本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種光配向設(shè)備及光配向方法。

背景技術(shù)：

液晶顯示器(TFT-LCD)技術(shù)經(jīng)過(guò)最近幾十年的發(fā)展，技術(shù)和工藝日趨成熟。已經(jīng)取代冷陰二極管(CCFL)顯示器，成為顯示領(lǐng)域的主流產(chǎn)品。LCD的生產(chǎn)過(guò)程中，為了使液晶分子能夠正常配向，需要在陣列基板和彩膜基板的表面涂上一層取向膜，實(shí)現(xiàn)對(duì)液晶分子的配向。

目前光配向的技術(shù)已經(jīng)成熟的應(yīng)用到小世代線(xiàn)的基板制造上，由于小世代線(xiàn)的基板尺寸較小，對(duì)應(yīng)的線(xiàn)性光源的目前可以均勻照射整張基板上的取向膜，均勻得配向取向膜線(xiàn)。

但是，由于高世代線(xiàn)的基板尺寸較大，需要更大尺寸的光源。但是目前線(xiàn)性光源的設(shè)計(jì)技術(shù)，一旦光源的尺寸增加較大，其照射的均勻性將會(huì)大為降低，照射均勻性是光配向均勻的關(guān)鍵，一旦配向不均勻?qū)?huì)帶來(lái)顯示的嚴(yán)重問(wèn)題。這也是目前高世代線(xiàn)一直未引入光配向的主要原因。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明提供一種光配向設(shè)備及光配向方法，用以解決高世代線(xiàn)的取向膜無(wú)法實(shí)現(xiàn)光配向的問(wèn)題。

為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明實(shí)施例中提供一種光配向設(shè)備，用于對(duì)基板上的光配向膜進(jìn)行配向，所述光配向設(shè)備包括工作平臺(tái)和光源組件，所述基板放置于所述工作平臺(tái)的朝向所述光源組件的表面上；所述光源組件包括光源和設(shè)置在所述光源的出光側(cè)的偏振片，所述光源發(fā)出的光線(xiàn)經(jīng)過(guò)所述偏振片后形成均勻分布的線(xiàn)性偏振光，所述基板包括至少兩個(gè)配向區(qū)域，所述配向區(qū)域的一側(cè)邊的寬度不大于所述線(xiàn)性偏振光的照射區(qū)域的長(zhǎng)度；

所述光配向設(shè)備還包括：

調(diào)整機(jī)構(gòu)，用于改變所述基板和光源組件之間的位置關(guān)系，使所述基板的所有配向區(qū)域依次與所述光源組件的位置對(duì)應(yīng)，以使所有配向區(qū)域的光配向膜依次被線(xiàn)性偏振光照射完成配向；

遮擋板，用于當(dāng)所述光源組件與一配向區(qū)域的位置對(duì)應(yīng)時(shí)，阻擋光線(xiàn)照射除所述一配向區(qū)域之外的其他配向區(qū)域。

本發(fā)明實(shí)施例中還提供一種利用如上所述的光配向設(shè)備對(duì)基板上的光配向膜進(jìn)行光配向的方法，包括：

提供一光源組件，所述光源組件出射的光線(xiàn)為線(xiàn)性偏振光；

將所述基板放置于工作平臺(tái)的表面上；

利用所述線(xiàn)性偏振光照射所述光配向膜，以對(duì)所述光配向膜進(jìn)行配向，所述基板包括至少兩個(gè)配向區(qū)域，所述配向區(qū)域的一側(cè)邊的寬度不大于所述偏振片的長(zhǎng)度；

利用所述線(xiàn)性偏振光照射所述光配向膜，以對(duì)所述光配向膜進(jìn)行配向的步驟包括：

步驟S1、將所述基板的一配向區(qū)域與所述光源組件的位置對(duì)應(yīng)，并利用遮擋板阻擋光線(xiàn)照射除所述一配向區(qū)域之外的其他配向區(qū)域，然后對(duì)所述一配向區(qū)域的光配向膜進(jìn)行配向；

步驟S2、改變所述基板和光源組件之間的位置關(guān)系，使所述基板的另一配向區(qū)域與所述光源組件的位置對(duì)應(yīng)，并移動(dòng)遮擋板，利用遮擋板阻擋光線(xiàn)照射除所述另一配向區(qū)域之外的其他配向區(qū)域，然后對(duì)所述另一配向區(qū)域的光配向膜進(jìn)行配向；

步驟S3、重復(fù)步驟S2，完成對(duì)所有配向區(qū)域的光配向膜的配向。

本發(fā)明的上述技術(shù)方案的有益效果如下：

上述技術(shù)方案中，通過(guò)將基板分為多個(gè)配向區(qū)域，對(duì)每一配向區(qū)域獨(dú)立配向，依次完成所有配向區(qū)域的配向。由于每一配向區(qū)域的尺寸較小，小尺寸的光源能夠均勻照射所述配向區(qū)域完成配向。并在對(duì)一配向區(qū)域進(jìn)行配向時(shí)，通過(guò)遮擋板阻擋光線(xiàn)照射除所述一配向區(qū)域之外的其他配向區(qū)域，使其他配向區(qū)域不被不均勻的光線(xiàn)照射，避免出現(xiàn)不均勻照射造成配向區(qū)域配向不均勻的問(wèn)題，從而保證所有配向區(qū)域配向均勻。

附圖說(shuō)明

為了更清楚地說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)性的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1表示本發(fā)明實(shí)施例中配向設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖一；

圖2表示圖1中工作平臺(tái)的俯視圖一；

圖3表示圖1的主視圖；

圖4表示本發(fā)明實(shí)施例中的工作平臺(tái)的俯視圖二；

圖5表示本發(fā)明實(shí)施例中配向設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖二；

圖6表示圖5中工作平臺(tái)的俯視圖三；

圖7表示圖5的主視圖；

圖8表示本發(fā)明實(shí)施例中的工作平臺(tái)的俯視圖四。

具體實(shí)施方式

在液晶顯示技術(shù)領(lǐng)域，通過(guò)在配向膜上形成配向溝槽對(duì)液晶進(jìn)行配向，配向膜對(duì)液晶配向的好壞對(duì)顯示質(zhì)量起著關(guān)鍵作用?，F(xiàn)有技術(shù)中，可以通過(guò)機(jī)械摩擦、光配向等手段在配向膜的表面形成配向溝槽。光配向因不會(huì)產(chǎn)生靜電和顆粒污染，比較容易控制液晶分子的配向以及配向面積，得到越來(lái)越廣泛的應(yīng)用。

光配向技術(shù)是利用線(xiàn)性光源照射在光配向膜上，使得光配向膜具有配向能力，其中，光配向膜由具有感光劑的高分子聚合物制得。一般光配向膜可以分為三大類(lèi)：第一類(lèi)為光配向膜被線(xiàn)性光源照射后，與光線(xiàn)偏振方向平行的的分子會(huì)鍵結(jié)成長(zhǎng)鍵的分子，使光配向膜具有非等向的分布，液晶分子就順著長(zhǎng)鍵分子方向排列；第二類(lèi)為光配向膜被線(xiàn)性光源照射后，與線(xiàn)性光源偏振方向平行的長(zhǎng)鍵分子會(huì)被紫外光所破壞，使光配向膜產(chǎn)生非等向的分布，液晶分子就會(huì)順著未被破壞的長(zhǎng)鍵分子方向排列。第三類(lèi)為使用含有偶氮分子的光配向膜，在被線(xiàn)性光源照射后，與光線(xiàn)偏振方向平行的分子發(fā)生光致異構(gòu)，使光配向膜產(chǎn)生非等向的分布，對(duì)液晶分子進(jìn)行配向。

在光配向過(guò)程中，只有光配向膜被線(xiàn)性偏振光均勻照射，才能夠保證配向的均勻性。受線(xiàn)性光源本身技術(shù)的限制，線(xiàn)性光源的尺寸較小，無(wú)法適用于大尺寸的高世代線(xiàn)的顯示基板的制造。

為了解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明提供一種光配向設(shè)備及光配向方法，將高世代線(xiàn)的基板分為至少兩個(gè)配向區(qū)域，每一配向區(qū)域能夠被線(xiàn)性偏振光均勻照射，并利用線(xiàn)性偏振光對(duì)所述至少兩個(gè)配向區(qū)域依次進(jìn)行配向，并在對(duì)其中一個(gè)配向區(qū)域進(jìn)行配向的時(shí)候，利用遮擋板阻擋光線(xiàn)照射其他配向區(qū)域，保證每一配向區(qū)域被均勻照射，使每一配向區(qū)域的配向均勻，保證顯示質(zhì)量。

下面將結(jié)合附圖和實(shí)施例，對(duì)本發(fā)明的具體實(shí)施方式作進(jìn)一步詳細(xì)描述。以下實(shí)施例用于說(shuō)明本發(fā)明，但不用來(lái)限制本發(fā)明的范圍。

實(shí)施例一

結(jié)合圖1-圖3所示，本實(shí)施例提供一種光配向設(shè)備，用于對(duì)基板100上的光配向膜進(jìn)行配向。所述光配向設(shè)備包括工作平臺(tái)1和光源組件2，基板100放置于工作平臺(tái)1的朝向光源組件2的表面上。光源組件2包括光源3和設(shè)置在光源3的出光側(cè)的偏振片4，光源3發(fā)出的光線(xiàn)經(jīng)過(guò)偏振片4后形成均勻分布的線(xiàn)性偏振光，所述線(xiàn)性偏振光用于照射光配向膜，以對(duì)光配向膜進(jìn)行配向。其中，光源3可以為面光源，出光均勻。并將偏振片4設(shè)置在光源3的正下方，因?yàn)楣庠?的正下方的光線(xiàn)分布最均勻，能夠提供均勻的線(xiàn)性偏振光，對(duì)光配向膜的配向均勻，保證配向質(zhì)量。

基板100包括至少兩個(gè)配向區(qū)域200，每一配向區(qū)域包括至少一個(gè)用于形成顯示基板的圖形區(qū)域300，位于圖形區(qū)域300內(nèi)的配向膜的配向質(zhì)量，決定了對(duì)應(yīng)的顯示基板的配向質(zhì)量。即，只要保證位于圖形區(qū)域300內(nèi)的配向膜的配向均勻，即可保證顯示質(zhì)量。

其中，配向區(qū)域200的一側(cè)邊的寬度不大于線(xiàn)性偏振光的照射區(qū)域的長(zhǎng)度，由于每一配向區(qū)域200的尺寸小于偏振片4的尺寸，使線(xiàn)性偏振光能夠均勻照射配向區(qū)域200，保證位于每一配向區(qū)域200的光配向膜配向均勻。需要說(shuō)明的是，所述線(xiàn)性偏振光的照射區(qū)域的光線(xiàn)均勻分布，才能夠保證配向均勻性。

為了完成對(duì)所有配向區(qū)域200的光配向膜的配向，設(shè)置所述光配向設(shè)備還包括：

調(diào)整機(jī)構(gòu)，用于改變基板100和光源組件2之間的位置關(guān)系，使基板100的所有配向區(qū)域200依次與光源組件2的位置對(duì)應(yīng)，以使所有配向區(qū)域200的光配向膜依次被線(xiàn)性偏振光均勻照射完成配向；

遮擋板5，用于當(dāng)光源組件2與一配向區(qū)域200的位置對(duì)應(yīng)時(shí)，阻擋光線(xiàn)照射除所述一配向區(qū)域200之外的其他配向區(qū)域200，使其他配向區(qū)域不被光線(xiàn)照射，避免了因不均勻照射造成的配向不均勻問(wèn)題。而與光源組件2位置對(duì)應(yīng)的所述一配向區(qū)域200能夠被線(xiàn)性偏振光均勻照射。

上述技術(shù)方案通過(guò)將基板分為多個(gè)配向區(qū)域，對(duì)每一配向區(qū)域獨(dú)立配向，依次完成所有配向區(qū)域的配向。由于每一配向區(qū)域的尺寸較小，小尺寸的光源能夠均勻照射所述配向區(qū)域完成配向。并在對(duì)一配向區(qū)域進(jìn)行配向時(shí)，通過(guò)遮擋板阻擋光線(xiàn)照射除所述一配向區(qū)域之外的其他配向區(qū)域，使其他配向區(qū)域不被不均勻的光線(xiàn)照射，避免出現(xiàn)不均勻照射造成配向區(qū)域配向不均勻的問(wèn)題，從而保證所有配向區(qū)域配向均勻。

需要說(shuō)明的是，本實(shí)施例中對(duì)配向區(qū)域的配向是指對(duì)位于配向區(qū)域的光配向膜進(jìn)行配向。

所述調(diào)整機(jī)構(gòu)可以通過(guò)機(jī)械手臂、轉(zhuǎn)動(dòng)部件、滑動(dòng)部件等機(jī)械結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)，在此不做限定，只要能夠?qū)崿F(xiàn)上述功能即可。

由于移動(dòng)光源組件2容易影響線(xiàn)性偏振光的均勻分布，因此，本實(shí)施例中光源組件2固定設(shè)置，所述調(diào)整機(jī)構(gòu)與工作平臺(tái)1連接，用于驅(qū)動(dòng)工作平臺(tái)1移動(dòng)，來(lái)改變基板100和光源組件2之間的位置關(guān)系。具體為，在完成一配向區(qū)域200的配向后，所述調(diào)整機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)工作平臺(tái)1移動(dòng)，使另一配向區(qū)域200與光源組件2的位置對(duì)應(yīng)，線(xiàn)性偏振光均勻照射所述另一配向區(qū)域200進(jìn)行配向，并利用遮擋板5阻擋光線(xiàn)照射除所述另一配向區(qū)域200以外的其它配向區(qū)域。重復(fù)上述步驟，完成所有配向區(qū)域200的配向。

進(jìn)一步地，以光源3為條形光源為例，對(duì)每一配向區(qū)域200的配向過(guò)程具體為：

首先調(diào)整遮擋板5的位置，用以阻擋光線(xiàn)照射除待配向的一配向區(qū)域200以外的其它配向區(qū)域，之后控制所述一配向區(qū)域200的一側(cè)邊與光源組件2的位置對(duì)應(yīng)，然后控制工作平臺(tái)1沿垂直于所述側(cè)邊的方向移動(dòng)(如圖1中帶箭頭的直線(xiàn)所示)，使線(xiàn)性偏振光通過(guò)線(xiàn)性?huà)呙璧姆绞酵瓿蓪?duì)整個(gè)配向區(qū)域200的配向，所述線(xiàn)性偏振光的偏振方向與條形光源3的延伸方向一致。

則，所述光配向設(shè)備還包括：

掃描驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)；

控制單元，與所述調(diào)整機(jī)構(gòu)和掃描驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)連接，用于控制所述調(diào)整機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)工作平臺(tái)1移動(dòng)，使一配向區(qū)域200的一側(cè)邊與光源組件2的位置對(duì)應(yīng)，然后控制所述掃描驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)工作平臺(tái)1沿垂直于所述側(cè)邊的方向移動(dòng)，使線(xiàn)性偏振光通過(guò)線(xiàn)性?huà)呙璧姆绞酵瓿蓪?duì)整個(gè)配向區(qū)域200的配向，所述線(xiàn)性偏振光的偏振方向與條形光源3的延伸方向一致。

在完成一配向區(qū)域200的配向后，控制所述調(diào)整機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)工作平臺(tái)1移動(dòng)，使另一待配向的配向區(qū)域200與光源組件2的位置對(duì)應(yīng)。為了在所述調(diào)整機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)工作平臺(tái)1移動(dòng)的過(guò)程中，防止不均勻光線(xiàn)照射配向區(qū)域200，設(shè)置所述調(diào)整機(jī)構(gòu)還用于將整個(gè)工作平臺(tái)1移動(dòng)至線(xiàn)性偏振光的照射區(qū)域以外的區(qū)域。具體為：在完成一配向區(qū)域200的配向后，所述調(diào)整機(jī)構(gòu)首先將整個(gè)工作平臺(tái)1移動(dòng)至線(xiàn)性偏振光的照射區(qū)域以外的區(qū)域；然后驅(qū)動(dòng)工作平臺(tái)1移動(dòng)，改變變基板100和光源組件2之間的位置關(guān)系；最后再將工作平臺(tái)1移回至線(xiàn)性偏振光的照射區(qū)域，使另一配向區(qū)域200與光源組件2的位置對(duì)應(yīng)，線(xiàn)性偏振光均勻照射所述另一配向區(qū)域200進(jìn)行配向，并利用遮擋板5阻擋光線(xiàn)照射除所述另一配向區(qū)域200以外的其它配向區(qū)域。重復(fù)上述步驟，完成所有配向區(qū)域200的配向。

具體的，所述調(diào)整機(jī)構(gòu)還可以用于將工作平臺(tái)1移回至線(xiàn)性偏振光的照射區(qū)域，并定位光源組件2和工作平臺(tái)1，使待配向的配向區(qū)域與光源組件2的位置對(duì)應(yīng)。當(dāng)然也可以設(shè)置獨(dú)立的定位機(jī)構(gòu)來(lái)實(shí)現(xiàn)上述功能，能夠?qū)崿F(xiàn)上述功能的定位機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)形式有很多，在此不再一一列舉。

在完成一配向區(qū)域200的配向之后，在對(duì)另一配向區(qū)域200進(jìn)行配向之前，需要調(diào)整遮擋板5的位置，用以阻擋光線(xiàn)照射除所述另一配向區(qū)域200以外的其它配向區(qū)域。為了實(shí)現(xiàn)上述目的，遮擋板5可以與工作平臺(tái)1的用于放置基板100的表面平行設(shè)置，結(jié)合圖1-圖4所示，也可以與工作平臺(tái)1的用于放置基板100的表面垂直設(shè)置，結(jié)合圖5-圖7所示，或與工作平臺(tái)的用于放置基板的表面呈一定夾角設(shè)置，只要能夠阻擋光線(xiàn)照射其它配向區(qū)域即可。

至于調(diào)整遮擋板5的位置的方式有很多種，本實(shí)施例中通過(guò)滑軌和滑塊的組合結(jié)構(gòu)來(lái)調(diào)整遮擋板5的位置，參見(jiàn)圖2、圖4、圖6和圖8所示，具體結(jié)構(gòu)為：

在工作平臺(tái)1上設(shè)置滑軌6；

滑動(dòng)設(shè)置在滑軌6上的滑塊7，滑塊7可沿滑軌6滑動(dòng)，遮擋板5固定在滑塊7上，滑塊7在滑軌6上的滑動(dòng)帶動(dòng)遮擋板5移動(dòng)，從而調(diào)整遮擋板5的位置。

上述結(jié)構(gòu)可以根據(jù)配向區(qū)域200的分布方式來(lái)設(shè)置滑軌6的個(gè)數(shù)以及位置，以實(shí)現(xiàn)遮擋板5依次阻擋光線(xiàn)照射不與光源組件2位置對(duì)應(yīng)的配向區(qū)域200。例如：參見(jiàn)圖6和圖7所示，當(dāng)基板100的至少兩個(gè)配向區(qū)域200同行設(shè)置，位于同一行上時(shí)，可以在工作平臺(tái)1上設(shè)置兩條滑軌6，兩條滑軌6位于基板100的相對(duì)兩側(cè)，即，其中一條滑軌6位于基板100的一側(cè)，另一條滑軌6位于相對(duì)的另一側(cè)，滑軌6的延伸方向與行方向平行。滑塊7為條狀結(jié)構(gòu)，一端滑動(dòng)設(shè)置在其中一條滑軌上，另一端滑動(dòng)設(shè)置在另一條滑軌上。遮擋板5固定在滑塊7上，滑塊7在滑軌6上沿行方向上的滑動(dòng)帶動(dòng)遮擋板5同步移動(dòng)，以阻擋光線(xiàn)照射不與光源組件2位置對(duì)應(yīng)的配向區(qū)域200。

遮擋板5的個(gè)數(shù)根據(jù)配向區(qū)域200的個(gè)數(shù)和分布方式來(lái)設(shè)置。以基板100包括兩個(gè)同行分布的配向區(qū)域200為例，可以?xún)H設(shè)置一個(gè)遮擋板5，就可以滿(mǎn)足需求，結(jié)合圖2和圖6所示。而當(dāng)基板100包括至少三個(gè)同行分布的配向區(qū)域200時(shí)，需要至少設(shè)置兩個(gè)遮擋板5，結(jié)合圖4和圖8所示。

可以理解的是，引入行方向僅是為了便于描述和理解，不具有其它限定作用。

當(dāng)基板100的配向區(qū)域200不同行分布時(shí)，例如：呈矩陣分布，可以在上述結(jié)構(gòu)的基礎(chǔ)上，將滑塊7替換為滑軌，從而遮擋板5還可以在垂直于行方向的方向上移動(dòng)。

具體可以通過(guò)電氣控制的方式來(lái)控制遮擋板5在滑軌6上的滑動(dòng)，從而調(diào)整遮擋板5的位置。

當(dāng)然，實(shí)現(xiàn)調(diào)整遮擋板5的位置的結(jié)構(gòu)并不局限于滑軌和滑塊的組合結(jié)構(gòu)形式，在此不再一一列舉。

本實(shí)施例中，光源組件2的光源3采用條形光源，偏振片4與條形光源3的形狀配合，且尺寸一致，對(duì)應(yīng)設(shè)置在條形光源3的出光側(cè)，形成照射區(qū)域?yàn)闂l形的線(xiàn)性偏振光，通過(guò)線(xiàn)性?huà)呙璧姆绞酵瓿梢慌湎騾^(qū)域200的配向?；诖?，可以將基板100分為多個(gè)同行設(shè)置的配向區(qū)域200，其中，每一配向區(qū)域200在行方向上的長(zhǎng)度小于不大于偏振片4的長(zhǎng)度。當(dāng)基板100分為兩個(gè)配向區(qū)域200時(shí)，可以?xún)H設(shè)置一遮擋板5，結(jié)合圖2和圖6所示。當(dāng)基板100分為至少三個(gè)配向區(qū)域時(shí)，至少設(shè)置兩個(gè)遮擋板5，結(jié)合圖4和圖8所示。

在一個(gè)具體的實(shí)施方式中，結(jié)合圖1-圖3所示，光源組件2的光源3為條形光源，偏振片4的偏振方向與條形光源3的延伸方向一致。遮擋板5與基板100平行設(shè)置?；?00分為兩個(gè)配向區(qū)域200，在工作平臺(tái)1上設(shè)置兩條滑軌6，兩條滑軌6位于基板100的相對(duì)兩側(cè)，即，其中一條滑軌6位于基板100的一側(cè)，另一條滑軌6位于相對(duì)的另一側(cè)，滑軌6的延伸方向與行方向平行。遮擋板5的一側(cè)通過(guò)滑塊滑動(dòng)設(shè)置在其中一條滑軌6上，相對(duì)的另一側(cè)通過(guò)滑塊滑動(dòng)設(shè)置在另一條滑軌6上。

基板100上的配向膜的配向過(guò)程為：

初始狀態(tài)為：整個(gè)基板100均不位于光源組件2的照射區(qū)域。

首先，滑動(dòng)遮擋板5，使其與一配向區(qū)域200的位置對(duì)應(yīng)，所述其中一個(gè)配向區(qū)域200在基板100所在平面上的正投影完全落入遮擋板5在基板100所在平面上的正投影中；

之后，控制所述調(diào)整機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)工作平臺(tái)1轉(zhuǎn)動(dòng)180°，使另一配向區(qū)域200的一側(cè)邊與光源組件2的位置對(duì)應(yīng)；

然后，控制所述掃描驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)工作平臺(tái)1沿垂直于所述側(cè)邊的方向移動(dòng)，使線(xiàn)性偏振光通過(guò)線(xiàn)性?huà)呙璧姆绞酵瓿蓪?duì)整個(gè)所述另一配向區(qū)域200的配向。

重復(fù)上述步驟，完成所述一配向區(qū)域200的配向，從而完成對(duì)整個(gè)基板100上的配向膜的均勻配向。

在另一個(gè)具體的實(shí)施方式中，結(jié)合圖5-圖7所示，與上述具體實(shí)施方式不同的是，遮擋板5與基板100垂直設(shè)置，并設(shè)置一條狀的滑塊7，滑塊7的一端滑動(dòng)設(shè)置在其中一條滑軌6上，另一端滑動(dòng)設(shè)置在另一條滑軌6上，即滑塊7與滑軌6垂直設(shè)置。遮擋板5固定在滑塊7上。通過(guò)將遮擋板5移動(dòng)至兩個(gè)配向區(qū)域之間，來(lái)實(shí)現(xiàn)阻擋光線(xiàn)的目的。

該實(shí)施方式中，在完成一配向區(qū)域200的配向后，僅需轉(zhuǎn)動(dòng)工作平臺(tái)1，使另一配向區(qū)域200的一側(cè)邊與光源組件2的位置對(duì)應(yīng)，無(wú)需調(diào)整遮擋板5的位置。

上述兩個(gè)具體實(shí)施方式中通過(guò)轉(zhuǎn)動(dòng)的方式移動(dòng)工作平臺(tái)1，來(lái)實(shí)現(xiàn)兩個(gè)配向區(qū)域200依次與光源組件2的位置對(duì)應(yīng)。在光源組件2的照射區(qū)域以外的區(qū)域轉(zhuǎn)動(dòng)工作平臺(tái)1后，所述調(diào)整機(jī)構(gòu)還用于定位光源組件2和基板100，實(shí)現(xiàn)待配向的配向區(qū)域200與光源組件2的位置對(duì)應(yīng)。

在實(shí)際應(yīng)用過(guò)程中，還可以對(duì)配向設(shè)備的結(jié)構(gòu)做合理調(diào)整，例如：慣用技術(shù)手段的替換，增加公知的技術(shù)特征，其都屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍。

實(shí)施例二

基于同一發(fā)明構(gòu)思，本實(shí)施例中提供一種利用實(shí)施例一中的光配向設(shè)備對(duì)基板上的光配向膜進(jìn)行光配向的方法，包括：

提供一光源組件，所述光源組件出射的光線(xiàn)為線(xiàn)性偏振光；

將所述基板放置于工作平臺(tái)的表面上；

利用所述線(xiàn)性偏振光照射所述光配向膜，以對(duì)所述光配向膜進(jìn)行配向。

其中，所述基板包括至少兩個(gè)配向區(qū)域，所述配向區(qū)域的一側(cè)邊的寬度不大于所述偏振片的長(zhǎng)度；

利用所述線(xiàn)性偏振光照射所述光配向膜，以對(duì)所述光配向膜進(jìn)行配向的步驟包括：

步驟S1、將所述基板的一配向區(qū)域與所述光源組件的位置對(duì)應(yīng)，并利用遮擋板阻擋光線(xiàn)照射除所述一配向區(qū)域之外的其他配向區(qū)域，然后對(duì)所述一配向區(qū)域的光配向膜進(jìn)行配向；

步驟S2、改變所述基板和光源組件之間的位置關(guān)系，使所述基板的另一配向區(qū)域與所述光源組件的位置對(duì)應(yīng)，并移動(dòng)遮擋板，利用遮擋板阻擋光線(xiàn)照射除所述另一配向區(qū)域之外的其他配向區(qū)域，然后對(duì)所述另一配向區(qū)域的光配向膜進(jìn)行配向；

步驟S3、重復(fù)步驟S2，完成對(duì)所有配向區(qū)域的光配向膜的配向。

利用上述配向方法能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)整個(gè)基板上配向膜的均勻配向，保證配向的均勻性，當(dāng)應(yīng)用于顯示器件上時(shí)，能夠提高顯示質(zhì)量。

上述步驟S2中，具體可以為：

首先將整個(gè)所述工作平臺(tái)移動(dòng)至線(xiàn)性偏振光的照射區(qū)域以外的區(qū)域，之后移動(dòng)遮擋板，所述遮擋板阻擋光線(xiàn)照射除所述另一配向區(qū)域之外的其他配向區(qū)域，然后驅(qū)動(dòng)所述工作平臺(tái)移動(dòng)，使所述另一配向區(qū)域與所述光源組件的位置對(duì)應(yīng)。

上述步驟在改變所述基板和光源組件之間的位置關(guān)系，使所述基板的另一配向區(qū)域與所述光源組件的位置對(duì)應(yīng)的步驟之前，將整個(gè)所述工作平臺(tái)移動(dòng)至線(xiàn)性偏振光的照射區(qū)域以外的區(qū)域，并移動(dòng)遮擋板改變遮擋區(qū)域，防止在后續(xù)改變所述基板和光源組件之間的位置關(guān)系的過(guò)程中，不均勻光線(xiàn)照射配向區(qū)域。

以上所述僅是本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對(duì)于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，在不脫離本發(fā)明技術(shù)原理的前提下，還可以做出若干改進(jìn)和替換，這些改進(jìn)和替換也應(yīng)視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。