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一種顯示面板制程和一種用于顯示面板的烘烤裝置的制作方法

文檔序號:11544217閱讀:208來源:國知局
一種顯示面板制程和一種用于顯示面板的烘烤裝置的制造方法

本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域,更具體的說,涉及一種顯示面板制程和一種用于顯示面板的烘烤裝置。



背景技術(shù):

液晶顯示器具有機(jī)身薄、省電、無輻射等眾多優(yōu)點,得到了廣泛的應(yīng)用?,F(xiàn)有市場上的液晶顯示器大部分為背光型液晶顯示器,其包括液晶面板及背光模組(backlightmodule)。液晶面板的工作原理是在兩片平行的玻璃基板當(dāng)中放置液晶分子,并在兩片玻璃基板上施加驅(qū)動電壓來控制液晶分子的旋轉(zhuǎn)方向,以將背光模組的光線折射出來產(chǎn)生畫面。

其中,薄膜晶體管液晶顯示器(thinfilmtransistor-liquidcrystaldisplay,tft-lcd)由于具有低的功耗、優(yōu)異的畫面品質(zhì)以及較高的生產(chǎn)良率等性能,目前已經(jīng)逐漸占據(jù)了顯示領(lǐng)域的主導(dǎo)地位。同樣,薄膜晶體管液晶顯示器包含液晶面板和背光模組,液晶面板包括彩膜基板(colorfiltersubstrate,cfsubstrate,也稱彩色濾光片基板)和薄膜晶體管陣列基板(thinfilmtransistorsubstrate,tftsubstrate),上述基板的相對內(nèi)側(cè)存在透明電極。兩片基板之間夾一層液晶分子(liquidcrystal,lc)。液晶面板是通過電場對液晶分子取向的控制,改變光的偏振狀態(tài),并藉由偏光板實現(xiàn)光路的穿透與阻擋,實現(xiàn)顯示的目的。

現(xiàn)有液晶面板的制程過程中,如在彩膜基板的制程中,需要通過多次光阻涂布、曝光、顯影完成彩色光阻層(例如:r/g/b光阻)、遮光層[例如:bm(blackmatrix)層,也稱黑矩陣]及支撐層[例如:ps(photospacer)光阻)]等形成彩膜基板成品。其中,在支撐層制程中,在光阻涂布后處于濕膜狀態(tài),而濕膜狀態(tài)會因為真空機(jī)構(gòu)吸著異常,造成彩膜基板中的透光基板bending(彎曲),光阻溢流累積造成局部ps膜(或ps光阻)厚偏高,導(dǎo)致液晶面板點燈有偏白、不均的異常。而現(xiàn)行ps膜厚偏高暫無修補(bǔ)方式,故本發(fā)明為找出一種方式,來修補(bǔ)ps膜厚偏高,避免造成液晶面板點燈不良。



技術(shù)實現(xiàn)要素:

本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種顯示面板制程,以避免顯示面板點燈時不良的問題。

此外,本發(fā)明還提供一種用于顯示面板的烘烤裝置。

本發(fā)明的目的是通過以下技術(shù)方案來實現(xiàn)的:

根據(jù)本發(fā)明的一個方面,本發(fā)明公開了一種顯示面板制程,所述制程包括以下步驟:

在顯示面板的透光基板上涂布光阻;

對光阻進(jìn)行圖案化及固化,形成支撐物;

對支撐物進(jìn)行烘烤直至支撐物降低到預(yù)定高度。

其中,所述對支撐物進(jìn)行烘烤直至支撐物降低到預(yù)定高度的步驟包括:

測量支撐物的高度;

對高度異常的支撐物進(jìn)行烘烤直至支撐物降低到預(yù)定高度。本發(fā)明在對支撐物進(jìn)行烘烤前,首先測量支撐物的高度,若支撐物的高度與預(yù)定高度相同,則無需對高度正常的支撐物進(jìn)行烘烤。而當(dāng)支撐物的高度高于預(yù)定高度時,也就是說高度異常的支撐物,則對高度異常的支撐物進(jìn)行烘烤,直至高度異常的支撐物的高度降低至預(yù)定高度。這樣就可以省去高度正常的支撐物,從而節(jié)省烘烤時間,增加工作效率。

其中,所述對支撐物進(jìn)行烘烤直至支撐物降低到預(yù)定高度的步驟中:烘烤的強(qiáng)度不變,通過控制烘烤的時間使支撐物降低至預(yù)定高度。這是烘烤高度異常的支撐物的一種具體方式,將烘烤強(qiáng)度調(diào)整至適合的強(qiáng)度,通過控制烘烤的時間來逐漸使得高度異常支撐物收縮,直至高度異常支撐物的高度降低到預(yù)定高度以形成正常高度支撐物,才完成烘烤。烘烤過程中,時間容易控制,能夠?qū)崿F(xiàn)微調(diào)修復(fù)的效果,使得微調(diào)修復(fù)后的支撐物高度與預(yù)定高度的誤差進(jìn)一步減小。

其中,所述對支撐物進(jìn)行烘烤直至支撐物降低到預(yù)定高度的步驟中:烘烤的時間不變,通過控制烘烤的強(qiáng)度使支撐物降低至預(yù)定高度。這是烘烤高度異常支撐物的另一種具體方式,將烘烤時間設(shè)定,通過烘烤的強(qiáng)度來控制高度異常的支撐物收縮,直至預(yù)定高度,完成烘烤。烘烤過程中,烘烤強(qiáng)度也是可控的,也能夠?qū)崿F(xiàn)微調(diào)修復(fù)的效果,使得微調(diào)修復(fù)的支撐物高度與預(yù)定高度的誤差進(jìn)一步減小。

其中,所述對支撐物進(jìn)行烘烤直至支撐物降低到預(yù)定高度的步驟中:采用紅外線對支撐物進(jìn)行烘烤。紅外線的烘烤效果好。

其中,所述對支撐物進(jìn)行烘烤直至支撐物降低到預(yù)定高度的步驟中:采用微波對支撐物進(jìn)行烘烤。微波的烘烤效果好。

其中,所述對支撐物進(jìn)行烘烤直至支撐物降低到預(yù)定高度的步驟中:采用紫外線對支撐物進(jìn)行烘烤。紫外線的烘烤效果好。

根據(jù)本發(fā)明的另一個方面,本發(fā)明還公開了一種用于顯示面板的烘烤裝置,所述烘烤裝置包括:

發(fā)熱單元,所述發(fā)熱單元用于產(chǎn)生熱能;

烘烤單元,所述烘烤單元和發(fā)熱單元連接,用于對顯示面板的支撐物進(jìn)行烘烤直至所述支撐物降低到預(yù)定高度;

控制單元,所述控制單元用于控制所述發(fā)熱單元。

其中,所述發(fā)熱單元包括微波發(fā)射器、紅外線發(fā)射器、紫外線發(fā)射器中的任一種。

其中,所述烘烤裝置還包括有套接到所述烘烤單元外圍的外罩。通過外罩使得烘烤裝置能夠更好的實現(xiàn)局部烘烤的效果。

現(xiàn)有技術(shù)中顯示面板制程形成的ps膜厚度偏高,導(dǎo)致顯示面板點燈有偏白、不均的異常。與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明的技術(shù)效果是:

本發(fā)明顯示面板制程在光阻圖案化及固化并形成支撐物后,對支撐物進(jìn)行烘烤,烘烤過程中使得支撐物收縮,以降低支撐物高度,直至支撐物的高度降低至預(yù)定高度。本發(fā)明通過對支撐物的烘烤實現(xiàn)對支撐物的微調(diào)修復(fù),防止支撐物局部偏高,進(jìn)而防止顯示面板點燈有偏白、不均等不良現(xiàn)象,以使得顯示面板能夠正常顯示。

另外,本發(fā)明通過對支撐物進(jìn)行局部烘烤,烘烤過程中容易控制烘烤強(qiáng)度及烘烤時間,能夠更加精確的控制支撐物,使得支撐物的收縮達(dá)到更佳的效果。

附圖說明

所包括的附圖用來提供對本申請實施例的進(jìn)一步的理解,其構(gòu)成了說明書的一部分,用于例示本申請的實施方式,并與文字描述一起來闡釋本申請的原理。顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本申請的一些實施例,對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動性的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。在附圖中:

圖1是本發(fā)明一個實施例一種顯示面板制程的流程圖;

圖2是本發(fā)明一個實施例一種顯示面板制程的流程圖;

圖3是本發(fā)明一個實施例一種用于顯示面板的烘烤裝置的示意圖;

圖4是本發(fā)明一個實施例一種用于顯示面板的烘烤裝置的示意圖;

圖5是本發(fā)明一個實施例一種用于顯示面板的烘烤裝置的示意圖;

圖6是本發(fā)明一個實施例一種烘烤裝置對其中一個支撐物進(jìn)行烘烤的過程圖。

其中:100、烘烤裝置;110、控制單元;120、發(fā)熱單元;130、烘烤單元;140、外罩;150、測量單元;210、透光基板;220、第一支撐物;230、第二支撐物;300、標(biāo)準(zhǔn)支撐物。

具體實施方式

這里所公開的具體結(jié)構(gòu)和功能細(xì)節(jié)僅僅是代表性的,并且是用于描述本發(fā)明的示例性實施例的目的。但是本發(fā)明可以通過許多替換形式來具體實現(xiàn),并且不應(yīng)當(dāng)被解釋成僅僅受限于這里所闡述的實施例。

在本發(fā)明的描述中,需要理解的是,術(shù)語“中心”、“橫向”、“上”、“下”、“左”、“右”、“豎直”、“水平”、“頂”、“底”、“內(nèi)”、“外”等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系,僅是為了便于描述本發(fā)明和簡化描述,而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作,因此不能理解為對本發(fā)明的限制。此外,術(shù)語“第一”、“第二”僅用于描述目的,而不能理解為指示或暗示相對重要性或者隱含指明所指示的技術(shù)特征的數(shù)量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隱含地包括一個或者更多個該特征。在本發(fā)明的描述中,除非另有說明,“多個”的含義是兩個或兩個以上。另外,術(shù)語“包括”及其任何變形,意圖在于覆蓋不排他的包含。

在本發(fā)明的描述中,需要說明的是,除非另有明確的規(guī)定和限定,術(shù)語“安裝”、“相連”、“連接”應(yīng)做廣義理解,例如,可以是固定連接,也可以是可拆卸連接,或一體地連接;可以是機(jī)械連接,也可以是電連接;可以是直接相連,也可以通過中間媒介間接相連,可以是兩個元件內(nèi)部的連通。對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言,可以具體情況理解上述術(shù)語在本發(fā)明中的具體含義。

這里所使用的術(shù)語僅僅是為了描述具體實施例而不意圖限制示例性實施例。除非上下文明確地另有所指,否則這里所使用的單數(shù)形式“一個”、“一項”還意圖包括復(fù)數(shù)。還應(yīng)當(dāng)理解的是,這里所使用的術(shù)語“包括”和/或“包含”規(guī)定所陳述的特征、整數(shù)、步驟、操作、單元和/或組件的存在,而不排除存在或添加一個或更多其他特征、整數(shù)、步驟、操作、單元、組件和/或其組合。

下面參考圖1至圖4描述本發(fā)明的一種顯示面板制程和一種用于顯示面板的烘烤裝置。

申請人已設(shè)計了一種顯示面板制程,來降低高度異常的支撐物,具體的,通過tape帶研磨移除支撐物的一部分,以降低支撐物高度,在使用tape帶研磨過程中移除的支撐物誤差較大,無法實現(xiàn)微量調(diào)控高度的效果,從而就容易導(dǎo)致支撐物高度偏低,進(jìn)而造成顯示面板點燈偏黑、不均等異?,F(xiàn)象。

另外,申請人還設(shè)計了一種顯示面板制程,來降低高度異常的支撐物,具體的,通過激光器發(fā)射激光束來移除支撐物的一部分,以降低支撐物高度,在使用激光器移除支撐物的過程中,其誤差同樣較大,無法實現(xiàn)微量調(diào)控高度的效果,從而容易導(dǎo)致支撐物高度偏低,進(jìn)而造成顯示面板點燈偏黑、不均等異?,F(xiàn)象。

為此,申請人又設(shè)計了另外的技術(shù)方案,以解決以上技術(shù)問題,具體如下:

下面結(jié)合附圖1至5和較佳的實施例對本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)說明。

根據(jù)本發(fā)明一實施例,如圖1所示,本發(fā)明一實施例公開了一種顯示面板制程,所述制程包括步驟s101、步驟s102和步驟s103,具體如下:

步驟s101:在顯示面板的透光基板上涂布光阻;

步驟s102:對光阻進(jìn)行圖案化及固化,形成支撐物;

步驟s103:對支撐物進(jìn)行烘烤直至支撐物降低到預(yù)定高度。

其中,在步驟s101中,本實施例的透光基板優(yōu)選為玻璃基板,其透光型好,方便設(shè)置。當(dāng)然,本實施例的透光基板也可以為可撓式基板,需要說明的是,本實施例的透光基板并不限于此。

本發(fā)明一實施例的顯示面板可以為以下任一種:扭曲向列(twistednematic,tn)或超扭曲向列(supertwistednematic,stn)型,平面轉(zhuǎn)換(in-planeswitching,ips)型、垂直配向(verticalalignment,va)型、及高垂直配向(highverticalalignment,hva)型、曲面型面板。

在步驟s102中,對涂布到透光基板上的光阻進(jìn)行圖案化及固化,形成支撐物。在涂布光阻形成支撐物的過程中,支撐物高度容易超出預(yù)定高度。本發(fā)明一實施例形成支撐物的光阻為ps(photospacer)光阻。

在步驟s103中,對光阻形成的支撐物進(jìn)行烘烤直至支撐物的高度降低到預(yù)定高度。預(yù)定高度根據(jù)顯示面板的需求設(shè)置,以使得顯示面板能夠正常顯示。

本發(fā)明一實施例顯示面板制程在光阻圖案化及固化并形成支撐物后,對支撐物進(jìn)行烘烤,烘烤過程中使得支撐物收縮,以降低支撐物高度,直至支撐物的高度降低至預(yù)定高度。本發(fā)明一實施例通過對支撐物的烘烤實現(xiàn)對支撐物的微調(diào)修復(fù),防止支撐物局部偏高,進(jìn)而防止顯示面板點燈有偏白、不均等不良現(xiàn)象,以使得顯示面板能夠正常顯示。

另外,本發(fā)明一實施例通過對支撐物進(jìn)行局部烘烤,烘烤過程中容易控制烘烤強(qiáng)度及烘烤時間,能夠更加精確的控制支撐物,使得支撐物的收縮達(dá)到更佳的效果。

進(jìn)一步的,本發(fā)明一實施例,在步驟s103中,所述烘烤的強(qiáng)度不變,通過控制烘烤的時間使支撐物降低至預(yù)定高度。這是烘烤支撐物的一種具體方式,將烘烤強(qiáng)度調(diào)整至適合的強(qiáng)度,通過控制烘烤的時間來逐漸使得支撐物收縮,直至支撐物的高度降低到預(yù)定高度以形成正常高度支撐物,才完成烘烤。烘烤過程中,時間容易控制,能夠?qū)崿F(xiàn)微調(diào)修復(fù)的效果,使得微調(diào)修復(fù)后的支撐物高度與預(yù)定高度的誤差進(jìn)一步減小。

然而,需要說明的是,本發(fā)明一實施例對烘烤支撐物的方式并不限于此。比如:烘烤的時間不變,通過控制烘烤的強(qiáng)度使支撐物降低至預(yù)定高度,將烘烤時間設(shè)定,通過烘烤的強(qiáng)度來控制支撐物收縮,直至預(yù)定高度,完成烘烤。烘烤過程中,烘烤強(qiáng)度也是可控的,也能夠?qū)崿F(xiàn)微調(diào)修復(fù)的效果,使得微調(diào)修復(fù)的支撐物高度與預(yù)定高度的誤差進(jìn)一步減小。

在本發(fā)明一實施例中,采用紅外線、紫外線或微波中的任意一種對支撐物進(jìn)行烘烤。紅外線、紫外線及微波的烘烤效果好。

根據(jù)本發(fā)明一實施例,如圖2所示,本發(fā)明一實施例公開了一種顯示面板制程,所述制程包括步驟s201、步驟s202和步驟s203,具體如下:

步驟s201:在顯示面板的透光基板上涂布光阻;

步驟s202:對光阻進(jìn)行圖案化及固化,形成支撐物;

步驟s203:測量支撐物的高度;

步驟s204:對高度異常的支撐物進(jìn)行烘烤直至支撐物降低到預(yù)定高度。

其中,在步驟s201中,本實施例的透光基板優(yōu)選為玻璃基板,其透光型好,方便設(shè)置。當(dāng)然,本實施例的透光基板也可以為可撓式基板,需要說明的是,本實施例的透光基板并不限于此。

本發(fā)明一實施例的顯示面板可以為以下任一種:扭曲向列(twistednematic,tn)或超扭曲向列(supertwistednematic,stn)型,平面轉(zhuǎn)換(in-planeswitching,ips)型、垂直配向(verticalalignment,va)型、及高垂直配向(highverticalalignment,hva)型、曲面型面板。

在步驟s202中,對涂布到透光基板上的光阻進(jìn)行圖案化及固化,形成支撐物。在涂布光阻形成支撐物的過程中,支撐物高度容易超出預(yù)定高度。本發(fā)明一實施例形成支撐物的光阻為ps(photospacer)光阻。

在步驟s203中,本發(fā)明一實施例在對支撐物進(jìn)行烘烤前,首先測量各支撐物的高度,若有支撐物的高度與預(yù)定高度相同,則無需對高度正常的支撐物進(jìn)行烘烤。然而,若有支撐物的高度大于預(yù)定高度,則將其歸為高度異常的支撐物,并進(jìn)入下一步驟。

在步驟s204中,當(dāng)支撐物的高度高于預(yù)定高度時,也就是說高度異常的支撐物,則對高度異常的支撐物進(jìn)行烘烤,直至高度異常的支撐物的高度降低至預(yù)定高度。這樣就可以省去高度正常的支撐物,從而節(jié)省烘烤時間,增加工作效率。

本發(fā)明一實施例顯示面板制程在光阻圖案化及固化并形成支撐物后,對支撐物進(jìn)行烘烤,烘烤過程中使得支撐物收縮,以降低支撐物高度,直至支撐物的高度降低至預(yù)定高度。本發(fā)明一實施例通過對支撐物的烘烤實現(xiàn)對支撐物的微調(diào)修復(fù),防止支撐物局部偏高,進(jìn)而防止顯示面板點燈有偏白、不均等不良現(xiàn)象,以使得顯示面板能夠正常顯示。

另外,本發(fā)明一實施例通過對支撐物進(jìn)行局部烘烤,烘烤過程中容易控制烘烤強(qiáng)度及烘烤時間,能夠更加精確的控制支撐物,使得支撐物的收縮達(dá)到更佳的效果。

進(jìn)一步的,本發(fā)明一實施例,在步驟s204中,所述烘烤的強(qiáng)度不變,通過控制烘烤的時間使高度異常的支撐物降低至預(yù)定高度。這是烘烤高度異常的支撐物的一種具體方式,將烘烤強(qiáng)度調(diào)整至適合的強(qiáng)度,通過控制烘烤的時間來逐漸使得高度異常支撐物收縮,直至高度異常支撐物的高度降低到預(yù)定高度以形成正常高度支撐物,才完成烘烤。烘烤過程中,時間容易控制,能夠?qū)崿F(xiàn)微調(diào)修復(fù)的效果,使得微調(diào)修復(fù)后的支撐物高度與預(yù)定高度的誤差進(jìn)一步減小。

然而,需要說明的是,本發(fā)明一實施例對烘烤支撐物的方式并不限于此。比如:烘烤的時間不變,通過控制烘烤的強(qiáng)度使高度異常支撐物降低至預(yù)定高度,將烘烤時間設(shè)定,通過烘烤的強(qiáng)度來控制高度異常的支撐物收縮,直至預(yù)定高度,完成烘烤。烘烤過程中,烘烤強(qiáng)度也是可控的,也能夠?qū)崿F(xiàn)微調(diào)修復(fù)的效果,使得微調(diào)修復(fù)的支撐物高度與預(yù)定高度的誤差進(jìn)一步減小。

在本發(fā)明一實施例中,采用紅外線、紫外線或微波中的任意一種對高度異常的支撐物進(jìn)行烘烤。紅外線、紫外線及微波的烘烤效果好。

根據(jù)本發(fā)明一實施例,如圖3至圖5所示,本發(fā)明一實施例公開了一種用于顯示面板的烘烤裝置100,所述烘烤裝置100包括發(fā)熱單元120、烘烤單元130和控制單元110。

其中,所述發(fā)熱單元120用于產(chǎn)生熱能;在本發(fā)明一實施例中,發(fā)熱單元包括以下任一種:微波發(fā)射器、紅外線發(fā)射器、紫外線發(fā)射器。當(dāng)發(fā)熱單元為微波發(fā)射器時,其能夠發(fā)出微波,通過微波實現(xiàn)對支撐物的烘烤。當(dāng)發(fā)熱單元為紅外線發(fā)射器時,其能夠發(fā)出紅外線,通過紅外線實現(xiàn)對支撐物的烘烤。當(dāng)發(fā)熱單元為紫外線發(fā)射器時,其能夠發(fā)出紫外線,通過紫外線實現(xiàn)對支撐物的烘烤。

其中,所述烘烤單元130和發(fā)熱單元120連接,用于對顯示面板的支撐物進(jìn)行烘烤直至所述支撐物降低到預(yù)定高度。本發(fā)明一實施例的預(yù)定高度根據(jù)顯示面板內(nèi)部設(shè)置而定。

本發(fā)明一實施例的顯示面板可以為以下任一種:扭曲向列(twistednematic,tn)或超扭曲向列(supertwistednematic,stn)型,平面轉(zhuǎn)換(in-planeswitching,ips)型、垂直配向(verticalalignment,va)型、及高垂直配向(highverticalalignment,hva)型、曲面型面板。

也就是說本發(fā)明一實施例的烘烤裝置可以用于以下任一種顯示面板中:扭曲向列(twistednematic,tn)或超扭曲向列(supertwistednematic,stn)型,平面轉(zhuǎn)換(in-planeswitching,ips)型、垂直配向(verticalalignment,va)型、及高垂直配向(highverticalalignment,hva)型、曲面型面板。

其中,所述控制單元110用于控制所述發(fā)熱單元120。本發(fā)明一實施例的控制單元110可以將發(fā)熱單元120所發(fā)出的熱量控制為定量,通過改變發(fā)熱單元持續(xù)發(fā)熱的時間來實現(xiàn)對支撐物的烘烤,以使得支撐物降低至預(yù)定高度。這是烘烤支撐物的一種具體方式,將烘烤強(qiáng)度調(diào)整至適合的強(qiáng)度,也就是發(fā)熱單元所發(fā)出的熱能不變,通過控制烘烤的時間來逐漸使得支撐物收縮,直至支撐物的高度降低到預(yù)定高度以形成正常高度支撐物,才完成烘烤。烘烤過程中,時間容易控制,能夠?qū)崿F(xiàn)微調(diào)修復(fù)的效果,使得微調(diào)修復(fù)后的支撐物高度與預(yù)定高度的誤差進(jìn)一步減小。

然而,需要說明的是,本發(fā)明一實施例對烘烤支撐物的方式并不限于此。比如:烘烤的時間不變,也就是說發(fā)熱單元所發(fā)出熱能的時間不變,通過控制烘烤的強(qiáng)度使支撐物降低至預(yù)定高度,也就是通過控制發(fā)熱單元發(fā)出熱能的不同使支撐物降低至預(yù)定高度,將烘烤時間設(shè)定,通過烘烤的強(qiáng)度來控制支撐物收縮,直至預(yù)定高度,完成烘烤。烘烤過程中,烘烤強(qiáng)度也是可控的,也就是發(fā)熱單元所發(fā)出的熱能是可控的,也能夠?qū)崿F(xiàn)微調(diào)修復(fù)的效果,使得微調(diào)修復(fù)的支撐物高度與預(yù)定高度的誤差進(jìn)一步減小。

進(jìn)一步的,如圖4所示,本發(fā)明一實施例的烘烤裝置100還包括有套接到所述烘烤單元130外圍的外罩140。通過外罩140使得烘烤裝置100能夠更好的實現(xiàn)局部烘烤的效果。

更進(jìn)一步的,如圖5所示,本發(fā)明一實施例的烘烤裝置100還包括有測量單元150,測量單元150和控制單元110連接,所述測量單元150用于測量支撐物高度,并將所測量的支撐物高度與預(yù)定高度進(jìn)行比對,當(dāng)有支撐物高度高于預(yù)定高度時,再通過烘烤裝置對高度高于預(yù)定高度的支撐物進(jìn)行烘烤,以使得其降低至預(yù)定高度。

在本發(fā)明一些實施例中,如圖6所示,圖6為烘烤裝置對其中一個支撐物進(jìn)行烘烤的過程圖,其中,圖6中僅示出了烘烤裝置的烘烤單元130。具體的,本發(fā)明在顯示面板的透光基板210上涂布光阻,并對其進(jìn)行圖案化及固化,形成第一支撐物220。為了比對分析,在顯示面板的透光基板210上還設(shè)置有高度正常的標(biāo)準(zhǔn)支撐物300。其中,標(biāo)準(zhǔn)支撐物300的高度為h1,在本發(fā)明一些實施例中將h1定義為預(yù)定高度;而第一支撐物220的高度為h1與h2兩者之和,h2大于零,第一支撐物220的高度h2+h1大于標(biāo)準(zhǔn)支撐物300的高度h1。其中,第一支撐物220中虛線部分表示為標(biāo)準(zhǔn)支撐物大小。本發(fā)明使用烘烤裝置,將烘烤單元130對準(zhǔn)第一支撐物220,然而,對第一支撐物220進(jìn)行烘烤,烘烤過程中使得第一支撐物進(jìn)行微量的收縮,烘烤完成后,第一支撐物220變成第二支撐物230,第二支撐物230的高度h3等于第一支撐物的高度h1。從而實現(xiàn)對第一支撐物220的微調(diào)修復(fù),防止第一支撐物局部偏高,進(jìn)而防止顯示面板點燈有偏白、不均等不良現(xiàn)象,以使得顯示面板能夠正常顯示。

然而,需要說明的是,本發(fā)明實施例高度h3和高度h1的高度具有微小的誤差,其誤差范圍是在10%內(nèi),當(dāng)高度h1和高度h3之間的差值在誤差范圍內(nèi),均認(rèn)定高度h1和高度h3等高。

以上內(nèi)容是結(jié)合具體的優(yōu)選實施方式對本發(fā)明所作的進(jìn)一步詳細(xì)說明,不能認(rèn)定本發(fā)明的具體實施只局限于這些說明。對于本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說,在不脫離本發(fā)明構(gòu)思的前提下,還可以做出若干簡單推演或替換,都應(yīng)當(dāng)視為屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍。

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