本發(fā)明涉及一種LCD生產(chǎn)工藝，尤其涉及一種LCD生產(chǎn)的蝕刻工藝。
背景技術(shù)：
眾所周知，物質(zhì)有三態(tài)：固態(tài)、液態(tài)和氣態(tài)。這三種狀態(tài)可稱為固相、液相和氣相。在自然界中大多數(shù)的物質(zhì)隨著溫度的變化而呈現(xiàn)固態(tài)、液態(tài)和氣態(tài)。然而有限物質(zhì)在加熱時(shí)不是直接從固態(tài)變成液態(tài)，而是一種中間態(tài)，我們稱之為液晶。液晶具有固定的偶極矩，所以施加電場可使液晶分子軸發(fā)生轉(zhuǎn)動，于是液晶分子的排列發(fā)生改變。從而改變其光學(xué)性質(zhì)來達(dá)到其顯示的效果，我們利用這一特性制成了液晶顯示器，然而在傳統(tǒng)的液晶顯示器制作工藝中在曝光的時(shí)候由于模板很容易接觸光刻膠，使得模板上粘附有雜質(zhì)，使得曝光不完全從而影響后續(xù)的刻蝕導(dǎo)致液晶顯示器發(fā)生短路等現(xiàn)象。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種
為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提出的技術(shù)方案為：一種LCD生產(chǎn)的刻蝕工藝，包括以下步驟，1）備料，將14×14或者14×16的ITO玻璃的表面用清洗劑和DI水清洗干凈，并且烘干；
2）涂膠，在ITO玻璃的ITO面上均勻的涂一層光刻膠；
3）前烘烤，使涂有光刻膠的ITO玻璃在80-120攝氏的的環(huán)境下烘烤30-60秒，使得涂覆在ITO玻璃上的光刻膠膠膜干燥以增強(qiáng)膠膜與ITO玻璃表面的粘附性和耐磨性；
4）曝光，在干燥后的膠膜的表面覆蓋模板，紫外線通過模板垂直的照射在膠膜上，所述模板上設(shè)置有預(yù)設(shè)的圖案；并且在模板的底部設(shè)置有一層透明的無色薄膜；在無色薄膜的保護(hù)下模板不會直接刺穿光刻膠層，這樣就避免蝕刻后ITO玻璃發(fā)生短路的現(xiàn)象。
5）顯影，將曝光后的ITO玻璃放入顯影液中將光刻膠上的感光部分溶解，未感光的部分被留下來，并且通過DI水將ITO玻璃上的顯影液沖洗干凈；顯影后光刻膠膜上顯現(xiàn)出與模板上一致的圖案；所述顯影液氫氧化鈉或氫氧化鉀溶液；
6）堅(jiān)膜，將顯影后的ITO玻璃放入溫度為250-350攝氏的烤箱內(nèi)，時(shí)間為30-150分鐘；
7）刻蝕，將堅(jiān)膜后的ITO玻璃放入酸液中，將ITO玻璃上光刻膠未覆蓋的ITO膜去掉，刻膠覆蓋的ITO被保護(hù)下來；所述酸液的HCL：HNO=1:0.1的混合液。
上述的LCD生產(chǎn)的刻蝕工藝，優(yōu)選的，所述步驟4）中模板與光刻膠膠膜的距離為0-0.5mm。
上述的LCD生產(chǎn)的刻蝕工藝，優(yōu)選的，所述顯影5）包括一級顯影、二級顯影、一級清洗和二級清洗；所述一級顯影的溶液為濃度為0.5mol/L的氫氧化鈉溶液，所述二級顯影的溶液為2.5 mol/L的氫氧化鈉溶液；所述一級清洗和二級清洗的溶液的DI水。分兩次顯影，每次顯影的時(shí)間都比較短，這樣就避免一次性顯影帶來的顯影時(shí)間不好控制的問題。一次顯影時(shí)，由于時(shí)間較長非常容易導(dǎo)致局部顯影過度或者局部顯影不夠的問題；并且一級顯影比二級顯影用到的氫氧化鈉溶液濃度要低，這樣在一級顯影時(shí)能夠最大程度的減少二級顯影的時(shí)間，從而保證顯影的精度。
上述的LCD生產(chǎn)的刻蝕工藝，優(yōu)選的，所述步驟7）中酸液的配方為HCL：H2O：HNO3=1：1：0.1的混合液。
與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在于：本發(fā)明中在曝光前設(shè)置前烘烤這樣就使得光刻膠干燥并且固化，這樣在曝光的時(shí)候模板稍微接觸光刻膠，光刻膠不會粘在模板上，這樣模板可以無限的接近光刻膠，最大程度的保證曝光位置的精確。
具體實(shí)施方式
為了便于理解本發(fā)明，下文將結(jié)合較佳的實(shí)施例對本發(fā)明作更全面、細(xì)致地描述，但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不限于以下具體的實(shí)施例。
需要特別說明的是，當(dāng)某一元件被描述為“固定于、固接于、連接于或連通于”另一元件上時(shí)，它可以是直接固定、固接、連接或連通在另一元件上，也可以是通過其他中間連接件間接固定、固接、連接或連通在另一元件上。
除非另有定義，下文中所使用的所有專業(yè)術(shù)語與本領(lǐng)域技術(shù)人員通常理解的含義相同。本文中所使用的專業(yè)術(shù)語只是為了描述具體實(shí)施例的目的，并不是旨在限制本發(fā)明的保護(hù)范圍。
實(shí)施例
一種LCD生產(chǎn)的刻蝕工藝，包括以下步驟，1）備料，將14×14的ITO玻璃的表面用清洗劑和DI水清洗干凈，并且烘干；
2）涂膠，在ITO玻璃的ITO面上均勻的涂一層光刻膠；
3）前烘烤，使涂有光刻膠的ITO玻璃在120攝氏的的環(huán)境下烘烤45秒，使得涂覆在ITO玻璃上的光刻膠膠膜干燥以增強(qiáng)膠膜與ITO玻璃表面的粘附性和耐磨性；
4）曝光，在干燥后的膠膜的表面覆蓋模板，紫外線通過模板垂直的照射在膠膜上，模板上設(shè)置有預(yù)設(shè)的圖案；并且在模板的底部設(shè)置有一層透明的無色薄膜；模板與光刻膠膠膜的距離為0.05mm。
5）顯影，將曝光后的ITO玻璃放入顯影液中將光刻膠上的感光部分溶解，未感光的部分被留下來，并且通過DI水將ITO玻璃上的顯影液沖洗干凈；顯影后光刻膠膜上顯現(xiàn)出與模板上一致的圖案；顯影液氫氧化鈉或氫氧化鉀溶液；
6）堅(jiān)膜，將顯影后的ITO玻璃放入溫度為250-350攝氏的烤箱內(nèi)，時(shí)間為30-150分鐘均可；
7）刻蝕，將堅(jiān)膜后的ITO玻璃放入酸液中，將ITO玻璃上光刻膠未覆蓋的ITO膜去掉，刻膠覆蓋的ITO被保護(hù)下來；酸液的HCL：HNO=1:0.1的混合液。酸液的配方為HCL：H2O：HNO3=1：1：0.1的混合液。
本實(shí)施例中，顯影5）包括一級顯影、二級顯影、一級清洗和二級清洗；一級顯影的溶液為濃度為0.5mol/L的氫氧化鈉溶液，二級顯影的溶液為2.5 mol/L的氫氧化鈉溶液；一級清洗和二級清洗的溶液的DI水。
本實(shí)施例中在曝光前設(shè)置前烘烤這樣就使得光刻膠干燥并且固化，這樣在曝光的時(shí)候模板稍微接觸光刻膠，光刻膠不會粘在模板上，這樣模板可以無限的接近光刻膠，最大程度的保證曝光位置的精確。