1.一種母模的制造方法，包括以下步驟：
提供基底；
在所述基底上形成母模襯底層；
在所述母模襯底層上形成適用于X射線曝光的掩膜層；和
從所述掩膜層遠離所述基底一側對所述母模襯底層進行X射線曝光，
其中，在所述X射線曝光過程中，X射線的照射方向與所述母模襯底層成預定傾斜角度。
2.根據(jù)權利要求1所述的方法，其中，從所述掩膜層遠離所述基底一側對所述母模襯底層進行X射線曝光的步驟包括：
沿與所述母模襯底層成第一預定傾斜角度的方向對所述母模襯底層照射X射線，以進行第一次曝光；和
沿與所述母模襯底層成第二預定傾斜角度的方向對所述母模襯底層照射X射線，以進行第二次曝光，
其中，所述第一預定傾斜角度不等于所述第二預定傾斜角度。
3.根據(jù)權利要求2所述的方法，其中，所述掩膜層包括多個透光區(qū)域和多個遮光區(qū)域，該遮光區(qū)域能夠阻擋X射線從其透過，并且，從所述掩膜層遠離所述基底一側對所述母模襯底層進行X射線曝光的步驟還包括：
調整所述第一預定傾斜角度和所述第二預定傾斜角度，使得：對于所述掩膜層的同一透光區(qū)域，經(jīng)過所述第一次曝光和所述第二次曝光的所述母模襯底層的曝光區(qū)域之間形成有未曝光區(qū)域。
4.根據(jù)權利要求3所述的方法，其中，所述未曝光區(qū)域沿平行于基底方向的尺寸小于所述掩膜層的一個透光區(qū)域沿平行于基底方向的尺寸。
5.根據(jù)權利要求2-4中任一項所述的方法，其中，所述第一預定傾斜角度為小于90°的銳角，并且所述第二預定傾斜角度為90°～180°的鈍角。
6.根據(jù)權利要求5所述的方法，其中，所述第一預定傾斜角度和所述第二預定傾斜角度之和等于180°。
7.根據(jù)權利要求1-6中任一項所述的方法，其中，在所述母模襯底層上形成適用于X射線曝光的掩膜層的步驟包括：
在所述母模襯底層上形成抗X射線材料層；和
通過一次構圖工藝形成抗X射線材料層的圖案，以形成包括多個透光區(qū)域和多個遮光區(qū)域的掩膜層。
8.根據(jù)權利要求7所述的方法，其中，通過一次構圖工藝形成抗X射線材料層的圖案的步驟包括：
在所述抗X射線材料層上涂覆光刻膠；
采用曝光和顯影工藝形成光刻膠的圖案；
刻蝕所述抗X射線材料層；和
去除所述光刻膠。
9.根據(jù)權利要求8所述的方法，其中，在所述抗X射線材料層上涂覆的光刻膠為紫外光刻膠；并且，在采用曝光和顯影工藝形成光刻膠的圖案的步驟中，采用紫外光曝光涂覆的紫外光刻膠。
10.根據(jù)權利要求1-9中任一項所述的方法，其中，在從所述掩膜層遠離所述基底一側對所述母模襯底層進行X射線曝光的步驟之后，所述方法還包括：
刻蝕所述掩膜層，同時對所述母模襯底層進行顯影；或者，
刻蝕所述掩膜層，然后對所述母模襯底層進行顯影。
11.根據(jù)權利要求1-10中任一項所述的方法，其中，所述母模襯底層由適于X射線曝光工藝的正性光刻膠或負性光刻膠形成。
12.根據(jù)權利要求1-11中任一項所述的方法，其中，在所述基底上形成的所述母模襯底層的厚度為5μm以上。
13.一種母模，該母模為根據(jù)上述權利要求中任一項所述的方法制成的母模。
14.一種母模，包括：
基底；和
形成在所述基底上的多個成型部，
其中，所述多個成型部彼此間隔開預定的距離，并且每一個所述成型部具有至少一個相對于基底平面傾斜的側部。
15.根據(jù)權利要求14所述的母模，其中，所述成型部的厚度為5μm以上，或者，所述成型部包括適于X射線曝光工藝的正性光刻膠材料或負性光刻膠材料。