本實用新型涉及半導(dǎo)體集成電路制造領(lǐng)域，且特別涉及一種涂膠顯影設(shè)備涂敷單元。

背景技術(shù)：

目前，在半導(dǎo)體器件的制造中，通常利用涂膠顯影設(shè)備(Automatic clean track，ACT)進行涂覆光刻膠和顯影。通常ACT設(shè)備具有晶片盒站、涂敷單元、顯影單元以及機械手臂等。

涂膠顯影設(shè)備是集成電路芯片制造過程中涂敷感光膠并加溫固化，圖形曝光后再進行顯影成型的設(shè)備。涂敷單元是實現(xiàn)光刻膠涂在基片表面的工序。涂敷單元的作用還有，在涂膠的同時防止光刻膠外濺，收集多余的濺出光刻膠集中排到集膠桶以便回收。該單元和排氣系統(tǒng)相連可同時排除異味。

原設(shè)備涂敷單元僅適配8吋硅片。隨著LED產(chǎn)業(yè)及其它新型器件的興起，需要設(shè)備適用4吋藍寶石片或其它襯底基片生產(chǎn)。因此需要改造設(shè)備相關(guān)功能，滿足客戶生產(chǎn)需求。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本實用新型提出一種涂膠顯影設(shè)備涂敷單元，適用于多種尺寸基片的處理，節(jié)約購機成本，從而降低了生產(chǎn)成本。

為了達到上述目的，本實用新型提出一種涂膠顯影設(shè)備涂敷單元，包括：

下蓋，其結(jié)構(gòu)適配于第一尺寸基片和第二尺寸基片；

上蓋和內(nèi)蓋，位于所述下蓋上方，其結(jié)構(gòu)適配于第二尺寸基片；

吸盤，穿設(shè)所述下蓋、上蓋和內(nèi)蓋，用于吸附基片；

鐵盤，設(shè)置于所述吸盤外周，其上設(shè)置有清除基片背部殘留化學(xué)品的背清噴頭，以及收集廢液的孔。

進一步的，所述下蓋下方設(shè)置有底盤，所述底盤外接有排風(fēng)和廢液管。

進一步的，所述第一尺寸基片為8吋基片，所述第二尺寸基片為4吋基片。

進一步的，所述上蓋和內(nèi)蓋可替換為結(jié)構(gòu)適配于第一尺寸基片的組件。

進一步的，所述上蓋和內(nèi)蓋的材料采用聚四氟乙烯制成。

進一步的，所述內(nèi)蓋上對稱割開有2條開口，使得所述背清噴頭可對基片背部進行清潔。

進一步的，所述內(nèi)蓋上的開口寬度為2mm。

進一步的，所述鐵盤的材料采用不銹鋼制成。

本實用新型提出的涂膠顯影設(shè)備涂敷單元，適用于多種尺寸基片的處理，可以實現(xiàn)同一臺機器上即可生產(chǎn)8吋基片又可生產(chǎn)4吋基片，客戶自己現(xiàn)場更換選件即可，這樣可以節(jié)約購機成本。材料選用聚四氟乙烯(特氟龍)，化學(xué)性能穩(wěn)定，防腐性能好，便于裝配，易于清理。模壓成型，一致性好，便于互換。在內(nèi)蓋上對稱割開2條2mm寬度的開口，可以使原來安裝的背清噴頭繼續(xù)發(fā)揮作用，噴頭內(nèi)噴出的有機溶劑可以根據(jù)實際生產(chǎn)中的菜單調(diào)整位置，對硅片背部做有效的清潔。

附圖說明

圖1所示為本實用新型較佳實施例的適配4吋基片的涂膠顯影設(shè)備涂敷單元結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2所示為本實用新型較佳實施例的適配8吋基片的涂膠顯影設(shè)備涂敷單元結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實施方式

以下結(jié)合附圖給出本實用新型的具體實施方式，但本實用新型不限于以下的實施方式。根據(jù)下面說明和權(quán)利要求書，本實用新型的優(yōu)點和特征將更清楚。需說明的是，附圖均采用非常簡化的形式且均使用非精準的比率，僅用于方便、明晰地輔助說明本實用新型實施例的目的。

請參考圖1和圖2，圖1和圖2所示為本實用新型較佳實施例的涂膠顯影設(shè)備涂敷單元結(jié)構(gòu)示意圖。本實用新型提出一種涂膠顯影設(shè)備涂敷單元，包括：下蓋100，其結(jié)構(gòu)適配于第一尺寸基片和第二尺寸基片；上蓋200和內(nèi)蓋300，位于所述下蓋100上方，其結(jié)構(gòu)適配于第二尺寸基片；吸盤400，穿設(shè)所述下蓋100、上蓋200和內(nèi)蓋300，用于吸附基片500；鐵盤，設(shè)置于所述吸盤400外周，其上設(shè)置有清除基片背部殘留化學(xué)品的背清噴頭，以及收集廢液的孔。

根據(jù)本實用新型較佳實施例，所述下蓋100下方設(shè)置有底盤，所述底盤外接有排風(fēng)和廢液管，主要作用是用來承接生產(chǎn)過程中的廢液，以及保證整個單元內(nèi)的環(huán)境。

所述第一尺寸基片為8吋基片，所述第二尺寸基片為4吋基片。所述上蓋和內(nèi)蓋可替換為結(jié)構(gòu)適配于第一尺寸基片的組件280、380，實現(xiàn)同一臺機器上即可生產(chǎn)8吋基片580又可生產(chǎn)4吋基片500?？蛻糇约含F(xiàn)場更換選件即可，這樣可以節(jié)約購機成本。

所述上蓋200和內(nèi)蓋300的材料采用聚四氟乙烯制成，化學(xué)性能穩(wěn)定，防腐性能好，便于裝配，易于清理。同時采用模壓成型，一致性好，便于互換。上蓋200需保證基片的裝載因此其內(nèi)孔需比基片大，但也不能太大，如太大，當(dāng)生產(chǎn)中的廢液甩出時將不能進行有效的遮擋。內(nèi)蓋300需承接生產(chǎn)過程中產(chǎn)生的廢液，因此需配合基片的尺寸，不能太大也不能太小。

所述內(nèi)蓋300上對稱割開有2條開口，使得所述背清噴頭可對基片背部進行清潔。進一步的，所述內(nèi)蓋300上的開口寬度為2mm?？梢允乖瓉戆惭b的背清噴頭繼續(xù)發(fā)揮作用，噴頭內(nèi)噴出的有機溶劑可以根據(jù)實際生產(chǎn)中的菜單調(diào)整位置，對基片背部做有效的清潔。

所述鐵盤的材料采用不銹鋼制成。上面安裝有清除硅片背部殘留化學(xué)品的背清噴頭，以及收集廢液的孔。理論上大部分的廢液多從內(nèi)蓋那邊流走，這里的量非常小，但不能說沒有。鐵盤是為8吋基片設(shè)計的，因此8吋基片內(nèi)蓋的邊緣正好卡在那些收集廢液的孔的邊緣，不會遮擋孔。適配8吋基片的內(nèi)蓋因為縮小孔徑，因此會遮擋住這些孔，因此內(nèi)蓋邊緣不再跟鐵盤接觸。而且因為內(nèi)蓋遮擋了背清噴頭，因此在內(nèi)蓋上有開兩條縫，可以讓背清液體噴出。

綜上所述，本實用新型提出的涂膠顯影設(shè)備涂敷單元，適用于多種尺寸基片的處理，可以實現(xiàn)同一臺機器上即可生產(chǎn)8吋基片又可生產(chǎn)4吋基片，客戶自己現(xiàn)場更換選件即可，這樣可以節(jié)約購機成本。材料選用聚四氟乙烯(特氟龍)，化學(xué)性能穩(wěn)定，防腐性能好，便于裝配，易于清理。模壓成型，一致性好，便于互換。在內(nèi)蓋上對稱割開2條2mm寬度的開口，可以使原來安裝的背清噴頭繼續(xù)發(fā)揮作用，噴頭內(nèi)噴出的有機溶劑可以根據(jù)實際生產(chǎn)中的菜單調(diào)整位置，對硅片背部做有效的清潔。

雖然本實用新型已以較佳實施例揭露如上，然其并非用以限定本實用新型。本實用新型所屬技術(shù)領(lǐng)域中具有通常知識者，在不脫離本實用新型的精神和范圍內(nèi)，當(dāng)可作各種的更動與潤飾。因此，本實用新型的保護范圍當(dāng)視權(quán)利要求書所界定者為準。