1.一種波長(zhǎng)可調(diào)的標(biāo)準(zhǔn)具，其特征在于，該標(biāo)準(zhǔn)具包括矩形基片（1）和楔形基片（2），所述矩形基片（1）包括第一反射面S1（11）和第二反射面S2（12），所述楔形基片（2）包括第三反射面S3（21）和第四反射面S4（22），所述第二反射面S2（12）和第三反射面S3（21）之間形成諧振腔（3），所述第二反射面S2（12）和第三反射面S3（21）之間的距離L為諧振腔（3）的腔長(zhǎng)，所述第三反射面S3（21）為相對(duì)于第二反射面S2（12）傾斜的斜面，所述第三反射面S3（21）與第二反射面S2（12）之間的夾角α為0.1′-1′，所述矩形基片（1）垂直固定在基座（4）上，所述楔形基片（2）下端通過(guò)微調(diào)驅(qū)動(dòng)基座（5）設(shè)置在基座（6）上，通過(guò)微調(diào)驅(qū)動(dòng)基座（5）上下運(yùn)動(dòng)帶動(dòng)楔形基片（2）沿豎直方向上下移動(dòng)，楔形基片（2）上下移動(dòng)從而達(dá)到腔長(zhǎng)L的改變，從而實(shí)現(xiàn)中心波長(zhǎng)λ的改變，所述楔形基片的高度為H，所述楔形基片上下移動(dòng)的變化值記為ΔH，所述腔長(zhǎng)的變化值記為ΔL，所述ΔL=ΔH×tanα。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的波長(zhǎng)可調(diào)的標(biāo)準(zhǔn)具，其特征在于，入射的光束在第二反射面S2（12）和第三反射面S3（21）之間多次反射形成多光束干涉，多光束干涉的中心波長(zhǎng)λ與厚度L之間的關(guān)系為：多光束干涉的中心波長(zhǎng)λ=2×n×L×cosθ/k，所述n為矩形基片（1）和楔形基片（2）之間的空氣的折射率，θ為光束在第二反射面S1（12）和第三反射面S3（21）的入射角，k為干涉級(jí)數(shù)，k取值為正整數(shù)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的波長(zhǎng)可調(diào)的標(biāo)準(zhǔn)具，其特征在于，所述微調(diào)驅(qū)動(dòng)基座為毫米量級(jí)微電子機(jī)械調(diào)節(jié)基座。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的波長(zhǎng)可調(diào)的標(biāo)準(zhǔn)具，其特征在于，所述微調(diào)驅(qū)動(dòng)基座為毫米量級(jí)壓電陶瓷微調(diào)基座。
5.一種權(quán)利要求2所述的波長(zhǎng)可調(diào)的標(biāo)準(zhǔn)具的調(diào)節(jié)方法，其特征在于包括以下步驟：
步驟1，由中心波長(zhǎng)計(jì)算公式λ=2×n×L×cosθ/k可知，中心波長(zhǎng)變化值Δλ=2×n×ΔL×cosθ/k，根據(jù)Δλ值、空氣的折射率n值，光束的入射角θ值和干涉級(jí)數(shù)k值，計(jì)算出腔長(zhǎng)的變化量ΔL；
步驟2，由公式ΔL=ΔH×tanα，根據(jù)夾角α值和所述步驟1計(jì)算得到的ΔL值，得出ΔH值，
步驟3，根據(jù)所述步驟2得到的ΔH值，沿豎直方向移動(dòng)楔形基片（2），
步驟4，當(dāng)ΔH值小于零時(shí)，則沿豎直方向向上移動(dòng)楔形基片（2），向上移動(dòng)的距離為ΔH；當(dāng)ΔH值大于零時(shí)，則沿豎直方向向下移動(dòng)楔形基片（2），向下移動(dòng)的距離為|ΔH |。