1.用于高精度網(wǎng)版制作的數(shù)字化雙面同時直寫曝光設(shè)備，其特征在于：包括主控計算機、設(shè)置于曝光基板兩側(cè)且能夠通過光速掃描曝光基板的光引擎、及能夠使曝光基板與光引擎兩者產(chǎn)生相對平面運動的移動平臺，所述移動平臺及光引擎均受主控計算機控制，該光引擎包括光學(xué)系統(tǒng)及內(nèi)設(shè)微反射鏡陣列的DMD芯片，且兩相對應(yīng)的所述光引擎所發(fā)出的光束的光軸重合，并與曝光基板相垂直。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于高精度網(wǎng)版制作的數(shù)字化雙面同時直寫曝光設(shè)備，其特征在于：所述移動平臺為龍門式移動平臺，且其包括工作平臺，工作平臺上相對安裝有可移動的龍門架，所述龍門架上安裝有可移動的所述光引擎, 且該光引擎能夠發(fā)射光束掃描安裝于工作平臺上的曝光基板。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于高精度網(wǎng)版制作的數(shù)字化雙面同時直寫曝光設(shè)備，其特征在于：所述移動平臺為橋架式移動平臺，且其包括工作平臺，工作平臺上相對安裝有固定的橋架，且橋架下方設(shè)置有可于工作平臺上移動的滑架，所述橋架上安裝有可移動的所述光引擎, 且該光引擎能夠發(fā)射光束掃描安裝于工作平臺或是滑架上的曝光基板。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于高精度網(wǎng)版制作的數(shù)字化雙面同時直寫曝光設(shè)備，其特征在于：所述光學(xué)系統(tǒng)是由光源系統(tǒng)及光學(xué)成像系統(tǒng)組成，光源系統(tǒng)由能夠?qū)馐M行勻化處理使光束光強分布均勻的勻光系統(tǒng)和將光源系統(tǒng)發(fā)出的光整形進入勻光系統(tǒng)并將勻光后的光束準直后按一定角度發(fā)射到DMD芯片上準直系統(tǒng)組成。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的用于高精度網(wǎng)版制作的數(shù)字化雙面同時直寫曝光設(shè)備，其特征在于：所述的勻光系統(tǒng)采用的是光學(xué)積分器光棒或復(fù)眼或DOE光學(xué)器件。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的用于高精度網(wǎng)版制作的數(shù)字化雙面同時直寫曝光設(shè)備，其特征在于：所述的光學(xué)成像系統(tǒng)是由多組光學(xué)鏡片組成。