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LDI曝光設(shè)備以及系統(tǒng)的制作方法

文檔序號:12747273閱讀:1186來源:國知局
LDI曝光設(shè)備以及系統(tǒng)的制作方法與工藝

本發(fā)明涉及印制電路板圖形轉(zhuǎn)移技術(shù)領(lǐng)域,尤其是涉及一種LDI曝光設(shè)備以及系統(tǒng)。



背景技術(shù):

激光直接成像(Laser Direct Image,簡稱LDI)主要應(yīng)用于印刷電路板(Printed Circuit Board,簡稱PCB板)行業(yè)的線路及防焊兩個制程,在線路領(lǐng)域的應(yīng)用相對成熟。

目前,在防焊領(lǐng)域的應(yīng)用,LDI設(shè)備普遍存在防焊油墨光澤度差的問題,嚴重制約了LDI設(shè)備在這個領(lǐng)域的推廣。造成這個問題的主要原因為,傳統(tǒng)的防焊油墨普遍為雙吸收峰的配方,而LDI設(shè)備因為光源的問題,為單一的波長,部分油墨組分固化不完全。目前各LDI廠商解決這個問題,較普遍的做法是采用多種波長的激光光源,調(diào)整各波長能量的占比,來滿足油墨聚合的需要,以達到改善油墨光澤度的目的。

但是,采用現(xiàn)有多種波長激光光源的方案,油墨中自由基的利用率低,實際效果不理想,不能較為有效的改善油墨表面的聚合程度,導(dǎo)致油墨表面的光澤度的提高不明顯。



技術(shù)實現(xiàn)要素:

有鑒于此,本發(fā)明的目的在于提供一種LDI曝光設(shè)備以及系統(tǒng),以提高油墨中自由基的利用率,有效改善油墨表面的聚合程度,明顯提高油墨表面的光澤度。

第一方面,本發(fā)明實施例提供了一種LDI曝光設(shè)備,包括:曝光臺、真空抽濾裝置與密閉裝置;

曝光臺用于承載真空抽濾裝置與密閉裝置;

真空抽濾裝置,用于抽去密閉裝置內(nèi)部的空氣以達到預(yù)定真空度;

密閉裝置用于隔絕空氣,保證密閉裝置內(nèi)的曝光目的物在曝光過程中處于真空狀態(tài);

密閉裝置由透光材料制成。

結(jié)合第一方面,本發(fā)明實施例提供了第一方面的第一種可能的實施方式,其中,密閉裝置設(shè)有可閉合入口,用于放入曝光目的物。

結(jié)合第一方面,本發(fā)明實施例提供了第一方面的第二種可能的實施方式,其中,可閉合入口包括下臺面與上臺面,下臺面用于承載曝光目的物,上臺面用于與下臺面之間形成嚴密閉合狀態(tài)。

結(jié)合第一方面,本發(fā)明實施例提供了第一方面的第三種可能的實施方式,其中,上臺面與下臺面的閉合方式為合葉閉合式或抽屜閉合式。

結(jié)合第一方面,本發(fā)明實施例提供了第一方面的第四種可能的實施方式,其中,密閉裝置的材質(zhì)包括亞克力與光學(xué)玻璃。

第二方面,本發(fā)明實施例還提供一種LDI曝光系統(tǒng),包括:曝光臺、真空抽濾裝置、密閉裝置、數(shù)字微鏡器件(Digital Micro mirror Device,簡稱DMD)、線性電機與基座;

曝光臺用于承載真空抽濾裝置與密閉裝置;

真空抽濾裝置,用于抽去密閉裝置內(nèi)部的空氣以達到預(yù)定真空度;

密閉裝置用于隔絕空氣,保證密閉裝置內(nèi)的曝光目的物在曝光過程中處于真空狀態(tài);

密閉裝置由透光材料制成;

DMD用于反射光源到曝光目的物上形成圖像;

線性電機用于將電能轉(zhuǎn)換成直線運動機械能;

基座用于保證曝光設(shè)備相對于地面的穩(wěn)定性。

結(jié)合第二方面,本發(fā)明實施例提供了第二方面的第一種可能的實施方式,其中,密閉裝置設(shè)有可閉合入口,用于放入曝光目的物。

結(jié)合第二方面,本發(fā)明實施例提供了第二方面的第二種可能的實施方式,其中,可閉合入口包括下臺面與上臺面;

下臺面用于承載曝光目的物;

上臺面用于與下臺面之間形成嚴密閉合狀態(tài)。

結(jié)合第二方面,本發(fā)明實施例提供了第二方面的第三種可能的實施方式,其中,上臺面與下臺面的閉合方式為合葉閉合式或抽屜閉合式。

結(jié)合第二方面,本發(fā)明實施例提供了第二方面的第四種可能的實施方式,其中,密閉裝置的材質(zhì)包括亞克力與光學(xué)玻璃。

本發(fā)明實施例帶來了以下有益效果:本發(fā)明實施例提供的一種LDI曝光設(shè)備,設(shè)有真空抽濾裝置、密閉裝置曝光臺和曝光臺,真空抽濾裝置用于抽去密閉裝置內(nèi)的空氣,密閉裝置由透光材料制成,它用于隔絕空氣來保證密閉裝置內(nèi)的曝光目的物在曝光過程中處于真空狀態(tài),曝光臺用于承載真空抽濾裝置和密閉裝置。通過制造真空的環(huán)境,使曝光目的物在曝光過程中處于真空的狀態(tài),實現(xiàn)曝光目的物上的油墨與油墨中的自由基無法接觸氧氣,由于自由基具有厭氧特性,在曝光過程中,油墨中自由基引發(fā)的聚合反應(yīng)在真空環(huán)境中不會被空氣中的氧氣中止,以此提高油墨中自由基的利用率,使自由基充分的引發(fā)油墨產(chǎn)生聚合反應(yīng),實現(xiàn)有效的改善油墨表面的聚合程度,達到明顯提高油墨表面的光澤度,且設(shè)計結(jié)構(gòu)簡單,減少了曝光設(shè)備的造價。

本發(fā)明的其他特征和優(yōu)點將在隨后的說明書中闡述,并且,部分地從說明書中變得顯而易見,或者通過實施本發(fā)明而了解。本發(fā)明的目的和其他優(yōu)點在說明書、權(quán)利要求書以及附圖中所特別指出的結(jié)構(gòu)來實現(xiàn)和獲得。

為使本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點能更明顯易懂,下文特舉較佳實施例,并配合所附附圖,作詳細說明如下。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明具體實施方式或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將對具體實施方式或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖是本發(fā)明的一些實施方式,對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為本發(fā)明實施例提供的LDI曝光設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖;

圖2示出了本發(fā)明實施例所提供的LDI曝光設(shè)備中,可閉合入口的具體結(jié)構(gòu)示意圖;

圖3為本發(fā)明實施例提供的LDI曝光系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖;

圖4示出了本發(fā)明實施例所提供的LDI曝光系統(tǒng)中,可閉合入口的具體結(jié)構(gòu)示意圖;

圖5為本發(fā)明實施例中的LDI曝光系統(tǒng)的另一結(jié)構(gòu)示意圖。

圖標:

1-LDI曝光設(shè)備;11-曝光臺;12-真空抽濾裝置;13-密閉裝置;14-可閉合入口;15-下臺面;16-上臺面;2-LDI曝光系統(tǒng);21-曝光臺;22-真空抽濾裝置;23-密閉裝置;24-數(shù)字微鏡器件;25-線性電機;26-基座;27-可閉合入口;28-下臺面;29-上臺面。

具體實施方式

為使本發(fā)明實施例的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點更加清楚,下面將結(jié)合附圖對本發(fā)明的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實施例是本發(fā)明一部分實施例,而不是全部的實施例。基于本發(fā)明中的實施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例,都屬于本發(fā)明保護的范圍。

目前,在曝光過程中采用多種波長激光光源的方案,會使油墨中自由基的利用率低,實際效果不理想,不能較為有效的改善油墨表面的聚合程度,導(dǎo)致油墨表面的光澤度的提高不明顯,且設(shè)計復(fù)雜,極大增加了設(shè)備的造價,基于此,本發(fā)明實施例提供的一種LDI曝光設(shè)備以及系統(tǒng),可以提高油墨中自由基的利用率,有效改善油墨表面的聚合程度,明顯提高油墨表面的光澤度,且設(shè)計結(jié)構(gòu)簡單,減少了曝光設(shè)備的造價。

為便于對本實施例進行理解,首先對本發(fā)明實施例所公開的一種LDI曝光設(shè)備以及系統(tǒng)進行詳細介紹。

實施例一:

如圖1所示,本發(fā)明實施例提供的LDI曝光設(shè)備1,包括曝光臺11、真空抽濾裝置12與密閉裝置13,曝光臺11用于承載真空抽濾裝置12與密閉裝置13,真空抽濾裝置12用于抽去密閉裝置13內(nèi)部的空氣以達到預(yù)定真空度,密閉裝置13用于隔絕空氣,保證密閉裝置13內(nèi)的曝光目的物在曝光過程中處于真空狀態(tài)。

進一步的是,密閉裝置13由透光材料制成,材質(zhì)包括亞克力與光學(xué)玻璃,保證密閉裝置13有良好的透光性質(zhì)。

本發(fā)明實施例提供的密閉裝置13還設(shè)有可閉合入口14,用于放入曝光目的物。

如圖2所示,可閉合入口14包括下臺面15與上臺面16,上臺面16與下臺面15的閉合方式為合葉閉合式或抽屜閉合式,下臺面15用于承載曝光目的物,上臺面16用于與下臺面15之間形成嚴密閉合狀態(tài),并能夠隔絕空氣。

現(xiàn)有的LDI曝光設(shè)備較普遍的是采用多種波長的激光光源,調(diào)整各波長能量的所占比例,來滿足油墨聚合的需要,以達到改善油墨光澤度的目的,但是,采用現(xiàn)有多種波長激光光源的方案,油墨中自由基的利用率低,實際效果不理想,不能較為有效的改善油墨表面的聚合程度,導(dǎo)致油墨表面的光澤度的提高不明顯,且設(shè)計復(fù)雜,極大增加了設(shè)備的造價。

現(xiàn)在,在本實施例中,改變了通常情況下,通過改變或者增加激光器波長以改善油墨表面光澤度,而改為將被曝光PCB置于真空條件下的方式,來提高油墨表面光澤度。

作為一個優(yōu)選方案,在LDI曝光設(shè)備1的曝光臺11面上方增加一個亞克力材質(zhì)的上臺面16,上臺面16與下臺面15以合葉的方式固定,PCB放到曝光臺11面上之后,上臺面16合到下臺面15上,腔體內(nèi)抽真空,保證曝光過程中,PCB處于真空狀態(tài)。

對于LDI曝光設(shè)備曝光的過程,實際為油墨感光后發(fā)生單體聚合的過程,具體的方式為:光照引發(fā)油墨中的引發(fā)劑產(chǎn)生自由基,自由基引發(fā)聚合反應(yīng),而自由基的厭氧特性,導(dǎo)致聚合反應(yīng)會被空氣中的氧氣中止,由于本實施例提供的LDI曝光設(shè)備1在曝光時,PCB是處于真空環(huán)境中的,自由基無法接觸氧氣,有效提高了自由基的利用率,改善了油墨表面的聚合程度,提高了油墨表面的光澤度。

本發(fā)明實施例提供的LDI曝光設(shè)備,包括真空抽濾裝置、密閉裝置曝光臺和曝光臺,真空抽濾裝置用于抽去密閉裝置內(nèi)的空氣,密閉裝置由透光材料制成,它用于隔絕空氣來保證密閉裝置內(nèi)的曝光目的物在曝光過程中處于真空狀態(tài),曝光臺用于承載真空抽濾裝置和密閉裝置。通過制造真空的環(huán)境,使曝光目的物在曝光過程中處于真空的狀態(tài),實現(xiàn)曝光目的物上的油墨與油墨中的自由基無法接觸氧氣,由于自由基具有厭氧特性,在曝光過程中,油墨中的自由基引發(fā)的聚合反應(yīng)在真空環(huán)境中不會被空氣中的氧氣中止,以此提高油墨中自由基的利用率,使自由基充分的引發(fā)油墨產(chǎn)生聚合反應(yīng),實現(xiàn)有效的改善油墨表面的聚合程度,達到明顯提高油墨表面的光澤度,且設(shè)計結(jié)構(gòu)簡單,減少了曝光設(shè)備的造價。

實施例二:

如圖3所示,本發(fā)明實施例提供的LDI曝光系統(tǒng)2包括曝光臺21、真空抽濾裝置22、密閉裝置23、數(shù)字微鏡器件24、線性電機25與基座26,曝光臺21用于承載真空抽濾裝置22與密閉裝置23,真空抽濾裝置22用于抽去密閉裝置23內(nèi)部的空氣以達到預(yù)定真空度,密閉裝置23用于隔絕空氣,保證密閉裝置23內(nèi)的曝光目的物在曝光過程中處于真空狀態(tài),數(shù)字微鏡器件24用于反射光源到曝光目的物上形成圖像,線性電機25用于將電能轉(zhuǎn)換成直線運動機械能,基座26用于保證曝光設(shè)備相對于地面的穩(wěn)定性。

其中,數(shù)字微鏡器件24是光開關(guān)的一種,利用旋轉(zhuǎn)反射鏡實現(xiàn)光開關(guān)的開合,開閉時間稍長,為微秒量級,其作用過程為:光從光纖中出來,射向數(shù)字微鏡器件24的反射鏡片,數(shù)字微鏡器件24打開的時候,光可經(jīng)過對稱光路進入到另一端光纖;當(dāng)數(shù)字微鏡器件24關(guān)閉的時候,即數(shù)字微鏡器件24的反射鏡產(chǎn)生一個小的旋轉(zhuǎn),光經(jīng)過反射后,無法進入對稱的另一端,也就達到了光開關(guān)關(guān)閉的效果。數(shù)字微鏡器件24系一種極小的反射鏡,這些微鏡皆懸浮著并可向兩側(cè)傾斜10°左右,從而可構(gòu)成啟通和斷開兩種工作狀態(tài),光源通過這些小鏡子反射到屏幕上直接形成圖像。為了獲得不同的亮度,微鏡啟通和斷開的速率可以改變,工作時需要用成千上萬個微鏡器件。

進一步的是,密閉裝置23由透光材料制成,材質(zhì)包括亞克力與光學(xué)玻璃,保證密閉裝置23有良好的透光性質(zhì)。

本發(fā)明實施例提供的密閉裝置23還設(shè)有可閉合入口27,用于放入曝光目的物。

如圖4所示,可閉合入口27包括下臺面28與上臺面29,上臺面29與下臺面28的閉合方式為合葉閉合式或抽屜閉合式,下臺面用于承載曝光目的物,上臺面29用于與下臺面28之間形成嚴密閉合狀態(tài),并能夠隔絕空氣。

現(xiàn)有的LDI曝光設(shè)備較普遍的是采用多種波長的激光光源,調(diào)整各波長能量的所占比例,來滿足油墨聚合的需要,以達到改善油墨光澤度的目的。

現(xiàn)在,在本實施例中,改變了通常情況下,通過改變或者增加激光器波長以改善油墨表面光澤度,而改為將被曝光PCB置于真空條件下的方式,來提高油墨表面光澤度,但是,采用現(xiàn)有多種波長激光光源的方案,油墨中自由基的利用率低,實際效果不理想,不能較為有效的改善油墨表面的聚合程度,導(dǎo)致油墨表面的光澤度的提高不明顯,且設(shè)計復(fù)雜,極大增加了設(shè)備的造價。

如圖5所示,作為一個優(yōu)選方案,在LDI曝光系統(tǒng)2的曝光臺21面上方增加一個亞克力材質(zhì)的上臺面29,上臺面29與下臺面28以合葉的方式固定,PCB放到曝光臺21面上之后,上臺面29合到下臺面28上,腔體內(nèi)抽真空,保證曝光過程中,PCB處于真空狀態(tài)。

對于LDI曝光系統(tǒng)曝光的過程,實際為油墨感光后發(fā)生單體聚合的過程,具體的方式為:光照引發(fā)油墨中的引發(fā)劑產(chǎn)生自由基,自由基引發(fā)聚合反應(yīng),而自由基的厭氧特性,導(dǎo)致聚合反應(yīng)會被空氣中的氧氣中止,由于本實施例提供的LDI曝光系統(tǒng)2在曝光時,PCB是處于真空環(huán)境中的,自由基無法接觸氧氣,有效提高了自由基的利用率,改善了油墨表面的聚合程度,提高了油墨表面的光澤度。

本發(fā)明實施例提供的種LDI曝光系統(tǒng),包括曝光臺、真空抽濾裝置、密閉裝置、數(shù)字微鏡器件、線性電機與基座;曝光臺用于承載真空抽濾裝置與密閉裝置;真空抽濾裝置用于抽去密閉裝置內(nèi)部的空氣以達到預(yù)定真空度;密閉裝置用于隔絕空氣,保證密閉裝置內(nèi)的曝光目的物在曝光過程中處于真空狀態(tài);密閉裝置由透光材料制成;數(shù)字微鏡器件用于反射光源到曝光目的物上形成圖像;線性電機用于將電能轉(zhuǎn)換成直線運動機械能;基座用于保證曝光設(shè)備相對于地面的穩(wěn)定性。通過制造真空的環(huán)境,使曝光目的物在曝光過程中處于真空的狀態(tài),實現(xiàn)曝光目的物上的油墨與油墨中的自由基無法接觸氧氣,由于自由基具有厭氧特性,在曝光過程中,油墨中的自由基引發(fā)的聚合反應(yīng)在真空環(huán)境中不會被空氣中的氧氣中止,以此提高油墨中自由基的利用率,使自由基充分的引發(fā)油墨產(chǎn)生聚合反應(yīng),實現(xiàn)有效的改善油墨表面的聚合程度,達到明顯提高油墨表面的光澤度,且設(shè)計結(jié)構(gòu)簡單,減少了曝光設(shè)備的造價。

本發(fā)明實施例提供的LDI曝光系統(tǒng),與上述實施例提供的LDI曝光設(shè)備具有相同的技術(shù)特征,所以也能解決相同的技術(shù)問題,達到相同的技術(shù)效果。

另外,在本發(fā)明實施例的描述中,除非另有明確的規(guī)定和限定,術(shù)語“安裝”、“相連”、“連接”應(yīng)做廣義理解,例如,可以是固定連接,也可以是可拆卸連接,或一體地連接;可以是機械連接,也可以是電連接;可以是直接相連,也可以通過中間媒介間接相連,可以是兩個元件內(nèi)部的連通。對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言,可以具體情況理解上述術(shù)語在本發(fā)明中的具體含義。

在本發(fā)明的描述中,需要說明的是,術(shù)語“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“豎直”、“水平”、“內(nèi)”、“外”等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系,僅是為了便于描述本發(fā)明和簡化描述,而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作,因此不能理解為對本發(fā)明的限制。此外,術(shù)語“第一”、“第二”、“第三”僅用于描述目的,而不能理解為指示或暗示相對重要性。

最后應(yīng)說明的是:以上所述實施例,僅為本發(fā)明的具體實施方式,用以說明本發(fā)明的技術(shù)方案,而非對其限制,本發(fā)明的保護范圍并不局限于此,盡管參照前述實施例對本發(fā)明進行了詳細的說明,本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解:任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi),其依然可以對前述實施例所記載的技術(shù)方案進行修改或可輕易想到變化,或者對其中部分技術(shù)特征進行等同替換;而這些修改、變化或者替換,并不使相應(yīng)技術(shù)方案的本質(zhì)脫離本發(fā)明實施例技術(shù)方案的精神和范圍,都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。因此,本發(fā)明的保護范圍應(yīng)所述以權(quán)利要求的保護范圍為準。

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