本發(fā)明實施例涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種顯示基板及制作方法、液晶顯示面板和液晶顯示裝置。

背景技術(shù)：

平板顯示器由于輕薄和低能耗的優(yōu)點，被廣泛運用于便攜式顯示。在各種平板顯示器中，液晶顯示器件由于其高清晰度和畫面品質(zhì)的優(yōu)勢，已經(jīng)被大量使用于電腦顯示器、筆記本電腦和電視方面。因此，改善液晶顯示器件的畫面品質(zhì)和提高其使用壽命已受到廣大科研工作者及工業(yè)界的青睞。

傳統(tǒng)液晶顯示器件可以由兩個相對設(shè)置的基板組成，在基板上形成諸如像素電極以及公共電極的場發(fā)生電極?？梢詫⒁壕咏槿雰蓚€基板之間，兩個基板中的任意一個基板上設(shè)置色阻層。一般情況下，按照液晶顯示器件上某一區(qū)域能否顯示圖像，將其所對應的基板的區(qū)域分為顯示區(qū)和非顯示區(qū)。一般情況下，色阻層僅設(shè)置在基板的顯示區(qū)，而在非顯示區(qū)內(nèi)不設(shè)置色阻層，這樣就容易在色阻層邊緣處，即顯示區(qū)與非顯示區(qū)的交界處出現(xiàn)鬼點(Ghost mura)，導致顯示不良，嚴重影響液晶顯示器件的畫面品質(zhì)和良品率。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

為解決上述問題，發(fā)明人發(fā)現(xiàn)，非顯示區(qū)不具有色阻層而在顯示區(qū)具有色阻層的設(shè)計導致了，在顯示區(qū)和非顯示區(qū)的交界處出現(xiàn)一個臺階。在摩擦配向時，在顯示區(qū)和非顯示區(qū)的交界處的臺階極易產(chǎn)生配向膜碎屑的堆積，從而產(chǎn)生周邊鬼點(Ghost mura)，導致顯示不良。有鑒于此，本發(fā)明實施例提供了一種顯示基板及制作方法、液晶顯示面板和液晶顯示裝置，以實現(xiàn)避免顯示不良的現(xiàn)象，提高畫面品質(zhì)和良品率。

第一方面，本發(fā)明實施例提供了一種顯示基板，包括：

顯示區(qū)和圍繞所述顯示區(qū)的非顯示區(qū)；襯底；色阻層，所述色阻層設(shè)置在所述顯示區(qū)；

位于所述色阻層上方的平坦化層，所述平坦化層延伸至所述非顯示區(qū)，其中，位于所述非顯示區(qū)的所述平坦化層包括第一部分和第二部分，所述平坦化層的第一部分距離所述顯示區(qū)的距離大于所述平坦化層的第二部分距離所述顯示區(qū)的距離，所述平坦化層的第一部分的厚度小于所述平坦化層的第二部分的厚度；

位于所述平坦化層上方的配向膜。

第二方面，本發(fā)明實施例還提供了一種液晶顯示面板，包括：

第一基板和與所述第一基板相對設(shè)置的第二基板，所述第一基板和所述第二基板之間設(shè)置有液晶層，所述第一基板或所述第二基板為上述第一方面中的任一基板。

第三方面，本發(fā)明實施例還提供了一種液晶顯示裝置，包括上述第二方面的液晶顯示面板。

第四方面，本發(fā)明實施例提供了一種顯示基板的制作方法，包括：

提供襯底；

在所述襯底上方形成色阻層，所述色阻層設(shè)置在顯示區(qū)；

形成平坦化層，所述平坦化層位于所述色阻層上方，且延伸至非顯示區(qū)，其中，位于所述非顯示區(qū)的所述平坦化層包括第一部分和第二部分，所述平坦化層的第一部分距離所述顯示區(qū)的距離大于所述平坦化層的第二部分距離所述顯示區(qū)的距離，所述平坦化層的第一部分的厚度小于位于所述平坦化層的第二部分的厚度；

在所述平坦化層上方形成配向膜。

本發(fā)明通過設(shè)置平坦化層遠離顯示區(qū)的第一部分的厚度小于在平坦化層接近顯示區(qū)的第二部分的厚度，使得可以配向膜上對應第一部分和第二部分的交界處形成有第一臺階，該第一臺階處可以起到堆積配向膜碎屑的效果，相比于現(xiàn)有技術(shù)配向膜碎屑全部堆積在配向膜上對應平坦化層的顯示區(qū)和非顯示區(qū)的交界處形成臺階上，可以減少或避免配向膜碎屑在顯示區(qū)和非顯示區(qū)的交界處的堆積，進而提高液晶顯示器件的畫面品質(zhì)和良品率。

附圖說明

圖1a是本發(fā)明實施例提供的一種顯示基板的剖面結(jié)構(gòu)示意圖；

圖1b是本發(fā)明實施例提供的另一種顯示基板的剖面結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是本發(fā)明實施例提供的又一種顯示基板的剖面結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3是本發(fā)明實施例提供的又一種顯示基板的剖面結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4是本發(fā)明實施例提供的一種液晶顯示面板的剖面結(jié)構(gòu)示意圖；

圖5是是本發(fā)明實施例提供的一種顯示基板的制備方法的流程圖；

圖6是是本發(fā)明實施例提供的又一種顯示基板的制備方法的流程圖；

圖7是是本發(fā)明實施例提供的又一種顯示基板的制備方法的流程圖；

圖8a-圖8c為圖5中各步驟對應的剖面結(jié)構(gòu)示意圖；

圖9a-圖9e為圖6中各步驟對應的剖面結(jié)構(gòu)示意圖；

圖10a-圖10e為圖7中各步驟對應的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實施方式

下面結(jié)合附圖和實施例對本發(fā)明作進一步的詳細說明?？梢岳斫獾氖牵颂幩枋龅木唧w實施例僅僅用于解釋本發(fā)明，而非對本發(fā)明的限定。另外還需要說明的是，為了便于描述，附圖中僅示出了與本發(fā)明相關(guān)的部分而非全部結(jié)構(gòu)。

本發(fā)明實施例提供了一種顯示基板，包括：襯底；色阻層，色阻層設(shè)置在顯示區(qū)；位于色阻層上方的平坦化層，平坦化層延伸至非顯示區(qū)，其中，位于非顯示區(qū)的平坦化層包括第一部分和第二部分，平坦化層的第一部分距離顯示區(qū)的距離大于平坦化層的第二部分距離顯示區(qū)的距離，平坦化層的第一部分的厚度小于位于平坦化層的第二部分的厚度。另外，還包括位于平坦化層上方的配向膜，該配向膜上對應第一部分與第二部分的交界處形成有第一臺階。

本發(fā)明實施例中，顯示基板的色阻層一般通過光刻工藝結(jié)合蒸鍍工藝形式，另外，可以通過使用半色調(diào)掩膜在色阻層上方和非顯示區(qū)形成平坦化層，以使平坦化層的第一部分的厚度小于位于平坦化層的第二部分的厚度。

本發(fā)明中，通過設(shè)置平坦化層的第一部分的厚度小于位于平坦化層的第二部分的厚度，因此，可以在第一部分和第二部分的交界處具有一定的厚度差，相應的，設(shè)置在平坦化層上方的配向膜在第一部分和第二部分的交界處形成第一臺階。配向膜在摩擦工藝制程中會產(chǎn)生碎屑，該第一臺階可以起到堆積配向膜碎屑的效果。

另外，本發(fā)明實施例中，還可以通過設(shè)置平坦化層的第二部分的厚度大于色阻層上方平坦化層的厚度，并且在第二部分和顯示區(qū)的交界處具有一定的厚度差，相對于現(xiàn)有技術(shù)中平坦化層的第二部分的厚度等于色阻層上方平坦化層的厚度，盡量消除由于設(shè)置色阻層帶來的平坦化層在顯示區(qū)和非顯示區(qū)交界處的高度差，根據(jù)上述平坦化層的第二部分的厚度設(shè)置情況，其中高度可能仍低于顯示區(qū)的平坦化層的高度，此時的配向膜對應平坦化層的第二部分和顯示區(qū)的交界處形成第二臺階。配向膜碎屑在摩擦工藝制程中產(chǎn)生的碎屑大部分堆積在第一臺階，該第二臺階會進一步堆積少量配向膜碎屑，因此，相對于現(xiàn)有技術(shù)中配向膜碎屑全部堆積在第二臺階處，可以減少在顯示區(qū)和非顯示區(qū)交界處的堆積。另外，可以進一步的通過控制平坦化層的第二部分的厚度，以使得平坦化層的第二部分的高度與顯示區(qū)的平坦化的高度相同，形成一個平面結(jié)構(gòu)，則不會在顯示區(qū)和非顯示區(qū)的交界處堆積配向膜碎屑，上述兩種情況都能夠提高液晶顯示器件的畫面品質(zhì)和良品率。

以上是本發(fā)明的基本方案，下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述?；诒景l(fā)明中的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下，所獲得的所有其他實施例，都屬于本發(fā)明保護的范圍。

圖1a是本發(fā)明實施例提供的一種顯示基板的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。顯示基板包括襯底1、色阻層2、平坦化層3和配向膜4，其中色阻層2設(shè)置在顯示區(qū)；平坦化層3位于色阻層2的上方，平坦化層3延伸至非顯示區(qū)，其中，位于非顯示區(qū)B的平坦化層3包括第一部分31和第二部分32，平坦化層3的第一部分31距離顯示區(qū)A的距離大于平坦化層3的第二部分32距離顯示區(qū)A的距離，平坦化層3的第一部分31的厚度h1小于位于平坦化層3的第二部分32的厚度h2；配向膜4位于平坦化層3的上方。

在上述實施例的基礎(chǔ)上，可選的，配向膜4上對應第一部分31與第二部分32的交界處形成有第一臺階5。具體的，上述第一臺階5設(shè)置在顯示基板的非顯示區(qū)B，通過將在摩擦配向時產(chǎn)生的配向膜碎屑堆積在第一臺階5處，可以減少或避免在顯示區(qū)A和非顯示區(qū)B的交界處堆積配向膜碎屑，從而避免周邊Ghost mura的出現(xiàn)，更進一步防止配向膜碎屑滑到顯示區(qū)A，形成對顯示區(qū)A的保護，到達改善液晶顯示器件的畫面品質(zhì)和良品率的效果。

可選的，位于色阻層2上方的平坦化層3的厚度h3小于第二部分32的厚度h2。色阻層2上方的平坦化層3位于顯示基板的顯示區(qū)A，而平坦化層3的第二部分32位于顯示基板的非顯示區(qū)B，通過設(shè)置位于顯示區(qū)A的平坦化層3的厚度h3小于非顯示區(qū)B平坦化層3第二部分32的厚度h2，相對于現(xiàn)有技術(shù)，可以減少位于顯示區(qū)A和非顯示區(qū)B的配向膜的高度差，這樣設(shè)置，能夠盡量減少或避免在顯示區(qū)A和非顯示區(qū)B的交界處堆積配向膜碎屑，進而提高液晶顯示器件的畫面品質(zhì)和良品率。

可選的，第二部分32的厚度h2至少比位于色阻層2上方的平坦化層3的厚度h3大0.5μm，通過提高第二部分的厚度以使其上部的高度盡量接近色阻層2上方的平坦化層的高度，以縮小二者之間的高度差，可以避免在顯示區(qū)和非顯示區(qū)交界處過多的堆積配向膜碎屑。

可選的，第二部分32的厚度h2比位于色阻層2上方的平坦化層3的厚度h3大1.5μm～2μm?？紤]到目前一般色阻層2的厚度一般為1.5μm～2μm，因此可以將第二部分32的厚度h2比位于色阻層2上方的平坦化層3的厚度h3大1.5μm～2μm，可以盡量減少在配向膜4在顯示區(qū)A和非顯示區(qū)B交界處形成的高度差，減少或避免堆積配向膜碎屑。

可選的，參照上述實施例中描述的，根據(jù)對平坦化層的第二部分32的厚度h2設(shè)置，可以使得在位于色阻層2上方的平坦化層3與第二部分32的交界處，即在顯示區(qū)A和非顯示區(qū)B的交界處，配向膜4可以為平面結(jié)構(gòu)，也可以具有一定的高度差，形成第二臺階6，該第二臺階6的高度差相對于現(xiàn)有技術(shù)中在顯示區(qū)A和非顯示區(qū)B的交界處形成的臺階高度差降低，使得可以少堆積配向膜碎屑，在上述兩種情況下，都能夠提高液晶顯示器件的畫面品質(zhì)和良品率。其中圖1a示出了具有第二臺階6的實施例，對于配向膜在顯示區(qū)A和非顯示區(qū)B的交界處為平面結(jié)構(gòu)的實施例，可以參見圖1b所示。

在上述圖1a和圖1b所示的實施例中，其中的第一臺階5為弧形臺階，另外，還可以設(shè)置為直角臺階或斜線臺階，以及其中的第二臺階6為弧形臺階，另外，還可以設(shè)置為直角臺階或斜線臺階。本發(fā)明實施過程中對于第一臺階和第二臺階的具體形狀可以根據(jù)實際工藝情況進行選擇，對此不做限定。

本發(fā)明上述實施例中，其中在顯示基板上設(shè)置有色阻層，具體的應用到液晶顯示技術(shù)領(lǐng)域時，該顯示基板可以是彩膜基板。另外，還可以是集成有色阻層的陣列基板，陣列基板上通常還會設(shè)置有薄膜晶體管陣列、像素電極、公共電極等，以下兩個實施例分別以顯示基板為陣列基板為例，對設(shè)置有色阻層的陣列基板的結(jié)構(gòu)進行說明。

圖2是本發(fā)明實施例提供的又一種顯示基板的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。顯示基板包括襯底1、色阻層2、平坦化層3和配向膜4，色阻層2設(shè)置在顯示區(qū)A，平坦化層3位于色阻層2的上方，平坦化層3延伸至非顯示區(qū)B，其中，位于非顯示區(qū)B的平坦化層3包括第一部分31和第二部分32，平坦化層3的第一部分31距離顯示區(qū)A的距離大于平坦化層3的第二部分32距離顯示區(qū)A的距離，平坦化層3的第一部分31的厚度小于位于平坦化層3的第二部分32的厚度，配向膜4位于平坦化層3的上方。

另外，本發(fā)明實施例中的顯示基板還包括薄膜晶體管陣列7，像素電極和公共電極，本實施中像素電極和公共電極設(shè)置在膜層8，在膜層8中的像素電極和公共電極的位置關(guān)系本實施例不做限制，可以為同層設(shè)置，也可以為異層設(shè)置，而色阻層2形成在像素電極和公共電極所在膜層8的上方，進一步的，平坦化層3和配向膜4設(shè)置在色阻層2的上方。

圖3是本發(fā)明實施例提供的又一種顯示基板的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。顯示基板包括襯底1、色阻層2、平坦化層3和配向膜4，色阻層2設(shè)置在顯示區(qū)A，平坦化層3位于色阻層2的上方，平坦化層3延伸至非顯示區(qū)B，其中，位于非顯示區(qū)B的平坦化層3包括第一部分31和第二部分32，平坦化層3的第一部分31距離顯示區(qū)A的距離大于平坦化層3的第二部分32距離顯示區(qū)A的距離，平坦化層3的第一部分31的厚度小于位于平坦化層3的第二部分32的厚度，配向膜4位于平坦化層3的上方。

另外，本實施例中的顯示基板還包括薄膜晶體管陣列7，像素電極和公共電極，本實施中像素電極和公共電極設(shè)置在膜層8，在膜層8中的像素電極和公共電極的位置關(guān)系本實施例不做限制，可以為同層設(shè)置，也可以為異層設(shè)置，而像素電極和公共電極均形成在色阻層2上方，具體的，可以是像素電極和公共電極所在膜層8設(shè)置在平坦化層3的上方。

本發(fā)明上述圖2和圖3所示的實施例中，針對顯示面板為陣列基板的情況，具體的在非顯示區(qū)B還包括外圍驅(qū)動線路9，位于非顯示區(qū)B的平坦化層3覆蓋外圍驅(qū)動線路9，通常該外圍驅(qū)動電路9用于為顯示區(qū)內(nèi)的薄膜晶體管陣列7提供驅(qū)動信號，且一般與上述的薄膜晶體管陣列7同層設(shè)置。本發(fā)明上述實施例中，尤其是在位于非顯示區(qū)B的平坦化層的第二部分的厚度增大時，可以起到保護外圍驅(qū)動電路9的效果，在摩擦配向時不易產(chǎn)生物理性劃傷，進而可以有效地保護外圍驅(qū)動線路9。

本發(fā)明上述實施例中，其中非顯示區(qū)的平坦化層的第一部分的厚度小于第二部分的厚度，而平坦化層第二部分的厚度同樣可以大于顯示區(qū)的平坦化層的厚度，對于顯示區(qū)的平坦化層的厚度與第一部分的平坦化層的厚度之間的關(guān)系，可以根據(jù)實際需要設(shè)置，若第一部分的平坦化層的厚度大于顯示區(qū)的平坦化層的厚度，和上述非顯示區(qū)B的平坦化層的第二部分的厚度較大一樣，也可以起到保護外圍驅(qū)動電路的作用，但在外圍驅(qū)動電路沒有延伸到第一部分的平坦化層下方的情況下，則可以使得第一部分的平坦化層的厚度小于顯示區(qū)的平坦化層的厚度。另外，對于平坦化層上方的配向膜的厚度，一般情況下，都會設(shè)置為在顯示區(qū)和非顯示區(qū)的厚度均勻。

圖4是本發(fā)明實施例提供的一種液晶顯示面板的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。液晶顯示面板包括第一基板10和與第一基板10相對設(shè)置的第二基板20，第一基板10和第二基板20之間設(shè)置有液晶層30，第一基板10或第二基板20采用上述實施例中的任一所述的顯示基板。

可選的，還包括設(shè)置在液晶層30周邊的封框膠40，封框膠40與平坦化層3的第一部分31和第二部分32的交界處對應設(shè)置。

本發(fā)明實施例提供的液晶顯示面板，第一基板或第二基板采用上述實施例提供的顯示基板，其中顯示基板的平坦化層的第一部分的厚度小于位于所述平坦化層的第二部分的厚度，配向膜對應第一部分和第二部分的交界處形成有第一臺階，該第一臺階處可以起到堆積配向膜碎屑的效果，相比于現(xiàn)有技術(shù)配向膜碎屑全部堆積在配向膜上對應平坦化層的顯示區(qū)和非顯示區(qū)的交界處形成臺階上，可以減少或避免配向膜碎屑在顯示區(qū)和非顯示區(qū)的交界處的堆積，進而提高液晶顯示器件的畫面品質(zhì)和良品率。進一步的，通過將平坦化層第一部分的厚度設(shè)置的較小，尤其是在平坦化層的第一部分的厚度小于顯示區(qū)的平坦化層的厚度時，在設(shè)置封框膠時，可以相對的增大對應第一部分的封框膠在垂直于第一基板和第二基板方向上的厚度，對于相同體積的封框膠，則可以減小封框膠在平行于第一基板和第二基板方向上的寬度，進而可以進一步縮小液晶顯示面板的非顯示區(qū)的寬度，實現(xiàn)窄邊框。

本發(fā)明還提供了一種液晶顯示裝置，液晶顯示裝置包括根據(jù)上述實施例的液晶顯示面板，且具有上述液晶顯示面板相同的技術(shù)效果。

基于同一發(fā)明構(gòu)思，本發(fā)明實施例還提供一種顯示基板的制作方法。圖5是本發(fā)明實施例提供的一種顯示基板的制作方法的流程示意圖。圖8a-圖8c為圖5中各步驟對應的剖面結(jié)構(gòu)示意圖，如圖5所示，本實施例的方法包括如下步驟：

步驟S110、提供襯底1。

步驟S120、在襯底1上方形成色阻層2，色阻層2設(shè)置在顯示區(qū)A。

步驟S130、形成平坦化層3，平坦化層3位于色阻層2上方，且延伸至非顯示區(qū)B，其中，位于非顯示區(qū)B的平坦化層3包括第一部分31和第二部分32，平坦化層3的第一部分31距離顯示區(qū)A的距離大于平坦化層3的第二部分32距離顯示區(qū)A的距離，平坦化層3的第一部分31的厚度小于位于平坦化層3的第二部分32的厚度。

步驟S140、在平坦化層3上方形成配向膜4。

本發(fā)明實施例提供的制作方法，通過設(shè)置平坦化層遠離顯示區(qū)的第一部分的厚度小于在平坦化層接近顯示區(qū)的第二部分的厚度，使得配向膜上對應第一部分和第二部分的交界處形成有第一臺階，該第一臺階處可以起到堆積配向膜碎屑的效果，相比于現(xiàn)有技術(shù)配向膜碎屑全部堆積在配向膜上對應平坦化層的顯示區(qū)和非顯示區(qū)的交界處形成臺階上，可以減少或避免配向膜碎屑在顯示區(qū)和非顯示區(qū)的交界處的堆積，進而提高液晶顯示器件的畫面品質(zhì)和良品率。

可選的，上述步驟S130中形成平坦化層3的步驟可以具體為：使用半色調(diào)掩膜在色阻層2上方和非顯示區(qū)B形成平坦化層3，以使平坦化層3的第一部分31的厚度小于位于平坦化層3的第二部分32的厚度。

其中的半色調(diào)掩?？梢允前ň哂胁煌馔干渎实膮^(qū)域的掩模。例如，半色調(diào)掩?？梢园ㄍ干渌泄獾耐腹鈪^(qū)域、阻礙所有光的遮光區(qū)域、以及透過一部分光的半透明區(qū)域。半透明區(qū)域可以包括多個緊密設(shè)置的狹縫,或者用于控制曝光量的薄金屬層。本實施例中，通過使用半色調(diào)掩膜版可以在同一工藝步驟中形成厚度不同的平坦化層。

可選的，上述步驟S130中形成平坦化層3的步驟還可以包括：使用半色調(diào)掩膜以使位于色阻層2上方的平坦化層3的厚度小于第二部分32的厚度。同上所述的，通過使用半色調(diào)掩膜版可以在同一工藝步驟中形成厚度不同的平坦化層。另外，位于色阻層2上方的平坦化層3的厚度小于第二部分32的厚度可以減小位于顯示區(qū)A和非顯示區(qū)B的配向膜的高度差，進而，能夠盡量減少或避免在顯示區(qū)A和非顯示區(qū)B的交界處堆積配向膜碎屑，進而提高液晶顯示器件的畫面品質(zhì)和良品率。

本發(fā)明實施例中的顯示面板可以是陣列基板，并且在陣列基板上設(shè)置薄膜晶體管陣列、像素電極和公共電極等，根據(jù)色阻層設(shè)置的位置關(guān)系的不同，可以包括如上的制作方法。

圖6為本發(fā)明實施例提供的又一種顯示基板的制作方法的流程示意圖。圖9a-圖9e為圖6中各步驟對應的剖面結(jié)構(gòu)示意圖，如圖6所示，本實施例的方法包括如下步驟：

步驟S210、提供襯底1；

步驟S220、在襯底1上形成薄膜晶體管陣列7，請參考圖9a；

步驟S230、在薄膜晶體管陣列7上形成像素電極和公共電極，具體的，本實施例中的像素電極和公共電極位于膜層8，在膜層8中的像素電極和公共電極的位置關(guān)系本實施例不做限制，可以為同層設(shè)置，也可以為異層設(shè)置，請參考圖9b；

步驟S240在像素電極和公共電極6上方形成色阻層2，色阻層2設(shè)置在顯示區(qū)A，請參考圖9c；

步驟S250、形成平坦化層3，平坦化層3位于色阻層2上方，且延伸至非顯示區(qū)B，其中，位于非顯示區(qū)B的平坦化層3包括第一部分31和第二部分32，平坦化層3的第一部分31距離顯示區(qū)A的距離大于平坦化層3的第二部分32距離顯示區(qū)A的距離，平坦化層3的第一部分31的厚度小于位于平坦化層3的第二部分32的厚度，請參考圖9d；

步驟S260、在平坦化層3上方形成配向膜4，請參考圖9e。

圖7為本發(fā)明實施例提供的又一種顯示基板的制作方法的流程示意圖。圖10a-圖10e為圖7中各步驟對應的剖面結(jié)構(gòu)示意圖，如圖7所示，本實施例的方法包括如下步驟：

步驟S310、提供襯底1；

步驟S320、在襯底1上形成薄膜晶體管陣列7，請參考圖10a；

步驟S330、在薄膜晶體管陣列7上形成色阻層2，色阻層2，請參考圖10b；

步驟S340、形成平坦化層3，平坦化層3位于色阻層2上方，且延伸至非顯示區(qū)B，其中，位于非顯示區(qū)B的平坦化層3包括第一部分31和第二部分32，平坦化層3的第一部分31距離顯示區(qū)A的距離大于平坦化層3的第二部分32距離顯示區(qū)A的距離，平坦化層3的第一部分31的厚度小于位于平坦化層3的第二部分32的厚度，請參考圖10c；

步驟S350、在平坦化層3上方形成像素電極和公共電極，像素電極和公共電極形成在色阻層2上方，具體的，本實施例中的像素電極和公共電極位于膜層8，在膜層8中的像素電極和公共電極的位置關(guān)系本實施例不做限制，可以為同層設(shè)置，也可以為異層設(shè)置，請參考圖10d。

步驟S360、在像素電極和公共電極所在膜層8上方形成配向膜4，請參考圖10e。

本發(fā)明上述實施例中，可選的，配向膜上對應第一部分與第二部分的交界處形成有第一臺階。

可選的，位于色阻層2上方的平坦化層3的厚度小于第二部分的厚度。

可選的，第二部分的厚度至少比位于色阻層2上方的平坦化層3的厚度大0.5μm。

可選的，第二部分的厚度比位于色阻層2上方的平坦化層3的厚度大1.5μm～2μm。

可選的，在位于色阻層2上方的平坦化層3與第二部分的交界處，配向膜形成有第二臺階，或為平面結(jié)構(gòu)。

可選的，非顯示區(qū)B還包括外圍驅(qū)動線路，位于非顯示區(qū)B的平坦化層3覆蓋外圍驅(qū)動線路。

注意，上述僅為本發(fā)明的較佳實施例及所運用技術(shù)原理。本領(lǐng)域技術(shù)人員會理解，本發(fā)明不限于這里所述的特定實施例，對本領(lǐng)域技術(shù)人員來說能夠進行各種明顯的變化、重新調(diào)整和替代而不會脫離本發(fā)明的保護范圍。因此，雖然通過以上實施例對本發(fā)明進行了較為詳細的說明，但是本發(fā)明不僅僅限于以上實施例，在不脫離本發(fā)明構(gòu)思的情況下，還可以包括更多其他等效實施例，而本發(fā)明的范圍由所附的權(quán)利要求范圍決定。