技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供一種曝光設(shè)備及曝光系統(tǒng)，屬于顯示基板制備技術(shù)領(lǐng)域，其可解決現(xiàn)有的接近式曝光機(jī)的曝光區(qū)域尺寸單一，設(shè)備復(fù)雜的問(wèn)題。本發(fā)明的曝光設(shè)備包括：能發(fā)生形變的凹面反射鏡，用于反射曝光光線(xiàn)，并保證所述曝光光線(xiàn)最終射向曝光區(qū)域；調(diào)整模組，用于改變所述凹面反射鏡的曲率。

技術(shù)研發(fā)人員：辛憲棟;曹旭東;秦培培;林斗亮;羅鵬;寇建龍;邢宏偉;沙俊
受保護(hù)的技術(shù)使用者：合肥京東方顯示技術(shù)有限公司;京東方科技集團(tuán)股份有限公司
文檔號(hào)碼：201710200961
技術(shù)研發(fā)日：2017.03.29
技術(shù)公布日：2017.06.30