直徑圖示得比第2筒部件22的直徑小，但是，通過(guò)使第2筒部件22的外周面中的、卷繞基板p的外周面的直徑、與刻度圓盤sd的刻度部gp的直徑一致(大致一致)，能夠進(jìn)一步減小所謂的測(cè)量阿貝誤差。

沿刻度部gp的周向刻設(shè)的刻度(格子)的最小間距受到加工刻度圓盤sd的刻度刻線裝置等的性能的限制。因此，若將刻度圓盤sd的直徑形成得較大，則能夠與此相應(yīng)地也提高與最小間距對(duì)應(yīng)的角度測(cè)量分辨率。

使配置有對(duì)刻度部gp進(jìn)行讀取的編碼器讀頭en1、en2的設(shè)置方位線le1、le2的方向，在從旋轉(zhuǎn)中心線ax2觀察時(shí)相對(duì)于基板p而與成像光束el2的主光線入射至基板p的方向相同，由此，例如，即使在因支承旋轉(zhuǎn)軸st的軸承(bearing)的略微反沖(2μm～3μm左右)而導(dǎo)致第2筒部件22沿x方向偏移的情況下，也能夠通過(guò)編碼器讀頭en1、en2高精度地測(cè)量因該偏移而可能在投影區(qū)域pa1～pa6內(nèi)產(chǎn)生的與基板p的傳送方向(xs)相關(guān)的位置誤差。

如圖6所示，在支承于第2筒部件22的曲面上的基板p的一部分上，為了使通過(guò)圖2所示的投影光學(xué)系統(tǒng)pl而被投影的光罩圖案的一部分的像與基板p相對(duì)地進(jìn)行對(duì)位(對(duì)準(zhǔn))，而設(shè)有檢測(cè)預(yù)先形成在基板p上的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記等的對(duì)準(zhǔn)顯微鏡amg1、amg2。對(duì)準(zhǔn)顯微鏡amg1、amg2是用于檢測(cè)離散或者連續(xù)地形成在基板p上的特定圖案的檢測(cè)探針、以及以該檢測(cè)探針的檢測(cè)區(qū)域與上述的特定位置相比設(shè)定于基板p的傳送方向后方側(cè)的方式配置于第2筒部件22的周圍的圖案檢測(cè)裝置。

如圖6所示，對(duì)準(zhǔn)顯微鏡amg1、amg2具有沿y軸方向(基板p的寬度方向)排成一列的多個(gè)(例如4個(gè))檢測(cè)探針。對(duì)準(zhǔn)顯微鏡amg1、amg2能夠通過(guò)第2筒部件22的y軸方向上的兩側(cè)端的檢測(cè)探針始終對(duì)形成在基板p的兩端附近的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記進(jìn)行觀察或者檢測(cè)。而且，對(duì)準(zhǔn)顯微鏡amg1、amg2能夠通過(guò)第2筒部件22的y軸方向(基板p的寬度方向)上的兩側(cè)端以外的檢測(cè)探針，例如對(duì)在形成于余白部等的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記進(jìn)行觀察或者檢測(cè)，其中，余白部位于在基板p上沿長(zhǎng)度方向形成有多個(gè)的顯示面板的圖案形成區(qū)域之間。

如圖6及圖7所示，在設(shè)置方位線le4上配置有編碼器讀頭en4，其中，該設(shè)置方位線le4在xz面內(nèi)且從旋轉(zhuǎn)中心線ax2觀察時(shí)，以與對(duì)準(zhǔn)顯微鏡amg1對(duì)基板p的觀察方向am1(朝向第2中心軸ax2)的檢測(cè)中心成為同一方向的方式沿刻度部gp的徑向設(shè)定。另外，在設(shè)置方位線le5上配置有編碼器讀頭en5，其中，設(shè)置方位線le5在xz面內(nèi)且從旋轉(zhuǎn)中心線ax2觀察時(shí)，以與對(duì)準(zhǔn)顯微鏡amg2對(duì)基板p的觀察方向am2(朝向旋轉(zhuǎn)中心線ax2)的檢測(cè)中心成為同一方向的方式沿刻度部gp的徑向設(shè)定。這樣，對(duì)準(zhǔn)顯微鏡amg1、amg2的檢測(cè)探針在從第2中心軸ax2觀察時(shí)配置于第2筒部件22的周圍，并且以將配置有編碼器讀頭en4、en5的位置和第2中心軸ax2連結(jié)的方向(設(shè)置方位線le4、le5)，與將第2中心軸ax2和對(duì)準(zhǔn)顯微鏡amg1、amg2的檢測(cè)區(qū)域連結(jié)的方向一致的方式配置。此外，對(duì)準(zhǔn)顯微鏡amg1、amg2及編碼器讀頭en4、en5所配置的繞旋轉(zhuǎn)中心線ax2方向上的位置，設(shè)定于基板p開始與第2筒部件22接觸的進(jìn)入位置ia、與基板p離開第2筒部件22的脫離位置oa之間。

上述的對(duì)準(zhǔn)顯微鏡amg2的觀察方向am2配置于基板p的搬送方向的前方側(cè)、即曝光位置(投影區(qū)域)的后方，是在以規(guī)定速度傳送基板p的狀態(tài)下通過(guò)攝像元件等高速地對(duì)形成在基板p的y方向上的端部附近的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記(形成于幾十μm～幾百μm見方內(nèi)的區(qū)域)進(jìn)行圖像檢測(cè)的部件，且在顯微鏡視場(chǎng)(攝像范圍)中高速地對(duì)標(biāo)記的像進(jìn)行采樣。在進(jìn)行該采樣的瞬間，存儲(chǔ)通過(guò)編碼器讀頭en5逐次測(cè)量到的刻度圓盤sd的旋轉(zhuǎn)角度位置，由此求出基板p上的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的標(biāo)記位置與第2筒部件22的旋轉(zhuǎn)角度位置之間的對(duì)應(yīng)關(guān)系。

另一方面，上述的對(duì)準(zhǔn)顯微鏡amg1的觀察方向am1配置于基板p的搬送方向的后方側(cè)、即曝光位置(投影區(qū)域)的前方，與對(duì)準(zhǔn)顯微鏡amg2同樣地通過(guò)攝像元件等高速地對(duì)形成在基板p的y方向上的端部附近的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記(形成于幾十μm～幾百μm見方內(nèi)的區(qū)域)的像進(jìn)行采樣，并在進(jìn)行該采樣的瞬間，存儲(chǔ)通過(guò)編碼器讀頭en4逐次測(cè)量到的刻度圓盤sd的旋轉(zhuǎn)角度位置，由此求出基板p上的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的標(biāo)記位置與第2筒部件22的旋轉(zhuǎn)角度位置之間的對(duì)應(yīng)關(guān)系。

在由對(duì)準(zhǔn)顯微鏡amg2檢測(cè)到由對(duì)準(zhǔn)顯微鏡amg1所檢測(cè)到的標(biāo)記時(shí)，將通過(guò)編碼器讀頭en4測(cè)量并存儲(chǔ)的角度位置和通過(guò)編碼器讀頭en5測(cè)量并存儲(chǔ)的角度位置的差值，與預(yù)先精密地校正過(guò)的兩個(gè)對(duì)準(zhǔn)顯微鏡amg1、amg2的設(shè)置方位線le4、le5所成的開度角進(jìn)行比較。而且，在所述開度角具有誤差的情況下，有可能是基板p在進(jìn)入位置ia與脫離位置oa之間，在第2筒部件22上略微發(fā)生了滑動(dòng)、或者沿傳送方向(周向)或沿與第2中心軸ax2平行的方向(y軸方向)發(fā)生了伸縮。

通常，圖案化時(shí)的位置誤差取決于形成在基板p上的元件圖案的微細(xì)度和/或重合精度，例如，為了相對(duì)于基底的圖案層準(zhǔn)確地重合10μm寬的線條圖案并曝光，僅允許其幾分之一以下的誤差、即換算為基板p上的尺寸時(shí)，僅允許±2μm左右的位置誤差。

為了實(shí)現(xiàn)這樣的高精度的測(cè)量，需要預(yù)先使各對(duì)準(zhǔn)顯微鏡amg1、amg2對(duì)標(biāo)記圖像的測(cè)量方向(xz面內(nèi)的第2筒部件22的外周切線方向)、與各編碼器讀頭en4、en5的測(cè)量方向(xz面內(nèi)的刻度部gp的外周切線方向)在允許角度誤差內(nèi)一致。

如上所述，以與對(duì)準(zhǔn)顯微鏡amg1、amg2對(duì)基板p上的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的測(cè)量方向(第2筒部件22的圓周面的切線方向)一致的方式配置有編碼器讀頭en4、en5。因此，即使在由對(duì)準(zhǔn)顯微鏡amg1、amg2對(duì)基板p(標(biāo)記)進(jìn)行位置檢測(cè)時(shí)(圖像采樣時(shí))第2筒部件22(刻度圓盤sd)在xz面內(nèi)沿與設(shè)置方位線le4或le5正交的周向(切線方向)發(fā)生了偏移的情況下，也能夠?qū)崿F(xiàn)將第2筒部件22的偏移考慮在內(nèi)的高精度的位置測(cè)量。

在從第2中心軸ax2觀察時(shí)，在刻度圓盤sd的刻度部gp的周圍的5處配置有編碼器讀頭en1～en5，因此通過(guò)將其中適當(dāng)?shù)?個(gè)或者3個(gè)編碼器讀頭的測(cè)量值的輸出組合而進(jìn)行運(yùn)算處理，能夠求出刻度圓盤sd的刻度部gp的真圓度(形狀應(yīng)變)、偏心誤差等。

＜溫度調(diào)節(jié)裝置＞

如上所述，基板p有時(shí)因處理裝置u3內(nèi)部的溫度環(huán)境沿搬送方向(周向)或者與第2中心軸ax2平行的方向(y軸方向)，根據(jù)基板p的溫度而伸縮。伸縮取決于基板p的材料物性，包括隨著基板p的溫度增加而產(chǎn)生延伸的材料、和隨著基板p的溫度增加而產(chǎn)生收縮的材料。圖8是用于說(shuō)明第1實(shí)施方式涉及的溫度調(diào)節(jié)裝置的說(shuō)明圖。如圖2所示，溫度調(diào)節(jié)裝置60是對(duì)從第1特定位置px1、特定位置px及第2特定位置px2通過(guò)的基板p的搬送方向上游側(cè)進(jìn)行溫度調(diào)節(jié)的裝置。優(yōu)選處理裝置u3中，第1引導(dǎo)部件31、第2引導(dǎo)部件32所引導(dǎo)的基板p的從溫度調(diào)節(jié)裝置60的溫度調(diào)整結(jié)束至搬送到第2筒部件22的進(jìn)入位置ia為止的長(zhǎng)度盡可能短，但是也可以根據(jù)由溫度調(diào)節(jié)裝置60設(shè)定的溫度與第2筒部件22的溫度之間的差來(lái)決定。例如，由于第2筒部件22通常熱容量大且改變?cè)O(shè)定溫度需要花費(fèi)時(shí)間，因此通過(guò)圖2中的基板支承部件溫度調(diào)節(jié)裝置73始終持續(xù)地調(diào)溫，以使第2筒部件22保持某個(gè)固定的溫度。而且，基于從溫度調(diào)節(jié)裝置60到進(jìn)入位置ia的搬送距離、這之間的搬送空間的溫度、以及基板p的速度，決定由溫度調(diào)節(jié)裝置60設(shè)定的溫度。作為一個(gè)例子，在第2筒部件22的表面溫度為25℃的情況下，溫度調(diào)節(jié)裝置60所設(shè)定的溫度設(shè)定為在基板p移動(dòng)搬送距離量的時(shí)間(秒數(shù))之后，剛好降至25℃。然而，由于通?；錺較薄，會(huì)快速地成為環(huán)境溫度，因此，優(yōu)選的是，從溫度調(diào)節(jié)裝置60到進(jìn)入位置ia的搬送距離盡可能短，且如上述那樣地預(yù)測(cè)并且控制變化溫度。

溫度調(diào)節(jié)裝置60具備引導(dǎo)部件61、介質(zhì)送風(fēng)部件62、送風(fēng)壓力均勻化部件63、介質(zhì)調(diào)節(jié)裝置71、加熱單元hu、和冷卻單元cu。介質(zhì)送風(fēng)部件62經(jīng)由由多孔質(zhì)材料形成的介質(zhì)的送風(fēng)壓力均勻化部件63，將介質(zhì)送風(fēng)至基板p。搬送裝置9使基板p通過(guò)引導(dǎo)部件61與介質(zhì)送風(fēng)部件62之間的空間67。介質(zhì)送風(fēng)部件62將從介質(zhì)調(diào)節(jié)裝置71經(jīng)由介質(zhì)供給配管ap供給來(lái)的介質(zhì)送風(fēng)至引導(dǎo)部件61側(cè)。加熱單元hu是經(jīng)由介質(zhì)供給配管hh將高溫的介質(zhì)供給至介質(zhì)調(diào)節(jié)裝置71的第1介質(zhì)供給部。冷卻單元cu是經(jīng)由介質(zhì)供給配管cc將溫度比加熱單元hu的高溫介質(zhì)低的低溫介質(zhì)供給至介質(zhì)調(diào)節(jié)裝置71的第2介質(zhì)供給部。介質(zhì)調(diào)節(jié)裝置71具備：流量調(diào)整閥72h，其對(duì)從介質(zhì)供給配管hh供給至介質(zhì)供給配管ap的高溫介質(zhì)的流量進(jìn)行調(diào)整；流量調(diào)整閥72c，其對(duì)從介質(zhì)供給配管cc供給至介質(zhì)供給配管ap的低溫介質(zhì)的流量進(jìn)行調(diào)整。流量調(diào)整閥72h及流量調(diào)整閥72c，例如由電磁閥構(gòu)成。介質(zhì)調(diào)節(jié)裝置71根據(jù)控制裝置14的控制信號(hào)的輸出而對(duì)從流量調(diào)整閥72h通過(guò)的高溫介質(zhì)的量以及從流量調(diào)整閥72c通過(guò)的低溫介質(zhì)的量進(jìn)行調(diào)整，由此能夠使供給至介質(zhì)送風(fēng)部件62的高溫介質(zhì)與低溫介質(zhì)的比發(fā)生變化。因此，介質(zhì)調(diào)節(jié)裝置71能夠混合高溫介質(zhì)和低溫介質(zhì)來(lái)作為供給至介質(zhì)送風(fēng)部件62的介質(zhì)，使其流通。溫度調(diào)節(jié)裝置60能夠使任意溫度的介質(zhì)流通至引導(dǎo)部件61的周圍，從而調(diào)節(jié)基板p的溫度。此外，也可以是將與圖8中的送風(fēng)壓力均勻化部件63同等的部件設(shè)置在基板p的相反一側(cè)，經(jīng)由與介質(zhì)供給配管ap同等的部件，將溫度調(diào)節(jié)后的介質(zhì)吹送至基板p的相反一側(cè)的構(gòu)成。

基板支承部件溫度調(diào)節(jié)裝置73是對(duì)作為基板支承部件的第2筒部件22的溫度進(jìn)行調(diào)節(jié)的裝置?；逯С胁考囟日{(diào)節(jié)裝置73具備：流量調(diào)整閥74h，其對(duì)從介質(zhì)供給配管hh供給至介質(zhì)供給配管ad的高溫介質(zhì)的流量進(jìn)行調(diào)整；流量調(diào)整閥74c，其對(duì)從介質(zhì)供給配管cc供給至介質(zhì)供給配管ad的低溫介質(zhì)的流量進(jìn)行調(diào)整。流量調(diào)整閥74h及流量調(diào)整閥74c，例如由電磁閥構(gòu)成?；逯С胁考囟日{(diào)節(jié)裝置73根據(jù)控制裝置14的控制信號(hào)的輸出而對(duì)從流量調(diào)整閥74h通過(guò)的高溫介質(zhì)的量以及從流量調(diào)整閥74c通過(guò)的低溫介質(zhì)的量進(jìn)行調(diào)整，由此能夠使供給至第2筒部件22的高溫介質(zhì)與低溫介質(zhì)的比發(fā)生變化。因此，基板支承部件溫度調(diào)節(jié)裝置73能夠混合高溫介質(zhì)和低溫介質(zhì)來(lái)作為供給至第2筒部件22的內(nèi)部的介質(zhì)，而經(jīng)由介質(zhì)供給配管ad，使其流通至第2筒部件22的內(nèi)部。優(yōu)選的是，基板支承部件溫度調(diào)節(jié)裝置73被控制裝置14控制為使第2筒部件22保持固定的溫度。由此，能夠使傳遞至與第2筒部件22的曲面接觸的基板p的熱容量保持大致固定，并且使在第2筒部件22的曲面產(chǎn)生的基板p的伸縮狀態(tài)穩(wěn)定。

溫度調(diào)節(jié)裝置60及基板支承部件溫度調(diào)節(jié)裝置73是將經(jīng)過(guò)溫度調(diào)整的介質(zhì)供給至基板p或者第2筒部件22的裝置，但介質(zhì)也可以通過(guò)使液體在管線中循環(huán)，而以放射熱來(lái)調(diào)節(jié)基板p或者第2筒部件22的溫度。介質(zhì)調(diào)節(jié)裝置71及基板支承部件溫度調(diào)節(jié)裝置73例如可以將加熱器與散熱片組合而構(gòu)成。

用于檢測(cè)搬送至引導(dǎo)部件61之前的基板p的溫度的溫度測(cè)量裝置t1，能夠?qū)z測(cè)結(jié)果輸出至控制裝置14?？刂蒲b置14能夠基于溫度測(cè)量裝置t1的檢測(cè)結(jié)果，對(duì)溫度調(diào)節(jié)裝置60進(jìn)行前饋控制。另外，用于檢測(cè)從溫度調(diào)節(jié)裝置60(引導(dǎo)部件61)通過(guò)之后的基板p的溫度的溫度測(cè)量裝置t2，能夠?qū)z測(cè)結(jié)果輸出至控制裝置14。能夠基于溫度測(cè)量裝置t2的檢測(cè)結(jié)果，對(duì)溫度調(diào)節(jié)裝置60進(jìn)行反饋控制?？刂蒲b置14通過(guò)對(duì)溫度調(diào)節(jié)裝置60進(jìn)行前饋控制及反饋控制中的至少一種控制，能夠控制從介質(zhì)送風(fēng)部件62送風(fēng)的介質(zhì)的溫度，從而提高施加給基板p的溫度的精度。例如，溫度測(cè)量裝置t1、t2能夠使用用于測(cè)量基板p所放射出的紅外線的能量的非接觸式紅外線溫度計(jì)等。

如圖8所示，使基板p通過(guò)引導(dǎo)部件61與介質(zhì)送風(fēng)部件62之間的空間67的情況下，優(yōu)選的是，在引導(dǎo)部件61具備基板p的支承機(jī)構(gòu)。介質(zhì)送風(fēng)部件62將來(lái)自介質(zhì)供給配管ap的介質(zhì)經(jīng)由開在位于送風(fēng)壓力均勻化部件63的位置的貫通孔ah，送入至送風(fēng)壓力均勻化部件63。送風(fēng)壓力均勻化部件63，例如是多孔質(zhì)材料，因此在基板p側(cè)的相對(duì)面63s，以每單位面積的介質(zhì)壓力均等的方式噴出介質(zhì)。在引導(dǎo)部件61具備用于按壓基板p的y方向(寬度方向)的端部的限制部件64和限制部件65，在搬送基板p時(shí)，限制部件64和限制部件65隔著基板p的寬度方向。限制部件65經(jīng)由軸承be固定于引導(dǎo)部件61的內(nèi)側(cè)面。限制部件64經(jīng)由彈簧ss與音圈馬達(dá)66的磁鐵vcmm連接。根據(jù)流至音圈馬達(dá)66的線圈vcmc的電流，磁鐵vcmm的y方向位置發(fā)生變化，并且音圈馬達(dá)66能夠使基板p的y方向的位置發(fā)生變化。

如圖2所示，在溫度調(diào)節(jié)裝置60的內(nèi)部或者搬送方向的出口側(cè)，設(shè)有對(duì)準(zhǔn)顯微鏡pmg1，其檢測(cè)預(yù)先形成在基板p上的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記等。對(duì)準(zhǔn)顯微鏡pmg1具有沿y方向(基板p的寬度方向)排成一列的多個(gè)(例如4個(gè))檢測(cè)探針。圖9是說(shuō)明對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的一個(gè)例子的說(shuō)明圖。圖2所示的對(duì)準(zhǔn)顯微鏡pmg1能夠通過(guò)引導(dǎo)部件61的y方向上的兩側(cè)端的檢測(cè)探針，始終對(duì)沿搬送方向α形成在圖9所示的基板p的兩端附近的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記ma進(jìn)行觀察或者檢測(cè)。

圖10是對(duì)由基板的伸縮導(dǎo)致的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的變化的一個(gè)例子進(jìn)行示意性說(shuō)明的說(shuō)明圖。圖11是表示對(duì)第1實(shí)施方式涉及的處理裝置(曝光裝置)的處理進(jìn)行修正的步驟的一個(gè)例子的流程圖。如圖10所示，對(duì)準(zhǔn)顯微鏡amg1作為第1檢測(cè)探針，在位于觀察方向(檢測(cè)方向)am1的顯微鏡視場(chǎng)(攝像范圍)mam的范圍內(nèi)檢測(cè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記ma。同樣地，對(duì)準(zhǔn)顯微鏡pmg1作為第2檢測(cè)探針，在位于檢測(cè)方向pm1的顯微鏡視場(chǎng)(攝像范圍)map的范圍內(nèi)檢測(cè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記ma。這樣，對(duì)準(zhǔn)顯微鏡amg1及對(duì)準(zhǔn)顯微鏡pmg1檢測(cè)圖10所示的基板p上的作為特定圖案的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記ma(步驟s11)。對(duì)準(zhǔn)顯微鏡amg1將對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記ma的攝像輸出至控制裝置14，控制裝置14及對(duì)準(zhǔn)顯微鏡amg1作為第1圖案檢測(cè)裝置，將對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記ma作為攝像數(shù)據(jù)存儲(chǔ)于控制裝置14的存儲(chǔ)部。對(duì)準(zhǔn)顯微鏡pmg1將對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記ma的攝像輸出至控制裝置14，控制裝置14及對(duì)準(zhǔn)顯微鏡pmg1作為第2圖案檢測(cè)裝置，將對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記ma作為攝像數(shù)據(jù)存儲(chǔ)于控制裝置14的存儲(chǔ)部。

接下來(lái)，通過(guò)將存儲(chǔ)于存儲(chǔ)部的、顯微鏡視場(chǎng)(攝像范圍)map的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記ma的攝像數(shù)據(jù)與顯微鏡視場(chǎng)(攝像范圍)mam的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記ma的攝像數(shù)據(jù)進(jìn)行比較，在不存在由基板p的伸縮導(dǎo)致的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記ma的攝像數(shù)據(jù)的變化的情況下(步驟s12、否)，控制裝置14執(zhí)行步驟s11的處理。如圖10所示，通過(guò)將存儲(chǔ)于存儲(chǔ)部的、顯微鏡視場(chǎng)(攝像范圍)map的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記ma的攝像數(shù)據(jù)與顯微鏡視場(chǎng)(攝像范圍)mam的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記ma的攝像數(shù)據(jù)進(jìn)行比較，在存在由基板p的伸縮導(dǎo)致的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記ma的攝像數(shù)據(jù)的變化的情況下(步驟s12、是)，控制裝置14使處理進(jìn)入步驟s13。例如，存在由基板p的伸縮導(dǎo)致的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記ma的攝像數(shù)據(jù)的變化的情況是指，圖10所示的、對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記ma的攝像數(shù)據(jù)的變化δm超過(guò)作為偏移調(diào)整裝置的像偏移修正光學(xué)部件45所允許的、能夠在像面內(nèi)使投影像微少地橫向偏移的量的情況。另外，存在由基板p的伸縮導(dǎo)致的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記ma的攝像數(shù)據(jù)的變化的情況是指，對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記ma的攝像數(shù)據(jù)的變化δm超過(guò)作為倍率調(diào)整裝置的倍率修正用光學(xué)部件47所允許的、能夠?qū)ν队跋竦谋堵蔬M(jìn)行微少修正的倍率的情況等。

接下來(lái)，控制裝置14根據(jù)基板p的材料，對(duì)溫度調(diào)節(jié)裝置60的介質(zhì)調(diào)節(jié)裝置71進(jìn)行控制，且進(jìn)行基板p的溫度調(diào)整，以使基板p的寬度方向上的目標(biāo)寬度成為例如圖10所示的目標(biāo)寬度pp(步驟s13)?？刂蒲b置14基于溫度測(cè)量裝置t1、t2的檢測(cè)結(jié)果，在未達(dá)到特定的基板溫度的情況下(步驟s14、否)，繼續(xù)基板p的溫度調(diào)整(步驟s13)?？刂蒲b置14基于溫度測(cè)量裝置t1、t2的檢測(cè)結(jié)果，在達(dá)到特定的基板溫度的情況下(步驟s14、是)，使處理進(jìn)入步驟s15。

接下來(lái)，曝光裝置ex，根據(jù)上述的像偏移調(diào)整裝置重新通過(guò)上述第1圖案檢測(cè)裝置及上述第2圖案檢測(cè)裝置的輸出而求出的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記ma(特定圖案)的變化δm，進(jìn)行使投影像的位置偏移的投影像的修正(步驟s15)。另外，曝光裝置ex也可以根據(jù)上述的倍率調(diào)整裝置重新通過(guò)上述第1圖案檢測(cè)裝置及上述第2圖案檢測(cè)裝置的輸出而求出的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記ma(特定圖案)的變化δm，進(jìn)行使投影像的倍率修正的投影像的修正?；蛘?，曝光裝置ex還可以根據(jù)上述倍率調(diào)整裝置及像偏移調(diào)整裝置重新通過(guò)上述第1圖案檢測(cè)裝置及上述第2圖案檢測(cè)裝置的輸出而求出的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記ma(特定圖案)的變化δm，進(jìn)行使投影像偏移以及倍率修正的投攝像的修正。

如以上說(shuō)明那樣，通過(guò)溫度調(diào)節(jié)裝置60調(diào)整卷繞于第2筒部件22之前的基板p的一部分的溫度，處理裝置u3能夠使位于上述第1特定位置px1、特定位置px或者第2特定位置px2的基板p的伸縮狀態(tài)穩(wěn)定。因此，曝光裝置ex在第1特定位置px1、特定位置px或者第2特定位置px2，能夠精密地進(jìn)行照射曝光用光的處理。

通過(guò)溫度調(diào)節(jié)裝置60調(diào)整卷繞于第2筒部件22之前的基板p的一部分的溫度，能夠?qū)⒒錺的伸縮控制在倍率調(diào)整裝置及像偏移調(diào)整裝置能夠修正投影像的范圍內(nèi)。因此，曝光裝置ex在第1特定位置px1、特定位置px或者第2特定位置px2，能夠精密地進(jìn)行照射曝光用光的處理。

此外在本實(shí)施方式中，設(shè)有控制第2筒部件22的外周面(支承面)的溫度的基板支承部件溫度調(diào)節(jié)裝置73、和設(shè)在第2筒部件22的上游側(cè)的溫度調(diào)節(jié)裝置60，在基板p的搬送方向上，能夠在對(duì)準(zhǔn)位置和/或曝光位置的特定位置與其上游側(cè)的位置之間，進(jìn)行使基板p具有固定的溫度差的溫度控制。由此，也能夠調(diào)整基板p被支承于第2筒部件22的時(shí)間點(diǎn)的基板p的伸縮量。在該情況下，如果將由溫度調(diào)節(jié)裝置60設(shè)定的基板p的溫度設(shè)為tu，將經(jīng)由第2筒部件22由基板支承部件溫度調(diào)節(jié)裝置73設(shè)定的基板p的溫度設(shè)為td，則設(shè)定為tu＞td或者tu＜td，以該差大致固定的方式進(jìn)行溫度控制。

(第2實(shí)施方式)

接下來(lái)，參照?qǐng)D12來(lái)說(shuō)明本發(fā)明涉及的處理裝置的第2實(shí)施方式。圖12是表示第2實(shí)施方式涉及的處理裝置(曝光裝置)的整體構(gòu)成的示意圖。在該圖中，對(duì)與第1實(shí)施方式的構(gòu)成要素相同的要素標(biāo)注相同附圖標(biāo)記，并省略其說(shuō)明。

如圖12所示，溫度調(diào)節(jié)裝置60a具備：引導(dǎo)部件32a，該引導(dǎo)部件32a具有從與第2中心軸ax2平行的平行基準(zhǔn)軸bx1以固定半徑r3彎曲而成的曲面(第2曲面)61s，且使基板p的一部分與曲面61s接觸；和使溫度調(diào)節(jié)后的介質(zhì)流通至引導(dǎo)部件32a的周圍的空間67的介質(zhì)調(diào)節(jié)裝置71。搬送裝置9使基板p通過(guò)引導(dǎo)部件32a與介質(zhì)送風(fēng)部件62a之間的空間67。介質(zhì)送風(fēng)部件62a將從介質(zhì)調(diào)節(jié)裝置71經(jīng)由介質(zhì)供給配管ap供給來(lái)的介質(zhì)送風(fēng)至引導(dǎo)部件32a側(cè)。引導(dǎo)部件32a由于從平行基準(zhǔn)軸bx1觀察時(shí)沿曲面61s彎曲，因此能夠抑制空間67的紊流。

溫度調(diào)節(jié)裝置60a通過(guò)使溫度調(diào)節(jié)后的介質(zhì)流通至引導(dǎo)部件32a的周圍的空間67，將介質(zhì)的溫度傳遞至基板p。引導(dǎo)部件32a由于形成為使基板p的一部分與曲面61s接觸，因此能夠從引導(dǎo)部件32a直接向第2筒部件22供給基板p，且縮短從引導(dǎo)部件32a到第2筒部件22之間的距離。因此，處理裝置u3能夠抑制由溫度調(diào)節(jié)裝置60a的溫度調(diào)整所調(diào)整后的、基板p的伸縮狀態(tài)在從溫度調(diào)節(jié)裝置60a到第2筒部件22之間產(chǎn)生變化。

更優(yōu)選的是，上述引導(dǎo)部件32a的曲面61s的半徑r3與第2筒部件22的半徑r2相同。通過(guò)該結(jié)構(gòu)，能夠使作用于卷繞于第2筒部件22的基板p的張力與作用于卷繞于引導(dǎo)部件32a的基板p的張力相同。其結(jié)果為，能夠從對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的變化抑制張力的差造成的誤差，檢測(cè)因溫度導(dǎo)致的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的變化。

(第3實(shí)施方式)

接下來(lái)，參照?qǐng)D13來(lái)說(shuō)明本發(fā)明涉及的處理裝置的第3實(shí)施方式。圖13是表示第3實(shí)施方式涉及的處理裝置(曝光裝置)的整體構(gòu)成的示意圖。在該圖中，對(duì)與第1實(shí)施方式及第2實(shí)施方式的構(gòu)成要素相同的要素標(biāo)注相同附圖標(biāo)記，并省略其說(shuō)明。

如圖13所示，第3實(shí)施方式涉及的處理裝置u3是將介質(zhì)調(diào)節(jié)裝置71作為調(diào)節(jié)引導(dǎo)部件32a的引導(dǎo)部件溫度調(diào)節(jié)裝置。介質(zhì)調(diào)節(jié)裝置71能夠混合高溫介質(zhì)和低溫介質(zhì)來(lái)作為供給至引導(dǎo)部件32a的內(nèi)部的介質(zhì)，使其流通。介質(zhì)調(diào)節(jié)裝置71被控制裝置14控制并調(diào)整引導(dǎo)部件32a的溫度，且將引導(dǎo)部件32a的溫度傳遞至與引導(dǎo)部件32a接觸的基板p。由此，傳遞至與引導(dǎo)部件32a的曲面61s接觸的基板p的熱容量保持為大致固定。

更優(yōu)選的是，上述引導(dǎo)部件32a的曲面61s的半徑r3與第2筒部件22的半徑r2相同。通過(guò)該結(jié)構(gòu)，能夠使作用于卷繞于第2筒部件22的基板p的張力與作用于卷繞于引導(dǎo)部件32a的基板p的張力相同。例如，通過(guò)使介質(zhì)調(diào)節(jié)裝置71所施加的傳遞至與引導(dǎo)部件32a的曲面61s接觸的基板p的熱容量、與傳遞至與第2筒部件22的曲面接觸的基板p的熱容量一致，能夠提高從對(duì)準(zhǔn)顯微鏡pmg1所檢測(cè)的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記在對(duì)準(zhǔn)顯微鏡amg1中的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的變化的預(yù)測(cè)精度。

(第4實(shí)施方式)

接下來(lái)，參照?qǐng)D14來(lái)說(shuō)明本發(fā)明涉及的處理裝置的第4實(shí)施方式。圖14是表示第4實(shí)施方式涉及的處理裝置(曝光裝置)的整體構(gòu)成的示意圖。在該圖中，對(duì)與從第1實(shí)施方式至第3實(shí)施方式的構(gòu)成要素相同的要素標(biāo)注相同附圖標(biāo)記，并省略其說(shuō)明。曝光裝置ex2將從光源對(duì)圓筒光罩dm照明的照明光束el1射出。

將從光源射出的照明光束el1引導(dǎo)至照明組件il，在設(shè)有多個(gè)照明光學(xué)系統(tǒng)的情況下，將來(lái)自光源的照明光束el1分離為多個(gè)，并將多個(gè)照明光束el1引導(dǎo)至多個(gè)照明組件il。

在此，從光源射出的照明光束el1入射至偏振光分光鏡sp1、sp2。在偏振光分光鏡sp1、sp2中，為了抑制因照明光束el1的分離而產(chǎn)生的能量損失，優(yōu)選采用使入射的照明光束el1全部反射那樣的光束。在此，偏振光分光鏡sp1、sp2將成為s偏振光的直線偏振光的光束反射，并使成為p偏振光的直線偏振光的光束透過(guò)。因此，光源使入射至偏振光分光鏡sp1、sp2的照明光束el1成為直線偏振光(s偏振光)的光束的照明光束el1射出至第1筒部件21。由此，光源射出波長(zhǎng)及相位一致的照明光束el1。

偏振光分光鏡sp1、sp2將來(lái)自光源的照明光束el1反射，另一方面，使由圓筒光罩dm反射的成像光束(投影光束)el2透過(guò)。換言之，來(lái)自照明光學(xué)組件的照明光束el1作為反射光束而入射至偏振光分光鏡sp1、sp2，來(lái)自圓筒光罩dm的成像光束el2作為透過(guò)光束而入射至偏振光分光鏡sp1、sp2。

這樣，作為處理部的照明組件il進(jìn)行使照明光束el1反射至作為被處理物體的圓筒光罩dm上的規(guī)定圖案(光罩圖案)的處理。由此，投影光學(xué)系統(tǒng)pl能夠?qū)A筒光罩dm上的照明區(qū)域ir中的圖案的像投影至由搬送裝置9搬送的基板p的一部分(投影區(qū)域pa)上。曝光裝置ex2通過(guò)由圓筒光罩dm發(fā)射的投影光束，能夠進(jìn)行對(duì)第1特定位置px1、第2特定位置px2中的基板p照射曝光用光的處理。

(第5實(shí)施方式)

接下來(lái)，參照?qǐng)D15來(lái)說(shuō)明本發(fā)明涉及的處理裝置的第5實(shí)施方式。圖15是表示第5實(shí)施方式涉及的處理裝置(曝光裝置)的整體構(gòu)成的示意圖。在該圖中，對(duì)與從第1實(shí)施方式至第4實(shí)施方式的構(gòu)成要素相同的要素標(biāo)注相同附圖標(biāo)記，并省略其說(shuō)明。曝光裝置ex3具備多個(gè)多邊形掃描單元po1、po2，各多邊形掃描單元po一邊在基板p上沿與作為軸的旋轉(zhuǎn)中心ax2平行的方向用來(lái)自紫外線激光光源的光束點(diǎn)進(jìn)行高速掃描，一邊通過(guò)未圖示的aom(acousto-opticmodulator：聲光調(diào)制元件)等基于圖案描繪數(shù)據(jù)(cad數(shù)據(jù))對(duì)光束進(jìn)行調(diào)制(on/off)，由此在基板p上描繪圖案。

曝光裝置ex3是即使沒(méi)有圓筒光罩dm也能對(duì)第1特定位置px1、第2特定位置px2上的基板p照射曝光用光(激光點(diǎn))，而形成規(guī)定的圖案的無(wú)光罩曝光裝置，除點(diǎn)掃描以外，也可以是使用dmd(digitalmicromirrordevice)或slm(spatiallightmodulator：空間光調(diào)制器)來(lái)進(jìn)行描繪圖案的方式。

(第6實(shí)施方式)

接下來(lái)，參照?qǐng)D16來(lái)說(shuō)明本發(fā)明涉及的處理裝置的第6實(shí)施方式。圖16是表示第6實(shí)施方式涉及的處理裝置(曝光裝置)的整體構(gòu)成的示意圖。在該圖中，對(duì)與第1實(shí)施方式的構(gòu)成要素相同的要素標(biāo)注相同附圖標(biāo)記，并省略其說(shuō)明。

曝光裝置ex4是對(duì)基板p實(shí)施所謂靠近式曝光的處理裝置。曝光裝置ex4將圓筒光罩dm與第2筒部件22的間隙設(shè)定為微小，照明機(jī)構(gòu)iu直接對(duì)基板p照射照明光束el，進(jìn)行非接觸曝光。在本實(shí)施方式中，第2筒部件22通過(guò)從包含電動(dòng)馬達(dá)等致動(dòng)器的第2驅(qū)動(dòng)部36供給的轉(zhuǎn)矩而旋轉(zhuǎn)。例如由磁齒輪連結(jié)的驅(qū)動(dòng)輥mgg以與第2驅(qū)動(dòng)部36的旋轉(zhuǎn)方向成為反向旋轉(zhuǎn)的方式驅(qū)動(dòng)第1筒部件21。第2驅(qū)動(dòng)部36使第2筒部件22旋轉(zhuǎn)，并且使驅(qū)動(dòng)輥mgg和第1筒部件21聯(lián)動(dòng)地旋轉(zhuǎn)，從而使第1筒部件21(圓筒光罩dm)和第2筒部件22同步移動(dòng)(同步旋轉(zhuǎn))。

另外，曝光裝置ex4具備編碼器讀頭en6，該編碼器讀頭en6對(duì)基板p檢測(cè)照明光束(成像光束)el的主光線入射至基板p的特定位置的刻度部gp的位置px6。在此，由于使第2筒部件22的外周面中的卷繞基板p的外周面的直徑、與刻度圓盤sd的刻度部gp的直徑一致，因此位置px6在從第2中心軸ax2觀察時(shí)與上述的特定位置一致。而且，編碼器讀頭en7設(shè)定于設(shè)置方位線le7上，該設(shè)置方位線le7是使編碼器讀頭en6的設(shè)置方位線le6朝向基板p的傳送方向的后方側(cè)繞旋轉(zhuǎn)中心線ax2的軸旋轉(zhuǎn)大致90°而得到的。

本實(shí)施方式的曝光裝置ex4能夠?qū)嵤┤缦绿幚恚簩⒕幋a器讀頭en7設(shè)為第1讀取裝置，將編碼器讀頭en6設(shè)為第2讀取裝置，利用第1讀取裝置的讀取輸出，對(duì)根據(jù)刻度部gp的讀取輸出求出的、將第2筒部件22的軸的位置與特定位置連結(jié)且與軸正交的方向的位移的成分進(jìn)行修正。

以上說(shuō)明的第1實(shí)施方式至第6實(shí)施方式例示了曝光裝置來(lái)作為處理裝置。作為處理裝置，不限于曝光裝置，也可以是處理部利用噴墨式的油墨滴下裝置在作為被處理物體的基板p上印刷圖案的裝置。或者處理部也可以是檢查裝置。

＜元件制造方法＞

接下來(lái)，參照?qǐng)D17來(lái)說(shuō)明元件制造方法。圖17是表示使用有第1實(shí)施方式涉及的處理裝置(曝光裝置)的元件制造方法的流程圖。

在圖17所示的元件制造方法中，首先，進(jìn)行例如基于有機(jī)el等自發(fā)光元件的顯示面板的功能和性能設(shè)計(jì)，通過(guò)cad等設(shè)計(jì)所需的電路圖案和/或布線圖案(步驟s201)。然后，基于通過(guò)cad等而設(shè)計(jì)的各種圖層中的每一種圖層的圖案，來(lái)制作所需的圖層量的圓筒光罩dm(步驟s202)。另外，準(zhǔn)備卷繞有成為顯示面板的基材的具有撓性的基板p(樹脂薄膜、金屬箔膜、塑料等)的供給用輥fr1(步驟s203)。此外，在該步驟s203中準(zhǔn)備的輥狀的基板p根據(jù)需要可以是，對(duì)其表面進(jìn)行了改性的基板、事先形成有基底層(例如基于壓印方式的微小凹凸)的基板、預(yù)先層壓有光感應(yīng)性的功能膜和/或透明膜(絕緣材料)的基板。

然后，在基板p上形成由構(gòu)成顯示面板元件的電極和布線、絕緣膜、tft(薄膜半導(dǎo)體)等構(gòu)成的底平面層，并且以層疊于該底平面的方式形成基于有機(jī)el等自發(fā)光元件的發(fā)光層(顯示像素部)(步驟s204)。在該步驟s204中，也包含使用之前的各實(shí)施方式中說(shuō)明的曝光裝置ex、ex2、ex3、ex4對(duì)光致抗蝕劑層進(jìn)行曝光的以往的光刻工序，也包含基于以下工序的處理：對(duì)代替光致抗蝕劑而涂敷有感光性硅烷耦合材料的基板p進(jìn)行圖案曝光而在表面形成親水性和防水性的圖案的曝光工序；對(duì)光感應(yīng)性的催化劑層進(jìn)行圖案曝光并通過(guò)無(wú)電解電鍍法形成金屬膜的圖案(布線、電極等)的濕式工序；或者利用含有銀納米粒子的導(dǎo)電性油墨等描繪圖案的印刷工序等。

然后，按通過(guò)輥方式在長(zhǎng)條的基板p上連續(xù)地制造的每一顯示面板元件來(lái)切割基板p、在各顯示面板元件的表面上粘貼保護(hù)薄膜(環(huán)境應(yīng)對(duì)阻擋層)和彩色濾光片等，從而組裝元件(步驟s205)。然后，進(jìn)行檢查工序，檢查顯示面板元件是否正常地發(fā)揮功能、是否滿足所期望的性能和特性(步驟s206)。通過(guò)以上所述，能夠制造顯示面板(柔性顯示器)。

附圖標(biāo)記說(shuō)明

1元件制造系統(tǒng)

2基板供給裝置

3基板回收裝置

5上位控制裝置

9搬送裝置

12光罩保持裝置

13光源裝置

14控制裝置

22第2筒部件

dr1dr8驅(qū)動(dòng)輥

31第1引導(dǎo)部件

32第2引導(dǎo)部件

33第3引導(dǎo)部件

35第2檢測(cè)器

44聚焦修正光學(xué)部件

45像偏移修正光學(xué)部件

46旋轉(zhuǎn)修正機(jī)構(gòu)

47倍率修正用光學(xué)部件

60、60a溫度調(diào)節(jié)裝置

61、32a引導(dǎo)部件

61s曲面

62、62a介質(zhì)送風(fēng)部件

63送風(fēng)壓力均勻化部件

64、65限制部件

66音圈馬達(dá)

67空間

71介質(zhì)調(diào)節(jié)裝置

72h、72c、74h、74c流量調(diào)整閥

73基板支承部件溫度調(diào)節(jié)裝置

cc介質(zhì)供給配管

cu冷卻單元

hh介質(zhì)供給配管

hu加熱單元

amg1、amg2、pmg1對(duì)準(zhǔn)顯微鏡

dm圓筒光罩

en1、en2、en3、en4、en5編碼器讀頭

ex、ex2、ex3、ex4曝光裝置(基板處理裝置)

po1、po2多邊形掃描單元