本實(shí)用新型涉及光學(xué)設(shè)備，特別是一種低波紋濾光片。

背景技術(shù)：

光纖通信的熱點(diǎn)必然是光纖到戶（FTTH）和FTTP，這是大家引頸期盼的。FTTH滿足了數(shù)據(jù)、語音、CATV等綜合業(yè)務(wù)對高帶寬的需求。通常采用1310/1490/1550nm三波長單纖三向傳輸技術(shù)．這種傳輸技術(shù)是將1550nm窗口用于下行模擬CATV傳輸，將無制冷1310nm半導(dǎo)體激光二極管光源用于眾多的終端用戶的上行傳輸，下行的數(shù)字傳改用1490nm窗口，通過類WDM的方式將此三方向傳輸復(fù)用到一根光纖中，即三端口高隔離度WDM的技術(shù)。但FTTH要得到普及，關(guān)鍵是降低接入成本。為進(jìn)一步降低接入成本，采用單纖三向傳輸技術(shù)來實(shí)現(xiàn)這種綜合業(yè)務(wù)的傳輸已經(jīng)逐漸成為FTTH技術(shù)發(fā)展的一個主流，這種傳輸技術(shù)采用了點(diǎn)對多點(diǎn)傳輸方式，節(jié)省設(shè)備投資，局端設(shè)備和光纖用量大大減少，系統(tǒng)可靠性較高。

目前，采用普通CWDM濾光片（Filter）的結(jié)構(gòu)來生產(chǎn)三端口高隔離度WDM器件，難以實(shí)現(xiàn)高隔離度，因?yàn)楝F(xiàn)有的鍍膜技術(shù)還不夠完善，濾波片單次透射隔離度可以達(dá)到-45dB以上，但單次反射隔離一般只能做到-15dB，故需要對濾光片的高反膜的層數(shù)和厚度進(jìn)行合理設(shè)計。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型的目的是克服現(xiàn)有技術(shù)中的不足，提供一種高隔離度的低波紋濾光片，該濾光片的反射隔離度大于-20dB。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型所采用的技術(shù)方案是：

一種低波紋濾光片，它是由玻璃基板、高反膜和增透膜構(gòu)成，高反膜設(shè)在玻璃基板的一側(cè)表面，增透膜設(shè)在玻璃基板的另一側(cè)表面；所述高反膜和增透膜都采用多層結(jié)構(gòu)，都是由多個五氧化二鉭反射介質(zhì)層和多個二氧化硅反射介質(zhì)層交替疊放而成,所述高反膜是由44個五氧化二鉭反射介質(zhì)層和44個二氧化硅反射介質(zhì)層構(gòu)成，第1層為五氧化二鉭反射介質(zhì)層，緊貼在玻璃基板的表面，第2層為二氧化硅反射介質(zhì)層，緊貼在第1層的表面，第3層為五氧化二鉭反射介質(zhì)層，緊貼在第2層的表面，以此類推，第88層為二氧化硅反射介質(zhì)層；所述高反膜中，第1層的厚度為357.333um、第2層的厚度為142.3195um 、第3層的厚度為705.6885um、第4層的厚度為193.0970um、第5層的厚度為387.9135um、第6層的厚度為183.0175um、第7層的厚度為410.0675um、第8層的厚度為200.1745um、第9層的厚度為394.9815um、第10層的厚度為199.9750um、第11層的厚度為400.2635um 、第12層的厚度為220.6660um、第13層的厚度為382.2610um、第14層的厚度為228.6270um、第15層的厚度為385.2060um、第16層的厚度為245.2995um、第17層的厚度為369.4645um、第18層的厚度為251.9020um、第19層的厚度為375.9150um 、第20層的厚度為257.9155um、第21層的厚度為364.1540um、第22層的厚度為258.9795um、第23層的厚度為374.1670um、第24層的厚度為259.7490um、第25層的厚度為363.4605um、第26層的厚度為258.8465um、第27層的厚度為375.269um、第28層的厚度為258.7800um、第29層的厚度為363.6505um、第30層的厚度為257.7445um、第31層的厚度為376.3520um 、第32層的厚度為258.3620um、第33層的厚度為363.1565um、第34層的厚度為258.1625um、第35層的厚度為376.6845um、第36層的厚度為259.4070um、第37層的厚度為362.0925um、第38層的厚度為259.2075um、第39層的厚度為377.2450um、第40層的厚度為258.7895um、第41層的厚度為361.1615um、第42層的厚度為261.2500um、第43層的厚度為376.8935um、第44層的厚度為260.2145um、第45層的厚度為361.152um、第46層的厚度為258.3145um、第47層的厚度為378.8790um、第48層的厚度為257.2030um、第49層的厚度為362.4725um、第50層的厚度為255.5595um、第51層的厚度為381.0545um、第52層的厚度為253.1655um、第53層的厚度為364.5625um、第54層的厚度為251.1135um、第55層的厚度為383.6480um、第56層的厚度為248.5580um、第57層的厚度為366.7660um、第58層的厚度為247.2090um、第59層的厚度為385.2345um、第60層的厚度為247.1045um、第61層的厚度為367.2415um、第62層的厚度為246.0120um、第63層的厚度為385.3485um、第64層的厚度為248.1970um、第65層的厚度為365.4555um、第66層的厚度為248.7385um、第67層的厚度為384.0850um、第68層的厚度為250.9520um、第69層的厚度為363.8120um、第70層的厚度為248.2065um、第71層的厚度為385.5670um、第72層的厚度為248.3490um、第73層的厚度為365.0280um、第74層的厚度為239.9130um、第75層的厚度為394.1360um、第76層的厚度為233.434um、第77層的厚度為386.7545um、第78層的厚度為201.2670um、第79層的厚度為118.7975um、第80層的厚度為164.4260um、第81層的厚度為407.1130um、第82層的厚度為206.7770um、第83層的厚度為414.9125um、第84層的厚度為175.4935um、第85層的厚度為385.4530um、第86層的厚度為195.3960um、第87層的厚度為402.1635um、第88層的厚度為301.6155um。

進(jìn)一步地，所述增透膜是由2個五氧化二鉭反射介質(zhì)層和2個二氧化硅反射介質(zhì)層構(gòu)成，第1層為五氧化二鉭反射介質(zhì)層，緊貼在玻璃基板的表面，第2層為二氧化硅反射介質(zhì)層，緊貼在第1層的表面，第3層為五氧化二鉭反射介質(zhì)層，緊貼在第2層的表面，第4層為二氧化硅反射介質(zhì)層，緊貼在第3層的表面。

所述增透膜的厚度為588.41nm。

進(jìn)一步地，所述增透膜中，第1層的厚度為56.47nm，第2層的厚度為74.04nm、第3層的厚度為201.86nm、第四層的厚度為256.04nm。

本實(shí)用新型的有益效果：由于采用上述的結(jié)構(gòu)形式，對濾光片的高反膜的層數(shù)和厚度進(jìn)行合理設(shè)計， 具有高隔離度的特點(diǎn)，能使反射隔離度大于-20dB。

附圖說明

下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式對本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)說明：

圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖中：1、玻璃基板； 2、高反膜； 3、增透膜。

具體實(shí)施方式

如圖1所示，一種低波紋濾光片，它是由玻璃基板1、高反膜2和增透膜3構(gòu)成，高反膜2設(shè)在玻璃基板1的一側(cè)表面，增透膜3設(shè)在玻璃基板1的另一側(cè)表面；所述高反膜2和增透膜3都采用多層結(jié)構(gòu)，都是由多個五氧化二鉭反射介質(zhì)層和多個二氧化硅反射介質(zhì)層交替疊放而成。所述高反膜是由44個五氧化二鉭反射介質(zhì)層和44個二氧化硅反射介質(zhì)層構(gòu)成，第1層為五氧化二鉭反射介質(zhì)層，緊貼在玻璃基板的表面，第2層為二氧化硅反射介質(zhì)層，緊貼在第1層的表面，第3層為五氧化二鉭反射介質(zhì)層，緊貼在第2層的表面，以此類推，第88層為二氧化硅反射介質(zhì)層。

具體來說，所述高反膜中，第1層的厚度為357.333um、第2層的厚度為142.3195um、第3層的厚度為705.6885um、第4層的厚度為193.0970um、第5層的厚度為387.9135um、第6層的厚度為183.0175um、第7層的厚度為410.0675um、第8層的厚度為200.1745um、第9層的厚度為394.9815um、第10層的厚度為199.9750um、第11層的厚度為400.2635um、第12層的厚度為220.6660um、第13層的厚度為382.2610um、第14層的厚度為228.6270um、第15層的厚度為385.2060um、第16層的厚度為245.2995um、第17層的厚度為369.4645um、第18層的厚度為251.9020um、第19層的厚度為375.9150um、第20層的厚度為257.9155um、第21層的厚度為364.1540um、第22層的厚度為258.9795um、第23層的厚度為374.1670um 、第24層的厚度為259.7490um、第25層的厚度為363.4605um、第26層的厚度為258.8465um、第27層的厚度為375.269um、第28層的厚度為258.7800um、第29層的厚度為363.6505um、第30層的厚度為257.7445um、第31層的厚度為376.3520um、第32層的厚度為258.3620um、第33層的厚度為363.1565um、第34層的厚度為258.1625um、第35層的厚度為376.6845um、第36層的厚度為259.4070um、第37層的厚度為362.0925um、第38層的厚度為259.2075um、第39層的厚度為377.2450um、第40層的厚度為258.7895um、第41層的厚度為361.1615um、第42層的厚度為261.2500um、第43層的厚度為376.8935um、第44層的厚度為260.2145um、第45層的厚度為361.152um、第46層的厚度為258.3145um、第47層的厚度為378.8790um、第48層的厚度為257.2030um、第49層的厚度為362.4725um、第50層的厚度為255.5595um、第51層的厚度為381.0545um、第52層的厚度為253.1655um、第53層的厚度為364.5625um、第54層的厚度為251.1135um、第55層的厚度為383.6480um、第56層的厚度為248.5580um、第57層的厚度為366.7660um、第58層的厚度為247.2090um、第59層的厚度為385.2345um、第60層的厚度為247.1045um、第61層的厚度為367.2415um、第62層的厚度為246.0120um、第63層的厚度為385.3485um、第64層的厚度為248.1970um、第65層的厚度為365.4555um、第66層的厚度為248.7385um、第67層的厚度為384.0850um、第68層的厚度為250.9520um、第69層的厚度為363.8120um、第70層的厚度為248.2065um、第71層的厚度為385.5670um、第72層的厚度為248.3490um、第73層的厚度為365.0280um、第74層的厚度為239.9130um、第75層的厚度為394.1360um、第76層的厚度為233.434um、第77層的厚度為386.7545um、第78層的厚度為201.2670um、第79層的厚度為118.7975um、第80層的厚度為164.4260um、第81層的厚度為407.1130um、第82層的厚度為206.7770um、第83層的厚度為414.9125um、第84層的厚度為175.4935um、第85層的厚度為385.4530um、第86層的厚度為195.3960um、第87層的厚度為402.1635um、第88層的厚度為301.6155um。

所述增透膜是由2個五氧化二鉭反射介質(zhì)層和2個二氧化硅反射介質(zhì)層構(gòu)成，第1層為五氧化二鉭反射介質(zhì)層，緊貼在玻璃基板的表面，第2層為二氧化硅反射介質(zhì)層，緊貼在第1層的表面，第3層為五氧化二鉭反射介質(zhì)層，緊貼在第2層的表面，第4層為二氧化硅反射介質(zhì)層，緊貼在第3層的表面。所述增透膜的總厚度為588.41nm，其中，第1層的厚度為56.47nm，第2層的厚度為74.04nm、第3層的厚度為201.86nm、第四層的厚度為256.04nm。

以上所述是本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施方式而已，當(dāng)然不能以此來限定本實(shí)用新型之權(quán)利范圍，應(yīng)當(dāng)指出，對于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，對本實(shí)用新型的技術(shù)方案進(jìn)行修改或者等同替換，都不脫離本實(shí)用新型技術(shù)方案的保護(hù)范圍。