技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供一種高分子化合物、使用有該高分子化合物的負型抗蝕劑組合物及使用有該負型抗蝕劑組合物的圖案形成方法，其中所述高分子化合物使用于實現(xiàn)50nm以下的高分辨率、小LER、且缺陷的產(chǎn)生非常少的負型抗蝕劑組合物中。所述高分子化合物含有以下述通式(1)所示的重復(fù)單元。[化學(xué)式1]。

技術(shù)研發(fā)人員：土門大將;長谷川幸士;增永惠一;小竹正晃
受保護的技術(shù)使用者：信越化學(xué)工業(yè)株式會社
技術(shù)研發(fā)日：2017.01.25
技術(shù)公布日：2017.08.11