2015年12月22日提交的日本專利申請第2015-249404號的全部內(nèi)容結(jié)合于此作為參考。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及波長轉(zhuǎn)換裝置、照明裝置及投影儀。

背景技術(shù)：

現(xiàn)今，已知一種對從固體光源射出的激發(fā)光進行波長轉(zhuǎn)換并作為熒光射出的光源裝置(例如，參照專利文獻1)。

該專利文獻1中記載的光源裝置具備固體光源及反射型熒光旋轉(zhuǎn)體。其中，反射型熒光旋轉(zhuǎn)體具備熒光體層及該熒光體層通過接合部件固定于其上的散熱部件。該熒光體層將從固體光源射出的激發(fā)光的一部分轉(zhuǎn)換為與激發(fā)光不同波長的光而生成熒光。

現(xiàn)有技術(shù)文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2011-129354號公報

然而，在熒光體層的溫度上升的情況下，從固體光源入射的光的波長轉(zhuǎn)換效率將會降低，這是公知的。為此，在專利文獻1記載的反射型熒光旋轉(zhuǎn)體這樣的波長轉(zhuǎn)換裝置中，使散熱部件旋轉(zhuǎn)來冷卻形成于該散熱部件上的熒光體層。

然而，在專利文獻1記載的波長轉(zhuǎn)換裝置中，由于熒光體層形成于散熱部件(基板)的光入射側(cè)的區(qū)域的大致整個區(qū)域，因此，即便使該散熱部件旋轉(zhuǎn)，由于對該熒光體層的熱進行散熱的散熱面積不足，存在熒光體層的溫度易于上升、且無法通過該散熱部件可靠地對該熒光體層的熱進行散熱的情況。

即，在專利文獻1記載的波長轉(zhuǎn)換裝置中，由于無法將熒光體層冷卻至不會產(chǎn)生波長轉(zhuǎn)換效率降低的程度，因此存在該熒光體層的波長轉(zhuǎn)換效率降低的問題。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明至少解決上述技術(shù)問題之一，目的在于提供能夠抑制波長轉(zhuǎn)換效率降低的波長轉(zhuǎn)換裝置、照明裝置及投影儀。

本發(fā)明的第一方面涉及的波長轉(zhuǎn)換裝置其特征在于，構(gòu)成為包括基材，所述基材具有：波長轉(zhuǎn)換部，在所述基材的第一面配置為環(huán)狀；第一區(qū)域，位于所述波長轉(zhuǎn)換部的內(nèi)側(cè)；以及第二區(qū)域，位于所述波長轉(zhuǎn)換部的外側(cè)，所述第二區(qū)域的表面積大于所述第一區(qū)域的表面積。

需要說明的是，呈環(huán)狀地配置于所述第一面的波長轉(zhuǎn)換部除包含例如波長轉(zhuǎn)換部呈環(huán)狀地連續(xù)形成的情況之外，還包含空出間隙而配置的情況。并且，波長轉(zhuǎn)換部除包括包含熒光體的波長轉(zhuǎn)換層(熒光體層)之外，還包括使入射的光的波長不同的部。進而，波長轉(zhuǎn)換部的內(nèi)側(cè)及外側(cè)是指從入射至該波長轉(zhuǎn)換部的光的入射方向側(cè)觀察的波長轉(zhuǎn)換部的內(nèi)側(cè)及外側(cè)。

根據(jù)上述第一方面，在基材的第一面配置波長轉(zhuǎn)換部，相比于位于該波長轉(zhuǎn)換部的內(nèi)側(cè)的第一區(qū)域的表面積，位于該波長轉(zhuǎn)換部的外側(cè)的第二區(qū)域的表面積更大。

例如，當(dāng)光入射到波長轉(zhuǎn)換部，該波長轉(zhuǎn)換部的熱上升時，由于第一區(qū)域表面積有限，熱飽和的可能性高。相對于此，第二區(qū)域由于位于波長轉(zhuǎn)換部的外側(cè)，從而如果通過設(shè)計使第二區(qū)域的表面積大于第一區(qū)域的表面積，則能不易產(chǎn)生熱飽和。通過這樣的方式，在波長轉(zhuǎn)換部產(chǎn)生的熱能夠傳導(dǎo)到該波長轉(zhuǎn)換部的內(nèi)側(cè)的第一區(qū)域及外側(cè)的第二區(qū)域，因此能夠高效地冷卻波長轉(zhuǎn)換部。因此，能夠抑制波長轉(zhuǎn)換裝置的波長轉(zhuǎn)換效率的降低。

在上述第一方面中，優(yōu)選所述第二區(qū)域具有凸部及凹部中至少一方。

根據(jù)上述第一方面，由于第二區(qū)域具有凸部及凹部中至少一方，從而與該第二區(qū)域為平坦?fàn)畹那闆r相比，能夠擴大該第二區(qū)域的表面積、即波長轉(zhuǎn)換部的散熱面積。因此，能夠進一步抑制波長轉(zhuǎn)換裝置的波長轉(zhuǎn)換效率的降低。

在上述第一方面中，優(yōu)選所述第二區(qū)域具有貫通所述基材的貫通孔。

需要注意的是，作為上述貫通孔，可例示通過形成該貫通孔而露出的端緣的表面積的增加量大于因在基材形成該貫通孔而導(dǎo)致的表面積的減少量程度的直徑的貫通孔。

根據(jù)上述第一方面，由于在第二區(qū)域形成有貫通該基材的貫通孔，因此，與該第二區(qū)域為平坦?fàn)畹那闆r相比，能夠擴大第二區(qū)域的上述散熱面積。因此，能夠進一步抑制波長轉(zhuǎn)換裝置的波長轉(zhuǎn)換效率的降低。

在上述第一方面中，優(yōu)選具有突出部，所述突出部位于所述第二區(qū)域，并且從所述基材的與所述第一面相反一側(cè)的第二面突出。

根據(jù)上述第一方面，由于在第二區(qū)域具有從與第一面相反一側(cè)的第二面突出的突出部，因此，與未在該第二區(qū)域設(shè)置突出部的情況相比，能夠擴大第二區(qū)域的上述散熱面積。因此，能夠可靠地抑制波長轉(zhuǎn)換裝置的波長轉(zhuǎn)換效率的降低。

本發(fā)明的第二方面涉及的照明裝置其特征在于，具備：上述波長轉(zhuǎn)換裝置；以及射出入射至所述波長轉(zhuǎn)換裝置的所述波長轉(zhuǎn)換部的激發(fā)光的光源，其中，所述波長轉(zhuǎn)換部將入射的所述激發(fā)光轉(zhuǎn)換為不同波長的光。

在上述第二方面中，能實現(xiàn)和上述波長轉(zhuǎn)換裝置同樣的作用及效果。并且，由于能夠抑制波長轉(zhuǎn)換裝置的波長轉(zhuǎn)換效率的降低，因此，能夠抑制通過波長轉(zhuǎn)換部產(chǎn)生的熒光光量降低，能夠提高來自光源的光的利用效率。因此，具備上述波長轉(zhuǎn)換裝置的照明裝置可靠性高，能夠得到不受溫度影響的穩(wěn)定的擴散特性及相位差特性，因而能夠提高該照明裝置的可靠性及穩(wěn)定性。

本發(fā)明的第三方面涉及的投影儀其特征在于，具備：上述照明裝置；對從所述照明裝置射出的光進行調(diào)制的光調(diào)制裝置；以及投射經(jīng)所述光調(diào)制裝置調(diào)制后的光的投射光學(xué)裝置。

在上述第三方面中，能夠?qū)崿F(xiàn)與上述波長轉(zhuǎn)換裝置及上述照明裝置同樣的作用及效果。并且，具備上述波長轉(zhuǎn)換裝置的照明裝置可靠性高，能夠得到不受溫度影響的穩(wěn)定的擴散特性及相位差特性，因此，能夠提高具備該照明裝置的投影儀的可靠性及穩(wěn)定性。

附圖說明

圖1是本發(fā)明第一實施方式涉及的投影儀的概要圖。

圖2是上述第一實施方式涉及的投影儀的照明裝置的概要圖。

圖3是從入射至上述第一實施方式涉及的照明裝置的波長轉(zhuǎn)換裝置的光的入射側(cè)觀察該波長轉(zhuǎn)換裝置的平面圖。

圖4是示出上述第一實施方式涉及的波長轉(zhuǎn)換裝置的基材的外徑尺寸與波長轉(zhuǎn)換層的溫度的關(guān)系的圖。

圖5是本發(fā)明的第二實施方式涉及的投影儀的波長轉(zhuǎn)換裝置的截面圖。

圖6是從入射至本發(fā)明的第二實施方式的變形例涉及的投影儀的波長轉(zhuǎn)換裝置的光的入射側(cè)觀察該波長轉(zhuǎn)換裝置的圖。

圖7是從光的入射側(cè)觀察本發(fā)明的第三實施方式涉及的投影儀的波長轉(zhuǎn)換裝置中的基材的局部的平面圖。

圖8是從入射至本發(fā)明的第四實施方式涉及的投影儀的波長轉(zhuǎn)換裝置的光的入射側(cè)觀察該波長轉(zhuǎn)換裝置的立體圖。

圖9是從入射至本發(fā)明的第五實施方式涉及的投影儀的波長轉(zhuǎn)換裝置的光的入射側(cè)的相反側(cè)觀察該波長轉(zhuǎn)換裝置的截面圖。

圖10是上述第五實施方式涉及的投影儀的波長轉(zhuǎn)換裝置的立體圖。

附圖標記說明

1…投影儀、31…照明裝置、34…光調(diào)制裝置、36…投射光學(xué)裝置、4111…半導(dǎo)體激光器(光源)、7、7A、7B、7C、7D、7E…波長轉(zhuǎn)換裝置、71、71A、71B、71C、71D、71E…基材、711、711A、711B、711C、711D、711E…第一面、712、712A、712D、712E…第二面、713…開口部、71A1…凸部、71B1…凹部、71B2…凸部、71C1…貫通孔、71D1…第一突出部(突出部)、71D2…第二突出部(突出部)、71E2…圓環(huán)部(突出部)、72…波長轉(zhuǎn)換層(波長轉(zhuǎn)換部)、75…電機(旋轉(zhuǎn)裝置)、73、73A、73B、73C、73D、73E…第一區(qū)域、74、74A、74B、74C、74D、74E…第二區(qū)域、L1…距離、L2…距離、L3…距離、L4…距離。

具體實施方式

[第一實施方式]

以下，根據(jù)附圖對本發(fā)明的第一實施方式進行說明。

[投影儀的概要構(gòu)成]

圖1是表示本實施方式涉及的投影儀1的構(gòu)成的示意圖。

投影儀1是對從設(shè)置于內(nèi)部的光源射出的光束進行調(diào)制，形成對應(yīng)圖像信息的圖像并將該圖像放大投射到屏幕SC1等被投射面上的顯示裝置。

如圖1所示，該投影儀1除具備外裝殼體2、容納于該外裝殼體2內(nèi)的光學(xué)單元3、控制該投影儀1的控制裝置CU之外，還具備冷卻冷卻對象的冷卻裝置、以及向構(gòu)成該投影儀1的電子部件供給電力的電源裝置(省略圖示)。并且，投影儀1具有根據(jù)入射到色合成裝置的光的成分比率而使由投射光學(xué)裝置投射的圖像的色域發(fā)生變化的功能。

[光學(xué)單元的構(gòu)成]

光學(xué)單元3具備照明裝置31、色分離裝置32、平行化透鏡33、多個光調(diào)制裝置34、色合成裝置35及投射光學(xué)裝置36。

照明裝置31射出照明光WL。此外，將在后面敘述照明裝置31的構(gòu)成。

色分離裝置32將從照明裝置31入射的照明光WL分離成紅色光LR、綠色光LG及藍色光LB這三色光。該色分離裝置32具備二向色鏡321、322、全反射鏡323、324、325以及中繼透鏡326、327。

二向色鏡321從來自照明裝置31的照明光WL分離藍色光LB及包含其它色光(綠色光LG及紅色光LR)的光。二向色鏡321使藍色光LB透過，并使包含綠色光LG及紅色光LR的上述光透過。

二向色鏡322從被二向色鏡321分離的上述光中分離綠色光LG及紅色光LR。具體而言，二向色鏡322反射綠色光LG，而使紅色光LR透過。

全反射鏡323配置在藍色光LB的光路中，使透過二向色鏡321的藍色光LB向著光調(diào)制裝置34(34B)反射。另一方面，全反射鏡324、325配置在紅色光LR的光路中，使透過二向色鏡322的紅色光LR向著光調(diào)制裝置34(34R)反射。另外，綠色光LG被二向色鏡322朝著光調(diào)制裝置34(34G)反射。

中繼透鏡326、327配置在紅色光LR的光路的、二向色鏡322的下游。這些中繼透鏡326、327具有補償由于紅色光LR的光程長于藍色光LB、綠色光LG的光程而導(dǎo)致的紅色光LR的光損失的功能。

平行化透鏡33使入射到后述的光調(diào)制裝置34的光平行。需要注意的是，將紅、綠和藍各色光用的平行化透鏡分別作為33R、33G、33B。并且，將紅、綠和藍各色光用的光調(diào)制裝置分別作為34R、34G、34B。

多個光調(diào)制裝置34(34R、34G、34B)對通過二向色鏡321及二向色鏡322分離并分別入射的各色光LR、LG、LB進行調(diào)制，形成對應(yīng)圖像信息的彩色圖像。這些光調(diào)制裝置34由調(diào)制入射的光的液晶面板構(gòu)成。需要說明的是，在光調(diào)制裝置34R、34G、34B的入射側(cè)及出射側(cè)分別配置有入射側(cè)偏光板341(341R、341G、341B)及出射側(cè)偏光板342(342R、342G、342B)。

來自各光調(diào)制裝置34R、34G、34B的圖像光入射至色合成裝置35。該色合成裝置35合成對應(yīng)各色光LR、LG、LB的圖像光，并使該合成后的圖像光向投射光學(xué)裝置36射出。在本實施方式中，色合成裝置35由十字分色棱鏡構(gòu)成。

投射光學(xué)裝置36向屏幕SC1等被投射面投射在色合成裝置35合成的圖像光。通過這樣的構(gòu)成，向屏幕SC1投射放大的圖像。

[照明裝置的構(gòu)成]

圖2是示出本實施方式的投影儀1中的照明裝置31的構(gòu)成的概要圖。

如前所述，照明裝置31向色分離裝置32射出照明光WL。如圖2所示，該照明裝置31具備光源裝置4及均勻化裝置5。該光源裝置4向均勻化裝置5射出藍色光及熒光，均勻化裝置5使該入射的藍色光及熒光均勻化，并作為照明光WL向色分離裝置32射出。

[光源裝置的構(gòu)成]

如圖2所示，光源裝置4具備光源部41、無焦透鏡(afocal lens)42、均質(zhì)光學(xué)系統(tǒng)43、第一相位差板44、偏光分離裝置45、第二位相差板46、第三相位差板47、熒光反射裝置6及藍色光反射裝置8。

光源部41具備陣列光源411及準直光學(xué)系統(tǒng)412。該陣列光源411通過相當(dāng)于本發(fā)明的光源的多個半導(dǎo)體激光器4111構(gòu)成。具體來說，陣列光源411通過在與由該陣列光源411射出的光束的照明光軸Ax1正交的一平面內(nèi)陣列狀排列多個半導(dǎo)體激光器4111而形成。此外，在后文詳細敘述，當(dāng)將在熒光反射裝置6反射的光束的照明光軸設(shè)為Ax2時，照明光軸Ax1和照明光軸Ax2在同一平面內(nèi)且彼此正交。在照明光軸Ax1上，依次并排配置有陣列光源411、準直光學(xué)系統(tǒng)412、無焦透鏡42、均質(zhì)光學(xué)系統(tǒng)43、第一相位差板44、偏光分離裝置45、第二相位差板46和藍色光反射裝置8。

另一方面，在照明光軸Ax2上依次并列配置有熒光反射裝置6(波長轉(zhuǎn)換裝置7及拾取光學(xué)系統(tǒng)61)、偏光分離裝置45和均勻化裝置5(無焦裝置51、第一透鏡陣列52、第二透鏡陣列53及重疊透鏡54)。

構(gòu)成陣列光源411的半導(dǎo)體激光器4111例如射出在445nm的波長區(qū)域具有峰值波長的激發(fā)光(藍色光BL)。并且，由半導(dǎo)體激光器4111射出的藍色光BL是包含s偏振光及p偏振光的任意的直線偏振光，朝著無焦透鏡42射出。于是，由該陣列光源411射出的藍色光BL入射到準直光學(xué)系統(tǒng)412。

準直光學(xué)系統(tǒng)412將從陣列光源411射出的藍色光BL轉(zhuǎn)換為平行光。該準直光學(xué)系統(tǒng)412具備多個準直透鏡4121，該多個準直透鏡4121例如對應(yīng)各半導(dǎo)體激光器4111配置為陣列狀。通過該準直光學(xué)系統(tǒng)412而轉(zhuǎn)換為平行光的藍色光BL入射到無焦透鏡42。

無焦透鏡42調(diào)整從準直光學(xué)系統(tǒng)412入射的藍色光BL的光束直徑。該無焦透鏡42具備透鏡421和透鏡422，藍色光BL由透鏡421聚光，并被透鏡422平行化而入射到均質(zhì)光學(xué)系統(tǒng)43。

均質(zhì)光學(xué)系統(tǒng)43使被照明區(qū)域中的藍色光BL的照度分布均勻化。該均質(zhì)光學(xué)系統(tǒng)43具備一對多透鏡陣列431、432。從該均質(zhì)光學(xué)系統(tǒng)43射出的藍色光BL入射到第一相位差板44。

第一相位差板44配置在均質(zhì)光學(xué)系統(tǒng)43和偏光分離裝置45之間，使入射的藍色光BL的偏振方向旋轉(zhuǎn)約90°。在本實施方式中，第一相位差板44由λ/2波長板構(gòu)成。入射到該第一相位差板44的藍色光BL的偏振方向被旋轉(zhuǎn)約90°，分離成p偏振光分量的藍色光BLp及s偏振光分量的藍色光BLs，并入射到偏光分離裝置45。

[偏光分離裝置的構(gòu)成]

偏光分離裝置45是所謂的棱鏡型的偏振光束分光器，使p偏振光及s偏振光中一方的偏振光通過，而另一方的偏振光反射。該偏光分離裝置45具備棱鏡451、452及偏光分離層453。這些棱鏡451、452形成為大致三角柱形狀，分別具有相對于照明光軸Ax1成45°的角度、且相對于照明光軸Ax2成45°的角度的傾斜面。

偏光分離層453設(shè)置于上述傾斜面，具有將入射到該偏光分離層453的藍色光BLp、BLs分離成p偏振光分量的藍色光BLp和s偏振光分量的藍色光BLs的偏光分離功能。該偏光分離層453使s偏振光分量的藍色光BLs反射，而使p偏振光分量的藍色光BLp透過。并且，偏光分離層453具有不論偏振狀態(tài)如何均使入射到該偏光分離層453的光中與第一波長范圍(藍色光BLs、BLp的波長范圍)不同的第二波長范圍(熒光YL)的光透過的分色功能。需要注意的是，偏光分離裝置45不限于棱鏡型，也可以使用板(plate)型的偏光分離裝置。

而且，入射到偏光分離層453的藍色光BLp、BLs中，s偏振光分量的藍色光BLs作為激發(fā)光BLs而向熒光反射裝置6反射。

[熒光反射裝置的構(gòu)成]

熒光反射裝置6將自偏光分離裝置45入射的s偏振光分量的藍色光(激發(fā)光)BLs轉(zhuǎn)換為熒光YL，并使其向該偏光分離裝置45反射。該熒光反射裝置6具備拾取光學(xué)系統(tǒng)61(pickup optical system)及波長轉(zhuǎn)換裝置7。其中，拾取光學(xué)系統(tǒng)61使激發(fā)光BLs向波長轉(zhuǎn)換裝置7的波長轉(zhuǎn)換層72聚光。

該拾取光學(xué)系統(tǒng)61具備透鏡611、透鏡612及透鏡613。具體而言，拾取光學(xué)系統(tǒng)61使入射的多條光束(激發(fā)光BLs)向后述的波長轉(zhuǎn)換層72聚光，并使其在該波長轉(zhuǎn)換層72上彼此重疊。

通過該波長轉(zhuǎn)換層72，將藍色光BLs轉(zhuǎn)換為熒光YL并再次入射到拾取光學(xué)系統(tǒng)61，經(jīng)由該拾取光學(xué)系統(tǒng)61入射到偏光分離裝置45。

需要注意的是，將在后面敘述波長轉(zhuǎn)換裝置7的構(gòu)成。

另一方面，入射到偏光分離層453的藍色光BLp、BLs中，p偏振光分量的藍色光BLp透過該偏光分離層453而入射到第二相位差板46。

第二相位差板46配置在藍色光反射裝置8和偏光分離裝置45之間，使入射的p偏振光分量的藍色光BLp轉(zhuǎn)換為圓偏振光。在本實施方式中，該第二相位差板46由λ/4波長板構(gòu)成。于是，由第二相位差板46轉(zhuǎn)換為了圓偏振光的藍色光BLp入射到藍色光反射裝置8。

[藍色光反射裝置的構(gòu)成]

藍色光反射裝置8使自偏光分離裝置45入射的p偏振光分量的藍色光BLp擴散，并向該偏光分離裝置45反射。該藍色光反射裝置8具備拾取光學(xué)系統(tǒng)81及擴散反射裝置82。其中，拾取光學(xué)系統(tǒng)81使激發(fā)光BLp向擴散反射裝置82的擴散反射層822聚光。該拾取光學(xué)系統(tǒng)81具備透鏡811、透鏡812及透鏡813。具體而言，拾取光學(xué)系統(tǒng)81使入射的多條光束(激發(fā)光BLp)向后述的擴散反射層822聚光，并使其在該擴散反射層822上彼此重疊。

擴散反射裝置82具有使入射的藍色光BLp擴散并反射的功能。該擴散反射裝置82具備基材821、擴散反射層822及電機823。基材821由大致圓板狀的基材構(gòu)成，在該基材821的拾取光學(xué)系統(tǒng)81側(cè)的面形成有擴散反射層822。該擴散反射層822具有使入射的光散射并反射的功能。

電機823安裝在基材821的設(shè)有上述擴散反射層822一側(cè)的反方向側(cè)，通過該電機823的驅(qū)動，基材821旋轉(zhuǎn)。由此，擴散反射層822被冷卻。

通過這樣的構(gòu)成，入射到擴散反射裝置82的藍色光BLp入射到擴散反射層822，被該擴散反射層822擴散(散射)，并向拾取光學(xué)系統(tǒng)81射出。然后，上述藍色光BLp被拾取光學(xué)系統(tǒng)81聚光，再次入射到第二相位差板46。由此，藍色光BLp通過擴散反射層822而旋轉(zhuǎn)方向反轉(zhuǎn)，入射到第二相位差板46，偏振方向由圓偏振光轉(zhuǎn)換為直線偏振光。為此，由擴散反射層822反射的藍色光BLp作為s偏振光分量的藍色光BLs而射出。然后，藍色光BLs入射到偏光分離裝置45。

經(jīng)由擴散反射裝置82及拾取光學(xué)系統(tǒng)81入射到偏光分離裝置45的藍色光BLs被偏光分離層453反射，從該偏光分離裝置45的棱鏡452側(cè)射出而入射到第三相位差板47。

另一方面，入射到偏光分離裝置45的熒光YL經(jīng)由偏光分離層453，從該偏光分離裝置45的棱鏡452側(cè)射出而入射到上述第三相位差板47。

第三相位差板47配置在偏光分離裝置45和均勻化裝置5之間，使入射的藍色光BLs及熒光YL的偏振方向旋轉(zhuǎn)約90°。在本實施方式中，第三相位差板47由λ/2波長板構(gòu)成。入射到該第三相位差板47的藍色光BLs的偏振方向旋轉(zhuǎn)大約90°，作為p偏振光分量的藍色光BLp向均勻化裝置5射出。并且，熒光YL由于是基于激發(fā)光BLs的光，從而是s偏振光分量的光。為此，入射到第三相位差板47的熒光YL作為p偏振光分量的熒光YL向均勻化裝置5射出。

[均勻化裝置的構(gòu)成]

均勻化裝置5具有使從光源裝置4射出的藍色光BL及熒光YL均勻的功能。如圖2所示，該均勻化裝置5具備無焦裝置(afocal device)51、第一透鏡陣列52、第二透鏡陣列53及重疊透鏡54。

其中，無焦(遠焦)裝置51具有擴大從光源裝置4入射的熒光YL及藍色光BL的光束系統(tǒng)(beam system)的功能。具體而言，該無焦裝置51基于經(jīng)由光源裝置4入射的熒光YL及藍色光BL，調(diào)整在第二透鏡陣列53的第二透鏡531上顯示的光源像的大小。

該無焦裝置51通過由凹透鏡511及凸透鏡512形成的無焦透鏡構(gòu)成。凹透鏡511使入射的熒光YL及藍色光BL擴散，并向凸透鏡512射出。凸透鏡512使被凹透鏡511擴散而入射的熒光YL及藍色光BL平行化，并向第一透鏡陣列52射出。

第一透鏡陣列52具有多個第一透鏡521，該多個第一透鏡521在與自無焦裝置51射出的光(光束)的中心軸(上述照明光軸Ax2)正交的面內(nèi)排列成陣列狀。該第一透鏡陣列52通過第一透鏡陣列52的多個第一透鏡521，將入射到該第一透鏡陣列52的光束分割為多個部分光束。

第二透鏡陣列53具有對應(yīng)于在與上述照明光軸Ax2正交的面內(nèi)排列成陣列狀的第一透鏡陣列52的多個第一透鏡521的多個第二透鏡531。該第二透鏡陣列53通過多個第二透鏡531，使由第一透鏡521分割的部分光束重疊于作為被照明區(qū)域的重疊透鏡54。

重疊透鏡54通過使照明光WL在被照明區(qū)域重疊，從而使被照明區(qū)域的照度分布均勻化。這樣，熒光YL及藍色光BL被重疊透鏡54合成，作為照度分布均勻化的照明光WL，從照明裝置31向二向色鏡321射出。

[波長轉(zhuǎn)換裝置的構(gòu)成]

圖3是從偏光分離裝置45側(cè)觀察波長轉(zhuǎn)換裝置7的平面圖。

本實施方式中，如圖2及圖3所示，波長轉(zhuǎn)換裝置7具備基材71及電機75作為其一例。

基材71形成為大致圓板狀。該基材71具有該基材71的偏光分離裝置45側(cè)(拾取光學(xué)系統(tǒng)61)的第一面711和與該第一面711相對的第二面712。并且，在基材71的大致中央部分形成有開口部713。電機75的局部嵌入該開口部713。需要說明的是，上述基材71由鋁構(gòu)成，該基材71的厚度尺寸設(shè)定為大致1mm。

并且，上述第一面711及第二面712中，在作為與拾取光學(xué)系統(tǒng)61相對的面的第一面711上配置有波長轉(zhuǎn)換層72。

波長轉(zhuǎn)換層72相當(dāng)于本發(fā)明的波長轉(zhuǎn)換部，如上所述地配置在基材71的第一面711。具體而言，波長轉(zhuǎn)換層72例如通過掩模印刷法(mask printing method)印刷成環(huán)狀，并形成于基材71的開口部713的外側(cè)。該波長轉(zhuǎn)換層72例如是包含YAG熒光體的波長轉(zhuǎn)換元件，將入射到該波長轉(zhuǎn)換層72的藍色光BLs轉(zhuǎn)換為熒光YL。

并且，在從光入射側(cè)觀察該基材71的情況下，基材71具有位于波長轉(zhuǎn)換層72的內(nèi)側(cè)的第一區(qū)域73和作為位于該波長轉(zhuǎn)換層72的外側(cè)的區(qū)域的第二區(qū)域74。其中，第二區(qū)域74的表面積設(shè)定為大于第一區(qū)域73的表面積。

需要注意的是，在圖2及圖3中，雖省略了圖示，但在該波長轉(zhuǎn)換層72與基材71之間形成有反射層。

[第一區(qū)域的面積和第二區(qū)域的面積]

在此，開口部713的半徑例如是指圖3中從旋轉(zhuǎn)軸P至開口部713的外周緣的距離L1，基材71的外徑例如是指圖3中從旋轉(zhuǎn)軸P至基材71的外周緣的距離L2，波長轉(zhuǎn)換層72的內(nèi)徑例如是指圖3中從旋轉(zhuǎn)軸P至波長轉(zhuǎn)換層72的內(nèi)周緣的距離L3，波長轉(zhuǎn)換層72的外徑例如是指圖3中從旋轉(zhuǎn)軸P至波長轉(zhuǎn)換層72的外周緣的距離L4。此外，旋轉(zhuǎn)軸P與基材71的中心一致。

在本實施方式中，上述距離L1設(shè)定為大致10mm，上述距離L2設(shè)定為大致55mm，上述距離L3設(shè)定為大致20mm，上述距離L4設(shè)定為大致31.5mm。為此，在基材71的第一面711中，第二區(qū)域74的表面積大于第一區(qū)域73的表面積。

本發(fā)明的旋轉(zhuǎn)裝置由電機75構(gòu)成，其具有使基材71以旋轉(zhuǎn)軸P為中心旋轉(zhuǎn)的功能。具體而言，電機75的局部嵌入基材71的開口部713，通過該電機75的驅(qū)動，基材71進行旋轉(zhuǎn)。由此，從拾取光學(xué)系統(tǒng)61射出的藍色光BLs入射到旋轉(zhuǎn)狀態(tài)的基材71的波長轉(zhuǎn)換層72而轉(zhuǎn)換為熒光YL，并被上述反射層反射。

[基材的外徑與波長轉(zhuǎn)換層的溫度的關(guān)系]

圖4是示出基材的外徑與波長轉(zhuǎn)換層的溫度的關(guān)系的圖。

需要注意的是，在圖4的說明中，設(shè)入射的激光的光量一定，并設(shè)上述距離L1大致為10mm，上述距離L3大致為20mm，上述距離L4大致為31.5mm。并且，設(shè)基材的厚度尺寸大致為1mm、且該基材由鋁構(gòu)成來說明僅上述基材的外徑(距離L2)變化的情況。

當(dāng)基材的外徑變化時，熒光體的溫度如圖4所示的線S1示出的那樣變化。即，隨著基材的外徑(距離L2)變大，熒光體的溫度降低。具體而言，在基材的外徑(距離L2)為50mm的情況下，如圖4所示，熒光體的溫度最大上升到約370℃。相對于此，在上述距離L2為80mm的情況下，熒光體的溫度最大上升到約200℃。進而，在上述距離L2為120mm的情況下，熒光體的溫度最大上升到約160℃。即，隨著上述基材的外徑(距離L2)變大，能夠抑制波長轉(zhuǎn)換層72的溫度上升。

即，隨著相對于第一區(qū)域73的表面積，增大第二區(qū)域74的表面積，能夠進一步抑制熒光體的溫度上升。

[第一實施方式的效果]

根據(jù)本發(fā)明的第一實施方式所涉及的投影儀1，具有以下效果。

在通過電機75而旋轉(zhuǎn)的基材71的第一面711上，波長轉(zhuǎn)換層72配置為環(huán)狀，相比于位于該波長轉(zhuǎn)換層72的內(nèi)側(cè)的第一區(qū)域73的表面積，位于該波長轉(zhuǎn)換層72的外側(cè)的第二區(qū)域74的表面積更大。為此，當(dāng)光入射到波長轉(zhuǎn)換層72而該波長轉(zhuǎn)換層72的熱上升時，第一區(qū)域73由于表面積有限，故熱飽和的可能性高。相對于此，第二區(qū)域74由于位于波長轉(zhuǎn)換層72的外側(cè)，從而如果通過設(shè)計使第二區(qū)域74的表面積大于第一區(qū)域73的表面積，則能不易產(chǎn)生熱飽和。由此，在波長轉(zhuǎn)換層72產(chǎn)生的熱能夠傳導(dǎo)到該波長轉(zhuǎn)換層72的內(nèi)側(cè)的第一區(qū)域73及外側(cè)的第二區(qū)域74，從而能夠高效地冷卻波長轉(zhuǎn)換層72。因此，能夠抑制波長轉(zhuǎn)換裝置7的波長轉(zhuǎn)換效率的降低。

由于能夠抑制波長轉(zhuǎn)換裝置7的波長轉(zhuǎn)換效率降低，因此，能抑制通過波長轉(zhuǎn)換層72產(chǎn)生的熒光的光量降低，能夠提高來自光源部41的光的利用效率。因此，具備上述波長轉(zhuǎn)換裝置7的照明裝置31可靠性高，能夠得到不受溫度影響的穩(wěn)定的擴散特性及相位差特性，從而能夠提高該照明裝置31、進而投影儀1的可靠性及穩(wěn)定性。

[第二實施方式]

下面，對本發(fā)明的第二實施方式進行說明。

本實施方式涉及的投影儀除具備與上述第一實施方式涉及的投影儀1大致相同的構(gòu)成之外，波長轉(zhuǎn)換裝置的基材的形狀與上述投影儀1部分地不同。

具體而言，上述投影儀1的波長轉(zhuǎn)換裝置7具備基材71，相對于此，本實施方式的波長轉(zhuǎn)換裝置具備具有多個凸部的基材，在這一點上不同。

此外，在以下的說明中，對于與已經(jīng)說明了的部分相同或大致相同的部分標注相同的符號，并省略其說明。

圖5是示出本實施方式涉及的投影儀的波長轉(zhuǎn)換裝置的截面圖。如圖5所示，波長轉(zhuǎn)換裝置7A具備基材71A、波長轉(zhuǎn)換層72及電機75。

基材71A形成為大致圓板狀，在該基材71A的第一面711A的波長轉(zhuǎn)換層72的外側(cè)的區(qū)域形成有直線狀延伸的多個凸部71A1。該多個凸部71A1在位于波長轉(zhuǎn)換層72的外側(cè)的第二區(qū)域74A中隔開一定間隔地配置。為此，在基材71A的第二區(qū)域74A中形成有多個凹凸。需要說明的是，多個凸部71A1例如通過對基材71A進行沖壓加工(press process)而形成。

另外，在本實施方式中，上述距離L1～L4也與上述第一實施方式相同，因此，通過形成上述凹凸，從而使第二區(qū)域74A的表面積大于第一實施方式的第二區(qū)域74的表面積。因此，在基材71A的第一面711A中，第二區(qū)域74A的面積可靠地大于第一區(qū)域73A的面積。

[第二實施方式的效果]

本實施方式涉及的投影儀除實現(xiàn)與上述第一實施方式涉及的投影儀1同樣的效果之外，還具有以下的效果。

由于基材71A的第一面711A上的波長轉(zhuǎn)換層72的外側(cè)的區(qū)域(第二區(qū)域74A)具有多個凹凸，因此，與該第二區(qū)域為平坦?fàn)畹那闆r相比，能夠擴大該第二區(qū)域74A的表面積、即對波長轉(zhuǎn)換層72的熱進行散熱的散熱面積。

因此，能夠進一步抑制波長轉(zhuǎn)換裝置7A的波長轉(zhuǎn)換效率的降低。

[第二實施方式的變形例]

上述第二實施方式的波長轉(zhuǎn)換裝置7A具備基材71A，在該基材71A的第一面711A的波長轉(zhuǎn)換層72的外側(cè)的第二區(qū)域74A上形成有多個凸部71A1。然而，本發(fā)明不限于此。

圖6是本實施方式的變形例所涉及的波長轉(zhuǎn)換裝置7B的基材71B的立體圖。

波長轉(zhuǎn)換裝置7B具備基材71B代替基材71A。在該基材71B的第一面711B上位于波長轉(zhuǎn)換層72外側(cè)的第二區(qū)域74B中分別形成有多個凹部71B1和多個凸部71B2。這些多個凹部71B1及多個凸部71B2以凹部71B1和凸部71B2分別相鄰的方式形成于第一面711B。需要說明的是，多個凹部71B1及凸部71B2例如通過對基材71B進行沖壓加工而形成。

另外，在本變形例中，上述距離L1～L4也與上述第二實施方式相同，因此，通過形成多個凹部71B1及多個凸部71B2，從而第二區(qū)域74B的表面積大于上述第一實施方式的第二區(qū)域74的表面積。因此，在基材71B的第一面711B中，第二區(qū)域74B的面積可靠地大于第一區(qū)域73B的面積。因此，能夠?qū)崿F(xiàn)和上述第二實施方式同樣的作用效果。

并且，在本變形例中，由于在第二區(qū)域74B形成有多個凹部71B1及多個凸部71B2，從而若通過電機75的驅(qū)動而使基材71B旋轉(zhuǎn)，則在冷卻氣體從旋轉(zhuǎn)軸P流通到該波長轉(zhuǎn)換層72的外側(cè)時，通過多個凹部71B1及多個凸部71B2擾亂氣流，產(chǎn)生紊流或渦流。由此，能夠通過冷卻氣體高效地冷卻基材71B的第二區(qū)域74B。因此，能夠進一步抑制波長轉(zhuǎn)換裝置7B的波長轉(zhuǎn)換效率的降低。

[第三實施方式]

接下來，說明本發(fā)明的第三實施方式。

本實施方式涉及的投影儀除具備與上述第一實施方式涉及的投影儀1大致相同的構(gòu)成之外，波長轉(zhuǎn)換裝置的基材的形狀與上述投影儀1部分地不同。

具體而言，上述投影儀1的波長轉(zhuǎn)換裝置7具備基材71，相對于此，本實施方式的波長轉(zhuǎn)換裝置具備形成有貫通孔的基材，在這一點上不同。

此外，在以下的說明中，對于與已經(jīng)說明了的部分相同或大致相同的部分標注相同的符號，并省略其說明。

圖7是示出本實施方式涉及的投影儀的波長轉(zhuǎn)換裝置7C的平面圖。

如圖7所示，波長轉(zhuǎn)換裝置7C具備基材71C、波長轉(zhuǎn)換層72及電機75。

基材71C形成為大致圓板狀，在該基材71C的第一面711C的位于波長轉(zhuǎn)換層72外側(cè)的第二區(qū)域74C上中形成有多個貫通孔71C1。該多個貫通孔71C1在位于波長轉(zhuǎn)換層72的外側(cè)的第二區(qū)域74C上隔開一定間隔地呈放射狀配置。此外，多個貫通孔71C1例如通過對基材71C進行沖壓加工而形成。

另外，在本實施方式中，上述距離L1～L4也與上述第一實施方式相同，因此，通過形成上述多個貫通孔71C1，從而使第二區(qū)域74C的表面積大于第一實施方式的第二區(qū)域74的表面積。因此，在基材71C的第一面711C上，第二區(qū)域74C的面積可靠地大于第一區(qū)域73C的面積。

進而，在本實施方式中，由于在第二區(qū)域74C形成有多個貫通孔71C1，因此，若通過電機75的驅(qū)動而使基材71C旋轉(zhuǎn)，則當(dāng)冷卻氣體從旋轉(zhuǎn)軸P流通到該波長轉(zhuǎn)換層72的外側(cè)時會在多個貫通孔71C1中流通。

[第三實施方式的效果]

本實施方式涉及的投影儀除實現(xiàn)與上述第一實施方式涉及的投影儀1同樣的效果之外，還具有以下效果。

由于在基材71C的位于波長轉(zhuǎn)換層72外側(cè)的第二區(qū)域74C形成有貫通該基材71C的多個貫通孔71C1，因此，與該第二區(qū)域為平坦?fàn)畹那闆r相比，能夠擴大第二區(qū)域C1的上述散熱面積。因此，能夠進一步抑制波長轉(zhuǎn)換裝置7C的波長轉(zhuǎn)換效率的降低。

[第四實施方式]

接下來，說明本發(fā)明的第四實施方式。

本實施方式涉及的投影儀除具備與上述第一實施方式涉及的投影儀1大致相同的構(gòu)成之外，波長轉(zhuǎn)換裝置的基材的形狀與上述投影儀1部分地不同。

具體而言，上述投影儀1的波長轉(zhuǎn)換裝置7具備基材71，相對于此，本實施方式的波長轉(zhuǎn)換裝置具備具有多個突出部的基材，在這一點上不同。

此外，在以下的說明中，對于與已經(jīng)說明了的部分相同或大致相同的部分標注相同的符號，并省略其說明。

圖8是從光的入射方向的相反側(cè)觀察本實施方式涉及的投影儀的波長轉(zhuǎn)換裝置7D的立體圖，圖9是本實施方式涉及的波長轉(zhuǎn)換裝置7D的截面圖。需要注意的是，圖8中省略了電機75的圖示。

如圖8及圖9所示，波長轉(zhuǎn)換裝置7D具備基材71D、波長轉(zhuǎn)換層72及電機75。

基材71D形成為大致圓板狀，具有第一面711D以及與第一面711D相對的第二面712D。其中，在基材71D的第二面712D上具備向該第二面712D的法線方向延伸的第一突出部71D1及第二突出部71D2。

第一突出部71D1形成為環(huán)狀，并在第二面712D上配置在與第一面711D側(cè)的波長轉(zhuǎn)換層72相對的位置。并且，第二突出部71D2與第一突出部71D1同樣地形成為環(huán)狀，其配置在第一突出部71D1的外側(cè)。并且，這些第一突出部71D1及第二突出部71D2從第二面712D突出的高度設(shè)定為大致相同。

在本實施方式中，上述距離L1～L4也與上述第一實施方式相同，因此，通過形成上述第二突出部71D2，從而使第二區(qū)域74D的表面積大于第一實施方式的第二區(qū)域74的表面積。因此，第二區(qū)域74D的表面積可靠地大于第一區(qū)域73D的面積。

進而，在本實施方式中，由于形成有第一突出部71D1及第二突出部71D2，因此，若通過電機75的驅(qū)動而使基材71D旋轉(zhuǎn)，則當(dāng)冷卻氣體從旋轉(zhuǎn)軸P流通到該波長轉(zhuǎn)換層72的外側(cè)時會流通至第一突出部71D1及第二突出部71D2。

[第四實施方式的效果]

本實施方式涉及的投影儀除實現(xiàn)與上述第一實施方式涉及的投影儀1同樣的效果之外，還具有以下效果。

由于具有從基材71D的第二面712D向該第二面712D的法線方向突出的第一突出部71D1及第二突出部71D2，因此，與未在該第二區(qū)域設(shè)置突出部的情況相比，能夠擴大第二區(qū)域74D的上述散熱面積。因此，能可靠地抑制波長轉(zhuǎn)換裝置7D的波長轉(zhuǎn)換效率的降低。

并且，由于在第二面712D的與波長轉(zhuǎn)換層72相對的位置形成有第一突出部71D1，因此，來自波長轉(zhuǎn)換層72的熱向第一突出部71D1傳導(dǎo)，通過冷卻氣體流通至該第一突出部71D1，從而能夠更高效地冷卻波長轉(zhuǎn)換層72。

[第五實施方式]

接下來，說明本發(fā)明的第五實施方式。

本實施方式涉及的投影儀除具備與上述第一實施方式涉及的投影儀1大致相同的構(gòu)成之外，波長轉(zhuǎn)換裝置的基材的形狀與上述投影儀1部分地不同。

具體而言，上述投影儀1的波長轉(zhuǎn)換裝置7具備圓板狀的基材71，相對于此，本實施方式的波長轉(zhuǎn)換裝置具備圓筒狀的基材，在這一點上不同。

此外，在以下的說明中，對于與已經(jīng)說明了的部分相同或大致相同的部分標注相同的符號，并省略其說明。

圖10是示出本實施方式涉及的投影儀的波長轉(zhuǎn)換裝置7E的立體圖。需要注意的是，圖10中省略了電機75的圖示。

波長轉(zhuǎn)換裝置7E的基材71E形成為大致圓筒狀，并具備大致圓板狀的平板部71E1、以及從該平板部71E1的外周緣向第二面712E的法線方向延伸的圓環(huán)部71E2。其中，平板部71E1具有第一面711E以及與第一面711E相對的第二面712E。并且，在平板部71E1的大致中央形成有上述開口部713，在第一面711E的圍著該開口部713的位置形成有波長轉(zhuǎn)換層72。

另外，圓環(huán)部71E2相當(dāng)于本發(fā)明的突出部，形成為從第二面712E處的平板部71E1的外周緣向該第二面712E的法線方向延伸的圓環(huán)狀。

該圓環(huán)部71E2的厚度尺寸(距離L5)設(shè)定為約5mm。進而，圓環(huán)部71E2的高度尺寸(距離L6)設(shè)定為約35mm。即，從旋轉(zhuǎn)軸P到波長轉(zhuǎn)換層72的外緣的距離L3與上述距離L5及上述距離L6之和設(shè)定為比上述距離L2大大約5mm。

需要注意的是，在本實施方式中，圓環(huán)部71E2和第一面711E的第一區(qū)域73E及波長轉(zhuǎn)換層72之外的區(qū)域(波長轉(zhuǎn)換層72的外側(cè)的區(qū)域)成為本實施方式的第二區(qū)域74E。

在本實施方式中，上述距離L1、L3、L4也與上述第一實施方式相同，由于從旋轉(zhuǎn)軸P到波長轉(zhuǎn)換層72的外緣的距離L3和上述距離L5及上述距離L6之和設(shè)定為大于上述距離L2，因此，通過形成上述圓環(huán)部71E2，第二區(qū)域74E的表面積比第一實施方式的第二區(qū)域74的表面積更大。因此，在基材71E中，第二區(qū)域74E的面積可靠地大于第一區(qū)域73E的面積。

并且，在本實施方式中，由于形成有圓環(huán)部71E2，因此，若通過電機75的驅(qū)動而使基材71E旋轉(zhuǎn)，則當(dāng)冷卻氣體從旋轉(zhuǎn)軸P流通到該波長轉(zhuǎn)換層72的外側(cè)時會流通至圓環(huán)部71E2。

進而，在本實施方式中，平板部71E1的半徑(上述距離L3和上述L5之和)比第一實施方式的基材71的半徑(上述距離L2)小。

[第五實施方式的效果]

本實施方式涉及的投影儀除實現(xiàn)與上述第四實施方式涉及的投影儀1同樣的效果之外，還具有以下效果。

由于能夠使平板部71E1的半徑(上述距離L3和上述L5之和)小于第一實施方式的基材71的半徑(上述距離L2)，因此能夠使波長轉(zhuǎn)換裝置7E小型化。另外，由于能夠使波長轉(zhuǎn)換裝置7E小型化，從而能夠使具備該波長轉(zhuǎn)換裝置7E的照明裝置、進而投影儀小型化。

[實施方式的變形]

本發(fā)明不限于上述各實施方式，在能夠達到本發(fā)明目的的范圍內(nèi)的變形、改良等均包含于本發(fā)明之內(nèi)。在上述各實施方式中，基材71、71A～71E設(shè)為由鋁構(gòu)成。然而，本發(fā)明不限于此。例如，如果是透過型的波長轉(zhuǎn)換裝置，則該基材由玻璃等透光性部件構(gòu)成即可。

在上述第一～第四實施方式中，設(shè)上述距離L1為大致10mm，上述距離L2為大致55mm，上述距離L3為大致20mm，上述距離L4為大致31.5mm。然而，本發(fā)明不限于此。即，只要第二區(qū)域74、74A～74E的表面積大于第一區(qū)域73、73A～73E的表面積，上述距離L1～L4也可以設(shè)定為任意的值。

在上述各實施方式中，設(shè)波長轉(zhuǎn)換層72形成為圓環(huán)狀。然而，本發(fā)明不限于此。例如，也可以構(gòu)成為圓弧狀的波長轉(zhuǎn)換層隔開一定間隔地配置為圓環(huán)狀。即，為能夠區(qū)劃出作為波長轉(zhuǎn)換層的內(nèi)側(cè)的第一區(qū)域73、73A～73E以及作為波長轉(zhuǎn)換層的外側(cè)的第二區(qū)域74、74A～74E的形狀即可。

并且，在上述各實施方式中，說明了基材71、71A～71E形成為大致圓板狀或大致圓筒狀并通過電機75而旋轉(zhuǎn)的方式，但不限于此，也能夠使用矩形、多角形的基材。另外，基材71是為了提高散熱效果而旋轉(zhuǎn)，即便不旋轉(zhuǎn)也能難以產(chǎn)生熱飽和。即，也可以為不使基材71旋轉(zhuǎn)的構(gòu)成。

在上述第一實施方式中，設(shè)通過掩模印刷法在基材71上形成波長轉(zhuǎn)換層72。然而，本發(fā)明不限于此。例如，也可以將預(yù)先成形的波長轉(zhuǎn)換層72粘接于基材71。

在上述第二～第四實施方式中，設(shè)多個凸部71A1、多個凹部71B1及凸部71B2、多個貫通孔71C1是通過對基材71A、71B、71C進行沖壓加工而形成的。然而，本發(fā)明不限于此。例如，也可以通過對基材71A～71C進行噴砂(blasting)、磨邊(edging)而形成多個凸部71A1、多個凹部71B1及凸部71B2、多個貫通孔71C1。

在上述第二實施方式中，設(shè)多個凸部71A1設(shè)置在第二區(qū)域74A的第一面711A。然而，本發(fā)明不限于此。例如，既可以進一步將多個凸部71A1設(shè)置于第二面712A，也可以僅設(shè)置于第二面712A。即便在這種情況下，也能夠?qū)崿F(xiàn)和上述第二實施方式同樣的效果。并且，上述第二實施方式的變形例也同樣。

在上述第三實施方式中，設(shè)多個貫通孔71C1在位于波長轉(zhuǎn)換層72外側(cè)的第二區(qū)域74C隔開一定間隔配置為放射狀。然而，本發(fā)明不限于此。例如，既可以在位于波長轉(zhuǎn)換層72外側(cè)的第二區(qū)域74C的整個區(qū)域隔開一定間隔而配置，也可以成放射狀地配置多個圓弧狀的貫通孔。即，在基材71C的第二區(qū)域74C形成有多個貫通孔即可。

在上述第四實施方式中，將第一突出部71D1及第二突出部71D2從第二面712D突出的高度設(shè)定為大致相同，但不限于此，也可以使第一突出部71D1及第二突出部71D2中任一突出部比另一突出部更加突出。并且，雖然具備第一突出部71D1及第二突出部71D2，但也可以僅設(shè)置任一突出部，還可以在第一突出部71D1的內(nèi)側(cè)及第二突出部71D2的外側(cè)中至少一方進一步設(shè)置環(huán)狀的突出部。即，在基材71D的第二面712D形成突出部即可。

另外，在上述第四實施方式中，第一突出部71D1及第二突出部71D2形成在基材71D的第二面712D。然而，本發(fā)明不限于此。例如，既可以是第一突出部71D1及第二突出部71D2形成在第一面711D，也可以是第一突出部71D1及第二突出部71D2中一方形成于第一面711D，另一方形成于第二面712D。

在上述第五實施方式中，設(shè)圓環(huán)部71E2為向第二面712E的法線方向突出的形狀。然而，本發(fā)明不限于此。例如，圓環(huán)部71E2既可以從第二面712E向相對于上述法線傾斜的方向突出，也可以向第一面711E的法線方向突出。在這種情況下也能夠?qū)崿F(xiàn)和上述第五實施方式同樣的效果。

在上述第二～第五實施方式中，設(shè)為分別具備多個凸部71A1、多個凹部71B1和凸部71B2、多個貫通孔71C1、第一突出部71D1和第二突出部71D2、以及圓環(huán)部71E2。然而，本發(fā)明不限于此。

例如，在基材71既可以具備多個凸部71A1及多個貫通孔71C1，也可以具備多個貫通孔71C1、第一突出部71D1和第二突出部71D2，還可以具備多個凸部71A1及圓環(huán)部71E2。

即，可以任意組合這些多個凸部71A1、多個凹部71B1和凸部71B2、多個貫通孔71C1、第一突出部71D1和第二突出部71D2以及圓環(huán)部71E2形成在基材上。換言之，只要第二區(qū)域74的表面積大于第一區(qū)域73的表面積，基材可以為任意形狀。

在上述各實施方式中，設(shè)使用透過型的光調(diào)制裝置作為光調(diào)制裝置。然而，本發(fā)明不限于此。例如，作為光調(diào)制裝置，也可以使用反射型的光調(diào)制裝置。此時，也可以不設(shè)置色分離裝置32，而是通過該色合成裝置35來執(zhí)行色分離及色合成。

在上述各實施方式中，設(shè)投影儀1具備三個光調(diào)制裝置34(34R、34G、34B)，但本發(fā)明不限于此。例如，光調(diào)制裝置既可以為一個，也可以為兩個，還可以為四個以上。

并且，作為光調(diào)制裝置，也可以使用數(shù)字微鏡器件等液晶面板以外的光調(diào)制裝置。