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一種低損耗低驅(qū)動(dòng)電壓的高速偏振控制器及光量子偏振態(tài)控制模塊的制作方法

文檔序號(hào):12249262閱讀:來(lái)源:國(guó)知局

技術(shù)特征:

1.一種低損耗低驅(qū)動(dòng)電壓的高速偏振控制器,其特征在于,包括:基底晶片(5)、下粘接層(6)、鈮酸鋰單晶薄膜(7)、直條型光學(xué)波導(dǎo)(3-1)、下層金屬電極(8)、上層金屬電極(9),

所述基底晶片(5)為光學(xué)級(jí)、雙面拋光的鈮酸鋰或石英晶片,其厚度為0.1mm至2mm;

所述下粘接層(6)為二氧化硅薄膜,位于基底晶片(5)與鈮酸鋰單晶薄膜(7)之間,厚度為0.1μm至5μm;

所述鈮酸鋰單晶薄膜(7)具有單晶結(jié)構(gòu),切向?yàn)閄切Z傳或Y切Z傳,厚度為0.1μm至10μm;

所述直條型光學(xué)波導(dǎo)(3-1)為鈦擴(kuò)散波導(dǎo),其擴(kuò)散寬度為0.1μm至10μm,擴(kuò)散深度為0.1μm至10μm;

所述下層金屬電極(8)為金或鋁薄膜電極,金屬薄膜厚度為0.1μm至30μm,位于直條型光學(xué)波導(dǎo)(3-1)的正下方、掩埋于下粘接層(6)中;

所述上層金屬電極(9)為金或鋁薄膜電極,金屬薄膜厚度為0.1μm至30μm,位于直條型光學(xué)波導(dǎo)(3-1)的上方并分置于直條型光學(xué)波導(dǎo)(3-1)的左右兩側(cè),形成共面電極結(jié)構(gòu)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種低損耗低驅(qū)動(dòng)電壓的高速偏振控制器,其特征在于,還包括金屬封裝管殼殼體(10)、金屬封裝管殼引腳(11)、金線(12)、單孔套管光纖模塊(13-1),金屬封裝管殼引腳(11)通過(guò)金線(12)分別與下層金屬電極(8)和上層金屬電極(9)連接,直條型光學(xué)波導(dǎo)(3-1)的輸入端和輸出端分別與單孔套管光纖模塊(13-1)進(jìn)行耦合粘接。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種低損耗低驅(qū)動(dòng)電壓的高速偏振控制器,其特征在于,刻蝕區(qū)域(A)中的下層金屬電極(8)為通過(guò)干法刻蝕技術(shù)刻蝕掉該部分的鈮酸鋰單晶薄膜(7)露出來(lái)的,下層金屬電極(8)與金屬封裝管殼殼體(10)上的金屬封裝管殼引腳(11)進(jìn)行鍵合引線,上層金屬電極(9)通過(guò)金線(12)與金屬封裝管殼殼體(10)上的金屬封裝管殼引腳(11)進(jìn)行鍵合引線。

4.一種光量子偏振態(tài)控制模塊,其特征在于,包括:基底晶片(5)、下粘接層(6)、鈮酸鋰單晶薄膜(7)、直條型光學(xué)波導(dǎo)(3-1)、下層金屬電極(8)、上層金屬電極(9)、定向耦合器型光學(xué)波導(dǎo)(3-2)、金屬封裝管殼,

所述基底晶片(5)為光學(xué)級(jí)、雙面拋光的鈮酸鋰或石英晶片,其厚度為0.1mm至2mm;

所述下粘接層(6)為二氧化硅薄膜,位于基底晶片(5)與鈮酸鋰單晶薄膜(7)之間,厚度為0.1μm至5μm;

所述鈮酸鋰單晶薄膜(7)具有單晶結(jié)構(gòu),切向?yàn)閄切Z傳或Y切Z傳,厚度為0.1μm至10μm;

所述直條型光學(xué)波導(dǎo)(3-1)為鈦擴(kuò)散波導(dǎo),其擴(kuò)散寬度為0.1μm至10μm,擴(kuò)散深度為0.1μm至5μm;

所述下層金屬電極(8)為金或鋁薄膜電極,金屬薄膜厚度為0.1μm至30μm,位于直條型光學(xué)波導(dǎo)(3-1)的正下方、掩埋于下粘接層(6)中;

所述上層金屬電極(9)為金或鋁薄膜電極,金屬薄膜厚度為0.1μm至30μm,位于直條型光學(xué)波導(dǎo)(3-1)的上方并分置于直條型光學(xué)波導(dǎo)的左右兩側(cè),形成共面電極結(jié)構(gòu);

所述定向耦合器型光學(xué)波導(dǎo)(3-2)為鈦擴(kuò)散波導(dǎo),采用定向耦合器型結(jié)構(gòu),其擴(kuò)散寬度為0.1μm至10μm,擴(kuò)散深度為0.1μm至10μm。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種光量子偏振態(tài)控制模塊,其特征在于,所述金屬封裝管殼包括:金屬封裝管殼殼體(10)、金屬封裝管殼引腳(11)、金線(12)、單孔套管光纖模塊(13-1)、雙孔套管光纖模塊或雙套管光纖模塊(13-2);金屬封裝管殼引腳(11)通過(guò)金線(12)分別與下層金屬電極(8)和上層金屬電極(9)連接,直條型光學(xué)波導(dǎo)(3-1)的輸入端、定向耦合器型光學(xué)波導(dǎo)(3-2)的輸出端分別與單孔套管光纖模塊(13-1)、雙孔套管光纖模塊或雙套管光纖模塊(13-2)進(jìn)行耦合粘接。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種光量子偏振態(tài)控制模塊,其特征在于,單孔套管光纖模塊(13-1)包括單孔的鈮酸鋰套管或玻璃套管以及一根單模光纖或保偏光纖,粘接于直條型光學(xué)波導(dǎo)(3-1)的輸入端,雙孔套管光纖模塊或雙套管光纖模塊(13-2)包括雙孔的鈮酸鋰套管或玻璃套管,或兩個(gè)單孔的鈮酸鋰套管或玻璃套管,套管的雙孔或兩個(gè)單孔各穿有一根單模光纖或保偏光纖,雙孔套管光纖模塊或雙套管光纖模塊(13-2)粘接于定向耦合器型光學(xué)波導(dǎo)(3-2)的輸出端。

7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種光量子偏振態(tài)控制模塊,其特征在于,刻蝕區(qū)域(A)中的下層金屬電極(8)為通過(guò)干法刻蝕技術(shù)刻蝕掉該部分的鈮酸鋰單晶薄膜(7)露出來(lái)的,下層金屬電極(8)與金屬封裝管殼殼體(10)上的金屬封裝管殼引腳(11)進(jìn)行鍵合引線,上層金屬電極(9)通過(guò)金線(12)與金屬封裝管殼殼體(10)上的金屬封裝管殼引腳(11)。

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