本發(fā)明涉及用于對帶狀的工件進(jìn)行曝光處理的曝光裝置。

背景技術(shù)：

在輸送帶狀的工件的情況下，通常在工件的寬度方向上產(chǎn)生蜿蜒，因此在由曝光裝置進(jìn)行曝光處理時，需要進(jìn)行帶狀的工件與用于在工件形成電路圖案的光掩模之間的對位。

作為這樣的曝光裝置，通常采用如下方法：在帶狀的工件和光掩模上分別設(shè)置對準(zhǔn)標(biāo)記，基于這些對準(zhǔn)標(biāo)記的位置信息來進(jìn)行對位。

并且，專利文獻(xiàn)1公開了這樣的曝光裝置的一例。

該專利文獻(xiàn)1所公開的曝光裝置110如圖7所示，首先，將光掩模140與工件1對置配置，以使光掩模140的對準(zhǔn)標(biāo)記a2位于工件1的寬度方向的外緣的外側(cè)。

然后，一邊由照明機構(gòu)170從光掩模140側(cè)照射光，一邊由相機160a、160b分別確認(rèn)光掩模140的對準(zhǔn)標(biāo)記a2和工件1的對準(zhǔn)標(biāo)記a1。

接著，在進(jìn)行對位的情況下，通過移動光掩模140或工件1以使光掩模140的兩個對準(zhǔn)標(biāo)記a2的中點、工件1的兩個對準(zhǔn)標(biāo)記a1的中點、以及曝光裝置110的曝光光的中心ep重合，由此進(jìn)行對位。

在先技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：日本特開2001-235877號公報

技術(shù)實現(xiàn)要素：

發(fā)明所要解決的課題

然而，在使用專利文獻(xiàn)1所公開的那樣的曝光裝置110的情況下，在曝光處理之前需要進(jìn)行在工件1形成對準(zhǔn)標(biāo)記a1的工序，存在制造工序變多這一問題點。

本發(fā)明是解決上述問題的發(fā)明，其目的在于提供在對帶狀的工件實施曝光處理的情況下、無需進(jìn)行復(fù)雜的工序就能夠精度良好地實施曝光處理的曝光裝置。

用于解決課題的方案

為了解決上述問題，本發(fā)明的曝光裝置的特征在于，具備：

工件輸送機構(gòu)，其輸送作為曝光處理對象的帶狀的工件；

曝光光源，其配設(shè)為與所述工件的一方的主面對置，且產(chǎn)生向所述工件照射的曝光光；

光掩模，其配設(shè)于由所述工件輸送機構(gòu)輸送的所述工件與所述曝光光源之間，所述光掩模具有在與所述工件的寬度方向上的端部對置的位置配置的使光透過的多個透射窗；

拍攝機構(gòu)，其配設(shè)為與所述工件的一方的主面或另一方的主面對置，且以所述工件的所述端部位于所述透射窗各自的區(qū)域內(nèi)的形態(tài)拍攝所述光掩模的多個所述透射窗；以及

位置調(diào)整機構(gòu)，其相對地調(diào)整所述工件與所述光掩模的位置關(guān)系，

所述曝光裝置構(gòu)成為：能夠根據(jù)由所述拍攝機構(gòu)拍攝得到的、所述透射窗的位置與從所述透射窗識別到的所述工件的所述端部的位置之間的關(guān)系，通過所述位置調(diào)整機構(gòu)來相對地調(diào)整所述工件與所述光掩模的位置關(guān)系，以使所述工件與所述光掩模的位置關(guān)系成為目標(biāo)的位置關(guān)系。

在本發(fā)明的曝光裝置中，優(yōu)選的是，所述光掩模具備多個與所述工件的寬度方向上的一對端部分別對置的透射窗，并且，

所述位置調(diào)整機構(gòu)構(gòu)成為能夠相對地調(diào)整所述工件與所述光掩模的在所述工件的寬度方向上的位置關(guān)系，

所述曝光裝置構(gòu)成為：能夠根據(jù)由所述拍攝機構(gòu)拍攝得到的、多個所述透射窗的位置與從多個所述透射窗識別到的所述工件的所述一對端部的位置之間的關(guān)系，通過所述位置調(diào)整機構(gòu)來相對地調(diào)整所述工件與所述光掩模的所述寬度方向上的位置關(guān)系，以使所述工件與所述光掩模的寬度方向上的位置關(guān)系成為目標(biāo)的位置關(guān)系。

在構(gòu)成為能夠根據(jù)多個透射窗的位置與從多個透射窗識別到的工件的一對端部的位置之間的關(guān)系進(jìn)行調(diào)整、以使工件與光掩模的寬度方向上的位置關(guān)系成為目標(biāo)的位置關(guān)系的情況下，關(guān)于工件與光掩模的寬度方向上的位置關(guān)系，能夠進(jìn)行更高精度的對位。

另外，優(yōu)選的是，所述光掩模具備多個與所述工件的寬度方向上的一對端部中的一側(cè)端部對置的透射窗，并且，

所述位置調(diào)整機構(gòu)構(gòu)成為能夠相對地調(diào)整所述工件與所述光掩模的在與所述工件的主面平行的旋轉(zhuǎn)方向上的位置關(guān)系，

所述曝光裝置構(gòu)成為：能夠根據(jù)由所述拍攝機構(gòu)拍攝得到的、多個所述透射窗的位置與從多個所述透射窗識別到的所述工件的所述一側(cè)端部的位置之間的關(guān)系，通過所述位置調(diào)整機構(gòu)來相對地調(diào)整所述工件與所述光掩模的所述旋轉(zhuǎn)方向上的位置關(guān)系，以使所述工件與所述光掩模的旋轉(zhuǎn)方向上的位置關(guān)系成為目標(biāo)的位置關(guān)系。

在構(gòu)成為能夠根據(jù)多個透射窗的位置與從多個透射窗識別到的工件的一側(cè)端部的位置之間的關(guān)系進(jìn)行調(diào)整、以使工件與光掩模的旋轉(zhuǎn)方向上的位置關(guān)系成為目標(biāo)的位置關(guān)系的情況下，關(guān)于工件與光掩模的旋轉(zhuǎn)方向上的位置關(guān)系，能夠進(jìn)行更高精度的對位。

另外，優(yōu)選的是，所述位置調(diào)整機構(gòu)構(gòu)成為調(diào)整所述光掩模的位置以及所述工件的位置中的至少一方。

作為位置調(diào)整機構(gòu)而使用構(gòu)成為調(diào)整光掩模以及工件中的任一方的位置的調(diào)整機構(gòu)，由此能夠不招致裝置結(jié)構(gòu)的復(fù)雜化而可靠地調(diào)整上述位置關(guān)系，能夠使本發(fā)明更具實效。

但是，也可以根據(jù)情況而構(gòu)成為調(diào)整光掩模以及工件雙方的位置。

另外，優(yōu)選的是，所述曝光裝置具備工件保持機構(gòu)，該工件保持機構(gòu)構(gòu)成為：在對所述工件進(jìn)行曝光時，能夠吸引所述工件并將所述工件保持于規(guī)定位置，且在所述工件的輸送時，能夠噴出氣體而使所述工件浮起進(jìn)行輸送。

通過具備上述結(jié)構(gòu)，工件不會一邊與工件保持機構(gòu)刮擦一邊被輸送，因此能夠提供能夠不給工件帶來損害而順暢地輸送的可靠性高的曝光裝置。

發(fā)明效果

本發(fā)明的曝光裝置構(gòu)成為能夠根據(jù)由拍攝機構(gòu)拍攝得到的、透射窗的位置與從透射窗識別到的工件的端部的位置之間的關(guān)系，通過位置調(diào)整機構(gòu)來相對地調(diào)整工件與光掩模的位置關(guān)系，以使工件與光掩模的位置關(guān)系成為目標(biāo)的位置關(guān)系，因此能夠不使用工件的對準(zhǔn)標(biāo)記而進(jìn)行帶狀的工件的位置調(diào)整，無需在工件形成對準(zhǔn)標(biāo)記就能夠效率良好地進(jìn)行高精度的曝光處理。其結(jié)果是，能夠效率良好地制造出通過對帶狀的工件進(jìn)行曝光處理的工序而制造的電子部件等產(chǎn)品。

附圖說明

圖1是本發(fā)明的實施方式的曝光裝置的簡要俯視圖。

圖2是圖1所示的曝光裝置的主視圖(a-a剖視圖)。

圖3是圖1所示的曝光裝置的側(cè)視圖(b-b剖視圖)。

圖4是從箭頭c(圖2)側(cè)對圖2所示的曝光裝置的工件和光掩模進(jìn)行觀察的情況的圖。

圖5是表示由本發(fā)明的實施方式的曝光裝置輸送工件時的狀態(tài)的圖。

圖6是表示本發(fā)明的實施方式的曝光裝置的變形例的圖。

圖7是表示以往的曝光裝置的圖，(a)是俯視圖，(b)是側(cè)視圖。

具體實施方式

接著，示出本發(fā)明的實施方式來進(jìn)一步詳細(xì)說明本發(fā)明。

如圖1～3所示，本發(fā)明的實施方式的曝光裝置10具備作為進(jìn)行曝光處理的區(qū)域的曝光處理部11、和將作為曝光處理對象的帶狀的工件1沿著工件1的長邊方向(x方向)輸送的工件輸送機構(gòu)20。

工件輸送機構(gòu)20構(gòu)成為通過間歇驅(qū)動而將工件1的接下來應(yīng)進(jìn)行曝光處理的區(qū)域pn+1向在曝光處理部11中進(jìn)行曝光處理的規(guī)定的區(qū)域(即，與光掩模40的用于使曝光光通過而對工件1進(jìn)行曝光的曝光圖案部41對應(yīng)的區(qū)域)41p輸送，并且將工件1的被輸送至與曝光圖案部41對應(yīng)的區(qū)域41p并進(jìn)行曝光處理后的區(qū)域pn向曝光處理部11的外側(cè)的區(qū)域pn-1排出。作為工件輸送機構(gòu)20，例如使用多個輸送輥等。

在曝光處理部11配設(shè)有工件保持機構(gòu)25。

工件保持機構(gòu)25具備用于吸引工件1的吸引孔26，且構(gòu)成為：在對工件1進(jìn)行曝光時，能夠從吸引孔26進(jìn)行吸引而將工件1保持于規(guī)定位置，在工件1的輸送時，能夠從吸引孔26噴出氣體而使工件1浮起進(jìn)行輸送。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，工件1不會一邊與工件保持機構(gòu)25刮擦一邊被輸送，因此能夠不給工件1帶來損害而順暢地輸送。

需要說明的是，吸引孔26與能夠切換吸引開啟/關(guān)閉的狀態(tài)的電磁閥(未圖示)連接。

但是，在不用擔(dān)心工件1發(fā)生損傷的那樣的情況下，無需使工件1浮起進(jìn)行輸送，也無需構(gòu)成為從工件保持機構(gòu)25的吸引孔26噴射氣體。

本實施方式的曝光處理對象即工件1例如是在pet膜依次層疊樹脂層、金屬層、感光層而形成的片材。在該工件1沒有形成用于進(jìn)行對位的對準(zhǔn)標(biāo)記。

在被輸送至曝光處理部11的工件1的一方的主面1h側(cè)(圖2中的上方)配設(shè)有產(chǎn)生向工件1照射的曝光光的曝光光源30。作為曝光光源30，使用產(chǎn)生能夠使工件1的感光層感光的波長(例如200nm～600nm)的光源。

在工件1與曝光光源30之間配設(shè)有光掩模40，以使光掩模40與工件1的主面1h平行。

工件1的主面1h與光掩模40的間隔例如為0.01mm～0.2mm，以成為接近式曝光條件的間隔進(jìn)行設(shè)定。

光掩模40通過將遮擋光的遮光膜40b以規(guī)定圖案添加于具有透光性的掩模主體40a而形成。

即，光掩模40具備由透光性材料構(gòu)成的掩模主體40a和形成于掩模主體40a的一側(cè)主面(在本實施方式中為下表面)的遮光膜40b，且具有用于在工件1形成電路圖案的曝光圖案部41(與上述的區(qū)域pn對應(yīng)的區(qū)域)和在位于該曝光圖案部41的外側(cè)的掩模外周部45設(shè)置的使光透過的多個(在本實施方式中為三個)透射窗42a、42b、42c。

需要說明的是，透射窗42a～42c通過在掩模外周部45處將遮擋光的遮光膜40b以規(guī)定的形態(tài)(在成為透射窗42a～42c的區(qū)域不存在遮光膜40b這樣的形態(tài))添加于掩模主體40a而形成。

三個透射窗42a～42c中的兩個透射窗42a、42b配置于與工件1的寬度方向(y方向)的一對端部(一側(cè)端部1a、另一側(cè)端部1b)分別對置的位置。

另外，三個透射窗42a～42c中的兩個透射窗42a、42c配置于與工件1的一對端部1a、1b中的一側(cè)端部1a對置的位置。

本實施方式的透射窗42a～42c為方形，具有與工件1的寬度方向平行的一對緣部e和與工件1的寬度方向正交的一對緣部f(參照圖4)。

光掩模40由具備吸引功能的掩模保持機構(gòu)47吸引保持(參照圖3)。掩模保持機構(gòu)47經(jīng)由支承構(gòu)件48而安裝于寬度方向的位置調(diào)整機構(gòu)51和旋轉(zhuǎn)方向的位置調(diào)整機構(gòu)52，所述寬度方向的位置調(diào)整機構(gòu)51能夠沿著工件1的寬度方向(y方向)調(diào)整光掩模40的位置，所述旋轉(zhuǎn)方向的位置調(diào)整機構(gòu)52能夠沿著與工件1的主面1h平行的旋轉(zhuǎn)方向(θ方向)調(diào)整光掩模40的位置。

由此，光掩模40構(gòu)成為能夠調(diào)整寬度方向(y方向)和旋轉(zhuǎn)方向(θ方向)的位置。

需要說明的是，作為寬度方向的位置調(diào)整機構(gòu)51，例如使用單軸機器人，作為旋轉(zhuǎn)方向的位置調(diào)整機構(gòu)52，例如使用旋轉(zhuǎn)式單軸工作臺。

在被輸送至曝光處理部11的工件1的另一方的主面1i側(cè)(圖2中的下方)的與光掩模40的透射窗42a、42b、42c對置的位置，配設(shè)有多個拍攝機構(gòu)60a、60b、60c。拍攝機構(gòu)60a～60c例如使用ccd相機等，各拍攝機構(gòu)60a～60c構(gòu)成為對透射窗42a～42c分別進(jìn)行拍攝。

并且，如圖4所示，構(gòu)成為能夠以工件1的一對端部1a、1b分別位于透射窗42a、42b、42c各自的區(qū)域內(nèi)43a、43b、43c的形態(tài)進(jìn)行拍攝。

該曝光裝置10具備控制機構(gòu)(未圖示)，該控制機構(gòu)根據(jù)由拍攝機構(gòu)60a、60b拍攝得到的、透射窗42a、42b的位置與從透射窗42a、42b識別到的工件1的一對端部1a、1b的位置之間的關(guān)系，來求出工件1與光掩模40的寬度方向(y方向)上的位置關(guān)系，并進(jìn)行控制以使該關(guān)系成為目標(biāo)的位置關(guān)系。

并且，構(gòu)成為根據(jù)來自該控制機構(gòu)的指令而驅(qū)動寬度方向的位置調(diào)整機構(gòu)51，使光掩模40沿著y方向移動以使工件1與光掩模40的寬度方向上的位置關(guān)系成為目標(biāo)的位置關(guān)系，由此能夠相對地調(diào)整工件1與光掩模40的寬度方向(y方向)上的位置關(guān)系。

另外，該控制機構(gòu)構(gòu)成為，能夠根據(jù)由拍攝機構(gòu)60a、60c拍攝得到的、透射窗42a、42c的位置與從透射窗42a、42c識別到的工件1的一側(cè)端部1a的位置之間的關(guān)系，來求出工件1與光掩模40的旋轉(zhuǎn)方向(θ方向)上的位置關(guān)系，并進(jìn)行控制以使該關(guān)系成為目標(biāo)的位置關(guān)系。

并且，該曝光裝置10構(gòu)成為根據(jù)來自該控制機構(gòu)的指令而驅(qū)動旋轉(zhuǎn)方向的位置調(diào)整機構(gòu)52，使光掩模40沿著θ方向旋轉(zhuǎn)以使工件1與光掩模40的旋轉(zhuǎn)方向上的位置關(guān)系成為目標(biāo)的位置關(guān)系，由此能夠相對地調(diào)整工件1與光掩模40的旋轉(zhuǎn)方向(θ方向)上的位置關(guān)系。

需要說明的是，在該曝光裝置10中，在光掩模40的上方的與拍攝機構(gòu)60a、60b、60c對置的位置，分別配設(shè)有多個照明機構(gòu)70a、70b、70c。

照明機構(gòu)70a～70c具有：發(fā)光部71，其與光掩模40接近地配置；和遮光部72，其設(shè)置于比發(fā)光部71靠曝光光源30側(cè)的位置，對向拍攝機構(gòu)60a～60c照射的曝光光源30的曝光光進(jìn)行遮擋。作為發(fā)光部71，使用產(chǎn)生能夠由拍攝機構(gòu)60a～60c適當(dāng)?shù)貙ぜ?的端部1a、1b、透射窗42a～42c進(jìn)行拍攝的波長(例如400nm～800nm)的發(fā)光體。需要說明的是，在與能夠使工件1的感光層感光的波長重疊的情況下，優(yōu)選采取通過濾光片的追加等來避免被發(fā)光部71的光所曝光這樣的措施。

接著，說明使用上述的曝光裝置10來對工件1進(jìn)行曝光處理的方法。

首先，由工件輸送機構(gòu)20沿著長邊方向(x方向)輸送帶狀的工件1，在使工件1位于曝光處理部11的狀態(tài)下，由工件保持機構(gòu)25吸引保持工件1。

接著，由拍攝機構(gòu)60a～60c分別拍攝光掩模40的透射窗42a～42c。此時，由照明機構(gòu)70a～70c向透射窗42a～42c照射照明光。

然后，根據(jù)拍攝得到的、透射窗42a～42c的位置與從透射窗42a～42c識別到的工件1的一對端部1a、1b的位置之間的關(guān)系，相對地調(diào)整工件1與光掩模40的位置關(guān)系，以使工件1與光掩模40的位置關(guān)系成為目標(biāo)的位置關(guān)系。

具體而言，采用以下所示的方法來調(diào)整位置關(guān)系。

首先，通過控制機構(gòu)針對各個透射窗42a～42c求出拍攝得到的工件1的寬度方向上的端部1a、1b與方形狀的透射窗42a～42c的與寬度方向(y方向)正交的緣部f之間的距離y1(y1a、y1b、y1c)。

接著，驅(qū)動寬度方向的位置調(diào)整機構(gòu)51，調(diào)整光掩模40的相對于工件1的寬度方向(y方向)上的位置，以使得針對沿著寬度方向(y方向)相鄰配設(shè)的透射窗42a、42b而求出的各個距離y1(y1a、y1b)相等(或距離之差處于規(guī)定范圍內(nèi))，從而能夠分別識別到工件1的寬度方向的一對端部1a、1b。

另外，驅(qū)動旋轉(zhuǎn)方向的位置調(diào)整機構(gòu)52，調(diào)整光掩模40的相對于工件1的旋轉(zhuǎn)方向(θ方向)上的位置，以使得針對沿著長邊方向(x方向)相鄰配設(shè)的透射窗42a、42c而求出的各個距離y1(y1a、y1c)相等(或距離之差處于規(guī)定范圍內(nèi))，從而能夠在兩個部位識別到工件1的一側(cè)端部1a。

然后，在光掩模40的相對于工件1的位置調(diào)整結(jié)束之后，由曝光光源30對工件1照射曝光光。

在進(jìn)行了曝光處理之后，沿著長邊方向輸送工件1，將工件1的進(jìn)行曝光處理后的區(qū)域pn從曝光處理部11排出，并且將工件1的接下來應(yīng)進(jìn)行曝光處理的區(qū)域pn+1輸送至曝光處理部11。

需要說明的是，通過從工件保持機構(gòu)25的吸引孔26噴出氣體而將工件1以從工件保持機構(gòu)25上浮后的狀態(tài)輸送。

此時，在工件1有可能與照明機構(gòu)70a～70c接觸而損傷的情況下，也可以如圖5所示那樣構(gòu)成為，設(shè)置用于使光掩模40和照明機構(gòu)70a～70c上下移動的上下移動機構(gòu)53，在使光掩模40和照明機構(gòu)70a～70c向上方退避之后，從工件保持機構(gòu)25的吸引孔26噴出氣體而使工件1浮起進(jìn)行輸送。

以后，能夠通過反復(fù)進(jìn)行上述那樣的工序來依次進(jìn)行曝光處理。

在本發(fā)明的一實施方式的上述的曝光裝置中，根據(jù)由拍攝機構(gòu)拍攝得到的透射窗的位置與從透射窗識別到的工件的端部的位置之間的關(guān)系，通過位置調(diào)整機構(gòu)調(diào)整工件與光掩模的位置關(guān)系，以使工件與光掩模的位置關(guān)系成為目標(biāo)的位置關(guān)系，因此能夠不依賴工件的對準(zhǔn)標(biāo)記而調(diào)整帶狀的工件與光掩模的位置關(guān)系。

因此，無需在工件形成對準(zhǔn)標(biāo)記就能夠效率良好地進(jìn)行高精度的曝光處理。

結(jié)果是，能夠效率良好地制造出通過對帶狀的工件進(jìn)行曝光處理的工序而制造的電子部件等產(chǎn)品。

需要說明的是，在上述實施方式中示出了為了調(diào)整工件1與光掩模40的相對位置關(guān)系而使光掩模40移動的形態(tài)，但電可以采用使工件1移動的形態(tài)。

即，也可以是，如圖6所示，向工件保持機構(gòu)25安裝寬度方向的位置調(diào)整機構(gòu)51和旋轉(zhuǎn)方向的位置調(diào)整機構(gòu)52，使保持于工件保持機構(gòu)25的工件1移動，由此調(diào)整工件1與光掩模40的相對位置關(guān)系。在該情況下，也能夠得到與上述的實施方式的效果同樣的效果。

另外，在上述實施方式中采用了將拍攝機構(gòu)60a～60c配設(shè)于工件1的另一方的主面1i側(cè)的這樣的結(jié)構(gòu)，但也可以將拍攝機構(gòu)60a～60c配設(shè)于工件1的一方的主面1h側(cè)并進(jìn)行拍攝(參照圖6)。

需要說明的是，在本發(fā)明中，將拍攝機構(gòu)配置為與工件的一方或另一方的主面對置是指，不限于將包括透鏡、傳感器的拍攝機構(gòu)主體配置為與工件的一方或另一方的主面對置的情況，也包括將構(gòu)成拍攝機構(gòu)的反射鏡、棱鏡等構(gòu)件配置為與工件的一方或另一方的主面對置的情況的寬泛的概念。

另外，在上述實施方式中示出了使用由拍攝機構(gòu)60a～60c拍攝得到的位置關(guān)系(透射窗42a～42c的位置與工件1的寬度方向的端部1a、1b的位置之間的關(guān)系)、來對被輸送至曝光處理部11的工件1進(jìn)行光掩模40的位置調(diào)整、之后進(jìn)行曝光處理的實施方式，但也可以將拍攝得到的上述位置關(guān)系的信息用于在接下來的拍攝(shot)中進(jìn)行曝光處理時。

即，也可以構(gòu)成為：在將工件1的接下來應(yīng)進(jìn)行曝光處理的區(qū)域pn+1向曝光處理部11輸送時，預(yù)先進(jìn)行光掩模40的位置調(diào)整以使曝光處理部11處的上述位置關(guān)系成為目標(biāo)的位置關(guān)系，在上述區(qū)域pn+1被輸送至曝光處理部11之后，不進(jìn)行位置調(diào)整地執(zhí)行曝光處理。在該情況下，也能夠得到與上述的實施方式的效果同樣的效果。

另外，從減少工件1的損失來實現(xiàn)成本的降低的觀點出發(fā)，被進(jìn)行曝光處理的各區(qū)域的間隔優(yōu)選設(shè)為盡量小。

需要說明的是，具體而言，可以將上述的各區(qū)域的間隔例如設(shè)為0mm～4mm。

另外，本發(fā)明中的光掩模40的透射窗42a～42c的形狀沒有特別的制約，也可以設(shè)為多邊形、圓形或橢圓形。

另外，在上述實施方式中，通過控制機構(gòu)，針對各個透射窗42a～42c而求出拍攝得到的工件1的寬度方向的端部1a、1b與方形狀的透射窗42a～42c的與寬度方向(y方向)正交的緣部f之間的距離y1(y1a、y1b、y1c)，但若是與工件的寬度方向的端部對置的位置，則也可以求出工件的寬度方向的端部與光掩模40的除了方形狀的透射窗42a～42c的和寬度方向(y方向)正交的緣部f以外的規(guī)定部位之間的距離。

另外，在本發(fā)明中，在工件1為由多層構(gòu)成的多層片材的情況下，在由拍攝機構(gòu)60a～60c對工件1的端部1a、1b進(jìn)行拍攝時，可以將多層中的規(guī)定的層設(shè)為拍攝對象。

需要說明的是，在本發(fā)明的曝光裝置中，也可以使用進(jìn)行曝光處理時的曝光光，在工件上形成電路圖案并形成對準(zhǔn)標(biāo)記。在該情況下，可以以使用該曝光裝置而形成的對準(zhǔn)標(biāo)記為基準(zhǔn)，來執(zhí)行例如層疊、接合、安裝工序等后續(xù)工序。

本發(fā)明進(jìn)一步地在其他方面也不限定于上述的實施方式，能夠在發(fā)明的范圍內(nèi)加以各種應(yīng)用、變形。

附圖標(biāo)記說明：

1工件；

1a工件的寬度方向的端部(一側(cè)端部)；

1b工件的寬度方向的端部(另一側(cè)端部)；

1h工件的一方的主面；

1i工件的另一方的主面；

10曝光裝置；

11曝光處理部；

20工件輸送機構(gòu)；

25工件保持機構(gòu)；

26吸引孔；

30曝光光源；

40光掩模；

41曝光圖案部；

41p與用于使曝光光通過而對工件進(jìn)行曝光的曝光圖案部對應(yīng)的區(qū)域；

42a、42b、42c光掩模的透射窗；

43a、43b、43c光掩模的透射窗的區(qū)域內(nèi)；

45掩模外周部；

47掩模保持機構(gòu)；

48支承構(gòu)件；

51寬度方向的位置調(diào)整機構(gòu)；

52旋轉(zhuǎn)方向的位置調(diào)整機構(gòu)；

60a、60b、60c拍攝機構(gòu)；

70a、70b、70c照明機構(gòu)；

71發(fā)光部；

72遮光部；

e光掩模的透射窗的緣部；

f光掩模的透射窗的緣部；

pn-1工件的位于曝光處理部的外側(cè)的區(qū)域；

pn工件的被進(jìn)行曝光處理的區(qū)域(規(guī)定的區(qū)域)；

pn+1工件的接下來應(yīng)進(jìn)行曝光處理的區(qū)域；

x工件的長邊方向；

y工件的寬度方向；

z與工件的長邊方向和寬度方向垂直的方向；

θ與工件的主面平行的旋轉(zhuǎn)方向；

y1(y1a、y1b、y1c)工件的寬度方向的端部與透射窗的緣部f之間的距離。