本發(fā)明涉及平板顯示技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種量子點(diǎn)薄膜、顯示器及量子點(diǎn)薄膜制備方法。

背景技術(shù)：

在信息社會的當(dāng)代，作為可視信息傳輸媒介的顯示器的重要性在進(jìn)一步加強(qiáng)，為了在未來占據(jù)主導(dǎo)地位，顯示器正朝著更輕、更薄、更低能耗、更低成本以及更好圖像質(zhì)量的趨勢發(fā)展。

其中，量子點(diǎn)薄膜作為顯示器的面光源的一部分在整個(gè)顯示區(qū)呈現(xiàn)均勻的白光輻射，而白光經(jīng)由紅、綠、藍(lán)等不同的色阻后僅保留一種色彩，大部分的能量經(jīng)由彩膜光阻后損失，使得本身量子效率較低的量子點(diǎn)高色域顯示器面臨較大的亮度損失與功耗問題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明主要解決的技術(shù)問題是提供一種量子點(diǎn)薄膜、顯示器及量子點(diǎn)薄膜制備方法，能夠使顯示兼顧高色域與高亮度的特性。

為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用的一個(gè)技術(shù)方案是：提供一種量子點(diǎn)薄膜，該量子點(diǎn)薄膜包括：一基板、隔離件、子像素對應(yīng)的量子點(diǎn)層；隔離件設(shè)置于基板一表面，定義出對應(yīng)各個(gè)顯示像素的填充槽，量子點(diǎn)層形成于填充槽中，至少其中一部分填充槽內(nèi)的量子點(diǎn)層是單色層。

其中，一部分填充槽內(nèi)的量子點(diǎn)層是紅色量子點(diǎn)層，另一部分填充槽內(nèi)的量子點(diǎn)層是綠色量子點(diǎn)層，剩余填充槽內(nèi)無填充或填充透明材料或填充紅綠色量子點(diǎn)層。

其中，進(jìn)一步包括水氧阻絕層，覆蓋量子點(diǎn)層。

其中個(gè)，隔離件為陣列狀的光刻膠圖形，其橫向尺寸大于等于顯示器的子像素尺寸，隔離件的條形寬度小于或等于顯示器的黑色遮光單元寬度。

其中，隔離件的條形寬度為1-5微米，縱向高度為10-20微米。

為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用的另一個(gè)技術(shù)方案是：提供一種顯示器，該顯示器包括上述的量子點(diǎn)薄膜、與量子點(diǎn)薄膜相對設(shè)置的子像素層。

其中，進(jìn)一步包括：與量子點(diǎn)薄膜相對設(shè)置的色阻層。

為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用的另一個(gè)技術(shù)方案是：提供一種量子點(diǎn)薄膜制備方法，該方法包括：將隔離件設(shè)置于基板的一表面；定義出對應(yīng)各個(gè)顯示像素的量子點(diǎn)填充槽；將量子點(diǎn)層形成于填充槽中，其中，至少其中一部分填充槽內(nèi)的量子點(diǎn)層是單色層。

其中，將量子點(diǎn)層形成于所述填充槽中包括：在一部分填充槽內(nèi)填充紅色量子點(diǎn)層，另一部分填充槽內(nèi)填充綠色量子點(diǎn)層，剩余填充槽內(nèi)無填充或填充透明材料或填充紅綠色量子點(diǎn)層。

其中，隔離件為陣列狀光刻膠圖形，其橫向尺寸大于等于顯示器的子像素尺寸，隔離件的條形寬度小于或等于顯示器的黑色遮光單元寬度。

以上方案，該量子點(diǎn)薄膜包括一基板、隔離件、子像素對應(yīng)的量子點(diǎn)層；其中，隔離件設(shè)置于基板一表面，定義出對應(yīng)各個(gè)顯示像素的填充槽，量子點(diǎn)層形成于填充槽中，至少其中一部分填充槽內(nèi)的量子點(diǎn)層是單色層，實(shí)現(xiàn)了使顯示兼顧高色域與高亮度的特性。

附圖說明

圖1是本發(fā)明量子點(diǎn)薄膜一實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是本發(fā)明顯示器一實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3是本發(fā)明顯示器另一實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4是本發(fā)明量子點(diǎn)薄膜制備方法一實(shí)施方式的流程示意圖；

圖5是本發(fā)明量子點(diǎn)薄膜制備裝置一實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖和實(shí)施方式對本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)說明。

請參閱圖1，圖1是本發(fā)明一種量子點(diǎn)薄膜一實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)示意圖。如圖1所示，本實(shí)施方式的量子點(diǎn)薄膜包括：基板11、隔離件12、子像素對應(yīng)的量子點(diǎn)層13、水氧阻絕層14。其中，隔離件12設(shè)置于基板11的一個(gè)表面上。在隔離件12上定義出對應(yīng)各個(gè)顯示像素的填充槽122，量子點(diǎn)層13就形成于填充槽122中。隔離件12還包括條形部分121。水氧阻絕層14覆蓋在量子點(diǎn)層13的上方。

其中，填充槽122中所填充的量子點(diǎn)層13，至少有其中一部分填充的量子點(diǎn)層是單色層。

具體地，填充槽122中所填充的量子點(diǎn)層13，其中一部分填充的量子點(diǎn)層是紅色量子點(diǎn)層，另一部分填充的量子點(diǎn)層是綠色量子點(diǎn)層，剩余部分中，或者不填充，或者填充透明材料。這樣的填充方式，對應(yīng)的顯示器的子像素的色阻的顏色是紅綠藍(lán)(RGB)。對應(yīng)地，該背光系統(tǒng)所輻照的光是藍(lán)色的，而紅色量子點(diǎn)層和綠色量子點(diǎn)層分別接收藍(lán)光光子的輻照輸出紅光和綠光；不填充部分或者填充透明材料的部分則輸出藍(lán)光。

可選地，可以通過噴墨打印技術(shù)在不同的填充槽122內(nèi)填充與顯示器的子像素一一對應(yīng)的量子點(diǎn)層。

可選地，當(dāng)對應(yīng)的顯示器的子像素的色阻的顏色是紅綠藍(lán)白(RGBW)時(shí)，在填充槽122中，所填充的量子點(diǎn)層13是，其中一部分填充的量子點(diǎn)層是紅色量子點(diǎn)層，一部分填充的量子點(diǎn)層是綠色量子點(diǎn)層，一部分填充的量子點(diǎn)層是透明材料，或者不填充，剩余部分填充的量子點(diǎn)層是紅綠色量子點(diǎn)層。

其中，隔離件12為陣列狀的光刻膠圖形，其填充槽122的橫向尺寸大于等于顯示器的子像素尺寸，隔離件12的條形寬度小于或等于顯示器的黑色遮光單元寬度。

其中，光刻膠圖形是光刻膠經(jīng)過曝光和適當(dāng)?shù)娜軇┨幚砗笏玫降膱D形。

一般地，隔離件12的陣列狀為島狀結(jié)構(gòu)。由于需要阻隔不同區(qū)域量子點(diǎn)層的互相串?dāng)_，因此隔離件12的填充槽122的橫向尺寸大于等于需要顯示器的子像素尺寸。

具體地，隔離件12的條形部分121的寬度為為1-5微米，縱向高度為10-20微米。

其中，水氧阻絕層14可以用于防止水氧侵襲所導(dǎo)致的量子點(diǎn)失效問題。

可選地，水氧阻絕層14是氮化硅(Si₃N₄)和二氧化硅(SiO₂)的混合物。

本實(shí)施方式中，該量子點(diǎn)薄膜包括一基板、隔離件、子像素對應(yīng)的量子點(diǎn)層；其中，隔離件設(shè)置于基板一表面，定義出對應(yīng)各個(gè)顯示像素的填充槽，量子點(diǎn)層形成于填充槽中，至少其中一部分填充槽內(nèi)的量子點(diǎn)層是單色層，實(shí)現(xiàn)了使顯示兼顧高色域與高亮度的特性。

請參閱圖2，圖2是本發(fā)明一種顯示器一實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)示意圖。如圖2所示，本實(shí)施方式中的顯示器20包括：量子點(diǎn)薄膜21、陣列基板22、液晶層23、對向基板24。

其中，量子點(diǎn)薄膜21是上一實(shí)施方式中的量子點(diǎn)薄膜。

其中，量子點(diǎn)薄膜21中的量子點(diǎn)層與陣列基板22的子像素一一相對設(shè)置。

其中，液晶層23夾持于陣列基板22和對向基板24之間。

本實(shí)施方式中，該顯示器包括一量子點(diǎn)薄膜，該量子點(diǎn)薄膜包括一基板、隔離件、子像素對應(yīng)的量子點(diǎn)層；其中，隔離件設(shè)置于基板一表面，定義出對應(yīng)各個(gè)顯示像素的填充槽，量子點(diǎn)層形成于填充槽中，至少其中一部分填充槽內(nèi)的量子點(diǎn)層是單色層，實(shí)現(xiàn)了使顯示兼顧高色域與高亮度的特性。

請參閱圖3，圖3是本發(fā)明顯示器另一實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)示意圖。如圖3所示，本實(shí)施方式中的顯示器30包括：量子點(diǎn)薄膜31、陣列基板32、液晶層33、色阻層34及對向基板35。

其中，量子點(diǎn)薄膜31是上一實(shí)施方式中的量子點(diǎn)薄膜。

其中，量子點(diǎn)薄膜31中的量子點(diǎn)層與陣列基板32的子像素一一相對設(shè)置。

其中，量子點(diǎn)薄膜31中的量子點(diǎn)層與色阻層34中的色阻單元一一對應(yīng)設(shè)置。

其中，量子點(diǎn)薄膜31中的隔離件的條形寬度小于或等于色阻層34中的黑色遮光單元寬度。

具體地，色阻層34中的色阻單元的顏色可以是紅綠藍(lán)(RGB)，可以是紅綠藍(lán)白(RGBW)，也可以是其他的顏色組合，此處不做限制。

其中，液晶層33夾持于陣列基板32和對向基板35之間。

本實(shí)施方式中，該顯示器包括一量子點(diǎn)薄膜，該量子點(diǎn)薄膜包括一基板、隔離件、子像素對應(yīng)的量子點(diǎn)層；其中，隔離件設(shè)置于基板一表面，定義出對應(yīng)各個(gè)顯示像素的填充槽，量子點(diǎn)層形成于填充槽中，至少其中一部分填充槽內(nèi)的量子點(diǎn)層是單色層，實(shí)現(xiàn)了使顯示兼顧高色域與高亮度的特性。

請參閱圖4，圖4是本發(fā)明一種量子點(diǎn)薄膜制備方法一實(shí)施方式的流程示意圖。需注意的是，若有實(shí)質(zhì)上相同的結(jié)果，本發(fā)明的方法并不以圖4所示的流程順序?yàn)橄?。如圖4所示，該方法包括如下步驟：

S401：將隔離件設(shè)置于基板的一表面。

可選地，隔離件被涂覆到基板的一表面上。

S402：定義出對應(yīng)各個(gè)顯示像素的量子點(diǎn)填充槽。

可選地，可以將隔離件進(jìn)行曝光，使得隔離件形成一種陣列結(jié)構(gòu)，該陣列結(jié)構(gòu)具有較大的深寬比，可以作為對應(yīng)各個(gè)顯示像素的量子點(diǎn)填充槽。

其中，隔離件為陣列狀的光刻膠圖形，其橫向尺寸大于等于顯示器的子像素尺寸，隔離件的條形寬度小于或等于顯示器的黑色遮光單元寬度。

其中，光刻膠圖形是光刻膠經(jīng)過曝光和適當(dāng)?shù)娜軇┨幚砗笏玫降膱D形。

一般地，隔離件的陣列狀為島狀結(jié)構(gòu)。

S403：將量子點(diǎn)層形成于填充槽中，其中，至少其中一部分填充槽內(nèi)的量子點(diǎn)層是單色層。

其中，在一部分填充槽內(nèi)填充紅色量子點(diǎn)層，另一部分填充槽內(nèi)填充綠色量子點(diǎn)層，剩余的填充槽內(nèi)無填充或填充透明材料或填充紅綠色量子點(diǎn)層。

在其中一個(gè)應(yīng)用場景中，可以通過噴墨打印技術(shù)在隔離件的填充槽中填充上量子點(diǎn)層。

進(jìn)一步地，可以在量子點(diǎn)層覆蓋一層水氧阻絕層，以防水氧侵襲所導(dǎo)致的量子點(diǎn)失效問題。

可選地，水氧阻絕層是氮化硅(Si₃N₄)和二氧化硅(SiO₂)的混合物。

本實(shí)施方式中，該量子點(diǎn)薄膜包括一基板、隔離件、子像素對應(yīng)的量子點(diǎn)層；其中，隔離件設(shè)置于基板一表面，定義出對應(yīng)各個(gè)顯示像素的填充槽，量子點(diǎn)層形成于填充槽中，至少其中一部分填充槽內(nèi)的量子點(diǎn)層是單色層，實(shí)現(xiàn)了使顯示兼顧高色域與高亮度的特性。

請參閱圖5，圖5是本發(fā)明一種量子點(diǎn)薄膜制備裝置一實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)示意圖。本實(shí)施方式中，該量子點(diǎn)薄膜制備裝置50為上述實(shí)施方式中的量子點(diǎn)薄膜制備裝置，該量子點(diǎn)薄膜制備裝置50包括：設(shè)置模塊51、定義模塊52、填充模塊53、覆蓋模塊54。

其中，設(shè)置模塊51用于將隔離件設(shè)置于基板的一表面。

其中，定義模塊52用于定義出對應(yīng)各個(gè)顯示像素的量子點(diǎn)填充槽。

其中，填充模塊53用于將量子點(diǎn)層形成于填充槽中，其中，至少其中一部分填充槽內(nèi)的量子點(diǎn)層是單色層。

其中，覆蓋模塊54用于在量子點(diǎn)層覆蓋一層水氧阻絕層。

可選地，設(shè)置模塊51具體用于將隔離件涂覆在基板的一表面上。

可選地，定義模塊52具體用于曝光顯影隔離件，使得隔離件具有較大的深寬比。

其中，隔離件為陣列狀的光刻膠圖形，其橫向尺寸大于等于顯示器的子像素尺寸，隔離件的條形寬度小于或等于顯示器的黑色遮光單元寬度。

其中，光刻膠圖形是光刻膠經(jīng)過曝光和適當(dāng)?shù)娜軇┨幚砗笏玫降膱D形。

一般地，隔離件的陣列狀為島狀結(jié)構(gòu)。

其中，填充模塊53中所填充上量子點(diǎn)層包括：在一部分填充槽內(nèi)填充紅色量子點(diǎn)層，另一部分填充槽內(nèi)填充綠色量子點(diǎn)層，剩余填充槽內(nèi)無填充或填充透明材料或填充紅綠色量子點(diǎn)層。

可選地，填充模塊53可以通過噴墨打印技術(shù)在隔離件的填充槽中填充量子點(diǎn)。

可選地，覆蓋模塊54中所涂覆的水氧阻絕層可以是氮化硅(Si₃N₄)和二氧化硅(SiO₂)的混合物。

本實(shí)施方式中，該量子點(diǎn)薄膜包括一基板、隔離件、子像素對應(yīng)的量子點(diǎn)層；其中，隔離件設(shè)置于基板一表面，定義出對應(yīng)各個(gè)顯示像素的填充槽，量子點(diǎn)層形成于填充槽中，至少其中一部分填充槽內(nèi)的量子點(diǎn)層是單色層，實(shí)現(xiàn)了使顯示兼顧高色域與高亮度的特性。

以上所述僅為本發(fā)明的實(shí)施方式，并非因此限制本發(fā)明的專利范圍，凡是利用本發(fā)明說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，或直接或間接運(yùn)用在其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域，均同理包括在本發(fā)明的專利保護(hù)范圍內(nèi)。