本案是申請日為2012年10月11日，申請?zhí)枮?01280063563.4，發(fā)明名稱為“基底處理裝置、器件制造系統(tǒng)、以及器件制造方法”的專利申請的分案申請。

本發(fā)明是關于基底處理裝置。

本申請案根據(jù)2011年12月20日申請的日本特愿2011－278290號及2012年2月7日申請的日本特愿2012－024058號主張優(yōu)先權，將其內(nèi)容援引用于此。

背景技術：

曝光裝置等基底處理裝置，例如下述的專利文獻1所記載，用于各種器件的制造?；滋幚硌b置，能將配置于照明區(qū)域的光掩膜m上所形成的圖案像投影于配置在投影區(qū)域的基底上等。用于基底處理裝置的光掩膜m有平面狀的、圓筒狀的。

又，作為制造器件的方法之一，已知有例如下述的專利文獻2所記載的卷對卷(rolltoroll)方式。卷對卷方式，是一邊從送出用卷筒往回收用卷筒搬送膜等基底，一邊在搬送路徑上對基底進行各種方式的處理?；子袝r會例如在搬送滾筒之間等以實質(zhì)上平面的狀態(tài)被施以處理。又，基底亦有例如在滾筒表面上等以彎曲的狀態(tài)被施以處理的情形。

現(xiàn)有技術文獻：

[專利文獻1]日本特開2007-299918號公報；

[專利文獻2]國際公開第2008/129819號。

技術實現(xiàn)要素：

發(fā)明欲解決的課題：

如上述的基底處理裝置(曝光裝置)，在例如光掩膜上的照明區(qū)域與基底上的投影區(qū)域的一方或雙方以既定曲率彎曲的情形，若考量用于曝光的投影光學系統(tǒng)的成像性能，則特別是會在成像光束的主光線的設定上產(chǎn)生限制。例如，試假定將形成于半徑r的圓筒狀旋轉(zhuǎn)光掩膜的外周圓筒面的光掩膜圖案通過投影光學系統(tǒng)成像投影于卷繞在半徑r的圓筒旋轉(zhuǎn)卷筒(滾筒)的基底(膜、片、網(wǎng)等)表面的情形。此情形下，一般而言，只要設置從光掩膜圖案(圓筒面狀)至基底表面(圓筒面狀)的成像光束的主光線會形成將圓筒狀旋轉(zhuǎn)光掩膜的旋轉(zhuǎn)中心軸與圓筒旋轉(zhuǎn)卷筒的旋轉(zhuǎn)中心軸直線連結(jié)的光路的投影光學系統(tǒng)即可。

然而，當在圓筒狀旋轉(zhuǎn)光掩膜的旋轉(zhuǎn)軸方向，光掩膜圖案的尺寸較大的情形，有時需將此種投影光學系統(tǒng)于旋轉(zhuǎn)軸的方向設置多個而多個化。此種多個化的情形，即使將多個投影光學系統(tǒng)于旋轉(zhuǎn)軸的方向緊密地排成一列，各投影光學系統(tǒng)的投影視野(投影區(qū)域)彼此必定會分離鏡筒等金屬物的厚度，如此已無法將大光掩膜圖案忠實地曝光。

又，如上述的基底處理裝置在例如裝置的構成復雜時，則有可能有裝置成本提高、裝置尺寸變大的情形。其結(jié)果，有可能使器件的制造成本提高。

例如，當必須施以精密圖案化時，作為基底處理裝置，使用照明描繪有電子器件或顯示器件的圖案的光掩膜、并將來自光掩膜的圖案的光投影曝光于形成有感光層(光阻等)的基底上的曝光裝置。在通過卷對卷方式將光掩膜的圖案反復曝光于連續(xù)搬送的柔性長條基底(膜、片、網(wǎng)等)的情形，若亦使用以長條基底的搬送方向作為掃描方向、采用圓筒狀旋轉(zhuǎn)光掩膜作為光掩膜的掃描型曝光裝置，則可期待生產(chǎn)性跳躍性地提高。

此種旋轉(zhuǎn)光掩膜，有于玻璃等透明圓筒體外周面以遮光層形成有圖案的透射方式與于金屬性圓筒體(亦可為圓柱體)的外周面以反射部與吸收部形成有圖案的反射方式。透射型的圓筒光掩膜，必須于該圓筒光掩膜內(nèi)部組裝用以照射朝向外周面的圖案的照明光的照明光學系統(tǒng)(反射鏡、透鏡等光學構件)，難以將旋轉(zhuǎn)軸通過圓筒光掩膜的內(nèi)部中心，而亦有圓筒光掩膜的保持構造或旋轉(zhuǎn)驅(qū)動系統(tǒng)的構成變得復雜的情形。

另一方面，反射型的圓筒光掩膜的情形，由于能使用金屬制的圓筒體(或圓柱體)，因此雖能廉價地作成光掩膜，但必須于圓筒光掩膜的外周空間設置照射曝光用的照明光的照明光學系統(tǒng)與將來自形成于外周面的圖案的反射光往基底投影的投影光學系統(tǒng)，而有為了滿足被要求的解像力或轉(zhuǎn)印忠實度等的曝光裝置側(cè)的構成變得復雜的情形。

本發(fā)明的形態(tài)，其目的在于提供一種基底處理裝置，搭載有即使光掩膜或基底(膜、片、網(wǎng)等柔性基底)的一方或雙方配置成圓筒面狀亦能將較大光掩膜圖案忠實地曝光所使用的投影光學系統(tǒng)。其他目的，為提供能將較大光掩膜圖案忠實地曝光的器件制造系統(tǒng)及器件制造方法。

又，其他目的為提供能將裝置的構成簡化的基底處理裝置。又，其他目的為能提供能減低制造成本的器件制造系統(tǒng)及器件制造方法。

用以解決課題的手段：

依據(jù)本發(fā)明的一形態(tài)，提供一種基底處理裝置，具備：投影光學系統(tǒng)，將來自第1物體(光掩膜)上的照明區(qū)域的光束投射于第2物體(基底)上的投影區(qū)域；第1支承構件，以在照明區(qū)域與投影區(qū)域中的一方區(qū)域中沿著以既定曲率彎曲成圓筒狀的第1面的方式支承第1物體與第2物體中的一方；以及第2支承構件，以在照明區(qū)域與投影區(qū)域中的另一方區(qū)域中沿著既定第2面的方式支承第1物體與第2物體中的另一方；投影光學系統(tǒng)具備偏向構件，該偏向構件以從照明區(qū)域至投影區(qū)域的成像光束的主光線中第1面與投影光學系統(tǒng)間的主光線朝向第1面的徑方向中與第2面為非垂直的徑方向的方式使成像光束傳播。

依據(jù)本發(fā)明其他形態(tài)，提供一種器件制造系統(tǒng)，具備上述形態(tài)的基底處理裝置。

依據(jù)本發(fā)明其他形態(tài)，提供一種器件制造方法，包含：通過上述形態(tài)的基底處理裝置使第2物體曝光；以及通過處理曝光后的第2物體來形成第1物體的圖案。

依據(jù)本發(fā)明其他形態(tài)，提供一種基底處理裝置，將反射性的光掩膜圖案的像投影曝光于感應基底上，其具備：光掩膜保持構件，保持光掩膜圖案；投影光學系統(tǒng)，將從設定于光掩膜圖案上一部分的照明區(qū)域產(chǎn)生的反射光束往感應基底投射，借此將光掩膜圖案一部分的像成像于感應基底；光學構件，包含：為了對照明區(qū)域進行落斜照明而配置于投影光學系統(tǒng)的光路內(nèi)、使往照明區(qū)域的照明光與從照明區(qū)域產(chǎn)生的反射光束中的一方通過的部分與使另一方反射的部分；以及照明光學系統(tǒng)，生成作為照明光的源的光源像，經(jīng)由投影光學系統(tǒng)的一部分光路與光學構件使來自光源像的照明光往照明區(qū)域，且將與光源像在光學上共軛的共軛面形成于光學構件的反射部分或通過部分的位置或近旁。

依據(jù)本發(fā)明其他形態(tài)，提供一種基底處理裝置，將反射性的光掩膜圖案的像投影曝光于感應基底上，其具備：光掩膜保持構件，保持光掩膜圖案；投影光學系統(tǒng)，將從設定于光掩膜圖案上一部分的照明區(qū)域產(chǎn)生的反射光束往感應基底投射，借此將光掩膜圖案一部分的像成像于感應基底；光學構件，包含：為了對照明區(qū)域進行落斜照明而配置于投影光學系統(tǒng)的光路內(nèi)、使往照明區(qū)域的照明光與從照明區(qū)域產(chǎn)生的反射光束中的一方通過的部分與使另一方反射的部分；以及照明光學系統(tǒng)，將作為照明光的源的多個光源像規(guī)則地或亂數(shù)地形成于光學構件的反射部分或通過部分的位置或其近旁。

依據(jù)本發(fā)明其他形態(tài)，提供一種器件制造系統(tǒng)，具備上述形態(tài)的基底處理裝置。

依據(jù)本發(fā)明其他形態(tài)，提供一種器件制造方法，包含：通過上述形態(tài)的基底處理裝置使物體曝光；以及使曝光后的物體顯影。

依據(jù)本發(fā)明其他形態(tài)，提供一種器件制造方法，將柔性片狀基底連續(xù)地于長邊方向移送、同時于該片狀基底上形成器件用的圖案，其包含：使沿從第1中心線起為一定半徑的圓筒面形成有與器件的圖案對應的透射型或反射型的光掩膜圖案的圓筒光掩膜繞第1中心線旋轉(zhuǎn)；通過具有從與第1中心線平行的第2中心線起為一定半徑的圓筒狀外周面的圓筒體，使片狀基底一部分彎曲并支承、同時將片狀基底移送于長條方向；通過一組投影光學系統(tǒng)將光掩膜圖案的投影像曝光于片狀基底，該一組投影光學系統(tǒng)構成為相對包含第1中心線與第2中心線的中心面配置成大致對稱，且在以圓筒光掩膜的光掩膜圖案作為物面、將以圓筒體支承的片狀基底的表面作為像面時從物面往像面的成像光束的主光線中通過物面的主光線的延長線朝向第1中心線、通過像面的主光線的延長線朝向第2中心線。

依據(jù)本發(fā)明其他形態(tài)，提供另一種基底處理裝置，使在離第1中心線既定半徑處圓筒面狀地形成圖案面的圓筒光掩膜繞所述第1中心線旋轉(zhuǎn)，并借由使長條片狀基底沿長邊方向移動，將形成于所述圓筒光掩膜的圖案面的圖案曝光于所述片狀基底，其具備：旋轉(zhuǎn)卷筒，其具備在離與所述第1中心線平行的第2中心線既定的半徑處圓筒狀地形成的外周面，于所述外周面將所述片狀基底的所述長邊方向的一部分圓筒狀地支持，并繞所述第2中心線旋轉(zhuǎn)并將長條片狀基底沿長邊方向搬送，及投影光學系統(tǒng)，其射入于將照明光照射于設定于所述圓筒光掩膜的圖案面上的一部分的照明區(qū)域時，從所述第1照明區(qū)域發(fā)生的所述圖案的成像光束，借由朝設定于以所述旋轉(zhuǎn)卷筒支持的所述片狀基底的表面的一部分的投影區(qū)域投射，將所述圖案成像于所述片狀基底上；所述投影光學系統(tǒng)，將包含所述第1中心線及所述第2中心線的平面作為中心面時，其具備：第1偏向構件，以所述成像光束的主光線中通過所述照明區(qū)域的中心朝所述照明區(qū)域的法線方向前進的第1主光線，對所述中心面于所述圓筒光掩膜的周方向成既定的傾斜角的方式將所述成像光束偏向，及第2偏向構件，以所述成像光束的主光線中通過所述投影區(qū)域的中心朝所述投影區(qū)域的法線方向前進的第2主光線，對所述中心面于所述旋轉(zhuǎn)卷筒的周方向成既定的傾斜角的方式將所述成像光束偏向。

發(fā)明效果

根據(jù)本發(fā)明的形態(tài)，即使光掩膜與基底的一方或雙方為圓筒面狀的情形，亦能通過具備小型的投影光學系統(tǒng)的基底處理裝置(曝光裝置)忠實地曝光較大光掩膜圖案。又，根據(jù)本發(fā)明的形態(tài)，能提供能忠實地曝光較大光掩膜圖案的器件制造系統(tǒng)及器件制造方法。

又，根據(jù)本發(fā)明的形態(tài)，能提供能將裝置的構成簡化的基底處理裝置。又，根據(jù)本發(fā)明的形態(tài)，能提供能減低制造成本的器件制造系統(tǒng)及器件制造方法。

附圖說明

圖1顯示第1實施形態(tài)的器件制造系統(tǒng)構成圖。

圖2顯示第1實施形態(tài)的基底處理裝置(曝光裝置)的整體構成圖。

圖3顯示圖2所示的曝光裝置的光掩膜保持裝置的構成圖。

圖4顯示圖2所示的曝光裝置的第1卷筒構件及照明光學系統(tǒng)的構成圖。

圖5顯示圖2所示的曝光裝置的照明區(qū)域及投影區(qū)域的配置圖。

圖6顯示適用于圖2所示的曝光裝置的投影光學系統(tǒng)的構成圖。

圖7顯示第2實施形態(tài)的曝光裝置的整體構成圖。

圖8顯示第3實施形態(tài)的曝光裝置的整體構成圖。

圖9說明圖8所示的曝光裝置的照明區(qū)域的投影區(qū)域的位置關系條件圖。

圖10顯示以圖9說明的條件隨圓筒光掩膜半徑變化的圖表。

圖11顯示第4實施形態(tài)的曝光裝置的整體構成圖。

圖12顯示第5實施形態(tài)的曝光裝置的落斜照明方式構成圖。

圖13顯示第6實施形態(tài)的投影光學系統(tǒng)的構成圖。

圖14顯示將圖13所示的投影光學系統(tǒng)多個化后的情形的構成圖。

圖15顯示從其他方向觀看圖14所示的多個化后的投影光學系統(tǒng)圖。

圖16顯示第7實施形態(tài)的投影光學系統(tǒng)的構成圖。

圖17顯示第8實施形態(tài)的投影光學系統(tǒng)的構成圖。

圖18顯示第9實施形態(tài)的投影光學系統(tǒng)的構成圖。

圖19顯示第10實施形態(tài)的投影光學系統(tǒng)的構成圖。

圖20顯示第11實施形態(tài)的器件制造系統(tǒng)的構成圖。

圖21顯示第11實施形態(tài)的基底處理裝置(曝光裝置)的構成圖。

圖22顯示第11實施形態(tài)的光學構件的構成圖。

圖23顯示從照明區(qū)域至投影區(qū)域的光路示意圖。

圖24顯示第11實施形態(tài)的光源裝置的構成例的圖。

圖25顯示第11實施形態(tài)的復眼透鏡陣列的構成例的圖。

圖26顯示第11實施形態(tài)的照明光學系統(tǒng)中的光闌的構成例的圖。

圖27顯示第11實施形態(tài)的光學構件的構成例的圖。

圖28顯示第12實施形態(tài)的復眼透鏡陣列的構成例的圖。

圖29顯示第13實施形態(tài)的復眼透鏡陣列的構成例的圖。

圖30顯示第14實施形態(tài)的復眼透鏡陣列的構成例的圖。

圖31顯示第15實施形態(tài)的光源像形成部的構成例的圖。

圖32a顯示第16實施形態(tài)的照明光學系統(tǒng)的構成例的圖。

圖32b顯示第16實施形態(tài)的照明光學系統(tǒng)的構成例的圖。

圖33a顯示第16實施形態(tài)的照明光學系統(tǒng)各部的圖。

圖33b顯示第16實施形態(tài)的照明光學系統(tǒng)各部的圖。

圖33c顯示第16實施形態(tài)的照明光學系統(tǒng)各部的圖。

圖34顯示第17實施形態(tài)的基底處理裝置(曝光裝置)的構成圖。

圖35顯示第17實施形態(tài)的照明區(qū)域及投影區(qū)域的配置圖。

圖36顯示第17實施形態(tài)的曝光裝置的構成例的圖。

圖37顯示第18實施形態(tài)的投影光學系統(tǒng)的構成例的圖。

圖38顯示第19實施形態(tài)的投影光學系統(tǒng)的構成例的圖。

圖39顯示本實施形態(tài)的器件制造方法的流程圖。

具體實施方式

[第1實施形態(tài)]

圖1顯示本實施形態(tài)的器件制造系統(tǒng)1001的構成的圖。圖1所示的器件制造系統(tǒng)1001，具備供應基底p的基底供應裝置1002、對通過基底供應裝置1002供應的基底p執(zhí)行既定處理的處理裝置1003、回收已通過處理裝置1003處理的基底p的基底回收裝置1004、以及控制器件制造系統(tǒng)1001的各部的上位控制裝置1005。

本實施形態(tài)中，基底p如所謂柔性基底等的具有柔性(flexibility)的(片)基底。本實施形態(tài)的器件制造系統(tǒng)1001，能通過具有柔性的基底p制造具有柔性的器件?；譸例如被選擇為具有在器件制造系統(tǒng)1001彎曲時不會破斷的程度的柔性。

此外，在器件制造時的基底p的柔性，例如可依基底p的材質(zhì)、大小、厚度等來調(diào)整，且可依器件制造時的濕度、溫度等環(huán)境條件等來調(diào)整。又，基底p亦可如所謂硬質(zhì)基底等的不具有柔性的基底。又，基底p亦可將柔性基底與硬質(zhì)基底組合而成的復合基底。

具有柔性的基底p，可使用例如樹脂薄膜、不銹鋼等金屬或合金所構成的箔(foil)。樹脂薄膜的材質(zhì)例如包含用聚乙烯樹脂、聚丙烯樹脂、聚酯樹脂、乙烯乙烯基共聚物樹脂、聚氯乙烯樹脂、纖維素樹脂、聚酰胺樹脂、聚酰亞胺樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚乙烯醇樹脂中的一或二以上。

基底p例如熱膨脹系數(shù)等的特性被設定為可實質(zhì)上忽視施加于基底p的各種處理步驟中所受的熱導致的變形量?；譸，例如能選定熱膨脹系數(shù)非顯著大的。熱膨脹系數(shù)，例如亦可通過將無機填料混合于樹脂薄膜而設定成比制造工藝溫度等對應的臨限值小。無機填料，例如有氧化鈦、氧化鋅、氧化鋁、氧化硅等。此外，基底p可以是以浮式法等制造的厚度為100μm的極薄玻璃單體、或于該極薄玻璃貼合上述樹脂薄膜及鋁箔的沉積層。

本實施形態(tài)中，基底p是所謂多面擷取用的基底。本實施形態(tài)的器件制造系統(tǒng)1001，對基底p反復執(zhí)行用以對一個器件進行各種處理。被施以各種處理的基底p被分割(dicing)成各器件，而成為多個器件。基底p的尺寸，例如寬度方向(短邊方向)尺寸為1m～2m，長度方向(長邊方向)尺寸則為例如10m以上。

此外，基底p的尺寸可視所制造的器件的尺寸等來適當設定。例如，基底p的尺寸亦可是寬度方向尺寸為1m以下或2m以上，長邊方向尺寸亦可為10m以下。又，當基底p是所謂多面擷取用的基底時，亦可是一片帶狀的基底，亦可是多個基底連接而成的基底。又，器件制造系統(tǒng)1001亦可通過依每一個器件獨立的基底來制造器件。此情形下，基底p亦可相當于一個器件的尺寸的基底。

本實施形態(tài)的基底供應裝置1002，通過送出卷于供應用卷軸1006的基底p，將基底p供應至處理裝置1003。基底供應裝置1002包含例如卷繞基底p的軸部、使此軸部旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動部等。本實施形態(tài)中，基底p被往其長邊方向搬送，送往處理裝置1003。亦即，本實施形態(tài)中，基底p的搬送方向與基底p的長邊方向?qū)嵸|(zhì)上相同。

此外，基底供應裝置1002亦可包含將覆蓋卷于供應用卷軸1006的基底p的罩部等。又，基底供應裝置1002亦可包含例如夾持式的驅(qū)動滾筒等將基底p往其長邊方向依序送出的機構。

本實施形態(tài)的基底回收裝置1004，是借由將通過處理裝置1003的基底p卷取于回收用卷軸1007來回收基底p?；谆厥昭b置1004例如與基底供應裝置1002同樣地包含卷繞基底p的軸部、使此軸部旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動部、將覆蓋卷于回收用卷軸1007的基底p的罩部等。

此外，被處理后的基底p被切斷裝置切斷，基底回收裝置1004亦可回收被切斷的基底。此情形下，基底回收裝置1004亦可是重疊切斷后的基底來回收的裝置。上述的切斷裝置亦可是處理裝置1003的一部分，亦可與處理裝置1003為不同的裝置，例如亦可是基底回收裝置1004的一部分。

處理裝置1003將從基底供應裝置1002供應的基底p往基底回收裝置1004搬送，且在搬送過程中對基底p的被處理面進行處理。處理裝置1003具備對基底p的被處理面進行加工處理的加工處理裝置1010、以及包含以對應加工處理條件移送基底p的搬送滾筒1008等的搬送裝置1009。

加工處理裝置1010包含一或二以上的裝置，其用以對基底p的被處理面執(zhí)行用以形成構成器件的要件的各種處理。本實施形態(tài)的器件制造系統(tǒng)1001中，執(zhí)行各種處理的裝置沿基底p的搬送路徑適當?shù)卦O置，能以所謂卷對卷方式生產(chǎn)柔性顯示器等器件。通過卷對卷方式，能以良好效率生產(chǎn)器件。

本實施形態(tài)中，加工處理裝置1010的各種裝置包含成膜裝置、曝光裝置、涂布顯影裝置、以及刻蝕裝置。成膜裝置，例如鍍金裝置、蒸鍍裝置、濺射裝置等。成膜裝置，將導電膜、半導體膜、絕緣膜等功能膜形成于基底p上。涂布顯影裝置于通過成膜裝置而形成有功能膜的基底p上形成光阻膜等感光材。曝光裝置，通過將與構成器件的膜圖案對應的圖案像投影于形成有感光材的基底p，來對基底p施加曝光處理。涂布顯影裝置，使曝光后的基底p顯影?？涛g裝置，將顯影后的基底p的感光材作為光掩膜m來刻蝕功能膜。以此方式，加工處理裝置1010將所欲圖案的功能膜形成于基底p。

此外，加工處理裝置1010亦可具備如壓印方式的成膜裝置、液滴吐出裝置等不通過刻蝕而直接形成膜圖案的裝置。加工處理裝置1010的各種裝置中的至少一個亦可省略。

本實施形態(tài)中，上位控制裝置1005控制基底供應裝置1002而使基底供應裝置1002執(zhí)行將基底p往加工處理裝置1010供應的處理。上位控制裝置1005控制加工處理裝置1010而使加工處理裝置1010執(zhí)行對基底p的各種處理。上位控制裝置1005控制基底回收裝置1004而使基底回收裝置1004執(zhí)行將加工處理裝置1010已施加各種處理的基底p回收的處理。

其次，參照圖2、圖3、圖4說明本實施形態(tài)的基底處理裝置的構成。圖2顯示本實施形態(tài)的基底處理裝置1011的整體構成圖。圖2所示的基底處理裝置1011如上述的加工處理裝置1010的至少一部分。本實施形態(tài)中，基底處理裝置1011包含執(zhí)行曝光處理的曝光裝置ex與搬送裝置1009的至少一部分。

本實施形態(tài)的曝光裝置ex是所謂掃描曝光裝置，一邊同步驅(qū)動圓筒狀光掩膜(圓筒光掩膜)m的旋轉(zhuǎn)與柔性基底p的移送，一邊將形成于光掩膜m的圖案的像通過投影倍率為等倍(×1)的投影光學系統(tǒng)pl(pl1001～pl1006)投影于基底p。此外，圖2～圖4中，將正交坐標系xyz的y軸設定為與圓筒狀的光掩膜m的旋轉(zhuǎn)中心線(第1中心線)ax1001平行，將x軸設定為掃描曝光的方向、以及在曝光位置的基底p的搬送方向。

如圖2所示，曝光裝置ex具備光掩膜保持裝置1012、照明裝置1013、投影光學系統(tǒng)pl、以及控制裝置1014?；滋幚硌b置1011使保持于光掩膜保持裝置1012的光掩膜m旋轉(zhuǎn)移動，且通過搬送裝置1009搬送基底p。照明裝置1013，通過照明光束el1以均一的亮度照明光掩膜保持裝置1012所保持的光掩膜m的一部分(照明區(qū)域ir)。投影光學系統(tǒng)pl，將光掩膜m上的照明區(qū)域ir的圖案像投影于以搬送裝置1009搬送的基底p的一部分(投影區(qū)域pa)。伴隨著光掩膜m的移動，配置于照明區(qū)域ir的光掩膜m上的部位亦變化，且伴隨基底p的移動，配置于投影區(qū)域pa的基底p上的部位亦變化，借此將光掩膜m上的既定圖案(光掩膜圖案)的像投影于基底p上。控制裝置1014控制曝光裝置ex的各部，使各部執(zhí)行處理。又，本實施形態(tài)中，控制裝置1014控制搬送裝置1009的至少一部分。

此外，控制裝置1014亦可是器件制造系統(tǒng)1001的上位控制裝置1005的一部分或全部。又，控制裝置1014亦可是被上位控制裝置1005控制、與上位控制裝置1005為不同的裝置。控制裝置1014包含例如電腦系統(tǒng)。電腦系統(tǒng)包含例如cpu及各種存儲器或os、周邊機器等硬件。基底處理裝置1011的各部的操作過程，是通過程序的形式存儲于電腦可讀取記錄媒體，并由電腦系統(tǒng)讀出此程序來加以執(zhí)行，借此進行各種處理。電腦系統(tǒng)在能連接于網(wǎng)際網(wǎng)絡或網(wǎng)際網(wǎng)絡系統(tǒng)的情形，亦包含網(wǎng)頁提供環(huán)境(或顯示環(huán)境)。又，電腦可讀取記錄媒體包含軟盤、光磁盤、rom、cd-rom等可攜媒體、內(nèi)藏于電腦系統(tǒng)的硬盤等存儲裝置。電腦可讀取記錄媒體，亦包含如通過網(wǎng)際網(wǎng)絡等網(wǎng)絡或電話線路等通信線路發(fā)送程序時的通信線路，可在短時間動態(tài)保持程序，亦包含如在此情形下的作為服務器客戶端的電腦系統(tǒng)內(nèi)部的易失性存儲器，保持有一定時間的程序。又，程序亦可用以實現(xiàn)基底處理裝置1011功能的一部分，亦可與已記錄于電腦系統(tǒng)的程序組合來實現(xiàn)基底處理裝置1011的功能。上位控制裝置1005能與控制裝置1014同樣地利用電腦系統(tǒng)來實現(xiàn)。

其次，參照圖3、圖4詳細說明圖2的曝光裝置ex的各部。圖3顯示光掩膜保持裝置1012的構成圖，圖4顯示第1卷筒構件1021及照明光學系統(tǒng)il的構成圖。

如圖3(圖2)所示，光掩膜保持裝置1012具備保持光掩膜m的第1構件(以下稱為第1卷筒構件1021)、支承第1卷筒構件1021的導引滾筒1023、驅(qū)動第1卷筒構件1021的驅(qū)動滾筒1024、檢測出第1卷筒構件1021的位置的第1檢測器1025、以及第1驅(qū)動部1026。

如圖4(圖2或圖3)所示，第1卷筒構件1021形成配于光掩膜m上的照明區(qū)域ir配置的第1面p1001。本實施形態(tài)中，第1面p1001包含使線段(母線)繞與此線段平行的軸(第1中心軸ax1001)旋轉(zhuǎn)的面(以下稱為圓筒面)。圓筒面例如是圓筒的外周面、圓柱的外周面等。第1卷筒構件1021例如以玻璃或石英等構成，具有一定厚度的圓筒狀，其外周面(圓筒面)形成第1面p1001。亦即，本實施形態(tài)中，光掩膜m上的照明區(qū)域ir從旋轉(zhuǎn)中心線ax1001彎曲成具有一定半徑r1001(參照圖1)的圓筒面狀。第1卷筒構件1021中從第1卷筒構件1021徑方向觀看為與光掩膜m的圖案重疊的部分、例如圖3所示第1卷筒構件1021的y軸方向的兩端側(cè)以外的中央部分對照明光束el1001具有透光性。

光掩膜m被制作成例如于平坦性佳的短條狀極薄玻璃板(例如厚度100～500μm)的一面以鉻等遮光層形成有圖案的透射型平面狀片光掩膜，使其沿第1卷筒構件1021外周面彎曲，并在卷繞(貼附)于此外周面的狀態(tài)下被使用。光掩膜m，具有未形成有圖案的圖案非形成區(qū)域，在圖案非形成區(qū)域中安裝有第1卷筒構件1021。光掩膜m能對第1卷筒構件1021裝卸(釋放)。

此外，亦可取代將光掩膜m以極薄玻璃板構成并將該光掩膜m卷繞于透明圓筒母材的第1卷筒構件1021的方式，于透明圓筒母材的第1卷筒構件1021的外周面直接描繪形成以鉻等遮光層所形成的光掩膜圖案而做成一體。此情形下，第1卷筒構件1021亦發(fā)揮光掩膜(第1物體)的支承構件的功能。

此外，第1卷筒構件1021亦可作成使薄板狀的光掩膜m彎曲而安裝于其內(nèi)周面的構造。又，光掩膜m亦可形成有對應一個顯示器件的面板用圖案的整體或一部分，亦可形成有對應多個顯示器件的面板用圖案。再者，于光掩膜m，亦可于繞第1中心軸ax1001的周方向反復配置多個面板用圖案，亦可將小型面板用圖案于與第1中心軸ax1001平行的方向反復配置多個。又，光掩膜m亦可包含第1顯示器件的面板用圖案及尺寸等與第1顯示器件不同的第2顯示器件的面板用圖案。又，于第1卷筒構件1021的外周面(或內(nèi)周面)，亦可設置在與第1中心軸ax1001平行的方向或周方向個別安裝多個分離的薄板狀的光掩膜m的構造。

圖3所示的導引滾筒1023及驅(qū)動滾筒1024延伸于相對第1卷筒構件1021的第1中心軸ax1001為平行的y軸方向。導引滾筒1023及驅(qū)動滾筒1024設置成能繞與第1中心軸ax1001平行的軸旋轉(zhuǎn)。導引滾筒1023及驅(qū)動滾筒1024，軸方向端部的外徑較其他部分的外形大，此端部外接于第1卷筒構件1021。如上述，導引滾筒1023及驅(qū)動滾筒1024設置成不接觸于第1卷筒構件1021所保持的光掩膜m。驅(qū)動滾筒1024通過將從第1驅(qū)動部1026供應的力矩傳遞至第1卷筒構件1021，使第1卷筒構件1021繞第1中心軸ax1001旋轉(zhuǎn)。

此外，光掩膜保持裝置1012雖具備一個導引滾筒1023與一個驅(qū)動滾筒1024，但導引滾筒1023的數(shù)目亦可為兩個以上，驅(qū)動滾筒1024的數(shù)目亦可為兩個以上。導引滾筒1023與驅(qū)動滾筒1024中的至少一個亦可配置于第1卷筒構件1021內(nèi)側(cè)，與第1卷筒構件1021內(nèi)接。又，第1卷筒構件1021中從第1卷筒構件1021徑方向觀看為與光掩膜m的圖案不重疊的部分(y軸方向兩端側(cè))，可對照明光束el1001具有透光性，亦可不具有透光性。又，導引滾筒1023及驅(qū)動滾筒1024的一方或雙方，亦可是例如圓錐臺狀，其中心軸(旋轉(zhuǎn)軸)相對第1中心軸ax1001為非平行。

第1檢測器1025以光學方式檢測第1卷筒構件1021的旋轉(zhuǎn)位置。第1檢測器1025包含例如旋轉(zhuǎn)編碼器。第1檢測器1025將顯示所檢測出的第1卷筒構件1021的旋轉(zhuǎn)位置的信息供應至控制裝置1014。包含電動馬達等致動器的第1驅(qū)動部1026依據(jù)從控制裝置1014供應的控制信號，調(diào)整用以使驅(qū)動滾筒1024旋轉(zhuǎn)的力矩?？刂蒲b置1014通過根據(jù)第1檢測器1025的檢測結(jié)果控制第1驅(qū)動部1026，來控制第1卷筒構件1021的旋轉(zhuǎn)位置。換言之，控制裝置1014控制保持于光掩膜保持裝置1012的光掩膜m的旋轉(zhuǎn)位置與旋轉(zhuǎn)速度的一方或雙方。

此外，于第1檢測器1025亦能附加以光學方式測量在圖3中的y軸方向的第1卷筒構件1021位置的感測器(以下稱為y方向位置測量感測器)。雖圖2、圖3所示的第1卷筒構件1021的y方向位置基本上被限制成不變動，但為了進行基底p上的被曝光區(qū)域或?qū)蕵擞浥c光掩膜m的圖案的相對位置對齊，亦可考慮組裝使第1卷筒構件1021(光掩膜m)微動于y方向的機構(致動器)。此種情形下，亦能利用來自y方向位置測量感測器的測量信息，控制第1卷筒構件1021的y方向微動機構。

如圖2所示，搬送裝置1009具備第1搬送滾筒1030、第1導引構件1031、形成配置基底p上的投影區(qū)域pa的第2面p1002的第2支承構件(以下稱為第2卷筒構件1022)、第2導引構件1033、第2搬送滾筒1034、第2檢測器1035、以及第2驅(qū)動部1036。此外，圖1所示的搬送滾筒1008包含第1搬送滾筒1030及第2搬送滾筒1034。

本實施形態(tài)中，從搬送路徑上游往第1搬送滾筒1030搬送來的基底p，經(jīng)由第1搬送滾筒1030往第1導引構件1031搬送。經(jīng)由第1導引構件1031的基底p，被半徑r1002支援筒狀或圓柱狀的第2卷筒構件(圓筒體)1022表面支承，往第2導引構件1033搬送。經(jīng)由第2導引構件1033的基底p，經(jīng)由第2搬送滾筒1034往搬送路徑的下游搬送。此外，第2卷筒構件1022的旋轉(zhuǎn)中心線(第2中心線)ax1002與第1搬送滾筒1030與第2搬送滾筒1034的各旋轉(zhuǎn)中心線，均設定為與y軸平行。

第1導引構件1031及第2導引構件1033例如通過移動于與基底p的寬度方向交叉的方向移動(在圖2中的xz面內(nèi)移動)，而在搬送路徑上調(diào)整作用于基底p的張力等。又，第1導引構件1031(及第1搬送滾筒1030)與第2導引構件1033(及第2搬送滾筒1034)例如能通過構成為能移動于基底p的寬度方向(y方向)，來調(diào)整卷繞于第2卷筒構件1022外周的基底p的y方向位置等。此外，搬送裝置1009只要能沿投影光學系統(tǒng)pl的投影區(qū)域pa搬送基底p即可，能適當變更其構成。

第2卷筒構件1022形成第2面p1002，該第2面p1002將包含來自投影光學系統(tǒng)pl的成像光束所投射的基底p上的投影區(qū)域pa的一部分支承成圓弧狀。本實施形態(tài)中，第2卷筒構件1022是搬送裝置1009的一部分，且兼作為支承曝光對象基底p的支承構件(基底載臺)。亦即，第2卷筒構件1022亦可是曝光裝置ex的一部分。

第2卷筒構件1022能繞其中心軸(以下稱為第2中心軸ax1002)旋轉(zhuǎn)，基底p沿第2搬送滾筒1034上的外周面(圓筒面)彎曲成圓筒面狀，于所彎曲的一部分配置投影區(qū)域pa。

此外，本實施形態(tài)中，第1卷筒構件1021外周面中卷繞光掩膜m的部分的半徑r1001與第2卷筒構件1022外周面中卷繞基底p的部分的半徑r1002設定為實質(zhì)上相同。此因假定薄板狀的光掩膜m的厚度與基底p的厚度大致相等的情形。

另一方面，例如當于第1卷筒構件1021(透射圓筒母材)的外周面通過鉻層直接形成圖案時，由于能忽視該鉻層的厚度，因此相對于光掩膜的圖案面半徑仍保持為r1001，若基底p的厚度為200μm程度，則在投影區(qū)域pa的基底p的表面的半徑為r1002+200μm。此種情形，亦可將第2卷筒構件1022外周面中卷繞基底p的部分的半徑r1002縮小基底p的厚度的量。

由上述可知，為了嚴格地進行條件設定，亦可將第1卷筒構件1021與第2卷筒構件1022的各半徑設定成第1卷筒構件1021的外周面所支承的光掩膜的圖案面(圓筒面)的半徑與第2卷筒構件1022的外周面所支承的基底p的表面的半徑相等。

本實施形態(tài)中，第2卷筒構件1022通過從包含電動馬達等致動器的第2驅(qū)動部1036供應的力矩而旋轉(zhuǎn)。第2檢測器1035包含例如旋轉(zhuǎn)編碼器，第2檢測器1035以光學方式檢測第2卷筒構件1022的旋轉(zhuǎn)位置。第2檢測器1035將顯示所檢測出的第2卷筒構件1022的旋轉(zhuǎn)位置的信息供應至控制裝置1014。第2驅(qū)動部1026依據(jù)從控制裝置1014供應的控制信號，調(diào)整用以使第2卷筒構件1022旋轉(zhuǎn)的力矩?？刂蒲b置1014通過根據(jù)第2檢測器1035的檢測結(jié)果控制第2驅(qū)動部1036，來控制第2卷筒構件1022的旋轉(zhuǎn)位置，使第1卷筒構件1021與第2卷筒構件1022同步移動(同步旋轉(zhuǎn))。

此外，當基底p為薄的柔性膜時，亦有在卷于第2卷筒構件1022時產(chǎn)生皺紋或扭曲的情形。因此，使基底p盡可能筆直地進入至與第2卷筒構件1022外周面的接觸位置、以及使賦予基底p的搬送方向(x方向)的張力盡可能為一定值是重要的。在此種觀點下，控制裝置1014將第2驅(qū)動部1036控制成第2卷筒構件1022的旋轉(zhuǎn)速度不均極度地小。

此外，本實施形態(tài)中，若將包含第1卷筒構件1021的第1中心軸ax1001、以及第2卷筒構件1022的第2中心軸ax1002的平面設為中心面p1003(與yz面平行)，則在中心面p1003與圓筒狀的第1面p1001交叉的位置附近，中心面p1003與第1面p1001會成為近似地正交的關系，同樣地，在中心面p1003與圓筒狀的第2面p1002交叉的位置附近，中心面p1003與第2面p1002會成為近似地正交的關系。

本實施形態(tài)的曝光裝置ex假定為搭載所謂多透鏡方式的投影光學系統(tǒng)的曝光裝置。投影光學系統(tǒng)pl具備投影光掩膜m的圖案中一部分的像的多個投影模組。例如，圖2中，于中心面p1003左側(cè)有三個投影模組(投影光學系統(tǒng))pl1001,pl1003,pl1005于y方向以一定間隔配置，于中心面p1003右側(cè)亦有三個投影模組(投影光學系統(tǒng))pl1002,pl1004,pl1006于y方向以一定間隔配置。

此種多透鏡方式的曝光裝置ex中，通過掃描使被以多個投影模組pl1001～pl1006曝光的區(qū)域(投影區(qū)域pa1001～pa1006)的y方向端部彼此疊合，借此投影所欲圖案的整體像。此種曝光裝置ex，即使在處理光掩膜m上的圖案的y方向尺寸變大而必然地y方向?qū)挾容^大的基底p的必要性產(chǎn)生時，由于僅要于y方向增設投影模組與對應其的照明裝置1013側(cè)的模組即可，因此有能容易地適用于面板尺寸(基底p的寬度)的大型化的優(yōu)點。

此外，曝光裝置ex亦可非為多透鏡方式。例如，當基底p的寬度方向尺寸小至某程度時，曝光裝置ex亦可通過一個投影模組將圖案全寬的像投影于基底p。又，多個投影模組pl1001～pl1006，亦可分別投影對應一個器件的圖案。亦即，曝光裝置ex亦可通過多個投影模組并行地投影多個器件用的圖案。

本實施形態(tài)的照明裝置1013具備光源裝置(圖示略)及照明光學系統(tǒng)il。如圖4所示，照明光學系統(tǒng)il具備與多個投影模組pl1001～pl1006的各自對應而于y軸方向排列的多個(例如六個)照明模組il1001～il1006。光源裝置包含例如水銀燈等燈光源、或激光二極管、發(fā)光二極管(led)等固態(tài)光源。光源裝置射出的照明光是例如從燈光源射出的輝線(g線、h線、i線)、krf準分子激光(波長248nm)等遠紫外光(duv光)、arf準分子激光(波長193nm)等。從光源裝置射出的照明光，照度分布被均一化，通過例如光纖等導光構件分配至多個照明模組il1001～il1006。

此外，光源裝置亦可配置于第1卷筒構件1021內(nèi)側(cè)，亦可配置于第1卷筒構件1021外側(cè)。又，光源裝置亦可是與曝光裝置ex不同的裝置(外部裝置)。

多個照明模組il1001～il1006分別包含透鏡等多個光學構件。本實施形態(tài)中，將從光源裝置射出而通過多個照明模組il1001～il1006的任一光稱為照明光束el1。多個照明模組il1001～il1006的各個包含例如積分器光學系統(tǒng)、桿透鏡、復眼透鏡等，以均一照度分布的照明光束el1照明區(qū)域ir。本實施形態(tài)中，多個照明模組il1001～il1006配置于第1卷筒構件1021內(nèi)側(cè)。多個照明模組il1001～il1006的各自從第1卷筒構件1021內(nèi)側(cè)通過第1卷筒構件1021而照明保持于第1卷筒構件1021外周面的光掩膜m上的各照明區(qū)域ir(ir1001～ir1006)。

本實施形態(tài)中，將各照明模組依-y側(cè)(圖2紙面向外)往+y側(cè)(圖2紙面向內(nèi))的順序分別稱為第1照明模組il1001、第2照明模組il1002、第3照明模組il1003、第4照明模組il1004、第5照明模組il1005、第6照明模組il1006。亦即，多個照明模組il1001～il1006中配置于最-y側(cè)者為第1照明模組il1001，配置于最+y側(cè)者為第6照明模組il1006。此外，投影光學系統(tǒng)pl具備的投影模組的數(shù)目亦可為一個以上，五個以下，亦可為七個以上。

多個照明模組il1001～il1006在與第1中心軸ax1001交叉的方向(例如x軸方向)分離配置成彼此不干涉。第1照明模組il1001、第3照明模組il1003、以及第5照明模組il1005配置于從y軸方向觀看時為彼此重疊的位置。第1照明模組il1001、第3照明模組il1003、以及第5照明模組il1005于y軸方向彼此分離配置。

本實施形態(tài)中，第2照明模組il1002配置成從y軸方向觀看時相對中心面p1003與第1照明模組il1001成對稱。第4照明模組il1004及第6照明模組il1006配置于從y軸方向觀看時為與第2照明模組il1002重疊的位置。第2照明模組il1002、第4照明模組il1004、以及第6照明模組il1006于y軸方向彼此分離配置。

多個照明模組il1001～il1006，均往相對第1卷筒構件1021的第1中心軸ax1001的放射方向(徑方向)中與中心面p1003交叉的第1徑方向d1001或第2徑方向d1002照射照明光束el1。各照明模組的照明光束el1的照射方向，依照明模組于y軸方向排列的順序交互變化。例如來自第1照明模組il1001的照明光束的照射方向(第1徑方向d1001)較z軸方向往-x側(cè)傾斜，來自第2照明模組il1002的照明光束的照射方向(第2徑方向d1002)較-z軸方向往+x側(cè)傾斜。同樣地，來自第3照明模組il1003及第5照明模組il1005的各個的照明光束的照射方向，與第1照明模組il1001的照射方向?qū)嵸|(zhì)上平行，來自第4照明模組il1004及第6照明模組il1006的各個的照明光束的照射方向，與第2照明模組il1002的照射方向?qū)嵸|(zhì)上平行。

圖5顯示本實施形態(tài)的照明區(qū)域ir及投影區(qū)域pa的配置的圖。此外，圖5圖示從-z側(cè)觀看配置于第1卷筒構件1021的光掩膜m上的照明區(qū)域ir的俯視圖(圖5中的左圖)與從+z側(cè)觀看配置于第2卷筒構件1022的基底p上的投影區(qū)域pa的俯視圖(圖5中的右圖)。圖5中的符號xs顯示第1卷筒構件1021或第2卷筒構件1022的移動方向(旋轉(zhuǎn)方向)。

第1至第6照明模組il1001～il1006，分別照明光掩膜m上的第1至第6照明區(qū)域ir1001～ir1006。例如，第1照明模組il1001照明第1照明區(qū)域ir1001，第2照明模組il1002照明第2照明區(qū)域ir1002。

本實施形態(tài)的第1照明區(qū)域ir1001，雖說明其是在y方向的細長的梯形區(qū)域，但依的后說明的投影光學系統(tǒng)(投影模組)pl構成的不同，亦可為包含此梯形區(qū)域的長方形區(qū)域。第3照明區(qū)域ir1003及第5照明區(qū)域ir1005均為與第1照明區(qū)域ir1001相同形狀的區(qū)域，于y軸方向分隔一定間隔配置。又，第2照明區(qū)域ir1002相對中心面p1003為與第1照明區(qū)域ir1001對稱的梯形(或長方形)的區(qū)域。第4照明區(qū)域ir1004及第6照明區(qū)域ir1006均為與第2照明區(qū)域ir1002相同形狀的區(qū)域，于y軸方向分隔一定間隔配置。

如圖5所示，第1至第6照明區(qū)域ir1001～ir1006的各個配置成沿第1面p1001的周方向觀看時相鄰的梯形照明區(qū)域的斜邊部的三角部重疊(overlap)。因此，例如通過第1卷筒構件1021的旋轉(zhuǎn)而通過第1照明區(qū)域ir1001的光掩膜m上的第1區(qū)域a1001，與通過第1卷筒構件1021的旋轉(zhuǎn)而通過第2照明區(qū)域ir1002的光掩膜m上的第2區(qū)域a1002一部分重疊。

本實施形態(tài)中，光掩膜m具有形成有圖案的圖案形成區(qū)域a1003、與未形成有圖案的圖案非形成區(qū)域a1004。該圖案非形成區(qū)域a1004配置成框狀包圍圖案形成區(qū)域a1003，具有遮蔽照明光束el1的特性。光掩膜m的圖案形成區(qū)域a1003伴隨第1卷筒構件1021的旋轉(zhuǎn)往方向xs移動，圖案形成區(qū)域a1003中的y軸方向的各部分區(qū)域通過第1至第6照明區(qū)域ir1001～ir1006的任一者。換言之，第1至第6照明區(qū)域ir1001～ir1006配置成涵蓋圖案形成區(qū)域a1003的y軸方向全寬。

如圖2所示，投影光學系統(tǒng)pl具備排列于y軸方向的多個投影模組pl1001～pl1006。多個投影模組pl1001～pl1006的各個，與第1至第6照明區(qū)域ir1001～ir1006的各個一一應，將被對應的照明模組照明的照明區(qū)域ir內(nèi)所出現(xiàn)的光掩膜m的局部圖案的像投影于基底p上的各投影區(qū)域pa。

例如，第1投影模組pl1001對應于第1照明模組il1001，將被第1照明模組il1001照明的第1照明區(qū)域ir1001(參照圖5)中的光掩膜m的圖案像投影于基底p上的第1投影區(qū)域pa1001。第3投影模組pl1003、第5投影模組pl1005分別與第3照明模組il1003、第5照明模組il1005對應。第3投影模組pl1003及第5投影模組pl1005配置于從y軸方向觀看時不與第1投影模組pl1001重疊的位置。

又，第2投影模組pl1002對應于第2照明模組il1002，將被第2照明模組il1002照明的第2照明區(qū)域ir1002(參照圖5)中的光掩膜m的圖案像投影于基底p上的第2投影區(qū)域pa1002。第2投影模組pl1002配置于從y軸方向觀看時相對第1投影模組pl1001夾著中心面p1003成對稱的位置。

第4投影模組pl1004、第6投影模組pl1006分別與第4照明模組il1004、第6照明模組il1006對應配置，第4投影模組pl1004及第6投影模組pl1006配置于從y軸方向觀看時不與第2投影模組pl1002重疊的位置。

此外，本實施形態(tài)中，將從照明裝置1013的各照明模組il1001～il1006到達光掩膜m上的各照明區(qū)域ir1001～ir1006的光稱為照明光束el1，將受到與各照明區(qū)域ir1001～ir1006中出現(xiàn)的光掩膜m的局部圖案對應的強度分布調(diào)整而射入各投影模組pl1001～pl1006并到達各投影區(qū)域pa1001～pa1006的光稱為成像光束el2。

如圖5中的右圖所示，第1照明區(qū)域ir1001中的圖案像被投影于第1投影區(qū)域pa1001，第3照明區(qū)域ir1003中的圖案像被投影于第3投影區(qū)域pa1003，第5照明區(qū)域ir1005中的圖案像被投影于第5投影區(qū)域pa1005。本實施形態(tài)中，第1投影區(qū)域pa1001、第3投影區(qū)域pa1003、以及第5投影區(qū)域pa1005配置成于y軸方向排列成一列。

又，第2照明區(qū)域ir1002中的圖案像被投影于第2投影區(qū)域pa1002。本實施形態(tài)中，第2投影區(qū)域pa1002配置成從y軸方向觀看時相對中心面p1003與第1投影區(qū)域pa1001成對稱。又，第4照明區(qū)域ir1004中的圖案像被投影于第4投影區(qū)域pa1004，第6照明區(qū)域ir1006中的圖案像被投影于第6投影區(qū)域pa1006。本實施形態(tài)中，第2投影區(qū)域pa1002、第4投影區(qū)域pa1004、以及第6投影區(qū)域pa1006配置成于y軸方向排列成一列。

第1至第6投影區(qū)域pa1001～pa1006的各個配置成沿第2面p1002的周方向觀看時在與第2中心軸ax1002平行的方向相鄰的投影區(qū)域與端部(梯形的三角部分)重疊。因此，例如通過第2卷筒構件1022的旋轉(zhuǎn)而通過第1投影區(qū)域pa1001的基底p上的第3區(qū)域a1005，與通過第2卷筒構件1022的旋轉(zhuǎn)而通過第2投影區(qū)域pa1002的基底p上的第4區(qū)域a1006一部分重疊。

第1投影區(qū)域pa1001與第2投影區(qū)域pa1002，各自的形狀等被設定為在第3區(qū)域a1005與第4區(qū)域a1006重疊的區(qū)域的曝光量與不重疊的區(qū)域的曝光量實質(zhì)上相同。

本實施形態(tài)中，在基底p的曝光對象的區(qū)域(以下稱為曝光區(qū)域a1007)如圖5中的右圖所示，伴隨第2卷筒構件1022的旋轉(zhuǎn)往方向xs移動，曝光區(qū)域a1007中y軸方向的各部分區(qū)域通過第1至第6投影區(qū)域pa1001～pa1006的任一個。換言之，第1至第6投影區(qū)域pa1001～pa1006配置成涵蓋曝光區(qū)域a1007的y軸方向全寬。

此外，相對第1投影模組pl1001的照明光束el1的照射方向，例如亦可為通過第1照明區(qū)域ir1001內(nèi)的任一位置的主光線的行進方向，亦可為通過第1照明區(qū)域ir1001中心的主光線的行進方向。相對第2至第6投影模組pl1002～pl1006的照明光束el1的照射方向亦相同。

此外，第1至第6投影區(qū)域pa1001～pa1006亦可配置成通過其任一個的基底p上的區(qū)域彼此在端部不重疊。例如，通過第1投影區(qū)域pa1001的第3區(qū)域a1005亦可不與通過第2投影區(qū)域pa1002的第4區(qū)域a1006的一部分重疊。亦即，即使是多透鏡方式，亦能不進行各投影模組的連續(xù)曝光。此情形下，第3區(qū)域a1005亦可是被投影對應第1器件的圖案的區(qū)域，第4區(qū)域a1006亦可是被投影對應第2器件的圖案的區(qū)域。上述的第2器件亦可是與第1器件同種的器件，于第4區(qū)域a1006投影與第3區(qū)域a1005相同的圖案。上述的第2器件亦可是與第1器件不同種類的器件，于第4區(qū)域a1006投影與第3區(qū)域a1005不同的圖案。

其次，參照圖6說明本實施形態(tài)的投影光學系統(tǒng)pl的詳細構成。此外，本實施形態(tài)中，第2至第6投影模組pl1002～pl1006的各個是與第1投影模組pl1001相同的構成。因此，說明第1投影模組pl1001的構成來代表投影光學系統(tǒng)pl。

圖6所示的第1投影模組pl1001具備將配置于第1照明區(qū)域ir1001的光掩膜m的圖案像成像于中間像面p1007的第1光學系統(tǒng)1041、將第1光學系統(tǒng)1041形成的中間像的至少一部分再成像于基底p的第1投影區(qū)域pa1001的第2光學系統(tǒng)1042、以及配置于形成中間像的中間像面p1007的第1視野光闌1043。

又，第1投影模組pl1001具備用以微調(diào)形成于基底p上的光掩膜的圖案像(以下稱為投影像)的聚焦狀態(tài)的聚焦修正光學構件1044、用以在像面內(nèi)使投影像微橫移的像移修正光學構件1045、微修正投影像的倍率的倍率修正用光學構件1047、以及用以在像面內(nèi)使投影像微旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)修正機構1046。

聚焦修正光學構件1044配置于從第1照明區(qū)域ir1001射出的成像光束el2所射入的位置，像移修正光學構件1045配置于從聚焦修正光學構件1044射出的成像光束el2所射入的位置。倍率修正用光學構件1047配置于從第2光學系統(tǒng)1042射出的成像光束el2所射入的位置。

來自光掩膜m的圖案的成像光束el2從第1照明區(qū)域ir1001沿法線方向射出，通過聚焦修正光學構件1044射入像移修正光學構件1045。透射過像移修正光學構件1045的成像光束el2在第1光學系統(tǒng)1041的要件即第1偏向構件1050的第1反射面(平面鏡)p1004反射，通過第1透鏡群1051而在第1凹面鏡1052反射，再度通過第1透鏡群1051而在第1偏向構件1050的第2反射面(平面鏡)p1005反射，射入第1視野光闌1043。

通過第1視野光闌1043的成像光束el2在第2光學系統(tǒng)1042的要件即第2偏向構件1057的第3反射面(平面鏡)p1008反射，通過第2透鏡群1058而在第2凹面鏡1059反射，再度通過第2透鏡群1058而在第2偏向構件1057的第4反射面(平面鏡)p1009反射，射入倍率修正用光學構件1047。

從倍率修正用光學構件1047射出的成像光束el2，射入基底p上的第1投影區(qū)域pa1001，出現(xiàn)于第1照明區(qū)域ir1001內(nèi)的圖案像以等倍(×1)投影于第1投影區(qū)域pa1001。

第1光學系統(tǒng)1041與第2光學系統(tǒng)1042例如是將戴森(dyson)系統(tǒng)變形后的遠心反折射光學系統(tǒng)。本實施形態(tài)中，第1光學系統(tǒng)1041的光軸(以下稱為第1光軸ax1003)與中心面p1003實質(zhì)上正交。第1光學系統(tǒng)1041具備第1偏向構件1050、第1透鏡群1051、以及第1凹面鏡1052。從像移修正光學構件1045射出的成像光束el2在第1偏向構件1050的第1反射面p1004反射而往第1光軸ax1003的一側(cè)(-x側(cè))行進，通過第1透鏡群1051射入配置于瞳面的第1凹面鏡1052。在第1凹面鏡1052反射的成像光束el2，往第1光軸ax1003的另一側(cè)(+x側(cè))行進而通過第1透鏡群1051，在第1偏向構件1050的第2反射面p1005反射而射入第1視野光闌1043。

第1偏向構件1050延伸于y軸方向的三角棱鏡。本實施形態(tài)中，第1反射面p1004與第2反射面p1005的各個包含形成于三角棱鏡表面的鏡面(反射膜的表面)。通過第1照明區(qū)域ir1001中心的成像光束el2的主光線el3，沿相對中心面p1003在xz面內(nèi)傾斜的第1徑方向d1001行進而射入第1投影模組pl1001。

第1偏向構件1050將成像光束el2偏向成，從第1照明區(qū)域ir1001到達第1反射面p1004的主光線el3與從第2反射面p1005到達中間像面p1007的主光線el3(與中心面p1003平行)在xy面內(nèi)成為非平行。

為了形成如以上的光路，本實施形態(tài)中，包含第1偏向構件1050的第1反射面p1004與第2反射面p1005所交會的棱線與第1光軸ax1003，將與xy面平行的面設為p1006，相對此面p1006，第1反射面p1004與第2反射面p1005以非對稱的角度配置。

當將第1反射面p1004相對于面p1006的角度設為θ1001、將第2反射面p1005相對于面p1006的角度設為θ1002時，本實施形態(tài)中，角度(θ1001+θ1002)設定為小于90°，角度θ1001設定為小于45°，角度θ1002設定為實質(zhì)上45°。

通過將在第1反射面p1004反射而射入第1透鏡群1051的主光線el3設定為與光軸ax1003平行，該主光線el3能通過第1凹面鏡1052的中心、亦即瞳面與光軸ax1003的交點，能確保遠心的成像狀態(tài)。因此，圖6中，當將從第1照明區(qū)域ir1001到達第1反射面p1004的主光線el3(第1徑方向d1001)相對于中心面p1003的傾角設為θd時，第1反射面p1004的角度θ1001只要設定成滿足下式(1)即可。

θ1001＝45°－(θd/2)...(1)

本實施形態(tài)中，屬于第1透鏡群1051的多個透鏡的各個是繞第1光軸ax1003成軸對稱的形狀。在第1反射面p1004反射的成像光束el2從相對面p1006的一側(cè)(+z側(cè))射入第1透鏡群1051。第1凹面鏡1052配置于第1光學系統(tǒng)1041的瞳面的位置或其近旁。

通過第1透鏡群1051的成像光束el2的主光線el3，射入第1光軸ax1003與第1凹面鏡1052的交點。在第1凹面鏡1052反射的成像光束el2，與往第1凹面鏡1052射入前比較，在第1透鏡群1051中沿相對面p1006為對稱的光路行進。在第1凹面鏡1052反射的成像光束el2，從第1透鏡群1051的另一方側(cè)(-z側(cè))射出，在第1偏向構件1050的第2反射面p1005反射，沿與中心面p1003平行的主光線el3行進。

第1視野光闌1043具有規(guī)定第1投影區(qū)域pa1001的形狀的開口。亦即，第1視野光闌1043的開口形狀規(guī)定第1投影區(qū)域pa1001的形狀。因此，如圖6所示，當能于中間像面p1007配置第1視野光闌1043時，能使此第1視野光闌1043的開口形狀成為如先前圖5的右圖所示的梯形，此情形下，第1至第6照明區(qū)域ir1006各自的形狀，可不與第1至第6投影區(qū)域pa1001～pa1006各自的形狀(梯形)相似，可為包含各投影區(qū)域(第1視野光闌1043的開口)的梯形形狀的長方形。

第2光學系統(tǒng)1042與第1光學系統(tǒng)1041為相同構成，設置成相對包含第1視野光闌1043的中間像面p1007與第1光學系統(tǒng)1041成對稱。第2光學系統(tǒng)1042的光軸(以下稱為第2光軸ax1004)與中心面p1003實質(zhì)上正交。第2光學系統(tǒng)1042具備第2偏向構件1057、第2透鏡群1058、以及第2凹面鏡1059。從第1光學系統(tǒng)1041射出而通過第1視野光闌1043的成像光束el2在第2偏向構件1057的第3反射面p1008反射，通過第2透鏡群1058射入第2凹面鏡1059。在第2凹面鏡1059反射的成像光束el2，再度通過第2透鏡群1058，在第2偏向構件1057的第4反射面p1009反射而射入倍率修正用光學構件1047。

第2光學系統(tǒng)1042的第2偏向構件1057、第2透鏡群1058、第2凹面鏡1059分別與第1光學系統(tǒng)1041的第1偏向構件1050、第1透鏡群1051、第1凹面鏡1052相同。第2偏向構件1057的第3反射面p1008與第2光軸ax1004所構成的角度θ1003，與第1偏向構件1050的第2反射面p1005與第1光軸ax1003所構成的角度θ1002實質(zhì)上相同。又，第2偏向構件1057的第4反射面p1009與第2光軸ax1004所構成的角度θ1004，與第1偏向構件1050的第1反射面p1004與第1光軸ax1003所構成的角度θ1001實質(zhì)上相同。屬于第2透鏡群1058的多個透鏡的各個是繞第2光軸ax1004為軸對稱的形狀。

第2凹面鏡1059配置于第2光學系統(tǒng)1042的瞳面的位置或其近旁。

通過第1視野光闌1043的成像光束el2，往沿與中心面p1003平行的主光線的方向行進而射入第3反射面(平面)p1008。第3反射面p1008相對第2光學系統(tǒng)1042的第2光軸ax1004(或面p1006或中間像面p1007)的傾斜角度θ1003在xz面內(nèi)為45°，在此處反射的成像光束el2，射入第2透鏡群1058的上半部分的視野區(qū)域。射入該第2透鏡群1058的成像光束el2的主光線el3，成為與第2光軸ax1004平行，射入第2光軸ax1004與第2凹面鏡1059的交點。

在第2凹面鏡1059反射的成像光束el2，與往第2凹面鏡1059射入前比較，相對第2光軸ax1004對稱地行進。在第2凹面鏡1059反射的成像光束el2，再度通過第2透鏡群1058的下半部分的視野區(qū)域，在第2偏向構件1057的第4反射面p1009反射，往與中心面p1003交叉的方向行進。

從第2光學系統(tǒng)1042射出并往第1投影區(qū)域pa1001的成像光束el2的主光線el3的行進方向，設定為相對包含第1視野光闌1043的中間像面p1007與從第1照明區(qū)域ir1001射入第1光學系統(tǒng)1041的成像光束el2的主光線el3的行進方向成對稱。亦即，在xz面內(nèi)觀看時，第2偏向構件1057的第4反射面p1009相對第2光軸ax1004的角度θ1004，與先前的式(1)同樣地設定成滿足下式(2)。

θ1004＝45°－(θd/2)...(2)

借此，從第2光學系統(tǒng)1042射出的成像光束el2的主光線el3，往基底p上的第1投影區(qū)域pa1001(圓筒面狀)的法線方向(往圖2中的旋轉(zhuǎn)中心線ax1002的方向)行進。

本實施形態(tài)中，聚焦修正光學構件1044、像移修正光學構件1045、旋轉(zhuǎn)修正機構1046及倍率修正用光學構件1047，構成調(diào)整第1投影模組pl1001的成像特性的成像特性調(diào)整機構。通過控制成像特性調(diào)整機構，而能就每個投影模組調(diào)整在基底p上的投影像的投影條件。此處所指的投影條件，包含在基底p上的投影區(qū)域的并進位置或旋轉(zhuǎn)位置、倍率、聚焦中的1個以上的項目。投影條件，能就同步掃描時相對基底p的投影區(qū)域的每一個位置來決定。通過調(diào)整投影像的投影條件，而能修正與光掩膜m的圖案比較時的投影像的歪斜。此外，成像特性調(diào)整機構的構成能適當變更，能省略其至少一部分。

聚焦修正光學構件1044例如是將兩片楔形的棱鏡逆向(圖6中于x方向為逆向)疊合成整體為透明的平行平板。通過使此一對棱鏡不改變彼此對向面間的間隔而于斜面方向滑動，即能改變作為平行平板的厚度。借此微調(diào)第1光學系統(tǒng)1041的實效光路長度，并微調(diào)形成于中間像面p1007及投影區(qū)域pa1001的圖案像的聚焦狀態(tài)。

像移修正光學構件1045以能在圖6中的xz面內(nèi)傾斜的透明平行平板玻璃與能傾斜于與其正交的方向的透明平行平板玻璃構成。通過調(diào)整該兩片平行平板玻璃的各傾斜量，而能使形成于中間像面p1007及投影區(qū)域pa1001的圖案像于x方向或y方向微幅位移。

倍率修正用光學構件1047，構成為例如將凹透鏡、凸透鏡、凹透鏡的三片以既定間隔同軸配置，前后凹透鏡為固定，使其間的凸透鏡移動于光軸(主光線)方向。借此，形成于投影區(qū)域pa1001的圖案像，可一邊維持遠心的成像狀態(tài)、一邊等方地擴大或縮小微小量。此外，構成倍率修正用光學構件1047的三片透鏡群的光軸，在xz面內(nèi)傾斜成與通過此處的主光線el3平行。

旋轉(zhuǎn)修正機構1046，例如通過致動器(圖示略)使第1偏向構件1050繞與第1光軸ax1003平行的軸微幅旋轉(zhuǎn)。能通過此旋轉(zhuǎn)修正機構1046，使形成于中間像面p1007的像在該中間像面p1007內(nèi)微幅旋轉(zhuǎn)。

如上述，從第1投影模組pl1001射出的成像光束el2，于配置于第2卷筒構件1022外周面的基底p的第1投影區(qū)域pa1001形成出現(xiàn)于第1照明區(qū)域ir1001的圖案的像。本實施形態(tài)中，通過第1照明區(qū)域ir1001中心的成像光束el2的主光線el3，從第1照明區(qū)域ir1001往法線方向射出，對第1投影區(qū)域pa1001從法線方向射入。以此方式，出現(xiàn)于圓筒面狀的第1照明區(qū)域ir1001的光掩膜m的圖案像，被投影于圓筒面狀的基底p上的第1投影區(qū)域pa1001。又，出現(xiàn)于第2至第6照明區(qū)域ir1002～ir1006各自的圖案像，亦同樣地被投影于圓筒面狀的基底p上的第2至第6投影區(qū)域pa1002～pa1006的各個。

本實施形態(tài)中，如圖2、圖5所示，奇數(shù)照明區(qū)域ir1001、ir1003、ir1005與偶數(shù)照明區(qū)域ir1002、ir1004、ir1006，配置于相對中心面p1003為對稱的距離，且奇數(shù)投影區(qū)域pa1001、pa1003、pa1005與偶數(shù)投影區(qū)域pa1002、pa1004、pa1006，亦配置于相對中心面p1003為對稱的距離。因此，能將六個投影模組的各個全部作成相同構成，能共通化投影光學系統(tǒng)的零件，簡化組裝步驟、檢查步驟，且能將各投影模組的成像特性(像差等)匯整成一樣。此點，特別是在通過多透鏡方式在各個投影模組的投影區(qū)域間進行連續(xù)曝光的情形，形成于基底p上的面板用圖案的品質(zhì)(轉(zhuǎn)印忠實度)可不取決于面板內(nèi)的位置或區(qū)域而保持為一定，是有利的。

又，一般的曝光裝置，若投影區(qū)域彎曲成圓筒面狀，例如在成像光束從非垂直的方向射入投影區(qū)域時等，有時會因投影區(qū)域位置的不同而使散焦變大。其結(jié)果，有時會產(chǎn)生曝光不良，產(chǎn)生不良器件。

本實施形態(tài)中，投影光學系統(tǒng)pl(例如第1投影模組pl1001)的第1偏向構件1050(第1反射面p1004)及第2偏向構件1057(第4反射面p1009)，將主光線el3偏向成從第1照明區(qū)域ir1001往法線方向射出的主光線el3從法線方向被投射于第1投影區(qū)域pa1001。因此，基底處理裝置1011，能減少在投影區(qū)域pa1001內(nèi)的投影像的聚焦誤差、特別是在圖5所示的各投影區(qū)域pa1001～pa1006內(nèi)的投影像的最佳聚焦面整體從各投影模組pl1001～pl1006的焦深(depthoffocus)的寬度大幅偏移，抑制曝光不良等的產(chǎn)生。其結(jié)果，可抑制器件制造系統(tǒng)1001的不良器件的產(chǎn)生。

本實施形態(tài)中，投影光學系統(tǒng)pl由于包含配置于形成中間像的位置的第1視野光闌1043，因此能高精度地管理投影像的形狀等。因此，基底處理裝置1011，能減少例如第1至第6投影區(qū)域pa1001～pa1006的重疊誤差，抑制曝光不良等的產(chǎn)生。又，第1偏向構件1050的第2反射面p1005將來自第1照明區(qū)域ir1001的主光線el3偏向成與視野光闌1043正交。因此，基底處理裝置1011，能更高精度地管理投影像的形狀等。

又，本實施形態(tài)中，第1至第6投影模組pl1001～pl1006的各個，系將光掩膜m的圖案像投影為正立像。因此，在基底處理裝置1011將光掩膜m的圖案分成第1至第6投影模組pl1001～pl1006來投影時，由于能進行將被投影的投影像的區(qū)域(例如第3區(qū)域a1005及第4區(qū)域a1006)一部分重疊的連續(xù)曝光，因此光掩膜m的設計變得容易。

本實施形態(tài)中，基底處理裝置1011，由于是由搬送裝置1009一邊沿第2面p1002以一定速度連續(xù)搬送基底p、一邊由曝光裝置ex將基底p曝光，因此能提高曝光處理的生產(chǎn)性。其結(jié)果，器件制造系統(tǒng)1001能以良好效率制造器件。

此外，本實施形態(tài)中，第1反射面p1004與第2反射面p1005雖配置于相同的偏向構件(第1偏向構件1050)表面，但亦可配置于不同構件的表面。又，第1反射面p1004與第2反射面p1005的一方或雙方亦可配置于第1偏向構件1050的內(nèi)面，而具有例如通過全反射條件反射光的特性。

再者，如上述的與第1反射面p1004、第2反射面p1005相關的變形亦能適用于第3反射面p1008與第4反射面p1009的一方或雙方。例如在將第2面p1002的半徑r1002變更的情形等，第2偏向構件1057的第4反射面p1009，將角度θ1004設定成成像光束el2對第1投影區(qū)域pa1001從法線方向射入，并將配置設定成，第1投影區(qū)域pa1001與第2投影區(qū)域pa1002的中心點之間的圓弧狀周長，與光掩膜m(半徑r1001)上的對應的照明區(qū)域ir1001的中心點與照明區(qū)域ir1002的中心點之間的圓弧狀周長一致。

[第2實施形態(tài)]

其次，說明第2實施形態(tài)。本實施形態(tài)中，有時會對與上述實施形態(tài)相同的構成要件賦予與上述實施形態(tài)相同的符號，簡化或省略其說明。

圖7顯示本實施形態(tài)的基底處理裝置1011構成圖。本實施形態(tài)的搬送裝置1009，具備第1搬送滾筒1030、第1導引構件(空氣旋轉(zhuǎn)桿等)1031、第4搬送滾筒1071、第5搬送滾筒1072、第6搬送滾筒1073、第2導引構件(空氣旋轉(zhuǎn)桿等)1033、以及第2搬送滾筒1034。

從搬送路徑上游往第1搬送滾筒1030搬送來的基底p，經(jīng)由第1搬送滾筒1030往第1導引構件1031搬送。經(jīng)由第1導引構件1031的基底p，經(jīng)由第4搬送滾筒1071往第5搬送滾筒1072搬送。第5搬送滾筒1072其中心軸配置于中心面p1003上。經(jīng)由第5搬送滾筒1072的基底p，經(jīng)由第6搬送滾筒1073往第2導引構件1033搬送。

第6搬送滾筒1073相對中心面p1003配置成與第4搬送滾筒1071對稱。經(jīng)由第2導引構件1033的基底p經(jīng)由第2搬送滾筒1034往搬送路徑的下游搬送。第1導引構件1031及第2導引構件1033與先前圖2所示的第1導引構件1031及第2導引構件1033同樣地，在搬送路徑中調(diào)整作用于基底p的張力。

圖7中的第1投影區(qū)域pa1001，設定于在第4搬送滾筒1071與第5搬送滾筒1072間被直線搬送的基底p上。在第4搬送滾筒1071與第5搬送滾筒1072之間，基底p被支承成于搬送方向被賦予既定張力，基底p沿平面狀的第2面p1002被移送。

第1投影區(qū)域pa1001(第2面p1002)傾斜成相對中心面p1003為非垂直。第1投影區(qū)域pa1001的法線方向(以下稱為第1法線方向d1003)，配置成相對與中心面p1003正交的面、例如圖6亦有顯示中間像面p1007而與第1徑方向d1001成對稱。從第1投影模組pl1001射出的成像光束el2的主光線el3，對第1投影區(qū)域pa1001從第1法線方向d1003射入。換言之，第4搬送滾筒1071與第5搬送滾筒1072被配置成，架設于第4搬送滾筒1071與第5搬送滾筒1072的基底p的第1法線方向d1003，相對與中心面p1003正交的中間像面p1007而與第1徑方向d1001成對稱。

第2投影區(qū)域pa1002，設定于在第5搬送滾筒1072與第6搬送滾筒1073間被直線搬送的基底p上。基底p在第5搬送滾筒1072與第6搬送滾筒1073之間，被支承成被賦予一定張力，基底p沿平面狀的第2面p1002被移送。

第2投影區(qū)域pa1002傾斜成相對中心面p1003為非垂直。第2投影區(qū)域pa1002的法線方向(以下稱為第2法線方向d1004)，配置成相對與中心面p1003正交的中間像面p1007而與第2徑方向d1002成對稱。從第2投影模組pl1002射出的成像光束el2的主光線el3，對第2投影區(qū)域pa1002從第2法線方向d1004射入。換言之，第5搬送滾筒1072與第6搬送滾筒1073被配置成，架設于第5搬送滾筒1072與第6搬送滾筒1073的基底p的第2法線方向d1004，相對與中心面p1003正交的中間像面p1007而與第2徑方向d1002成對稱。

本實施形態(tài)的基底處理裝置1011通過第4搬送滾筒1071、第5搬送滾筒1072、以及第6搬送滾筒1073使先前圖2所示的圓筒面狀的第2面p1002接近近似的平面，各投影區(qū)域pa1001～pa1006中投影于基底p上的圖案像的轉(zhuǎn)印忠實度，從焦深(dof)的觀點來看更為提升。又，如先前圖2所示，與為了支承與搬送基底p而使用半徑r1002的第2卷筒構件1022的情形相比，能將搬送裝置1009整體的z方向高度抑制地更低，能使裝置整體小型。

又，圖7的裝置構成中，第4搬送滾筒1071、第5搬送滾筒1072、以及第6搬送滾筒1073是搬送裝置1009的一部分，且兼作為支承曝光對象的基底p的支承構件(曝光裝置ex側(cè)的基底載臺)。此外，亦可于第4搬送滾筒1071與第5搬送滾筒1072之間、第5搬送滾筒1072與第6搬送滾筒1073之間，設置通過流體軸承以非接觸方式平面支承基底p的背面?zhèn)鹊呢惻练绞降膲|板，使各投影區(qū)域pa1001～pa1006所位于的基底p的局部區(qū)域的平坦性更加提高。

再者，圖7所示的搬送裝置1009的搬送滾筒至少一個，亦可對投影光學系統(tǒng)pl為固定，亦可為可動。例如，第5搬送滾筒1072亦可在包含平行于x軸方向的并進方向、平行于y軸方向的并進方向、以及平行于z軸方向的并進方向的三個并進方向與繞平行于x軸方向的軸的旋轉(zhuǎn)方向、繞平行于y軸方向的軸的旋轉(zhuǎn)方向、以及繞平行于z軸方向的軸的旋轉(zhuǎn)方向的三個旋轉(zhuǎn)方向的六方向中(六自由度)的至少一方向(一自由度)微幅移動?；蛘撸嗫赏ㄟ^相對第5搬送滾筒1072調(diào)整第4搬送滾筒1071與第6搬送滾筒1073的一方或雙方的z軸方向的相對位置，來微調(diào)第1投影區(qū)域pa1001的第1法線方向d1003或第2投影區(qū)域pa1002的第2法線方向d1004與被平面化支承的基底p的表面所構成的角度。如此，通過使被選擇的滾筒微幅移動，而能高精度地使相對各投影區(qū)域pa1001～pa1006中的圖案投影像面的基底p的表面姿勢一致。

[第3實施形態(tài)]

其次，說明第3實施形態(tài)。本實施形態(tài)中，有時會對與上述各實施形態(tài)相同的構成要件賦予與上述各實施形態(tài)相同的符號，簡化或省略其說明。

圖8顯示本實施形態(tài)的作為基底處理裝置1011的曝光裝置ex的構成，基本構成與先前的圖7相同。不過，與圖7的構成相比差異點在于，設于投影光學系統(tǒng)pl的各投影模組pl1001～pl1006內(nèi)的第2偏向構件1057的第4反射面p1009相對光軸ax1004的角度θ1004設定為45°、通過搬送裝置1009搬送的基底p在各投影區(qū)域pa1001～pa1006的位置被支承于與中心面p1003正交的平面(與圖8中的xy面平行)。

圖8的構成中，基底p從搬送路徑上游經(jīng)由第1搬送滾筒1030、第1導引構件1031(空氣旋轉(zhuǎn)桿等)、第4搬送滾筒1071而往第8搬送滾筒1076搬送。經(jīng)由第8搬送滾筒1076的基底p經(jīng)由第2導引構件1033(空氣旋轉(zhuǎn)桿等)與第2搬送滾筒1034往搬送路徑的下游搬送。

如圖8所示，在第4搬送滾筒1071與第8搬送滾筒1076之間，基底p伴隨既定張力被支承、搬送成與xy面平行。此情形下，支承基底p的第2面p1002為平面，于該第2面p1002內(nèi)配置各投影區(qū)域pa1001～pa1006。

又，在構成各投影模組pl1001～pl1006的第2光學系統(tǒng)1042中，第2偏向構件1057的第3反射面p1008與第4反射面p1009配置成從第2光學系統(tǒng)1042射出至基底p的成像光束el2的主光線el3實質(zhì)上平行于中心面p1003。亦即，投影光學系統(tǒng)pl(投影模組pl1001～pl1006)的第1偏向構件1050及第2偏向構件1057，將成像光路偏向成從圓筒面狀的各照明區(qū)域ir1001～ir1006射出于法線方向的各主光線el3，從法線方向射入設定于共通平面上的各投影區(qū)域pa1001～pa1006。

本實施形態(tài)中，在從平行于光掩膜m的第1中心軸ax1001的方向觀看的xz面內(nèi)，投影區(qū)域pa1001(及pa1003,pa1005)的中心點至投影區(qū)域pa1002(及pa1004,pa1006)的中心點的沿第2面p1002(基底p的表面)的距離dfx，設定為與照明區(qū)域ir1001(及ir1003,ir1005)的中心點至照明區(qū)域ir1002(及ir1004,ir1006)的中心點的沿第1面p1001(半徑r1001的圓筒面)的距離(弦長或周長)dmx實質(zhì)上相等。

此處，參照示意表示的圖9說明照明區(qū)域ir相互的位置關系與投影區(qū)域pa相互位置關系。此外，圖9中，符號α顯示第1徑方向d1001與第2徑方向d1002所構成的角度(孔徑角)[°]，符號r顯示第1面p1001的半徑[mm]。

圖9中，在xz面內(nèi)的照明區(qū)域ir1001的中心點至照明區(qū)域ir1002的中心點的周長dmx[mm]，使用角度α及半徑r以下式(3)表示。

dmx＝π·α·r/180...(3)

又，照明區(qū)域ir1001的中心點至照明區(qū)域ir1002的中心點的直線距離ds以下式(4)表示。

ds＝2·r·sin(π·α/360)...(4)

例如，在角度α為30°，半徑r為180mm時，周長dmx為約94.248mm，距離ds為約93.175mm。亦即，若假定照明區(qū)域ir1001的中心點的x坐標與投影區(qū)域pa1001的中心點的x坐標一致、照明區(qū)域ir1002的中心點的x坐標與投影區(qū)域pa1002的中心點的x坐標一致，則在將在光掩膜m的圖案內(nèi)于周方向分離周長dmx的兩點分別通過投影區(qū)域pa1001、pa1002投影于基底p時，該兩點會在基底p上于x方向以距離ds(ds＜dmx)被曝光。亦即，若根據(jù)先前的數(shù)值例，其意指通過奇數(shù)的投影區(qū)域pa1001、pa1003、pa1005曝光于基底p上的圖案與通過偶數(shù)的投影區(qū)域pa1002、pa1004、pa1006曝光于基底p上的圖案，在x方向會偏移最大1.073mm程度。

因此，本實施形態(tài)中，從先前圖6所示的條件改變投影光學系統(tǒng)pl內(nèi)的特定光學構件的配置條件，以在被平面化的基底p上投影區(qū)域pa1001的中心點與投影區(qū)域pa1002的中心點之間的直線距離dfx與周長dmx實質(zhì)上相等。

具體而言，將第2偏向構件1057的第4反射面p1009從先前圖6所示的位置往與光軸ax1004(x軸)平行的方向些許錯開，其結(jié)果設置成直線距離dfx與周長dmx一致。根據(jù)先前舉出的數(shù)值例，周長dmx與距離ds的差值為1.073mm，可容易地將奇數(shù)投影模組pl1001、pl1003、pl1005的各個所含的第2偏向構件1057的第4反射面p1009的位置沿光軸ax1004往第2凹面鏡1059側(cè)平行移動1mm程度來配置。

然而，若如此配置，關于第2偏向構件1057的構成(第4反射面p1009的配置)有時必須有與偶數(shù)的投影模組pl1002、pl1004、pl1006不同的零件。

因此，只要將搭載于所有投影模組pl1001～pl1006的第2偏向構件1057的第4反射面p1009的位置沿光軸ax1004往第2凹面鏡1059側(cè)平行移動上述1mm的一半的0.5mm程度，即可謀求零件的共通化。

圖10顯示圖9說明的沿光掩膜m的圖案面(第1面p1001)的周長dmx與奇數(shù)與偶數(shù)的照明區(qū)域中心間的直線距離ds的差值與角度α的相關的圖表，縱軸表示差值，橫軸表示孔徑角α。又，圖10的圖表中的多條曲線，表示將光掩膜m的圖案面(圓筒面狀的第1面p1001)的半徑r改變?yōu)?80mm、210mm、240mm、300mm的情形。如先前所舉出的數(shù)值例說明一樣，角度α為30°、半徑r為180mm的情形，周長dmx為約94.248mm，距離ds為約93.175mm，因此圖10的圖表的縱軸所示的差值為約1.073mm。

如圖10所示，光掩膜m的圖案面(第1面p1001)上的周長dmx與照明區(qū)域ir1001的中心點至照明區(qū)域ir1002的中心點的直線距離ds的差值量，由于會依第1面p1001的半徑r與角度α而變化，因此只要根據(jù)圖10的圖表關系設定第2偏向構件1057的第4反射面p1009的位置即可。

此外，為了使基底p上的直線距離dmx與光掩膜m上的周長dmx實質(zhì)上相等，由于即使將第2偏向構件1057的第4反射面p1009的x方向位置配置成最佳，最終仍難以在超微米等級下一致，因此數(shù)μm～數(shù)十μm以下的剩余差值，能通過利用先前圖6中所示的像移修正光學構件1045來使投影像于x方向微幅位移，而能以充分的精度使直線距離dmx與周長dmx一致。

如上述，利用像移修正光學構件1045來使投影像于x方向微幅位移，將各投影區(qū)域pa1001～pa1006調(diào)整成在光掩膜圖案面內(nèi)的掃描曝光方向的兩物點的間隔距離(周長)與在該兩物點投影于基底p上時的各像點的掃描曝光方向的間隔距離(周長)在超微米等級下相等的方法，亦同樣地能在先前圖2～圖6的裝置構成、圖7的裝置構成中適用。

[第4實施形態(tài)]

其次，說明第4實施形態(tài)。圖11中，有時會對與上述各實施形態(tài)相同的構成要件賦予與上述各實施形態(tài)相同的符號，簡化或省略其說明。

圖11顯示本實施形態(tài)的作為基底處理裝置1011的曝光裝置ex構成的圖。本實施形態(tài)中，基底p的搬送裝置1009的構成與先前圖2所示的搬送裝置1009的構成相同。圖11所示的基底處理裝置1011的構成與先前圖2、圖7、圖8的各裝置構成的差異點在于，光掩膜m并非為旋轉(zhuǎn)圓筒光掩膜而為通常的透射型平面光掩膜、設于投影光學系統(tǒng)pl的各投影模組pl1001～pl1006內(nèi)的第1偏向構件1050的第1反射面p1004相對光軸ax1003(面p1006)的角度θ1001設定為45°等。

圖11中，光掩膜保持裝置1012具備保持平面狀的光掩膜m的光掩膜載臺1078、以及使光掩膜載臺1078在與中心面p1003正交的面內(nèi)沿x方向掃描移動的移動裝置(圖示略)。

由于圖11的光掩膜m的圖案面實質(zhì)上是與xy面平行的平面，因此投影模組pl1001～pl1006的光掩膜m側(cè)的各主光線el3與xy面成垂直，照明光掩膜m上的各照明區(qū)域ir1001～ir1006的照明模組il1001～il1006的光軸(主光線)亦相對xy面成垂直。

本實施形態(tài)中，投影模組pl1001～pl1006的第1光學系統(tǒng)1041所包含的第1偏向構件1050的第1反射面p1004與第2反射面p1005配置成從第1光學系統(tǒng)1041射出的成像光束el2的主光線el3實質(zhì)上與中心面p1003平行。亦即，投影模組pl1001～pl1006的各個所包含的第1偏向構件1050及第2偏向構件1057，將成像光束el2偏向成從光掩膜m上的各照明區(qū)域ir1001～ir1006往法線方向行進的主光線el3從法線方向射入沿圓筒面的基底p上所形成的各投影區(qū)域pa1001～pa1006。

為此，第1偏向構件1050的第1反射面p1004與第2反射面p1005配置成正交，第1反射面p1004與第2反射面p1005均設定成相對第1光軸ax1003(xy面)實質(zhì)上成45°。

又，第2偏向構件1057的第3反射面p1008配置成相對包含第2光軸ax1004且正交于中心面p1003的面(與xy面平行)與第4反射面p1009為非面對稱。又，第3反射面p1008與第2光軸ax1004所構成的角度θ1003實質(zhì)上為45°，第4反射面p1009與第2光軸ax1004所構成的角度θ1004實質(zhì)上小于45°，關于其角度θ1004的設定，如先前圖6所說明。

再者，本實施形態(tài)亦與先前圖9同樣地，在xz面內(nèi)觀看時，光掩膜m(第1面p1001)上的照明區(qū)域ir1001(及ir1003,ir1005)的中心點至照明區(qū)域ir1002(及ir1004,ir1006)的中心點的距離，設定為與圓筒面狀的基底p上的投影區(qū)域pa1001(及pa1003,pa1005)的中心點至第2投影區(qū)域pa1002(及pa1004,pa1006)的中心點的沿第2面p1002的沿圓筒面狀的第2面p1002的長度(周長)實質(zhì)上相等。

圖11所示的基底處理裝置1011亦同樣地，由先前圖2所示的控制裝置1014控制光掩膜保持裝置1012的移動裝置(掃描曝光用的線性馬達或微動用的致動器等)，與第2卷筒構件1022的旋轉(zhuǎn)同步地驅(qū)動光掩膜載臺1078。圖11所示的基底處理裝置1011，在以光掩膜m的往+x方向的同步移動進行掃描曝光后，必須有使光掩膜m返回-x方向初期位置的操作(卷回)。因此在使第2卷筒構件1022以一定速度連續(xù)旋轉(zhuǎn)而將基底p以等速連續(xù)移送時，在光掩膜m的卷回操作期間，不對基底p上進行圖案曝光，而會在基底p的搬送方向分散地(分離)形成面板用圖案。然而，于實用上，由于掃描曝光時的基底p的速度(此處為周速)與光掩膜m的速度假定為50～100mm/s，因此在光掩膜m的卷回時只要將光掩膜載臺1078以例如500mm/s的最高速驅(qū)動，則能縮小形成于基底p上的面板用圖案間在基底搬送方向的空白。

[第5實施形態(tài)]

其次，說明第5實施形態(tài)。圖12中，有時會對與上述各實施形態(tài)相同的構成要件賦予與上述各實施形態(tài)相同的符號，簡化或省略其說明。

圖12的光掩膜m雖使用與先前的圖2、圖7、圖8相同的圓筒狀的光掩膜m，但其構成為在對照明光為高反射部分與低反射(光吸收)部分作成有圖案的反射型光掩膜。因此，無法利用如先前各實施形態(tài)的透射型的照明裝置1013(照明光學系統(tǒng)il)，必須有如從各投影模組pl1001～pl1006側(cè)往反射型光掩膜m投射照明光的落斜照明系統(tǒng)的構成。

圖12中，于構成第1光學系統(tǒng)1041的第1偏向構件1050的第1反射面p1004與反射型的光掩膜m之間，設置偏光分束器pbs與1/4波長板pk。在先前圖6所示的各投影模組的構成中，雖于該位置設有聚焦修正光學構件1044與像移修正光學構件1045，但本實施形態(tài)中，聚焦修正光學構件1044、像移修正光學構件1045移至中間像面p1007(視野光闌1043)的前方或后方的空間。

偏光分束器pbs的波面分割面，依第1偏向構件1050的第1反射面p1004相對光軸ax1003(面p6)的角度θ1001(＜45°)，配置成相對中心面p1003傾斜角度α/2(θd)而相對從反射型的光掩膜m上的照明區(qū)域ir1001往徑方向(法線方向)行進的主光線el3約為45°。

照明光束el1例如從偏光特性佳的激光光源射出，通過光束整形光學系統(tǒng)或照度均一化光學系統(tǒng)(復眼透鏡或棒狀器件等)等成為直線偏光(s偏光)射入偏光分束器pbs。在偏光分束器pbs的波面分割面反射照明光束el1的大部分，照明光束el1通過1/4波長板pk被轉(zhuǎn)換為圓偏光，將反射型光掩膜m上的照明區(qū)域ir1001照射成梯形或長方形。

在光掩膜m的圖案面(第1面p1001)反射的光(成像光束)，再度通過1/4波長板pk被轉(zhuǎn)換為直線偏光(p偏光)，大部分透射過偏光分束器pbs的波面分割面，射向第1偏向構件1050的第1反射面p1004。該第1反射面p1004以后的構成或成像光束(主光線el3)的光路與以先前圖6所說明者相同，在反射型光掩膜m上的照明區(qū)域ir1001內(nèi)出現(xiàn)的反射部所形成的圖案的像被投影于投影區(qū)域pa1001內(nèi)。

如以上所述，本實施形態(tài)中，僅于投影模組pl1001(及pl1002～pl1006)的第1光學系統(tǒng)1041追加偏光分束器pbs與1/4波長板pk，即使反射型的圓筒狀光掩膜，亦能簡單地實現(xiàn)落斜照明系統(tǒng)。又，照明光束el1構成為從相對在反射型光掩膜m反射的成像光束的主光線el3方向為交叉的方向射入偏光分束器pbs，并射向反射型光掩膜m。因此，即使在多少有較小的偏光分束器pbs的p偏光與s偏光的消光比(分離特性)的情形，亦可避免成為雜光，使照明光束el1的一部分從偏光分束器pbs的波面分割面直接射向第1偏向構件1050的第1反射面p1004、基底p的投影區(qū)域pa1001，能良好地保持投影曝光于基底p上的像質(zhì)(對比等)，進行光掩膜圖案的忠實轉(zhuǎn)印。

[第6實施形態(tài)]

圖13顯示第6實施形態(tài)的投影光學系統(tǒng)pl(第1投影模組pl1001)構成圖。第1投影模組pl1001具備第3偏向構件(平面鏡)1120、第1透鏡群(等倍投影)1051、配置于瞳面的第1凹面鏡1052、第4偏向構件(平面鏡)1121、以及第5光學系統(tǒng)(放大投影系統(tǒng))1122。配置照明區(qū)域ir(第1照明區(qū)域ir1001)的第1面p1001，保持于圓筒面狀的第1卷筒構件1021的光掩膜m(透射型或反射型)的圖案面，為圓筒面。又，配置投影區(qū)域pa(第1投影區(qū)域pa1001)的基底p上的第2面p1002，在此處為平面。

此外，保持于第1卷筒構件1021(光掩膜支承構件)的光掩膜m，當為如先前的圖12的反射型的情形，于光掩膜m與第3偏向構件1120之間設有偏光分束器與1/4波長板。

圖13中，從第1照明區(qū)域ir1001射出的成像光束el2，在第3偏向構件1120的第5反射面p1017反射，射入第1透鏡群1051。射入第1透鏡群1051的成像光束el2，在第1凹面鏡1052反射而被折返從第1透鏡群1051射出，射入第4偏向構件1121的第6反射面p1018。通過第1透鏡群1051及第1凹面鏡1052，與上述實施形態(tài)同樣地以等倍形成出現(xiàn)于第1照明區(qū)域ir1001的光掩膜m的圖案的中間像。

在第6反射面p1018反射的成像光束el2，通過中間像的形成位置而射入第5光學系統(tǒng)1122，通過第5光學系統(tǒng)1122到達第1投影區(qū)域pa1001。第5光學系統(tǒng)1122將通過第1透鏡群1051及第1凹面鏡1052形成的中間像以既定放大倍率(例如2倍以上)再成像于第1投影區(qū)域pa1001。

圖13中，第3偏向構件1120的第5反射面p1017，相當于在圖6說明的第1偏向構件1050的第1反射面p1004，第4偏向構件1121的第6反射面p1018，相當于在圖6說明的第1偏向構件1050的第2反射面p1005。

在圖13所示的投影光學系統(tǒng)，第3偏向構件1120與光掩膜m(圓筒面狀的第1面p1001)之間的主光線el3的延長線設定成通過光掩膜m的旋轉(zhuǎn)中心線ax1001，具有與被平面支承的基底p的表面(第2面p1002)垂直的光軸ax1008的第5光學系統(tǒng)1122與基底p上的投影區(qū)域pa1001間的成像光束el2的主光線el3被設定成與第2面p1002垂直、亦即滿足遠心的成像條件。為了維持此種條件，圖13的投影光學系統(tǒng)，具備使第3偏向構件1120或第4偏向構件1121在圖13中的xz面內(nèi)微幅旋轉(zhuǎn)的調(diào)整機構。

此外，第3偏向構件1120或第4偏向構件1121除了能在圖13中的yz面內(nèi)微幅旋轉(zhuǎn)以外，亦可構成為能往x軸方向或z軸方向微幅移動、繞與z軸平行的軸微幅旋轉(zhuǎn)。此情形下，能使被投影至投影區(qū)域pa1001內(nèi)的像微幅位移于x方向或在xy面內(nèi)微幅旋轉(zhuǎn)。

此外，投影模組pl1001整體雖為放大投影光學系統(tǒng)，但亦可整體為等倍投影光學系統(tǒng)，亦可為縮小投影光學系統(tǒng)。此情形下，由于由第1透鏡群1051與第1凹面鏡1052構成的第1光學系統(tǒng)為等倍系統(tǒng)，因此只要將其后段的第5光學系統(tǒng)1122的投影倍率改變?yōu)榈缺痘蚩s小即可。

[第6實施形態(tài)的變形例]

圖14顯示從y軸方向觀看利用第6實施形態(tài)的投影光學系統(tǒng)的變形例的構成圖，圖15是從x軸方向觀看圖14的構成圖。圖14、圖15所示的投影光學系統(tǒng)，顯示將圖13的放大投影光學系統(tǒng)于y軸方向亦即圓筒面狀的光掩膜m的旋轉(zhuǎn)中心線ax1001的軸方向配置多個而成為多個化的情形的變形例。

本變形例的投影光學系統(tǒng)pl，如圖15所示，具備第1投影模組pl1001及第2投影模組pl1002。第2投影模組pl1002與第1投影模組pl1001相同的構成，如圖14所示，雖相對中心面p1003配置成與第1投影模組pl1001對稱，但于圖14中的y軸方向，如圖15所示是彼此分離的。

第1投影模組pl1001，如圖14所示，具備接收來自光掩膜m上的照明區(qū)域ir1001的成像光束的第3偏向構件1120a、第1透鏡群1051a、第1凹面鏡1052a、第4偏向構件1121a、以及第5光學系統(tǒng)(放大成像系)1122a。

圖14、圖15所示的投影模組pl1001，與先前的各投影光學系統(tǒng)(圖6或圖13)相較，改變了光掩膜m與第3偏向構件1120a間的主光線的傾斜方向。亦即，圖6的第1偏向構件1050的反射面p1004或圖13的第3偏向構件1120的反射面，使來自光掩膜m的照明區(qū)域ir1001的主光線el3以鈍角(90°以上)偏向成與以第1透鏡群1051(1051a)與第1凹面鏡1052(1052a)構成的第1光學系統(tǒng)的光軸ax1003成平行，相對于此，圖14的構成中，是以鈍角(90°以下)偏向成來自照明區(qū)域ir1001的主光線el3與第1光學系統(tǒng)的光軸成平行。

第2投影模組pl1002，同樣地如圖14所示，具備接收來自光掩膜m上的照明區(qū)域ir1002的成像光束的第3偏向構件1120b、第1透鏡群1051b、第1凹面鏡1052b、第4偏向構件1121b、以及第5光學系統(tǒng)(放大成像系)1122b。

圖14、圖15所示的投影模組pl1001,pl1002，整體為放大投影光學系統(tǒng)，如圖15所示，配置第1照明區(qū)域ir1001的光掩膜m(第1卷筒構件1021)上的第1區(qū)域a1001與配置第2照明區(qū)域ir1002的光掩膜m(第1卷筒構件1021)上的第2區(qū)域a1002在y方向彼此分離。然而，通過將投影模組pl1001,pl1002的放大倍率適當?shù)卦O定，來將投影于基底p上的投影區(qū)域pa1001的第1區(qū)域a1001的第3區(qū)域a1005(像區(qū)域)與投影于基底p上的投影區(qū)域pa1002的第2區(qū)域a1002的第4區(qū)域a1006(像區(qū)域)設定為在yz面內(nèi)觀看時于y方向一部分重疊的關系。借此，光掩膜m(第1卷筒構件1021)上的第1區(qū)域a1001與第2區(qū)域a1002，在基底p上連結(jié)于y方向而形成，而能投影曝光大面板用圖案。

如以上所述，具備圖14、圖15所示的投影光學系統(tǒng)pl的基底處理裝置，將以先前圖13所示的投影光學系統(tǒng)相對中心面p1003配置成對稱，而與于y軸方向配置多個的情形相比，能使投影光學系統(tǒng)整體的x方向?qū)挾瘸叽巛^小，作為處理裝置亦能使x方向尺寸較小。

此外，在先前的圖9亦有說明，在xz面內(nèi)觀看的圖14中，規(guī)定于光掩膜m(第1卷筒構件1021)上的照明區(qū)域ir1001與照明區(qū)域ir1002的各中心點間的周長dmx與基底p上的對應的投影區(qū)域pa1001、pa1002的各中心點的距離dfx，在將投影光學系統(tǒng)的放大倍率設為mp時，設定為dfx＝mp·dmx的關系。

[第7實施形態(tài)]

圖16顯示第7實施形態(tài)的投影光學系統(tǒng)構成的圖。來自形成于圓筒狀的第1面p1001(光掩膜圖案面)的第1照明區(qū)域ir1001的成像光束el2射入第6光學系統(tǒng)1131，通過第6光學系統(tǒng)1131而在第7偏向構件(平面鏡)1132的第9反射面p1022反射的成像光束el2，到達配置第1視野光闌1043的中間像面p1007，于此中間像面p1007形成光掩膜m的圖案像。

通過中間像面p1007的成像光束el2在第8偏向構件(平面鏡)1133的第10反射面p1023反射，通過第7光學系統(tǒng)1134到達沿圓筒狀的第2面p1002被支承的基底p上的第1投影區(qū)域pa1001。圖16的第1投影模組pl1001，將在第1照明區(qū)域ir1001的光掩膜m的圖案像作為正立像投影于第1投影區(qū)域pa1001。

圖16中，第6光學系統(tǒng)1131是等倍的成像光學系統(tǒng)，其光軸ax1010與通過第1照明區(qū)域ir1001中心的成像光束el2的主光線實質(zhì)上同軸。換言之，光軸ax1010與圖4或圖7～9所示的第1徑方向d1001實質(zhì)上平行。

第7光學系統(tǒng)1134是等倍的成像光學系統(tǒng)，將第6光學系統(tǒng)1131所形成的中間像再成像于第1投影區(qū)域pa1001。第7光學系統(tǒng)1134的光軸ax1011與通過第1投影區(qū)域pa1001中心的圓筒狀的第2面p1002的第1法線方向(徑方向)d1003實質(zhì)上平行。

本實施形態(tài)中，兩個偏向構件1132、1133，在圖16中的xz面中隔著中間像面p1007配置成對稱。為了說明簡便，亦考量于第6光學系統(tǒng)1131的光軸ax1010與第7光學系統(tǒng)1134的光軸ax1011交叉的位置形成中間像面，于該中間像面的位置配置具有與yz面平行的反射面的一片平面鏡，而將光路彎折的情形。然而，當能以一片平面鏡來處理時，在圖16的xz面內(nèi)，第6光學系統(tǒng)1131的光軸ax1010與第7光學系統(tǒng)1134的光軸ax1011所構成的角度較90°大的情形，該以一片平面鏡與各光軸ax1010、ax1011所構成的角度成為45°以下的銳角，成像特性并不大好。例如，若光軸ax1010、ax1011所構成的角度成為140°左右，一片平面鏡的反射面與各光軸ax1010、ax1011所構成的角度成為20°。因此，若如圖16所示使用兩片偏向構件(平面鏡)1132、1133將光路彎折，則可緩和此種問題。

此外，圖16的構成中，亦可將第6光學系統(tǒng)1131作為放大mf倍的成像透鏡，將第7光學系統(tǒng)1134作為縮小1/mf倍的成像透鏡，整體為等倍的投影系統(tǒng)。相反地，亦可將第6光學系統(tǒng)1131作為縮小1/mf倍的成像透鏡，將第7光學系統(tǒng)1134作為放大mf倍的成像透鏡，整體為等倍的投影系統(tǒng)。

[第8實施形態(tài)]

圖17顯示第8實施形態(tài)的投影光學系統(tǒng)pl(第1投影模組pl1001)的構成圖?；镜墓鈱W系統(tǒng)的構成雖與先前圖16所示者相同，但相異點在于進一步追加了兩個偏向構件(平面鏡)1140、1143。

圖17中，相當于圖16中的成像光學系統(tǒng)1131的第8光學系統(tǒng)1135以第3透鏡1139與第4透鏡1141構成，其光軸，設定為與從沿圓筒面狀的第1面p1001被支承的光掩膜m上的第1照明區(qū)域ir1001中心往法線方向射出的成像光束el2的主光線實質(zhì)上平行。于第3透鏡1139與第4透鏡1141之間形成第8光學系統(tǒng)1135的瞳面，于該位置設有第11偏向構件(平面鏡)1140。

從第1照明區(qū)域ir1001射出而通過第3透鏡1139的成像光束el2，在第11偏向構件1140的第13反射面p1026以90°或接近其的角度被彎折，射入第4透鏡1141，在相當于圖16中的偏向構件1132的第9偏向構件(平面鏡)1136的第11反射面p1024反射，到達配置于中間像面p1007的視野光闌1043。借此，第8光學系統(tǒng)1135將出現(xiàn)于第1照明區(qū)域ir1001內(nèi)的光掩膜m的圖案像形成于中間像面p1007的位置。

此外，第8光學系統(tǒng)1135是等倍的成像光學系統(tǒng)，中間像面p1007構成為與中心面p1003正交。又，第3透鏡1139的光軸與從第1照明區(qū)域ir1001中心往法線方向(圓筒狀的第1面p1001的半徑方向)射出的成像光束el2的主光線實質(zhì)上同軸或平行。

圖17的第9光學系統(tǒng)1138與第8光學系統(tǒng)1135為相同構成，配置成相對包含第1視野光闌1043且與中心面p1003實質(zhì)上正交的中間像面p1007與第8光學系統(tǒng)1135成對稱。第8光學系統(tǒng)1135的光軸(以下稱為第2光軸ax1004)與中心面p1003實質(zhì)上正交。經(jīng)由第8光學系統(tǒng)1135與第9偏向構件1136而通過視野光闌1043的成像光束el2，在第10偏向構件(平面鏡)1137的第12反射面p1025被反射，通過構成第9光學系統(tǒng)1138的第5透鏡1142、配置于瞳位置的第12偏向構件1143、以及第6透鏡1144，到達沿圓筒狀的第2面p1002被支承的基底p上的第1投影區(qū)域pa1001。圖17的構成中，第6透鏡1144的光軸設定為與相對第1投影區(qū)域pa1001往法線方向(圓筒狀的第2面p1002的半徑方向)行進的成像光束el2的主光線實質(zhì)上同軸或平行。

[第9實施形態(tài)]

圖18顯示第9實施形態(tài)的投影光學系統(tǒng)pl(第1投影模組pl1001)構成圖。圖18的第1投影模組pl1001是所謂線上型的反折射型的投影光學系統(tǒng)。第1投影模組pl1001具備以第4凹面鏡1146與第5凹面鏡1147的兩片構成的等倍的第10光學系統(tǒng)1145、第1視野光闌1043(中間像面p1007)、以及如圖13、14所示的第5光學系統(tǒng)1122。

第10光學系統(tǒng)1145，將沿圓筒狀的第1面p1001被支承的光掩膜m上的第1照明區(qū)域ir1001內(nèi)所出現(xiàn)的圖案的中間像形成于視野光闌1043的位置。本實施形態(tài)中，第10光學系統(tǒng)1145是等倍的光學系統(tǒng)。第4凹面鏡1146及第5凹面鏡1147的各個例如構成為旋轉(zhuǎn)橢圓面的一部分。此旋轉(zhuǎn)橢圓面，是通過使橢圓繞橢圓的長軸(x軸方向)或短軸(z軸方向)旋轉(zhuǎn)而形成的面。

圖18的構成中，從第1照明區(qū)域ir1001中央往圓筒狀的第1面p1001的法線方向(徑方向)射出的成像光束el2的主光線，被設定為在xz面內(nèi)觀看時射向第1面p1001(第1卷筒構件1021)的旋轉(zhuǎn)中心軸ax1001。亦即，從光掩膜m(第1面p1001)射往投影模組pl1001的第4凹面鏡1146的成像光束el2的主光線相對中心面p1003在xz面內(nèi)傾斜。

第5光學系統(tǒng)1122，例如在圖13中所說明的折射形放大投影光學系統(tǒng)，將通過第10光學系統(tǒng)1145形成于視野光闌1043的位置的中間像投影于沿平面狀的第2面p1002被支承的基底p上的第1投影區(qū)域pa1001。

第10光學系統(tǒng)1145的第4凹面鏡1146及第5凹面鏡1147，將成像光束el2偏向成從第1照明區(qū)域ir1001往法線方向射出的成像光束el2通過第5光學系統(tǒng)1122從法線方向射入第1投影區(qū)域pa1001。具備此種投影光學系統(tǒng)pl的基底處理裝置，與上述實施形態(tài)所說明的基底處理裝置1011同樣地，能抑制曝光不良的產(chǎn)生，進行忠實的投影曝光。此外，第5光學系統(tǒng)1122亦可是等倍的投影光學系統(tǒng)，亦可是縮小的光學系統(tǒng)。

[第10實施形態(tài)]

圖19顯示第10實施形態(tài)的投影光學系統(tǒng)pl(第1投影模組pl1001)的構成圖。圖19的第1投影模組pl1001，不含具有功率的反射構件的折射光學系統(tǒng)。第1投影模組pl1001具備第11光學系統(tǒng)1150、第13偏向構件1151、第1視野光闌1043、第14偏向構件1152、以及第12光學系統(tǒng)1153。

本實施形態(tài)中，從沿圓筒狀的第1面p1001被保持的光掩膜m上的第1照明區(qū)域ir1001射出的成像光束el2，通過第11光學系統(tǒng)1150被楔形的棱鏡構成的第13偏向構件1151在xz面內(nèi)偏向而到達配置于中間像面p1007的第1視野光闌1043，于此處形成光掩膜圖案的中間像。進而，通過第1視野光闌1043的成像光束el2被楔形的棱鏡構成的第14偏向構件1152在xz面內(nèi)偏向而射入第12光學系統(tǒng)1153，通過第12光學系統(tǒng)1153，到達沿圓筒面狀的第2面p1002被支承的基底p上的第1投影區(qū)域pa1001。

第11光學系統(tǒng)1150的光軸例如與從第1照明區(qū)域ir1001中心往法線方向(圓筒面狀的第1面p1001的半徑方向)射出的成像光束el2的主光線實質(zhì)上同軸或平行。又，第12光學系統(tǒng)1153與第11光學系統(tǒng)1150為相同構成，配置成相對配置第1視野光闌1043的中間像面p1007(與中心面p1003正交)與第11光學系統(tǒng)1150成對稱。第12光學系統(tǒng)1153的光軸，設定成與沿平面狀的第2面p1002的法線射入第1投影區(qū)域pa1001的成像光束el2的主光線實質(zhì)上平行。

第13偏向構件1151具有通過第11光學系統(tǒng)1150的成像光束el2所射入的第9面p1028與射出從第9面p1028射入的成像光束的第10面p1029，配置于第1視野光闌1043(中間像面p1007)的前方或緊鄰的前方。本實施形態(tài)中，構成既定頂角的第9面p1028及第10面p1029的各個是以相對正交于中心面p1003的面(xy面)傾斜、延伸于y軸方向的平面構成。

第14偏向構件1152是與第13偏向構件1151同樣的棱鏡構件，相對第1視野光闌1043所位于的中間像面p1007與第13偏向構件1151對稱配置。第14偏向構件1152具有通過第1視野光闌1043的成像光束el2所射入的第11面p1030與射出從第11面p1030射入的成像光束el2的第12面p1031，配置于第1視野光闌1043(中間像面p1007)的后方或緊鄰的后方。

本實施形態(tài)中，第13偏向構件1151及第14偏向構件1152，將從第1照明區(qū)域ir1001往法線方向射出的成像光束el2偏向成從法線方向射入第1投影區(qū)域pa1001。具備此種投影光學系統(tǒng)pl的基底處理裝置，與上述實施形態(tài)所說明的基底處理裝置1011同樣地，能抑制曝光不良的產(chǎn)生，進行忠實的投影曝光。

此外，第11光學系統(tǒng)1150或第12光學系統(tǒng)1153雖亦可是等倍的投影光學系統(tǒng)，亦可是縮小系的光學系統(tǒng)，但在將光掩膜m或基底p的任一方沿圓筒面(或圓弧面)支承的狀態(tài)下投影曝光時，在圓筒面的周長方向分離的兩個投影模組之間，在物面?zhèn)鹊囊曇伴g隔(周長距離)與在最終像面?zhèn)鹊耐队耙曇暗拈g隔(周長距離)的比亦可設定為與投影倍率一致。

[第11實施形態(tài)]

圖20顯示第11實施形態(tài)的器件制造系統(tǒng)(柔性顯示器制造線)的一部的分構成圖。此處，顯示從供應滾筒fr1拉出的柔性基底p(片、膜等)依序經(jīng)過n臺處理裝置u1,u2,u3,u4,u5,...un，而被卷至回收滾筒fr2的例。上位控制裝置2005，統(tǒng)籌控制構成制造線的各處理裝置u1～un。

圖20中，正交坐標系xyz，設定成基底p的表面(或背面)與xz面垂直，與基底p的搬送方向(長度方向)正交的寬度方向設定為y方向。此外，該基底p，亦可預先通過既定的前處理而將其表面改質(zhì)并活性化、或于表面形成有為了精密圖案化的微細分隔壁構造(凹凸構造)。

被卷于供應滾筒fr1的基底p，通過被夾持的驅(qū)動滾筒dr1拉出而搬送至處理裝置u1，基底p的y方向(寬度方向)的中心，通過邊緣位置控制器epc1服務控制成相對目標位置在±十數(shù)μm～數(shù)十μm程度的范圍。

處理裝置u1，是以印刷方式在基底p的搬送方向(長度方向)上連續(xù)地或選擇性地于基底p的表面涂布感光性功能液(光阻、感光性硅烷耦合材、uv硬化樹脂液等)的涂布裝置。于處理裝置u1內(nèi)，設有卷繞有基底p的壓胴滾筒dr2、包含在此壓胴滾筒dr2上將感光性功能液均一地涂布于基底p的表面的涂布用滾筒等的涂布機構gp1、用以急速地除去涂布于基底p的感光性功能液所含的溶劑或水分的干燥機構gp2等。

處理裝置u2，是用以將從處理裝置u1搬送來的基底p加熱至既定溫度(例如數(shù)10～120℃)、使涂布于表面的感光性功能層穩(wěn)定的加熱裝置。于處理裝置u2內(nèi)，設有用以翻折搬送基底p的多個滾筒與空氣旋轉(zhuǎn)桿、用以加熱搬入的基底p的加熱室部ha1、用以將加熱后的基底p的溫度下降至與后步驟(處理裝置u3)的環(huán)境溫度一致的冷卻室部ha2、被挾持的驅(qū)動滾筒dr3等。

作為基底處理裝置的處理裝置u3，是對從處理裝置u2搬送來的基底p的感光性功能層照射與顯示器用的電路圖案或配線圖案對應的紫外線的圖案化光的曝光裝置。于處理裝置u3內(nèi)，設有將基底p的y方向(寬度方向)中心控制于一定位置的邊緣位置控制器epc、被挾持的驅(qū)動滾筒dr4、將基底p以既定張力局部地卷繞并將基底p上的圖案曝光部分支承成均一的圓筒面狀的旋轉(zhuǎn)卷筒dr5、以及用以對基底p賦予既定松弛(空隙)dl的兩組驅(qū)動滾筒dr6、dr7等。

進而，于處理裝置u3內(nèi)，設有圓筒狀的光掩膜m、于被旋轉(zhuǎn)卷筒dr5支承成圓筒面狀的基底p的一部分投影圓筒狀的光掩膜m的光掩膜圖案的一部分的像的投影光學系統(tǒng)pl、為了將被投影的光掩膜圖案的一部分的像與基底p相對對齊(對準)而檢測出預先形成于基底p的對準標記等的對準顯微鏡am1、am2。

本實施形態(tài)中，由于是將圓筒狀的光掩膜m設為反射型(外周面的圖案以高反射部與無反射部構成)，因此亦設有通過投影光學系統(tǒng)pl的一部分光學器件將曝光用照明光照射于圓筒狀的光掩膜m的落斜照明光學系統(tǒng)。關于該落斜照明光學系統(tǒng)的構成，詳細留待后述。

處理裝置u4是對從處理裝置u3搬送來的基底p的感光性功能層進行濕式的顯影處理、無電解鍍敷處理等干燥處理裝置。于處理裝置u4內(nèi)設有于z方向階層化的三個處理槽bt1、bt2、bt3、將基底p彎折搬送的多個滾筒、以及被夾持的驅(qū)動滾筒dr8等。

處理裝置u5雖是將從處理裝置u4搬送來的基底p暖化，并將在濕式制造工藝潤濕的基底p的水分含有量調(diào)整至既定值的加熱干燥裝置，但其詳細構造省略。其后，經(jīng)過幾個處理裝置，通過一連串制造工藝的最后處理裝置un后的基底p，通過被夾持的驅(qū)動滾筒dr1被卷至回收滾筒fr2。在此卷繞時，亦通過邊緣位置控制器epc2逐次修正控制驅(qū)動滾筒dr1與回收滾筒fr2的y方向相對位置使基底p的y方向(寬度方向)的中心或y方向的基底端于y方向不會不均一。

本實施形態(tài)所使用的基底p，能使用與以第1實施形態(tài)所例示的相同，此處省略說明。

本實施形態(tài)的器件制造系統(tǒng)2001，對基底p反復執(zhí)行用以對一個器件進行各種處理。被施加各種處理的基底p，依各器件被分割(切割)，成為多個器件?；譸的尺寸，例如寬度方向(作為短邊的y方向)的尺寸為10cm～2m程度，長度方向(作為長邊的x方向)的尺寸為10m以上。

其次，雖說明本實施形態(tài)的處理裝置u3(曝光裝置)的構成，但在此之前，參照圖21～圖23說明本實施形態(tài)的曝光裝置的基本構成。

圖21所示的曝光裝置u3是所謂掃描曝光裝置，具備從旋轉(zhuǎn)中心軸ax2001起具有半徑r2001的圓周面的反射型圓筒狀的光掩膜m與從旋轉(zhuǎn)中心軸ax2002起具有半徑r2002的圓周面的旋轉(zhuǎn)卷筒2030(圖1中的dr5)。接著，通過使圓筒狀的光掩膜m與旋轉(zhuǎn)卷筒2030以既定旋轉(zhuǎn)速度比同步旋轉(zhuǎn)，圓筒狀的光掩膜m的外周所形成的圖案像，即被連續(xù)地反復投影曝光至卷繞于旋轉(zhuǎn)卷筒2030的外周面一部分的基底p的表面(沿圓筒面彎曲的面)。

于該曝光裝置u3設有搬送機構2009、光掩膜保持裝置2012、照明光學系統(tǒng)il、投影光學系統(tǒng)pl、以及控制裝置2013，通過控制裝置2013控制保持于光掩膜保持裝置2012的圓筒狀的光掩膜m的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動或旋轉(zhuǎn)中心軸ax2001方向的微動、或者構成將基底p的搬送于長度方向的搬送機構2009一部分的旋轉(zhuǎn)卷筒2030的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動或旋轉(zhuǎn)中心軸ax2002方向的微動。

光掩膜保持裝置2012具備：滾筒、齒輪、皮帶等驅(qū)動傳達機構2021、2022，對于外周面形成有反射型的光掩膜m(光掩膜圖案)的旋轉(zhuǎn)卷筒2020賦予繞旋轉(zhuǎn)中心軸ax2001的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動力或使旋轉(zhuǎn)卷筒2020微動于與y軸平行的旋轉(zhuǎn)中心軸ax2001的方向；以及第1驅(qū)動部2024，包含用以對此等驅(qū)動傳達機構2021、2022賦予必要驅(qū)動力的旋轉(zhuǎn)馬達、微動用的線性馬達或壓電元件等。又，旋轉(zhuǎn)卷筒2020(光掩膜m)的旋轉(zhuǎn)角度位置或旋轉(zhuǎn)中心軸ax2001方向的位置，通過包含旋轉(zhuǎn)編碼器、激光干涉儀、間隙感測器等的第1檢測器2023來測量，其測量信息被即時送至控制裝置2013，使用于第1驅(qū)動部2024的控制。

同樣地，旋轉(zhuǎn)卷筒2030，通過包含旋轉(zhuǎn)馬達、微動用的線性馬達或壓電元件等的第2驅(qū)動部2032被賦予繞與y軸平行的旋轉(zhuǎn)中心軸ax2002的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動力或往旋轉(zhuǎn)中心軸ax2002方向的微動力。旋轉(zhuǎn)卷筒2030的旋轉(zhuǎn)角度位置或旋轉(zhuǎn)中心軸ax2002方向的位置，是通過包含旋轉(zhuǎn)編碼器、激光干涉儀、間隙感測器等的第2檢測器2031來測量，其測量信息被即時送至控制裝置2013，使用于第2驅(qū)動部2032的控制。

此處，本實施形態(tài)中，圓筒狀的光掩膜m的旋轉(zhuǎn)中心軸ax2001與旋轉(zhuǎn)卷筒2030的旋轉(zhuǎn)中心軸ax2002相互平行，位于與yz面平行的中心面pc內(nèi)。

接著，于形成有圓筒狀的光掩膜m的圓筒狀的圖案面p2001上與中心面pc相交的部分設定有曝光用照明光的照明區(qū)域ir，于沿旋轉(zhuǎn)卷筒2030外周面p2002卷繞成圓筒狀的基底p上的與中心面pc相交的部分設定有用以投影出現(xiàn)于照明區(qū)域ir內(nèi)的光掩膜圖案一部分的像的投影區(qū)域pa。

本實施形態(tài)中，投影光學系統(tǒng)pl往圓筒狀的光掩膜m上的照明區(qū)域ir射出照明光束el1，且以射入在照明區(qū)域ir內(nèi)的光掩膜圖案反射繞射的光束(成像光束)el2、于基底p上的投影區(qū)域pa成像出圖案的像的方式，照明光學系統(tǒng)il以共用投影光學系統(tǒng)pl的一部分光路的落斜方式構成。

如圖21所示，投影光學系統(tǒng)pl具備：相對中心面pc在xz面內(nèi)傾斜45°且具備彼此正交的反射平面2041a、2041b的棱鏡反射鏡2041、以及具有與中心面pc正交的光軸2015a且以配置于瞳面pd的凹面鏡2040與多片透鏡構成的第2光學系統(tǒng)2015。

此處，若將包含光軸2015a且與xy面平行的平面設為p2005，則以該平面p2005為基準的反射平面2041a的角度θ2001為+45°，以該平面p2005為基準的反射平面2041b的角度θ2002為-45°。

投影光學系統(tǒng)pl例如作為將圓形圖像視野以棱鏡反射鏡2041上下的反射平面2041a、2041b分割的半圖像視野類型的反折射型投影光學系統(tǒng)(戴森光學系統(tǒng)的變形類型)而構成為遠心。因此，在照明區(qū)域ir內(nèi)的圖案反射、折射的成像光束el2，在棱鏡反射鏡2041上側(cè)的反射平面2041a反射，通過多片透鏡到達配置于瞳面pd的凹面鏡2040(亦可是平面鏡)。接著，在凹面鏡2040反射的成像光束el2通過相對平面p2005為對稱的光路而到達棱鏡反射鏡2041的反射平面2041b，在該處被反射而到達基底p上的投影區(qū)域pa，光掩膜圖案的像被以等倍(×1)成像于基底p上。

為了使此種投影光學系統(tǒng)pl適用落斜照明方式，本實施形態(tài)中，構成為于配置于瞳面pd的凹面鏡2040的反射面p2004的一部分形成通過部分(窗)，透過通過部分從面p2003(玻璃面)使照明光束el1射入。

圖21中，僅表示本實施形態(tài)的照明光學系統(tǒng)il中配置于凹面鏡2040背后的第1光學系統(tǒng)2014的一部分，僅顯示來自后述的光源、復眼透鏡、照明視野光闌等的照明光中生成于瞳面pd的多數(shù)個點光源像的一個點光源像sf的照明光束el1。

點光源像sf，由于例如設定為與構成復眼透鏡的多個透鏡器件的各射出側(cè)所形成的點光源像(光源的發(fā)光點)光學上共軛的關系，因此圓筒狀的光掩膜m上的照明區(qū)域ir，借由通過投影光學系統(tǒng)pl的第2光學系統(tǒng)2015與棱鏡反射鏡2041上側(cè)的反射平面2041a的照明光束el1，利用凱拉照明法被以均一照度分布照明。

此外，圖21中，照明光學系統(tǒng)il的第1光學系統(tǒng)2014的光軸2014a，配置成與投影光學系統(tǒng)pl的光軸2015a同軸，圓筒狀的光掩膜m上的照明區(qū)域ir，設定成圓筒狀的圖案面p2001的周方向?qū)挾泉M窄，于旋轉(zhuǎn)中心軸ax2001的方向較長的狹縫狀。

例如，當將圓筒狀的光掩膜m的圖案面p2001的半徑r2001設為200mm，將基底p的厚度tf設為0.2mm，用以投影曝光的條件，能設定為旋轉(zhuǎn)卷筒2030的外周面的半徑r2002為r2002＝r2001-tf(199.8mm)。

又，雖照明區(qū)域ir(或投影區(qū)域pa)的周方向?qū)挾?掃描曝光方向的寬度)越狹窄則越能忠實地投影曝光至微細的圖案，但與此成反比地需提高照明區(qū)域ir內(nèi)的每單位面積的照度。要將照明區(qū)域ir(或投影區(qū)域pa)的寬度設定為何種程度，能通過考量圓筒狀的光掩膜m或旋轉(zhuǎn)卷筒2030的半徑r2001,r2002、待轉(zhuǎn)印圖案的微細度(線寬等)、投影光學系統(tǒng)pl的焦深等后再加以決定。

接著，圖21中，當將光軸2015a所通過的凹面鏡2040的反射面p2004上的位置作為中心點2044時，由于點光源像sf會形成于從中心點2044在紙面(xz面)內(nèi)往-z方向偏移的位置，因此在圓筒狀的光掩膜m上的照明區(qū)域ir反射的成像光束el2(包含繞射光)中的正規(guī)反射光(0次繞射光)，是收斂成于相對反射面p2004上的中心點2044為點對稱的位置形成點光源像sf’。因此，只要先將包含反射面p2004上的點光源像sf’所位于的部分與其周圍±1次繞射光所分布的部分的區(qū)域設為反射部，則來自照明區(qū)域ir的成像光束el2即大致不損失地通過第2光學系統(tǒng)2015的多片透鏡與棱鏡反射鏡2041的反射平面2041b到達投影區(qū)域pa。

該凹面鏡2040，是于以透射性的光學玻璃材(石英等)作成的凹透鏡的凹面蒸鍍鋁等金屬性的反射膜而作成反射面p2004，通常，該反射膜的光透射率極小。因此，本實施形態(tài)中，為了從反射面p2004背側(cè)的面p2003使照明光束el1射入，而通過刻蝕等除去構成反射面p2004的反射膜一部分，形成已收斂的照明光束el1能通過(透射過)的窗。

圖22是從x方向觀看此種凹面鏡2040的反射面p2004樣子的圖。圖22中，為了使說明簡單，在反射面p2004上從包含光軸2015a的平面p2005(與xy面平行)往-z方向偏移一定量的位置，于y方向分離設有三個窗部2042a、2042b、2042c。此窗部2042a、2042b、2042c，是通過選擇性的刻蝕除去構成反射面p2004的反射膜而作成，此處，雖作成不遮蔽各點光源像sfa,sfb,sfc(照明光束el1a,el1b,el1c)程度的小矩形狀，但亦可是其他形狀(圓、橢圓、多角形等)。三個點光源像sfa,sfb,sfc，例如通過設于照明光學系統(tǒng)il內(nèi)的復眼透鏡的多個透鏡器件中排列于y方向的三個透鏡器件而作成者。

在反射面p2004內(nèi)觀看時，各窗部2042a、2042b、2042c相互的位置關系，設定為相對中心點2044(光軸2015a)為非為點對稱、亦即非點對稱的關系。此處雖僅顯示三個窗部，但制作更多窗部的情形，窗部彼此亦設定為相對中心點2044為非點對稱的位置關系。

又，來自生成于窗部2042a內(nèi)的點光源像sfa的照明光束el1a成為大致平行光束而照射于圓筒狀的光掩膜m的照明區(qū)域ir后，其反射繞射光的成像光束el2a則在凹面鏡2040的反射面p2004上于相對中心點2044與窗部2042a為點對稱的位置收斂成點光源像sfa’。

同樣地，雖來自生成于窗部2042b、2042c內(nèi)的各點光源像sfb,sfc的照明光束el1b,el1c亦成為大致平行光束而照射于圓筒狀的光掩膜m的照明區(qū)域ir，但其反射光的成像光束el2b,el2c則在凹面鏡2040的反射面p2004上于相對中心點2044與窗部2042b,2042c的各個為點對稱的位置收斂成點光源像sfb’,sfc’。

又，如圖22所示，于作為點光源像sfa’,sfb’,sfc’的成像光束el2a,el2b,el2c，雖包含0次繞射光(正反射光)與±1次繞射光，但各±1次繞射光dla,dlb,dlc隔著0次繞射光于z軸方向與x軸方向擴展并分布。

進而，形成于反射面p2004上的點光源像sfa’,sfb’,sfc’(特別是0次繞射光)，由于圓筒狀的光掩膜m的照明區(qū)域ir為圓筒面，因此在圖22的紙面(yz面)內(nèi)，使點光源像sfa,sfb,sfc的形狀成為拉伸于z方向(圓筒光掩膜的周方向)的形狀而分布。

如圖22所示，在各點光源像sfa,sfb,sfc位于較包含中心點2044(光軸2015a)的平面p2005更下側(cè)(-z方向)時，在圖21所示的紙面內(nèi)(xz面內(nèi))，照明光束el1(el1a,el1b,el1c)通過第2光學系統(tǒng)2015與棱鏡反射鏡2041上側(cè)的反射平面2041a到達圓筒狀的光掩膜m。該等照明光束el1(el1a,el1b,el1c)，雖在圓筒狀的光掩膜m的極近前方均為平行光束，但相對中心面pc些微傾斜。其傾斜量，對應于在反射面p2004內(nèi)(瞳面pd)的點光源像sf(sfa,sfb,sfc)自中心點2044(光軸2015a)起的z方向位移量。

在照明區(qū)域ir反射、折射的成像光束el2(el2a,el2b,el2c)，在xz面內(nèi)相對中心面pc以與照明光束el1(el1a,el1b,el1c)對稱的傾斜到達棱鏡反射鏡2041上側(cè)的反射平面2041a，在此處反射而射入第2光學系統(tǒng)2015，到達凹面鏡2040的反射面p2004的較平面p2005(中心點2044)上方的部分。

以上的圖21、圖22所示的一例中，雖在凹面鏡2040的反射面p2004內(nèi)，使照明光束el1的點光源像(集光點)sf分布于與包含投影光學系統(tǒng)pl的光軸2015a的xy面平行的平面p2005下側(cè)(-z方向)，但只要設定為先前說明的條件，亦即通過照明光束的點光源像的反射面p2004內(nèi)的窗部2042相互的位置關系相對中心點2044為不是點對稱的關系(非點對稱的關系)，則反射面p2004上的點光源像sf(窗部2042)的位置能自由設定。

若至少在此種條件下，將作為照明光束el1源的多數(shù)個點光源像sf所通過的窗部2042形成于凹面鏡2040的反射面p2004，則能在反射面p2004(瞳面pd)上，使照明光束與成像光束有效率地在空間上分離。

為了一邊使多數(shù)個窗部2042(照明光束的點光源像sfa,sfb,sfc...)均一地分布于反射面p2004內(nèi)，一邊良好地保持照明光束與成像光束的空間上的分離，可將通過成像光束el2的收斂而形成的各點光源像sfa’,sfb’,sfc’...在反射面p2004上的大小(亦包含±1次繞射光dla,dlb,dlc的大小)設定為較相鄰的窗部2042的y方向與z方向的間隔尺寸小即可。換言之，盡可能地縮小照明光束el1的各點光源像sfa,sfb,sfc...在瞳面pd(反射面p2004)內(nèi)的尺寸，以盡可能地縮小窗部2042a、2042b、2042c...各個的尺寸，此方法有效。

本實施形態(tài)中，作為光源，雖能利用水銀放電燈、鹵素燈、紫外led等，但為了縮小照明光束el1的各點光源像sfa,sfb,sfc...，能利用高輝度且放射震蕩波長帶狹窄的光的激光光源。

此處，參照圖23說明圖21、圖22所示的照明光學系統(tǒng)il(第1光學系統(tǒng)2014)的構成一例。此外，圖23中，對與在圖21、圖22所說明的構件等相同者賦予相同符號，省略說明。又，圖23中，省略圖21中的棱鏡反射鏡2041，將圓筒狀的光掩膜m與圓筒狀的圖案面p2001上的照明區(qū)域ir與第2光學系統(tǒng)2015間的光路、以及旋轉(zhuǎn)卷筒2030的外周面(或基底p的表面)p2002上的投影區(qū)域pa與第2光學系統(tǒng)2015間的光路展開顯示。

如先前所說明，于照明光學系統(tǒng)il設有來自光源的光束el0(照明光束el0)射入而生成多數(shù)個點光源像的復眼透鏡2062、使來自多數(shù)個點光源像的各個的光束在照明視野光闌(blind)2064上重疊的聚光透鏡2065、以及將通過照明視野光闌2064的開口的照明光導至投影光學系統(tǒng)pl(第2光學系統(tǒng)2015)的凹面鏡2040的透鏡系2066。由于適用凱拉照明法，因此在復眼透鏡2062的射出側(cè)生成點光源像的面ep，通過構成聚光透鏡2065、透鏡系2066、凹面鏡2040的玻璃材(凹透鏡狀)設定成與凹面鏡2040的反射面所位于的瞳面pd共軛。

在yz面內(nèi)，復眼透鏡2062的射出端中心配置于聚光透鏡2065的光軸2065a上，于該光軸2065a上配置照明視野光闌2064(開口部)的中心。進而，照明視野光闌2064，通過構成透鏡系2066、凹面鏡2040的玻璃材(凹透鏡狀)、第2光學系統(tǒng)2015的多片透鏡，配置于與圓筒狀的光掩膜m上的照明區(qū)域ir(圖案面p2001)光學上共軛的面2014b。

又，照明光學系統(tǒng)il的第1光學系統(tǒng)2014的光軸2014a雖配置成與投影光學系統(tǒng)pl(第2光學系統(tǒng)2015)的光軸2015a同軸，但聚光透鏡2065的光軸2065a配置成相對第1光學系統(tǒng)2014的光軸2014a在圖23的紙面(xz面)內(nèi)往-z方向偏心。

此處，以生成于復眼透鏡2062射出側(cè)的面ep的多個點光源像中位于隔著光軸2065a于z方向為非對稱的位置的兩個點光源像spa、spd為例，說明照明光束的現(xiàn)象。

來自點光源像spa的光束，通過聚光透鏡2065成為大致平行的光束照射照明視野光闌2064。透射照明視野光闌2064的開口部(于y方向為細長的狹縫狀)的照明光束el1a，通過透鏡系2066而于形成于投影光學系統(tǒng)pl的凹面鏡2040反射面的窗內(nèi)收斂成點光源像sfa。

來自點光源像sfa的照明光束el1a，如在圖21所說明，通過投影光學系統(tǒng)pl的第2光學系統(tǒng)2015照明圓筒狀的光掩膜m的圓筒狀的圖案面p2001上的照明區(qū)域ir。通過來自該點光源像sfa的照明光束el1a的照射而在圖案面p2001產(chǎn)生的成像光束el2a，于第2光學系統(tǒng)2015逆行進而于凹面鏡2040上再度成像出點光源像sfa’。通過來自照明光學系統(tǒng)il的光束而作成的點光源像sfa與通過成像光束el2a而作成的點光源像sfa’于瞳面pd內(nèi)位于點對稱的關系的位置。

同樣地，來自點光源像spd的光束，通過聚光透鏡2065成為大致平行的光束照射照明視野光闌2064。透射照明視野光闌2064的開口部的照明光束el1d，通過透鏡系2066而于形成于凹面鏡2040反射面的窗內(nèi)收斂成點光源像sfd。來自點光源像sfd的照明光束el1d，通過第2光學系統(tǒng)2015照明圓筒狀的圖案面p2001上的照明區(qū)域ir。通過來自該點光源像sfd的照明光束的照射而在圖案面p2001產(chǎn)生的成像光束el2a，于第2光學系統(tǒng)2015逆行進而于凹面鏡2040上再度成像出點光源像sfd’。通過來自照明光學系統(tǒng)il的光束而作成的點光源像sfd與通過成像光束el2d而作成的點光源像sfd’于瞳面pd內(nèi)位于點對稱的關系的位置。

在凹面鏡2040的反射面形成有點光源像sfa’、sfd’的成像光束el2a、el2d，投射于基底p上的圓筒狀的投影區(qū)域pa內(nèi)，照明區(qū)域ir內(nèi)的光掩膜圖案的像成像投影于基底p的投影區(qū)域pa內(nèi)。

圖24顯示射入圖23所示的生成照明光學系統(tǒng)il的復眼透鏡2062的照明光束el0的光源裝置2055的構成。光源裝置2055具備固態(tài)光源2057、擴展透鏡(凹透鏡)2058、聚光透鏡2059、以及導光構件2060。固態(tài)光源2057包含例如激光二極管(ld)、發(fā)光二極體(led)等。從固態(tài)光源2057射出的照明光束lb通過擴展透鏡2058轉(zhuǎn)換成發(fā)散光束，通過聚光透鏡2059以既定的收斂比例(na)聚光于導光構件2060的射入端面2060a。

導光構件2060是例如光纖等，射入射入端面2060a的照明光束lb，保存na(數(shù)值孔徑)而從射出端面2060b射出，通過透鏡系2061(準直器)被轉(zhuǎn)換為大致平行的照明光束el0。透鏡系2061，將照明光束el0的光束徑調(diào)整成照射復眼透鏡2062的射入側(cè)的面整體。此外，單一的光纖的直徑雖為例如300μm，但當來自固態(tài)光源2057的照明光束lb的光強度較大時，亦可將多條光纖緊密地捆束。

圖25是從聚光透鏡2065側(cè)觀看圖23中的復眼透鏡2062的射出側(cè)的面ep(與yz面平行)所形成的多數(shù)個點光源像sp的排列狀態(tài)。當在yz面內(nèi)，將復眼透鏡2062的射出側(cè)的面ep的中心點設為2062a時，此中心點2062a位于聚光透鏡2065的光軸2065a上。

如圖25所示，本實施形態(tài)的復眼透鏡2062包含排列在與聚光透鏡2065的光軸2065a正交的面的多個透鏡要件2062e。多個透鏡要件2062e的各個具有于y方向細長的矩形的剖面，于y方向與z方向緊密捆束。于各透鏡要件2062e射出端的中心雖形成點光源像(點)sp，但此為圖24中的導光構件2060(光纖)的射出端面2060b的共軛像。又，在yz面內(nèi)觀看時，多個透鏡要件2062e被捆束成各點光源像sp相對中心點2062a(光軸2065a)為彼此非點對稱。

圖25所示的例中，當將包含聚光透鏡2065的光軸2065a、與xy面平行的面設為p2006時，若較此面p2006更位于+z側(cè)的透鏡要件2062e的組為上部透鏡要件群2062u、較此面p2006更位于-z側(cè)的透鏡要件2062e的組為下部透鏡要件群2062d，則在上部透鏡要件群2062u與下部透鏡要件群2062d之間，是將位置錯開透鏡要件2062e的y方向尺寸的1/2。其結(jié)果，分散在上部透鏡要件群2062u內(nèi)的多個點光源像sp與分散在下部透鏡要件群2062d內(nèi)的多個點光源像sp，相對與通過中心點2062a的與y軸平行的線亦為非對稱的配置。

之所以復眼透鏡2062的各透鏡要件2062e在yz面內(nèi)的剖面形狀構成為延伸于y方向的長方形，是為了配合圖23中的照明視野光闌2064的狹縫狀開口形狀之故。亦參照圖26說明其樣子。

圖26是在yz面內(nèi)觀看圖23中的照明視野光闌2064的圖。于照明視野光闌2064形成有于y方向為細長的矩形狀(或梯形狀)的開口部2064a，來自復眼透鏡2062的各點光源像sp的光束通過聚光透鏡2065而在照明視野光闌2064上成為包含開口部2064a的矩形狀照明光束el1被重疊。當已將開口部2064a的開口中心配置于聚光透鏡2065的光軸2065a上時，照明光學系統(tǒng)il的第1光學系統(tǒng)2014的光軸2014a，通過自開口部2064a的開口中心往+z方向偏心的位置。

圖27是從投影光學系統(tǒng)pl的第2光學系統(tǒng)2015側(cè)觀看能使用于通過圖25的復眼透鏡2062生成的點光源像sp分布的凹面鏡2040的反射面p2004(配置于瞳面pd)的樣子。凹面鏡2040的反射面p2004由于與復眼透鏡2062的射出側(cè)的面ep共軛，因此圖25所示的多個點光源像sp(透鏡要件2062e)的分布為如圖27所示在反射面p2004(瞳面pd)內(nèi)左右、上下反轉(zhuǎn)的點光源像sf(黑圓圈)的分布。

如先前以圖22所說明，于凹面鏡2040的反射面p2004，用以使多個點光源像sf透射的窗部2042相對中心點2044(光軸2015a)配置成非點對稱。在圖27的例，窗部2042形成為于z方向細長延伸的狹縫狀以使來自于z方向排列成一列的多個點光源像sf的各照明光束匯整透射。又，反射面p2004內(nèi)的狹縫狀窗部2042以外處，為使來自圓筒狀的光掩膜m的照明區(qū)域ir內(nèi)的圖案的成像光束有效率地反射的高反射部。

多個點光源像sf，相對包含第2光學系統(tǒng)2015的光軸2015a且與中心面pc(圖21)正交的平面p2005配置成非面對稱，狹縫狀的各窗部2042的y方向尺寸，較窄地設定為不遮蔽點光源像sf的程度。如以圖23所說明，來自通過各窗部2042的多個點光源像sf各個的光束(照明光束el1)通過第2光學系統(tǒng)2015而重疊照射圓筒狀的光掩膜m的圖案面p2001上的照明區(qū)域ir。借此，照明區(qū)域ir被以均一的照度分布照明。

來自圖案面p2001的照明區(qū)域ir內(nèi)所出現(xiàn)的光掩膜圖案的反射光(成像光束el2)雖會返回至凹面鏡2040的反射面p2004，但該成像光束el2，在反射面p2004再度成為點光源像sf’而成為分離的分布。如以圖22所說明，通過成像光束el2而生成于反射面p2004上的多數(shù)個點光源像sf’(特別是0次繞射光)的分布，是相對中心點2044而與作為照明光束el1的多數(shù)個點光源像sf的分布為點對稱的關系。

如圖27所示，與作為照明光束el1源的多數(shù)個點光源像sf所分布的多個窗部2042為點對稱的關系的反射面p2004上的區(qū)域，由于均為高反射部，因此再度成像于反射面p2004上的點光源像sf’(亦包含1次繞射光)幾乎不損失地被反射，到達基底p。

[第11實施形態(tài)的變形例1]

此外，圖27中，即使在凹面鏡2040的反射面p2004中與包含投影光學系統(tǒng)pl(第2光學系統(tǒng)2015)的光軸2015a的平面p2005(與xy面平行)交叉的線上的部分有作為照明光束源的點光源像sf的情形，只要如先前的配置條件般將點光源像sf所位于的部分設為窗部2042，并將相對中心點2044與該窗部2042為點對稱的區(qū)域設為反射部(遮光部)即可。

不過，在點光源像sf(窗部2042)位于中心點2044的位置，若以該點光源像sf為源頭的照明光束照射圓筒狀的光掩膜m上的照明區(qū)域ir，則由于在該處反射的成像光束會收斂成在反射面p2004的中心點2044(窗部2042)形成點光源像sf’，因此有不成為射往基底p的成像光束的情形。因此，可以在反射面p2004的中心點2044附近無點光源像sf的方式，改變構成復眼透鏡2062的多數(shù)個透鏡要件2062e的排列，或于與中心點2044位置對應的透鏡要件2062e施加遮光膜(涂墨)。

又，本實施形態(tài)中，如以圖25與圖27所示，雖將形成于復眼透鏡2062的射出側(cè)的面ep的點光源像sp的配置(透鏡要件2062e的排列)與形成于凹面鏡2040的反射面p2004的窗部2042的配置一對一地配合，但不一定有其必要。亦即，對于形成于復眼透鏡2062的射出側(cè)的面ep的多數(shù)個點光源像sp中從凹面鏡2040背側(cè)的面p2003射入而能到達反射面p2004(瞳面pd)的一部分點光源像sf，亦可不設置窗部2042而保持反射面的狀態(tài)來遮光。該遮光，亦可通過在凹面鏡2040背側(cè)的面p2003內(nèi)于應遮蔽的點光源像sf所位于的區(qū)域形成遮光膜或光吸收層來同樣地實現(xiàn)。

[第11實施形態(tài)的變形例2]

從構成投影光學系統(tǒng)pl的第2光學系統(tǒng)2015射入凹面鏡2040的成像光束el2(多數(shù)個點光源像sf’)，亦可不一定要在凹面鏡2040完全反射。例如，于凹面鏡2040的反射面p2004，除了透射性的窗部2042與反射部以外，亦可設置遮蔽作為照明光束el1源的多個點光源像sf與通過成像光束el2的收斂而形成的多個點光源像sf’的一方或雙方的一部分點光源像的遮光部。

以上，說明了第11實施形態(tài)，本實施形態(tài)中，如圖21或圖22所示，來自照明光學系統(tǒng)il的照明光，從配置于投影光學系統(tǒng)pl的瞳面pd的凹面鏡2040背側(cè)射入，通過構成投影光學系統(tǒng)pl的第2光學系統(tǒng)2015與棱鏡反射鏡2041上側(cè)的反射平面2041a，作為照明光束el1到達圓筒狀的光掩膜m上的照明區(qū)域ir。

若將本實施形態(tài)中的投影光學系統(tǒng)pl的成像光路試區(qū)分為照明區(qū)域ir(物體面)至凹面鏡2040(瞳面pd)的第1光路與凹面鏡2040(瞳面pd)至投影區(qū)域pa(像面)的第2光路，則該第1光路兼作為用以將來自照明光學系統(tǒng)il的照明光束導至照明區(qū)域ir的落斜照明用的光路。

如上述，本實施形態(tài)的處理裝置u3(曝光裝置)，由于是以配置于投影光學系統(tǒng)pl的瞳面或其近旁的反射鏡有效率地在空間上分離照明光束與成像光束的落斜照明方式，因此能使裝置構成簡單。又，與通過偏光狀態(tài)的差異分離照明光束與成像光束的方式比較，無需使用較大的偏光分束器或波長板等，能使裝置構成簡單。

再者，在使照明光束與成像光束偏光分離的方式下，雖有需對應因波長板導致的波面動亂、或因在偏光分束器的消光比的問題導致投影像特性(對比、像差等)劣化的情形，但在本實施形態(tài)中，幾乎沒有因該等原因?qū)е碌耐队跋竦奶匦粤踊?，能抑制曝光不良的發(fā)生。又，本實施形態(tài)的處理裝置u3由于組裝有通過投影光學系統(tǒng)一部分將照明光照射于反射型光掩膜m的落斜照明方式，因此與于透射型的光掩膜內(nèi)部組裝照明光學系統(tǒng)的情形相比，特別在照明光學系統(tǒng)的設計自由度提高。

本實施形態(tài)中，圖24所示的光源裝置2055，由于能縮小點光源像的尺寸，因而假定了使用放射光指向性強的激光光源(例如krf、arf、xef等準分子激光)，但不限定于此。例如，亦可使用放射g線、h線、i線等輝線光的燈光源、或放射光指向性弱的激光二極管或發(fā)光二極體(led)等。

本實施形態(tài)的器件制造系統(tǒng)2001(圖20)，由于能使處理裝置u3(曝光裝置)的構成簡單，因此能減低器件的制造成本。又，由于處理裝置u3是一邊將基底p沿旋轉(zhuǎn)卷筒2030的外周面p2002搬送一邊掃描曝光的方式，因此能效率良好地執(zhí)行曝光處理。其結(jié)果，器件制造系統(tǒng)2001能以良好效率制造器件。

[第12實施形態(tài)]

其次，參照圖28說明第12實施形態(tài)。本實施形態(tài)是將以先前的圖25、圖27所說明的復眼透鏡2062構成與形成于凹面鏡2040的反射面p2004內(nèi)的點光源像sf的配置變更，對與上述實施形態(tài)相同的構成要件賦予與上述實施形態(tài)相同的符號，簡化或省略其說明。

圖28，是在與投影光學系統(tǒng)pl的光軸2015a正交的yz面內(nèi)，觀看凹面鏡2040的反射面p2004內(nèi)復眼透鏡2062的多個透鏡要件2062e如何等價地配置的圖。以多個透鏡要件2062e(點光源像sf)相對凹面鏡2040的反射面p2004的中心點2044(光軸2015a)成為彼此非點對稱的排列方式，最接近中心點2044的透鏡要件2062e的中心從中心點2044往y方向及z方向位移。

本實施形態(tài)中，復眼透鏡2062的各透鏡要件2062e的剖面形狀(在yz面內(nèi)的形狀)如以先前圖26所說明般，設定為與包含照明視野光闌2064的矩形開口部2064a的長方形相似的形狀，但此處，y方向剖面尺寸py與z方向剖面尺寸pz的比py/pz設定為大致4。因此，分布于反射面p2004(瞳面pd)內(nèi)的多數(shù)個點光源像sf亦于y方向以剖面尺寸py的間距(節(jié)距)排列，于z方向以剖面尺寸pz的間距排列。

只要是通常的復眼透鏡，各透鏡要件2062e中心雖會往y方向與z方向的兩方筆直地排列配置，但本實施形態(tài)中，使于z方向相鄰的透鏡要件2062e彼此于y方向各位移δy來配置。若將此位移量δy設為透鏡要件2062e的y方向剖面尺寸(排列的間距)py的1/4左右，則各點光源像sf會位于在yz面內(nèi)彼此往±45度、±135度的任一方向分離的位置。

圖28中，當特定出位于反射面p2004的中心點2044的極近處、包圍中心點2044的四個點光源像sf時，以該四個點光源像sf包圍的區(qū)域(此處為傾斜的長方形)的重心位置是從中心點2044位移。換言之，以該四個點光源像sf包圍的區(qū)域的重心位置位于與中心點2044不同的位置。通過將凹面鏡2040與復眼透鏡2062在yz面內(nèi)的位置關系設定為會產(chǎn)生此種位移，而能將所有點光源像sf的各個以相對中心點2044彼此為非點對稱的關系來配置。此事意指能隨時使相對中心點2044與各點光源像sf為點對稱的關系的反射面p2004上的區(qū)域成為反射部。

雖對應于如以上所配置的點光源像sf的分布而于凹面鏡2040的反射面p2004內(nèi)形成使各點光源像sf透射的窗部2042，但該窗部的形狀、尺寸、配置能考量幾種形態(tài)。單純而言，如圖28所示，使僅使一個點光源像sf透射的圓形的窗部2042h配合點光源像sf的排列而分布于反射面p2004全面的形態(tài)。

作為其他形態(tài)，亦可是使在反射面p2004上相對y方向傾斜45度的方向排列成一列的所有點光源像sf匯整透射的槽狀窗部2042k。當以位于此窗部2042k內(nèi)的一連串點光源像sf作為源頭的照明光束照射圓筒狀的光掩膜m的照明區(qū)域ir時，該反射光束(成像光束)，是凹面鏡2040的反射面p2004上成為點光源像sf’(亦包含1次繞射像)收斂于從使點光源像sf透射的窗部位移的反射區(qū)域2042k’。此外，亦可是使相對y方向傾斜45度的方向所排列的兩個點光源像sf為一組匯整透射的橢圓形(或葫蘆形)的窗部2042l。不論是哪一種窗部2042h,2042k,2042l，都是將來自各點光源像sf的照明光局部不遮蔽的范圍內(nèi)極力地縮小形成。

以上的第12實施形態(tài)中，復眼透鏡2062的透鏡要件2062e的y方向位移量δy可任意設定，透鏡要件2062e的剖面尺寸的比py/pz亦不一定要設為整數(shù)倍。

[第13實施形態(tài)]

其次，參照圖29說明第13實施形態(tài)。本實施形態(tài)亦與圖28同樣地，是關于復眼透鏡2062的構成與形成于凹面鏡2040的反射面p2004內(nèi)的點光源像sf配置的變形。圖29的構成中，復眼透鏡2062的多個透鏡要件2062e的中心在yz面內(nèi)直線排列于y方向與z方向。

在此種復眼透鏡2062的情形，形成于各透鏡要件2062e的射出側(cè)的點光源像sf，于y方向以剖面尺寸py的間距排列，于z方向以剖面尺寸pz的間距排列。此種情形亦與圖28的第12實施形態(tài)所說明一般，當著眼于位在凹面鏡2040的反射面p2004的中心點2044(光軸2015a)的極近處、包圍中心點2044的四個點光源像sfv1,sfv2,sfv3,sfv4時，以該四個點光源像sfv1～sfv4包圍的區(qū)域(長方形)的重心位置gc是從中心點2044位移。換言之，重心位置gc位于與中心點2044不同的位置。

通過將凹面鏡2040與復眼透鏡2062在yz面內(nèi)的位置關系設定為會產(chǎn)生此種位移，而能將所有點光源像sf的各個以相對中心點2044彼此為非點對稱的關系來配置。因此，能隨時使相對中心點2044與各點光源像sf為點對稱的關系的反射面p2004上的區(qū)域成為反射部。

此外，于本實施形態(tài)的凹面鏡2040的反射面p2004，是配合透鏡要件2062e(點光源像sf)的排列間距形成有用以使點光源像sf個別透射的圓形窗部2042h。

[第14實施形態(tài)]

其次，參照圖30說明第14實施形態(tài)。本實施形態(tài)亦與圖28、圖29同樣地，是關于復眼透鏡2062的構成與形成于凹面鏡2040的反射面p2004內(nèi)的點光源像sf配置的變形。圖30的構成中，雖復眼透鏡2062的多個透鏡要件2062e(剖面形狀為于y方向細長的長方形)于y方向以剖面尺寸py的間距排列，于z方向以剖面尺寸pz的間距緊密地排列，但排列于y方向的一列量的透鏡要件2062e群，于z方向的每一列交互在y方向改變(錯開)位置地排列。

在復眼透鏡2062的情形，點光源像sf雖生成于接收來自光源的照明光(例如圖24中的el0)的所有各透鏡要件2062e的射出端側(cè)，但為了遮蔽于該點光源像sf中相對凹面鏡2040的反射面p2004的中心點2044為彼此點對稱的配置關系的兩個點光源像sf的一方，而于對應的透鏡要件2062e形成遮光體2062s。

在圖30的構成中，于對應的透鏡要件2062e形成遮光體2062s(金屬薄膜等)以于凹面鏡2040的反射面p2004內(nèi)被選擇的點光源像sf亂數(shù)且均一地分布。在使用此種復眼透鏡2062時，亦如圖30所示于凹面鏡2040的反射面p2004形成用以使點光源像sf透射的圓形窗部2042h。

[第15實施形態(tài)]

其次，參照圖31說明第15實施形態(tài)。在本實施形態(tài)，不使用至此為止所說明的復眼透鏡2062，而通過光源像形成部于凹面鏡2040的反射面p2004內(nèi)形成多數(shù)個點光源像sf。圖31顯示包含凹面鏡2040在與xz面平行且包含光軸2015a(中心點2044)的面的剖面，在點光源像sf(sfa)所位于的反射面p2004上形成有各窗部2042h。

凹面鏡2040，例如是于低熱膨脹率的精密陶瓷或玻璃陶瓷制的母材的凹面?zhèn)刃纬捎蟹瓷淠ふ?。于該反射膜以與先前的各實施形態(tài)相同的條件形成多個窗部2042h，在本實施形態(tài)中，于該窗部2042h后方的母材形成使照明光學系統(tǒng)il一部分即光纖fbs通過的貫通孔(1mm程度的直徑)。

各光纖fbs的射出端發(fā)揮點光源像的功能，設置于與反射面p2004大致相同的面。照射于各光纖fbs的射入端的照明光，被設定成從光纖fbs的射出端投射的照明光束(例如el1a)具有既定數(shù)值孔徑(發(fā)散角度特性)。又，來自各光纖fbs射出端的照明光束的方向設定于與通過該射出端(點光源像)的主光線的方向一致。

在圖31所示的構成，由于不使用復眼透鏡2062而在光纖fbs的射出端生成多數(shù)個點光源像sf的各個，因此雖需要對應窗部2042h數(shù)目的光纖，但能使光源至凹面鏡2040的系統(tǒng)、亦即照明光學系統(tǒng)il整體小型化。

又，于凹面鏡2040雖設有光纖fbs的射出端貫通的小孔，但亦可于該小孔的各個埋設石英制的細光管(圓柱狀桿)等，于該光管各個的射入端側(cè)設置具有聚光透鏡的紫外線發(fā)光二極體(led)，而使各光管的射出端側(cè)與凹面鏡2040的反射面p2004一致。

[第16實施形態(tài)]

其次，參照圖32a、32b、圖33a、33b、33c說明第16實施形態(tài)。在本實施形態(tài)中，是取代照明光學系統(tǒng)il內(nèi)的復眼透鏡2062，而使用桿透鏡(角柱狀的玻璃或石英)來均一地照明圓筒狀的光掩膜m上的照明區(qū)域ir。

圖32a是從y軸方向觀看導引光源的光的導光構件2060(光纖)至投影光學系統(tǒng)pl(第2光學系統(tǒng)2015)的光路的俯視圖，圖32b是從z軸方向觀看圖32a的光路的俯視圖。圖32a、32b中，從照明視野光闌2064至投影光學系統(tǒng)pl的光路構成，由于與先前的圖23的構成相同，因此該部分的說明省略。

圖32a、32b所示的照明光學系統(tǒng)il，具備以圖24說明的導光構件2060、聚光透鏡2093、桿透鏡2094、照明視野光闌2064、透鏡系2066等。凹面鏡2040之后的投影光學系統(tǒng)pl(第2光學系統(tǒng)2015)的構成與先前的圖21、圖23相同。

從導光構件(光纖)2060射出的照明光束el0，通過聚光透鏡2093而收斂于桿透鏡2094的射入端面2094a或其近旁。桿透鏡2094沿yz面的剖面形狀(射入端面2094a、射出端面2094b)，形成為包含照明視野光闌2064的梯形或長方形的開口部2064a(圖26)的長方形。其剖面形狀，與先前的圖25、圖28～圖30所示的復眼透鏡2062的透鏡要件2062e的剖面形狀大致相似形狀。

在使用桿透鏡2094的情形，在射入端面2094a收斂的照明光束el0，是在桿透鏡2094內(nèi)部，在與xz面平行的側(cè)面2094c及與xy面平行的側(cè)面2094d之間多數(shù)次移動而反復內(nèi)部反射后進至射出端面2094b。在桿透鏡的情形，雖照明光的照度分布最為均一的為射出端面2094b，但其均一性會隨著內(nèi)部反射的反復數(shù)越多而越好。因此，使該射出端面2094b和與圓筒狀的光掩膜m上的照明區(qū)域ir共軛的面2014b一致地配置。

由于本實施形態(tài)的桿透鏡2094的剖面為長方形，因此在對向的側(cè)面2094c間的照明光的反射次數(shù)，較在對向的側(cè)面2094d間的照明光的反射次數(shù)少。照明光束el0在桿透鏡2094內(nèi)面反射的次數(shù)，從提高照度均一性的觀點來看以為兩次以上的方式設定桿透鏡2094的長度等。此外，由于桿透鏡2094的射出端面2094b的形狀界定照明區(qū)域ir的外緣，因此照明視野光闌2064亦可省略。

接著，若將連結(jié)桿透鏡2094的射入端面2094a在yz面內(nèi)的中心點與射入端面2094b在yz面內(nèi)的中心點的線設為中心軸ax2003，則此中心軸ax2003雖與投影光學系統(tǒng)pl的光軸2015a(透鏡系2066的光軸2014a)平行，但往z方向偏心。進而，導光構件2060的射出端雖配置于聚光透鏡2093的光軸2093a上，但該光軸2093a相對桿透鏡2094的中心軸ax2003往-y方向位移配置。

通過該往-y方向的位移，而能將生成于凹面鏡2040的反射面p2004內(nèi)的多數(shù)個點光源像sf配置成相對反射面p2004的中心點2044(光軸2015a)為非點對稱。依據(jù)圖33a～33c詳述此事。圖33a是從桿透鏡2094的射出端面2094b側(cè)往x軸方向觀看聚光透鏡2093的圖，圖33b是從透鏡系2066側(cè)往x軸方向觀看桿透鏡2094的圖，圖33c是從x軸方向觀看凹面鏡2040的反射面p2004的圖。

如圖33a所示，桿透鏡2094的剖面是以與xy面平行的側(cè)面2094d及與xz面平行的側(cè)面2094c規(guī)定的矩形，桿透鏡2094的中心軸ax2003與聚光透鏡2093的光軸2093a是相對地往y方向偏心。又，如圖33b所示，相對于透鏡系2066的光軸2014a(2015a)，桿透鏡2094的中心軸ax2003往z方向偏心。

在此種構成中，作為凹面鏡2040的母材的凹透鏡與透鏡系2066，是將桿透鏡2094的射出端面2094b所位于的面2014b的傅立葉轉(zhuǎn)換面(瞳面pd)形成于凹面鏡2040的反射面p2004上。因此，如圖33c所示，于凹面鏡2040的反射面p2004上多數(shù)個點光源像sf于y方向以間距dsy、于z方向以間距dsz形成。該等點光源像sf，是作為在桿透鏡2094的射入端面2094a收斂的照明光束el0的點像的虛像出現(xiàn)。

多個點光源像sf，由于桿透鏡2094的剖面為長方形，因此與其剖面長邊平行的方向(y方向)的點光源像sf的排列間距dsy，較與短邊平行的方向(z方向)的點光源像sf的排列間距dsz長。又，如圖32a、32b所示，在桿透鏡2094內(nèi)的照明光的內(nèi)部反射次數(shù)，由于z方向比y方向多，因此生成于凹面鏡2040的反射面p2004上的點光源像sf的數(shù)目，亦是z方向比y方向多。圖33c的例中，于z方向排列五個點光源像sf，于y方向排列三個點光源像sf。

再者，通過使桿透鏡2094的中心軸ax2003與聚光透鏡2093的光軸2093a相對地于y方向偏心，而生成于凹面鏡2040的反射面p2004上的點光源像sf的分布，相對中心點2044(光軸2015a)整體往y方向偏心，能將點光源像sf的各個配置成相對中心點2044為彼此非點對稱的關系。

與先前圖27所示的實施形態(tài)同樣，于凹面鏡2040的反射面p2004，使于z方向排列成一列的多個點光源像sf匯整透射的槽狀窗部2042是在y方向以間距dsy形成有三列。各窗部2042的y方向?qū)挾?，是在不遮蔽以點光源像sf為源頭的照明光束的范圍設定成盡可能小。此等槽狀的窗部2042亦形成為相對中心點2044為彼此非點對稱的配置。

在圖33c的構成，桿透鏡2094的中心軸ax2003與聚光透鏡2093的光軸2093a的y方向偏心量被設定為，在凹面鏡2040的反射面p2004(瞳面pd)上，最接近中心點2044(光軸2015a)的點光源像sf至中心點2044的y方向距離(設為yk)設定成排列于y方向的窗部2042的間隔(設為yw)的一半以下、亦即yk＜(yw/2)。

如上述，若將作為照射圓筒狀的光掩膜m的照明區(qū)域ir的照明光束el1的源的點光源像sf配置于凹面鏡2040的反射面p2004(瞳面pd)上，則從圓筒狀的光掩膜m上的照明區(qū)域ir產(chǎn)生的成像光束el2，是如圖33c所示，在反射面p2004上成為點光源像sf的繞射像sf’(包含0次光與±1次繞射光等)而分布。在反射面p2004上，繞射像sf’與照明光束el1源即點光源像sf位于相對中心點2044為點對稱的位置。

本實施形態(tài)中，由于上述的距離yk與間隔yw的關系設定為yk＜(yw/2)，因此通過成像光束el2而生成于凹面鏡2040(瞳面pd)上的多個繞射像sf’，均形成于從窗部2042偏移的反射部上。如此，成像光束el2幾乎不損失地在凹面鏡2040的反射部反射，而如先前的圖21所示，投射于沿外周面p2002保持的基底p上的投影區(qū)域pa。

如上所述，即使是使用桿透鏡2094的情形，仍能通過使在桿透鏡2094的射入端面2094a上的照明光束el0的收斂位置從中心軸ax2003位移，來將多數(shù)個點光源像sf的各個設定為相對凹面鏡2040的反射面p2004的中心點2044為彼此非點對稱的關系。

[第17實施形態(tài)]

其次，參照圖34、圖35說明第17實施形態(tài)的處理裝置(曝光裝置)u3的構成。本實施形態(tài)的曝光裝置，是為了對應基底p上的圖案曝光區(qū)域的y方向尺寸比先前圖21所示的投影光學系統(tǒng)pl的照明區(qū)域ir或投影區(qū)域pa的y方向尺寸大，而將多個投影光學系統(tǒng)于y方向排列，以于y方向擴展實效曝光可能范圍。

因此，必須將圓筒狀的光掩膜m的圖案作為正立像投影于基底p上。在先前圖21所示的投影光學系統(tǒng)pl，投影于基底p上的光掩膜圖案像的x方向雖為正立，但在y方向是反轉(zhuǎn)的。因此，通過將相同構成的投影光學系統(tǒng)一前一后(串列)地設置，即可使y方向反轉(zhuǎn)的投影像再度于y方向反轉(zhuǎn)，其結(jié)果在基底p上的投影區(qū)域pa內(nèi)，在x方向與z方向兩方使之為正立像。

圖34顯示本實施形態(tài)的曝光裝置整體的概略構成，圖35顯示多個投影光學系統(tǒng)的各個形成的照明區(qū)域ir與投影區(qū)域pa的配置關系，各圖的正交坐標系xyz，與先前圖21的實施形態(tài)中所設定的坐標系統(tǒng)一致。又，對與先前圖21、圖23所示的曝光裝置的構件或要件同等者賦予相同符號。

從搬送路徑上游搬送來的基底p，通過未圖示的搬送滾筒或?qū)б龢嫾染砝@于旋轉(zhuǎn)卷筒2030的外周面一部分后，通過未圖示的導引構件或搬送滾筒往下游搬送。第2驅(qū)動部2032，是將旋轉(zhuǎn)卷筒2030繞旋轉(zhuǎn)中心軸ax2002順時針旋轉(zhuǎn)驅(qū)動，基底p以一定的速度被移送。六個投影光學系統(tǒng)pl2001～pl2006的各投影區(qū)域pa2001～pa2006位于旋轉(zhuǎn)卷筒2030的圓筒狀的外周面中卷繞有基底p的部分。與該六個投影區(qū)域pa2001～pa2006的各個對應，于圓筒狀的光掩膜m的外周面(圓筒狀的光掩膜圖案面)上設定六個照明區(qū)域ir2001～pa2006。

該六個投影光學系統(tǒng)pl2001～pl2006均為相同的光學構成，分為相對包含圓筒狀的光掩膜m的旋轉(zhuǎn)中心軸ax2001與旋轉(zhuǎn)卷筒2030的旋轉(zhuǎn)中心軸ax2002的中心面pc(與yz面平行)設置于左側(cè)(-x方向)的投影光學系統(tǒng)pl2001、pl2003、pl2005(亦總稱為奇數(shù)的投影光學系統(tǒng)plo)，與設置于右側(cè)(+x方向)的投影光學系統(tǒng)pl2002、pl2004、pl2006(亦總稱為偶數(shù)的投影光學系統(tǒng)ple)。

本實施形態(tài)的投影光學系統(tǒng)pl2001～pl2006，具備圖21所示的投影光學系統(tǒng)pl與落斜照明用的照明光學系統(tǒng)il2001～il2006。由于其構成與圖21相同，因此代表性地簡單說明投影光學系統(tǒng)pl2001與照明光學系統(tǒng)il2001。照明光學系統(tǒng)il2001，是射入來自光源裝置2055的照明光束el0，從投影光學系統(tǒng)pl2001上段的單元(與圖21相同的投影光學系統(tǒng)pl)的瞳面所配置的凹面鏡2040背側(cè)于反射面p2004生成多數(shù)個點光源像sf。以該點光源像sf為源頭的照明光束el1，在棱鏡反射鏡2041上側(cè)的反射平面2041a被反射，照射圓筒狀的光掩膜m的外周面上的照明區(qū)域ir2001。

從照明區(qū)域ir2001內(nèi)的光掩膜圖案反射的成像光束el2，在反射平面2041a被反射后，在凹面鏡2040反射，在棱鏡反射鏡2041下側(cè)的反射面(2041b)反射，于面p2007(中間像面p2007)形成光掩膜圖案的空間像(中間像)。

投影光學系統(tǒng)pl2001后段的投影單元亦是具備棱鏡反射鏡、多片透鏡器件、配置于瞳面的凹面鏡2078等的半視野的等倍反折射投影系統(tǒng)，在中間像面p2007形成中間像的成像光束el2在凹面鏡2078反射后，在棱鏡反射鏡(2076)下側(cè)的反射平面2076b反射，到達基底p上的投影區(qū)域pa2001，于投影區(qū)域pa2001內(nèi)生成光掩膜圖案的正立正像。此外，投影光學系統(tǒng)pl2001后段(中間像面至投影區(qū)域)的投影單元，由于只要使形成于中間像面p2007的中間像再度成像于基底p上的投影區(qū)域pa2001即可，因此于凹面鏡2078的反射面未設有形成于凹面鏡2040的反射面p2004的窗部2042。

如以上構成的投影光學系統(tǒng)pl2001(其他的投影光學系統(tǒng)pl2002～pl2006亦相同)，由于是所謂多透鏡方式的一個投影系統(tǒng)，因此有時會有如圖21的投影光學系統(tǒng)pl般無法將通過照明區(qū)域ir內(nèi)的中心點的主光線與通過投影區(qū)域pa2001內(nèi)的中心點的主光線配置于中心面pc內(nèi)的情形。

因此，如圖34所示，投影光學系統(tǒng)pl2001(pl2003,pl2005亦相同)上側(cè)的投影單元的棱鏡反射鏡2041的反射平面2041a的角度θ2001(參照圖21)設定為45°以外的值，以使通過照明區(qū)域ir2001內(nèi)的中心點的主光線的延長線d2001往圓筒狀的光掩膜m的旋轉(zhuǎn)中心軸ax2001。同樣地，投影光學系統(tǒng)pl2001下側(cè)的投影單元的棱鏡反射鏡2076的反射平面2076b的角度設定為相對xy面為45°以外的值，以使通過投影區(qū)域pa2001內(nèi)的中心點的主光線的延長線d2001往圓筒狀的光掩膜m的旋轉(zhuǎn)中心軸ax2002。

相對中心面pc而與投影光學系統(tǒng)pl2001對稱配置的投影光學系統(tǒng)pl2002(pl2004,pl2006亦相同)亦同樣地，上側(cè)的投影單元的棱鏡反射鏡2041的反射平面2041a的角度θ2001設定為45°以外的值，以使通過照明區(qū)域ir2002內(nèi)的中心點的主光線的延長線d2002往圓筒狀的光掩膜m的旋轉(zhuǎn)中心軸ax2001，在后段的投影單元的棱鏡反射鏡2076的反射平面2076b的角度設定為相對xy面為45°以外的值，以使通過投影區(qū)域pa2002內(nèi)的中心點的主光線的延長線d2002往圓筒狀的光掩膜m的旋轉(zhuǎn)中心軸ax2002。

如以上所述，主光線的延長線d2001、d2002相對中心面pc對稱地傾斜的奇數(shù)的投影光學系統(tǒng)plo與偶數(shù)的投影光學系統(tǒng)ple，在xz面內(nèi)觀看時雖是相對中心面pc對稱配置，但在xy面觀看時則為于y方向偏移配置。具體而言，各投影光學系統(tǒng)pl2001～pl2006被設置成，形成于圓筒狀的光掩膜m的圖案面上的照明區(qū)域ir2001～pa2006與形成于基底p上的投影區(qū)域pa2001～pa2006成為圖35的配置關系。

圖35，是在xy面內(nèi)觀看照明區(qū)域ir2001～ir2006與投影區(qū)域pa2001～pa2006的配置的圖，左側(cè)的圖從形成中間像的中間像面p2007側(cè)觀看圓筒狀的光掩膜m上的照明區(qū)域ir2001～ir2006，右側(cè)的圖是從中間像面p2007側(cè)觀看支承于旋轉(zhuǎn)卷筒2030的基底p上的投影區(qū)域pa2001～pa2006者。又，圖35中的符號xs，是顯示圓筒狀的光掩膜m(旋轉(zhuǎn)卷筒2020)與旋轉(zhuǎn)卷筒2030的移動方向(旋轉(zhuǎn)方向)。

圖35中，各照明區(qū)域ir2001～ir2006具有與中心面pc(與y軸平行)的上底邊與下底邊的細長梯形狀。此意指圖34所示的照明光學系統(tǒng)il2001～il2006的各個具備如先前圖26所示的照明視野光闌2064。此外，圖34的各投影光學系統(tǒng)pl2001～pl2006由于是在中間像面p2007形成中間像，因此當于該處配置具有梯形開口的視野光闌時，亦可將各照明區(qū)域ir2001～ir2006的形狀構成為單純的長方形狀(包含梯形開口的大小)。

在圓筒狀的光掩膜m的外周面上，通過奇數(shù)的投影光學系統(tǒng)plo形成的照明區(qū)域ir2001、ir2003、ir2005各自的中心點位于與中心面pc平行的面lo(垂直于xy面)上，通過偶數(shù)的投影光學系統(tǒng)ple形成的照明區(qū)域ir2002、ir2004、ir2006各自的中心點位于與中心面pc平行的面le(垂直于xy面)上。

若使各照明區(qū)域ir2001～ir2006為梯形，使其下底邊的y方向尺寸為a2002a，使其上底邊的y方向尺寸為a2002b，則奇數(shù)的照明區(qū)域ir2001、ir2003、ir2005各自的中心點于y方向以間隔(a2002a+a2002b)配置，偶數(shù)的照明區(qū)域ir2002、ir2004、ir2006各自的中心點亦于y方向以間隔(a2002a+a2002b)配置。不過，相對于奇數(shù)的照明區(qū)域ir2001、ir2003、ir2005，偶數(shù)的照明區(qū)域ir2002、ir2004、ir2006于y方向相對偏移尺寸(a2002a+a2002b)/2。此外，面lo與面le自中心面pc起的x方向距離設定為彼此相等。

本實施形態(tài)中，照明區(qū)域ir2001～ir2006的各個構成為沿圓筒狀的光掩膜m外周面的周方向(xs方向)觀看時相鄰于y方向的照明區(qū)域的端部彼此(梯形的斜邊部)互相重疊(overlap)。借此，即使圓筒狀的光掩膜m的圖案區(qū)域a2003的y方向尺寸較大時，亦能確保涵蓋其的有效曝光區(qū)域。此外，圖案區(qū)域a2003雖被框狀的圖案非形成區(qū)域a2004包圍，但圖案非形成區(qū)域a2004是以對照明光具有極低的反射率(或高光吸收率)的材質(zhì)構成。

另一方面，如圖35右側(cè)所示，基底p上的投影區(qū)域pa2001～pa2006，當于各照明光學系統(tǒng)il2001～il2006中設有如圖26的照明視野光闌2064時，會成為反映形成于圓筒狀光掩膜m外周面上的照明區(qū)域ir2001～ir2006的配置與形狀(相似的關系)。因此，奇數(shù)的投影區(qū)域pa2001、pa2003、pa2005各中心點位于面lo上，偶數(shù)的投影區(qū)域pa2002、pa2004、pa2006各中心點位于面le上。

此外，在圖35右側(cè)的圖中，基底p雖沿旋轉(zhuǎn)卷筒2030的外周面于周方向(xs方向)以一定速度移送，但該圖中的斜線所示區(qū)域a2007，是通過六個投影區(qū)域pa2001～pa2006相對于目標曝光量(劑量)以100％被曝光的部分。

又，通過例如對應于照明區(qū)域ir2001的投影區(qū)域pa2001曝光的區(qū)域a2005中在+y方向的端部(三角形部分)被曝光的部分區(qū)域a2005a，未達目標曝光量。然而，在基底p被移送于xs方向(周方向)，通過對應于照明區(qū)域ir2002的投影區(qū)域pa2002對區(qū)域a006曝光時，加算不足的曝光量，其結(jié)果部分區(qū)域a2005a亦相對于目標曝光量(劑量)以100％被曝光。

以此方式，形成于圓筒狀的光掩膜m外周面的圖案區(qū)域a2003整體的投影像，每于圓筒狀的光掩膜m一旋轉(zhuǎn)即反復以等倍轉(zhuǎn)印于基底p上的長邊方向。

此外，雖將從圓筒狀的光掩膜m上的各照明區(qū)域ir2001～ir2006射向投影光學系統(tǒng)pl2001～pl2006的各成像光束el2的主光線中通過各照明區(qū)域ir2001～ir2006內(nèi)的中心點的主光線的延長線d2001,d2002設為與圓筒狀的光掩膜m的旋轉(zhuǎn)中心軸ax2001交叉，但不一定有其必要，只要通過各照明區(qū)域ir2001～ir2006內(nèi)的任一點的主光線與旋轉(zhuǎn)中心軸ax2001交叉即可。同樣地，從各投影光學系統(tǒng)pl2001～pl2006射向基底p上的的各投影區(qū)域pa2001～pa2006的成像光束el2亦同樣地，只要使其主光線中任一主光線一致于與旋轉(zhuǎn)卷筒2030的旋轉(zhuǎn)中心軸ax2002交叉的延長線d2001,d2002即可。

其次，使用圖36說明圖34所示的投影光學系統(tǒng)pl2001～pl2006與照明光學系統(tǒng)il2001～il2006的具體構成。圖36，雖代表性地顯示投影光學系統(tǒng)pl2001及照明光學系統(tǒng)il2001的詳細構成，但其他的投影光學系統(tǒng)pl2002～pl2006及照明光學系統(tǒng)il2002～il2006的構成亦相同。

如圖36所示，來自包含導光構件2060與透鏡系2061的光源裝置2055(參照圖24)的照明光束el0，射入照明光學系統(tǒng)il2001的復眼透鏡2062(參照圖25、圖28～30)。以生成于復眼透鏡2062射出側(cè)的面ep的多數(shù)個點光源像為源頭的照明光束，通過聚光透鏡2065而在與配置照明視野光闌2064的光掩膜共軛的面2014b成為均一的照度分布。通過照明視野光闌2064的開口部的照明光束，透射透鏡系2066、投影光學系統(tǒng)pl2001上側(cè)(第1段)的第2光學系統(tǒng)2015的凹面鏡2040的母材(石英等)、形成于凹面鏡2040的反射面p2004的窗部(2042)、第2光學系統(tǒng)2015，進而在棱鏡反射鏡2041上側(cè)的反射平面2041a被反射往沿延長線d2001的方向，到達圓筒狀的光掩膜m上的照明區(qū)域ir。

與先前的圖23的構成同樣地，由于凹面鏡2040的反射面p2004配置于投影光學系統(tǒng)pl2001的成像光束中的瞳面pd，其反射面p2004配置成與復眼透鏡2062射出側(cè)的面ep實質(zhì)上共軛，因此將生成于復眼透鏡2062射出側(cè)的面ep的多數(shù)個點光源像中繼者，生成于形成在反射面p2004的窗部2042內(nèi)。

又，圖36的具體構成中，于棱鏡反射鏡2041上側(cè)的反射平面2041a與圓筒狀的光掩膜m的圖案面p2001之間，沿傾斜的延長線d2001設有聚焦修正光學構件2080與像移光學構件2081。聚焦修正光學構件2080，例如將兩片楔形的棱鏡逆向(圖36中于x方向為逆向)疊合成整體為透明的平行平板。通過使此一對棱鏡滑動，即能改變作為平行平板的厚度，以成像光束的實效光路長，并微調(diào)形成于中間像面p2007及投影區(qū)域pa2001的圖案像的聚焦狀態(tài)。

像移修正光學構件2081以能在圖36中的xz面內(nèi)傾斜的透明平行平板玻璃與能傾斜于與其正交的方向的透明平行平板玻璃構成。通過調(diào)整該兩片平行平板玻璃的各傾斜量，而能使形成于中間像面p2007及投影區(qū)域pa2001的圖案像微幅位移于x方向或y方向。

接著，出現(xiàn)于照明區(qū)域ir2001內(nèi)的光掩膜圖案的像，通過聚焦修正光學構件2080、像移修正光學構件2081、棱鏡反射鏡2041的反射平面2041a、投影光學系統(tǒng)pl2001上側(cè)(第一段)的第2光學系統(tǒng)2015、棱鏡反射鏡2041的反射平面2041b，成像于中間像面p2007，于此中間像面p2007能配置使投影區(qū)域pa201形狀成為如圖35所示的梯形的視野光闌2075。此情形下，設于照明光學系統(tǒng)il2001的照明視野光闌2064的開口部亦可為包含視野光闌2075的梯形開口部的矩形(長方形)。

在視野光闌2075的開口部成為中間像的成像光束，通過構成投影光學系統(tǒng)pl2001的下側(cè)(第二段)棱鏡反射鏡2076的反射平面2076a、第2光學系統(tǒng)2077、棱鏡反射鏡2076的反射平面2076b，投影于卷繞于旋轉(zhuǎn)卷筒2030的外周面p2002的基底p上的投影區(qū)域pa2001。第2光學系統(tǒng)2077所含的凹面鏡2078的反射面配置于瞳面pd，棱鏡反射鏡2076下側(cè)的反射平面2076b，相對xy面的角度設定為45°以下，以使成像光束的主光線沿相對中心面pc傾斜的延長線d2001行進。

接著，圖36的具體構成中，于棱鏡反射鏡2076下側(cè)的反射平面2076b與卷繞于旋轉(zhuǎn)卷筒2030的基底p上的投影區(qū)域pa2001之間設有倍率修正光學構件2083，其將凹透鏡、凸透鏡、凹透鏡的三片以既定間隔同軸配置，前后凹透鏡為固定，使其間的凸透鏡移動于光軸(主光線)方向。借此，形成于投影區(qū)域pa2001的圖案像，可一邊維持遠心的成像狀態(tài)、一邊等方地擴大或縮小微小量。

此外，圖36中雖未顯示，但亦設有能使棱鏡反射鏡2041或棱鏡反射鏡2076的任一方微幅旋轉(zhuǎn)于繞與z軸平行的軸旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)修正機構。此旋轉(zhuǎn)修正機構，例如是使圖35所示的多個投影區(qū)域pa2001～pa2006(及被投影的光掩膜圖案像)的各個在xy面內(nèi)微幅旋轉(zhuǎn)。

以上，在第17實施形態(tài)中，如圖34、圖36所示，六組的投影光學系統(tǒng)pl2001～pl2006的各個，能以具有與圓筒狀的光掩膜m的旋轉(zhuǎn)中心軸ax2001交叉的主光線的照明光，對圓筒狀的光掩膜m外周面(圖案面)上的各照明區(qū)域ir2001～ir2006進行落斜照明。

進而，成像光束被偏向成，從各照明區(qū)域ir2001～ir2006往圓筒狀的光掩膜m的圖案面p2001的法線方向行進的主光線從法線方向亦射入沿著外周面p2002的基底p上的投影區(qū)域pa2001～pa2006。因此，能減少投影像的散焦，抑制曝光不良等處理不良產(chǎn)生，其結(jié)果可抑制不良器件產(chǎn)生。

又，投影光學系統(tǒng)pl2001～pl2006的各個，由于是在圓筒狀的光掩膜m的外周面至棱鏡反射鏡2041(反射平面2041a)之間構成為成像光束的主光線相對中心面pc傾斜，因此于各投影光學系統(tǒng)pl2001～pl2006的空間上的配置，彼此干涉(沖撞)的條件被緩和。

此外，棱鏡反射鏡2041下側(cè)的反射平面2076b與棱鏡反射鏡2076上側(cè)的反射平面2076a相對xy面以45°的角度設定成通過投影光學系統(tǒng)pl2001～pl2006的各個的中間像面p2007的成像光束的主光線與中心面pc平行。

[第17實施形態(tài)的變形例]

在圖34～36所示的具備多透鏡方式的投影光學系統(tǒng)的曝光裝置中，雖是將圓筒面狀的光掩膜圖案的像投影曝光至被支承為圓筒面狀的基底p的表面，但光掩膜m或基底p亦可作成將任一方平面支承，或亦可將兩方平面支承的構成。例如，可為基底p如圖34所示卷繞于旋轉(zhuǎn)卷筒2030而支承成圓筒面狀，光掩膜m如現(xiàn)有般形成于平行的平面玻璃(石英)而直線移動于x方向的掃描曝光方式，或相反地，光掩膜m可支承于如圖34的旋轉(zhuǎn)卷筒2020，基底p可以平坦的平面載臺或空氣墊式的保持具支承而直線移送于x方向的掃描曝光方式，可為上述兩方式的任一者。

又，雖不論光掩膜m或基底p的支承形態(tài)為圓筒面狀或平面狀，均能適用先前各實施形態(tài)的投影光學系統(tǒng)與照明光學系統(tǒng)，但只要于被支承為與xy面平行的平面狀之側(cè)，將棱鏡反射鏡2041上側(cè)的反射平面2041a或棱鏡反射鏡2076下側(cè)的反射平面2076b的相對xy面的傾斜角度設為45°即可。換言之，只要配合通過光掩膜m上的照明區(qū)域ir(物體面)中心的法線或通過基底p上的投影區(qū)域pa(像面)中心的法線，將投影光學系統(tǒng)的物體面?zhèn)鹊闹鞴饩€或像面?zhèn)鹊闹鞴饩€在xz面內(nèi)傾斜即可。

[第18實施形態(tài)]

圖37是顯示第18實施形態(tài)的投影光學系統(tǒng)pl(在多透鏡方式的情形為pl2001)構成圖。本實施形態(tài)的投影光學系統(tǒng)pl(pl2001)，使來自圓筒狀光掩膜m外周面的照明區(qū)域ir(ir2001)內(nèi)的光掩膜圖案的成像光束el2(將主光線設為el6)在平面反射鏡2100的反射面2100a反射，通過具有于瞳面配置反射面p2004的凹面鏡2040的第2光學系統(tǒng)2015(半視野類型的反折射成像系統(tǒng))，在平面反射鏡2101的反射面2101a使之反射，于中間像面im形成出現(xiàn)于照明區(qū)域ir(ir2001)內(nèi)的光掩膜圖案的等倍中間像。

進而，形成于中間像面im的中間像，通過具有例如兩倍以上倍率的放大成像系統(tǒng)2102(具有與z軸平行的光軸2102a)投影于沿與xy面平行的外周面p2002被支承的基底p上的投影區(qū)域pa(pa2001)?；譸，通過流體軸承層被支承于具有表面為平坦的流體軸承用的墊的平面保持具hh上。本實施形態(tài)亦同樣地，于構成投影光學系統(tǒng)pl(pl2001)的凹面鏡2040的反射面p2004，形成有使通過來自背后的照明光學系統(tǒng)il(il2001)的照明光而生成的多數(shù)個點光源像sf透射的窗部2042。

使如圖37的放大投影光學系統(tǒng)多透鏡化，在曝光y方向尺寸大的光掩膜圖案時，是將包含照明光學系統(tǒng)il(il2001)與平面反射鏡2100、2101的投影光學系統(tǒng)pl(pl1)組于如先前的圖34、圖35所示，在xz面內(nèi)配置成相對中心面pc成對稱，于y方向分離配置成在投影區(qū)域pa(pa2001)的y方向端部(三角形部分)投影像一部分重疊。

本實施形態(tài)中，當中心面pc為包含圓筒狀的光掩膜m的旋轉(zhuǎn)中心軸ax2001且與xy面(外周面p2002)垂直的面時，奇數(shù)的投影光學系統(tǒng)pl2001,pl2003...的照明區(qū)域ir2001,ir2003...的各中心點(例如主光線el6通過的點)，由于光掩膜側(cè)的主光線el6相對中心面pc傾斜，因此從圓筒狀的光掩膜m的外周面與中心面pc的交線起在周長分離距離dmx。因此，偶數(shù)的投影光學系統(tǒng)pl2002,pl2004...的照明區(qū)域ir2002,ir2004...的各中心點亦從圓筒狀的光掩膜m的外周面與中心面pc的交線起在周長分離距離dmx。因此，奇數(shù)的照明區(qū)域ir2001...與偶數(shù)的照明區(qū)域ir2002...是于圓筒狀的光掩膜m上的周長方向分離距離(2dmx)。

另一方面，由于奇數(shù)的投影光學系統(tǒng)pl2001,pl2003...的投影區(qū)域pa2001,pa2003...的各中心點(例如主光線el6通過的點)在基底p上從中心面pc往x方向分離距離dfx，因此奇數(shù)的投影區(qū)域pa2001...與偶數(shù)的投影區(qū)域pa2002...，在基底p上于x方向分離距離(2dfx)。因此，在將形成于圓筒狀的光掩膜m上的各照明區(qū)域ir2001,ir2002...各自的光掩膜圖案一致地形成于周方向時，若將投影光學系統(tǒng)pl2001,pl2002...的放大倍率設為mp，則需設定為滿足mp·(2dmx)＝2dfx的關系。若因機構上的問題而無法以上述條件構成時，則只要將形成于圓筒狀的光掩膜m上的奇數(shù)的照明區(qū)域ir2001,ir2003...用的光掩膜圖案與偶數(shù)的照明區(qū)域ir2002,ir2004...用的光掩膜圖案于周方向相對錯開形成即可。

[第19實施形態(tài)]

圖38顯示第19實施形態(tài)的投影光學系統(tǒng)pl的構成圖。本實施形態(tài)的投影光學系統(tǒng)pl，是以透鏡系2103、透鏡系2104、配置于瞳面的凹面鏡(反射光學構件)2040、偏向鏡2106、2107、以及透鏡系2108構成。

本實施形態(tài)中，來自圓筒狀的光掩膜m的外周面上的照明區(qū)域ir的成像光束el2，是在透鏡系2103的光軸2103a，通過-x側(cè)的一半視野射入透鏡系2103，并射入透鏡系2104(其光軸2104a與光軸2103a同軸)。通過透鏡系2103的成像光束el2，在凹面鏡2040(其光軸為2104a)的反射面p2004反射，在偏向鏡2106的反射面p2106a反射往-x方向，被導至透鏡系2103、2104、凹面鏡2040所形成的光路外之后，在偏向鏡2107的反射面2107a反射往-z方向。

在偏向鏡2107反射的成像光束el2，通過透鏡系2108照射于投影區(qū)域pa。通過以上的光路，投影光學系統(tǒng)pl將出現(xiàn)于光掩膜m上的照明區(qū)域ir內(nèi)的光掩膜圖案像成像于通過與圖37相同的構成而被平面支承的基底p上的投影區(qū)域pa內(nèi)。本實施形態(tài)的投影光學系統(tǒng)，特別是為了以小型的系統(tǒng)實現(xiàn)放大投影，而設計成不形成中間像面。又，此投影光學系統(tǒng)pl的圓筒狀的光掩膜m側(cè)的主光線el6的延長線d2001，設定為與圓筒狀的光掩膜m的旋轉(zhuǎn)中心軸ax2001交叉，基底p側(cè)的主光線el6設定為與被平面支承的基底p的表面垂直。

圖38中，來自照明區(qū)域ir的成像光束el2能設計成通過賦予主要的放大倍率的透鏡系2108的光軸2108a(與z軸平行且相對基底p為垂直)的-x側(cè)。因此，切除從透鏡系2108的光軸2108a起+x側(cè)的部分、且是對光掩膜圖案的投影無幫助的部分。借此，能縮小投影光學系統(tǒng)pl的x方向(基底p的掃描方向)的尺寸。

本實施例亦與先前的圖21、圖23、圖31、圖32a、32b、圖37同樣地，照明光學系統(tǒng)il與光源裝置2055配置于凹面鏡2040的背側(cè)，多數(shù)個點光源像sf生成于形成于凹面鏡2040的反射面p2004(配置于瞳面)的窗部(2042)內(nèi)。在該點光源像的反射面p2004上的分布與反射面p2004內(nèi)的窗部的形狀或配置，依據(jù)先前圖22所說明的條件，設定成如圖27～30、或圖33a～33c所示。

如上述的各實施形態(tài)或變形例(圖12、圖21、圖34～38)中，圓筒狀的光掩膜m雖假定將反射部與非反射部形成的圖案直接形成于金屬、陶瓷、玻璃等圓筒母材的表面，但亦可為作成于平坦性佳的短條狀極薄玻璃板(例如厚度100～500μm)的一面以反射膜形成有圖案的片狀的反射型光掩膜，使其沿金屬性的旋轉(zhuǎn)卷筒2020外周面彎曲卷繞。

上述片狀的反射型光掩膜，亦可恒久地貼附于旋轉(zhuǎn)卷筒2020的外周面，亦可固定成能釋放(能交換)。此種片狀的反射型光掩膜，例如包含鋁等具有對照明光束el1具有高反射率的材質(zhì)的膜或介電體多層膜等。此情形下，旋轉(zhuǎn)卷筒2020，亦可設有吸收通過片狀的反射型光掩膜的透明部的照明光束el1的遮光層(膜)，該遮光層亦抑制雜光的產(chǎn)生。

又，圓筒狀的光掩膜m亦可為涵蓋全周僅形成有對應一個器件(一個顯示器件)的圖案者，亦可為形成有對應一個器件(一個顯示器件)的多個圖案者。進而，圓筒狀的光掩膜m上的器件圖案亦可于外周面的周方向反復配置，亦可于與旋轉(zhuǎn)中心軸ax2001平行的方向配置多個。又，亦可于圓筒狀的光掩膜m設置第1器件制造用的圖案與用以制造與第1器件不同的第2器件的圖案。

[器件制造方法]

其次，說明器件制造方法。圖39是顯示本實施形態(tài)的器件制造方法的流程圖。

圖39所示的器件制造方法中，首先例如進行有機el等自發(fā)光器件的顯示面板等的器件功能、性能設計，以cad等設計必要的電路圖案或配線圖案(步驟201)。其次，根據(jù)以cad等設計的各種層的每個圖案等器件的設計，制作必要的各層部分的光掩膜m(圓筒狀或平面狀)(步驟202)。又，先通過購買或制造等準備卷有器件基材即透明膜或片、或極薄的金屬箔等基底、或作為顯示器件基材的柔性基底(樹脂膜、金屬箔膜、塑膠等)的卷軸(步驟203)。

此外，在步驟203準備的卷軸狀的基底，亦可視需要將其表面改質(zhì)、事前形成有基底層(例如通過壓印方式形成的微小凹凸)、預先沉積有光感應性的功能膜或透明膜(絕緣材料)。

其次，將所準備的基底投入卷軸式、批次式的制造線，于該基底上形成構成顯示面板器件等器件的電極或配線、絕緣膜、半導體膜(薄膜半導體)等的tft等所構成的底板層，以沉積于該底板層的方式形成作為顯示像素部的有機el等自發(fā)光器件的發(fā)光層(步驟204)。于步驟204典型地包含于基底上的膜上形成抗蝕劑圖案的步驟、以此抗蝕劑圖案作為光掩膜而刻蝕上述膜的步驟?？刮g劑圖案的形成，實施將抗蝕劑膜于基底表面均一地形成的步驟、依據(jù)上述各實施形態(tài)以經(jīng)由光掩膜m而被圖案化的曝光用光使基底的抗蝕劑膜曝光的步驟、使通過該曝光而形成有光掩膜圖案的潛像的步驟。

在并用了印刷技術等的柔性器件制造的情形，是實施于基底表面通過涂布式形成功能性感光層(感光性硅烷耦合材)的步驟、依據(jù)上述各實施形態(tài)將經(jīng)由光掩膜m而被圖案化的曝光用光照射于功能性感光層且于功能性感光層依據(jù)圖案形狀形成親水化的部分與疏水化(撥水化)的部分來形成圖案的曝光步驟、于功能性感光層的親水性高的部分涂布鍍敷基底液等并通過無電解鍍敷析出形成金屬性的圖案的步驟等。

又，于此步驟204，雖亦包含使用在先前各實施形態(tài)說明的曝光裝置使光阻層曝光的現(xiàn)有光刻步驟，但亦包含對光感應性的催化劑層進行圖案曝光而通過無電解鍍敷法形成金屬膜的圖案(配線、電極等)的濕式步驟、或者以含有銀納米粒子的導電性墨等描繪圖案的印刷步驟等的處理。

其次，依據(jù)所制造的器件，就以例如卷軸方式于長條基底上連續(xù)制造的顯示器件的每一個，實施將基底切割或切斷，或?qū)⒃谄渌襟E制造的其他基底、例如保護膜(對環(huán)境遮蔽層)、具有密封功能的片狀彩色濾光器、或薄玻璃基底等貼合于各顯示面板器件的表面等的步驟，以組裝器件(步驟205)。其次，進行顯示面板器件是否正常發(fā)揮功能、或是否滿足所欲的性能或特性等對器件的檢查等后處理(步驟)(步驟206)。以上述方式，能制造顯示面板(柔性顯示器)等器件。

此外，本發(fā)明的技術范圍并非限定于上述實施形態(tài)或變形例。例如，亦可省略在上述實施形態(tài)或變形例中說明的構成要件的一個以上。又，在上述實施形態(tài)或變形例中說明的構成要件亦可適當組合。

符號說明：

1001器件制造系統(tǒng)

1009搬送裝置

1011基底處理裝置

1021第1卷筒構件

1022第2卷筒構件

1050第1偏向構件

1057第2偏向構件

1078光掩膜載臺

1120第3偏向構件

1121第4偏向構件

1132第7偏向構件

1133第8偏向構件

1136第9偏向構件

1137第10偏向構件

1140第11偏向構件

1143第12偏向構件

1151第13偏向構件

1152第14偏向構件

ax1001第1中心軸

ax1002第2中心軸

d1001第1徑方向

d1002第2徑方向

d1003第1法線方向

d1004第2法線方向

dfx距離

dmx周長

ir照明區(qū)域

m光掩膜

p基底

pa投影區(qū)域

pl投影光學系統(tǒng)

pl1001～pl1006投影模組

p1001第1面

p1002第2面

p1003中心面

p1007中間像面

2001器件制造系統(tǒng)

2005上位控制裝置

2013控制裝置

2014第1光學系統(tǒng)

2015第2光學系統(tǒng)

2020旋轉(zhuǎn)卷筒

2030旋轉(zhuǎn)卷筒

2040凹面鏡

2094桿透鏡

u3處理裝置(基底處理裝置、曝光裝置)