本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，尤其是一種光刻膠供應(yīng)裝置。

背景技術(shù)：

在半導(dǎo)體制造工藝中，光刻處于硅片加工過程的中心，常被認(rèn)為是ic制造中最關(guān)鍵的步驟，成本幾乎占到整個硅片加工成本的三分之一。光刻工藝是一個復(fù)雜的過程，其穩(wěn)定性及可靠性對產(chǎn)品的質(zhì)量、良率和成本有著重要的影響。

光刻工藝的質(zhì)量與光刻膠供應(yīng)裝置息息相關(guān)，現(xiàn)有的光刻膠供應(yīng)裝置通常包括存儲光刻膠的存儲容器、消耗偵測桶和用于將光刻膠抽至噴嘴的泵浦，它們通過管道依次連接，光刻膠從存儲容器流入消耗偵測桶，再從消耗偵測桶流至泵浦。消耗偵測桶設(shè)置有氣體通道，當(dāng)存儲容器報空時，存儲容器內(nèi)無光刻膠或氣體可從光刻膠瓶流向消耗偵測桶，此時，需要更換報空的存儲容器，為了泵浦能夠繼續(xù)將光刻膠抽至噴嘴，需要打開消耗偵測桶的氣體通道，消耗偵測桶內(nèi)的光刻膠直接與大氣接觸，大氣中的灰塵、微粒等污染物會污染光刻膠，光刻膠中含有雜質(zhì)會影響光刻工藝的質(zhì)量，使產(chǎn)品產(chǎn)生缺陷，大氣中的水蒸氣也會影響光刻膠的粘滯性。當(dāng)泵浦抽取存儲系統(tǒng)中的光刻膠時，會使消耗偵測桶中的光刻膠從氣體通道流出，造成管路堵塞和機(jī)臺污染，目前需要設(shè)備工程師每星期清理一次。

并且，現(xiàn)有的光刻膠供應(yīng)裝置中，沒有應(yīng)對光刻膠管路異常的方法，當(dāng)光刻膠供應(yīng)裝置前段出現(xiàn)問題無法工作時，只能維修和更換設(shè)備，導(dǎo)致不良品增加、機(jī)臺產(chǎn)量減少。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于提供一種光刻膠供應(yīng)裝置，以解決現(xiàn)有技術(shù)中光刻質(zhì)量不高、設(shè)備工程師必須定期清理機(jī)臺和無法應(yīng)對光刻膠管路異常的問題。

為了達(dá)到上述目的，本發(fā)明提供了一種光刻膠供應(yīng)裝置，用于向一噴嘴提供光刻膠包括：

通過管道順次連接的第一存儲裝置、消耗偵測裝置、第二存儲裝置和泵浦，所述第一存儲裝置、消耗偵測裝置和第二存儲裝置均用于存儲光刻膠，所述泵浦用于將光刻膠抽至所述噴嘴；其中，

所述第一存儲裝置上設(shè)置有第一氣體通道；

所述消耗偵測裝置上設(shè)置有第二氣體通道，或者，所述第一存儲裝置與所述消耗偵測裝置之間的管道上設(shè)置有第二氣體通道，所述第二氣體通道上設(shè)置有第一閥門；

所述第二存儲裝置上設(shè)置有第三氣體通道，或者，所述消耗偵測裝置與所述第二存儲裝置之間的管道上設(shè)置有第三氣體通道，所述第三氣體通道上設(shè)置有第二閥門；

所述消耗偵測裝置與所述第二存儲裝置之間的管道上設(shè)置有第三閥門；

可選的，所述第一存儲裝置上設(shè)置有第一檢測器；或者，所述第一存儲裝置與所述消耗偵測裝置之間的管道上設(shè)置有第一檢測器；所述第一檢測器控制所述第一閥門的開合；

可選的，所述第一存儲裝置報空時，所述第一閥門開啟；所述第一存儲裝置未報空時，所述第一閥門閉合；

可選的，所述消耗偵測裝置與所述第二存儲裝置之間的管道上設(shè)置有第二檢測器，所述第二檢測器控制所述第二閥門和所述第三閥門的開合；

可選的，所述第二管道上有光刻膠流過時，所述第二閥門開啟，所述第三閥門閉合；所述第二管道上沒有光刻膠流過時，所述第二閥門閉合，所述第三閥門開啟；

可選的，所述第一氣體通道與所述第二氣體通道相連；

可選的，所述第一儲存裝置和所述消耗偵測裝置之間的管道上設(shè)置有第四閥門；

可選的，所述消耗偵測裝置和所述第二存儲裝置都設(shè)置有排泡管道；

可選的，所述第二存儲裝置的容量大于所述第一存儲裝置；

可選的，所述消耗偵測裝置與所述第三閥門之間的管道上還設(shè)置有過濾裝置；

可選的，所述第一閥門為單向閥門。

在本發(fā)明提供的光刻膠供應(yīng)裝置中，包括：通過管道順次連接的第一存儲裝置、消耗偵測裝置、第二存儲裝置和泵浦，所述第一存儲裝置、消耗偵測裝置和第二存儲裝置均用于存儲光刻膠，所述泵浦用于將光刻膠抽至所述噴嘴；其中，所述第一存儲裝置上設(shè)置有第一氣體通道；所述消耗偵測裝置上設(shè)置有第二氣體通道，或者，所述第一存儲裝置與所述消耗偵測裝置之間的管道上設(shè)置有第二氣體通道，所述第二氣體通道上設(shè)置有第一閥門；所述第二存儲裝置上設(shè)置有第三氣體通道，或者，所述消耗偵測裝置與所述第二存儲裝置之間的管道上設(shè)置有第三氣體通道，所述第三氣體通道上設(shè)置有第二閥門；所述消耗偵測裝置與所述第二存儲裝置之間的管道上設(shè)置有第三閥門。第一存儲裝置報空時，第一閥門開啟，使泵浦能正常抽取光刻膠，同時為了使光刻膠更好的在管道中流通，通過第二氣體通道往消耗偵測裝置中通入潔凈氣體的、不與光刻膠發(fā)生反應(yīng)的氣體，避免了光刻膠和大氣直接接觸而被污染，并且，光刻膠也不能通過第二氣體通道流出而污染機(jī)臺。

當(dāng)光刻膠供應(yīng)系統(tǒng)前段發(fā)生故障、無法繼續(xù)工作時，第二閥門開啟，第三閥門關(guān)閉，通過第三氣體通道往第二存儲裝置中通入潔凈的、不與光刻膠發(fā)生反應(yīng)的氣體，利用第二儲存裝置中的光刻膠繼續(xù)工作。

附圖說明

圖1是實施例提供的第一種光刻膠供應(yīng)裝置的示意圖；

圖2是實施例提供的檢測器安放位置的示意圖；

圖3是實施例提供的第一氣體通道與第二氣體通道相連的示意圖；

圖4是實施例提供的第一存儲裝置和消耗偵測裝置之間設(shè)置第四閥門的示意圖；

圖5是實施例提供的第二種光刻膠供應(yīng)裝置的示意圖；

其中，1-第一存儲裝置，11-第一氣體通道，2-消耗偵測裝置，21-第二氣體通道，22-第一閥門，3-第二存儲裝置，31-第三氣體通道，32-第二閥門，33-第三閥門，4-泵浦；5-第一管道，51-第一檢測器，6-第二管道，61-第二檢測器；52-第四閥門，12-第五閥門；23-第一排泡管道，34-第二排泡管道。

具體實施方式

下面將結(jié)合示意圖對本發(fā)明提供的光刻膠供應(yīng)裝置的具體實施方式進(jìn)行更詳細(xì)的描述。根據(jù)下列描述和權(quán)利要求書，本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)和特征將更清楚。需說明的是，附圖均采用非常簡化的形式且均使用非精準(zhǔn)的比例，僅用以方便、明晰地輔助說明本發(fā)明實施例的目的。

參閱圖1，圖1為實施例提供的第一種光刻膠供應(yīng)裝置的示意圖，通過管道順次連接的第一存儲裝置1、消耗偵測裝置2、第二存儲裝置3和泵浦4，所述第一存儲裝置1、消耗偵測裝置2和第二存儲裝置3均用于存儲光刻膠，所述泵浦4用于將光刻膠抽至所述噴嘴；其中，所述第一存儲裝置1上設(shè)置有第一氣體通道11；所述消耗偵測裝置2上設(shè)置有第二氣體通道21，或者，所述第一存儲裝置1與所述消耗偵測裝置2之間的管道5(在此稱第一管道5)上設(shè)置有第二氣體通道21，所述第二氣體通道21上設(shè)置有第一閥門22；所述第二存儲裝置3上設(shè)置有第三氣體通道31，或者，所述消耗偵測裝置2與所述第二存儲裝置3之間的管道6(在此稱第二管道6)上設(shè)置有第三氣體通道31，所述第三氣體通道31上設(shè)置有第二閥門32；所述消耗偵測裝置2與所述第二存儲裝置3之間的第二管道6上設(shè)置有第三閥門33。

整個裝置正常工作時，第一閥門22和第二閥門32關(guān)閉，第三閥門33開啟，往第一氣體通道11通入潔凈的高壓氣體，如氮?dú)獾榷栊詺怏w，氣體的壓強(qiáng)可以根據(jù)正在加工的產(chǎn)品進(jìn)行調(diào)整，本發(fā)明不做限制。第一存儲裝置1內(nèi)的光刻膠受到氣體的壓力通過第一管道5流進(jìn)消耗偵測裝置2，再從消耗偵測裝置2通過第二管道6流進(jìn)第二儲存裝置3，泵浦從第二存儲裝置3內(nèi)將光刻膠抽至噴嘴，進(jìn)行涂覆作業(yè)。當(dāng)?shù)谝淮鎯ρb置1內(nèi)沒有存儲光刻膠或者儲存的光刻膠小于一定的量時，第一存儲裝置報空，此時，第一閥門22開啟，往第二氣體通道21通入潔凈的高壓氣體，高壓氣體從第二氣體通道21進(jìn)入消耗偵測裝置2內(nèi)，將消耗偵測裝置2內(nèi)的光刻膠壓向第二存儲裝置3，待工作人員更換了第一存儲裝置1或者往第一存儲裝置1內(nèi)添加了光刻膠后，第一存儲裝置未處于報空狀態(tài)，第二閥門22關(guān)閉，光刻膠從第一存儲裝置1內(nèi)流入消耗偵測裝置2，整個裝置繼續(xù)正常工作?？梢岳斫獾氖?，本發(fā)明中，第一閥門22關(guān)閉時，大氣無法進(jìn)入消耗偵測裝置2內(nèi)；第一閥門22開啟時，會往第二氣體通道21內(nèi)通入高壓氣體，不管第一閥門22開啟或關(guān)閉，消耗偵測裝置2內(nèi)的光刻膠都不會與大氣直接接觸，避免了大氣內(nèi)的微粒、灰塵和水蒸氣等污染光刻膠，從而避免了缺陷，提高了光刻的質(zhì)量。并且，光刻膠不會通過第二氣體通道21流到機(jī)臺上污染機(jī)臺。當(dāng)光刻膠裝置系統(tǒng)前段出現(xiàn)問題無法繼續(xù)工作時，第二閥門32開啟，第三閥門33關(guān)閉，利用第二儲存裝置3中的光刻膠繼續(xù)作業(yè)，避免了修理裝置時機(jī)臺產(chǎn)量減少。

當(dāng)然，為了簡化管道的連接結(jié)構(gòu)，優(yōu)選的，第二氣體通道21可以直接設(shè)置于消耗偵測裝置2上，第三氣體通道也可以直接設(shè)置于第二存儲裝置3上。

參閱圖2，所述第一管道5上設(shè)置有第一檢測器51，當(dāng)?shù)谝淮鎯ρb置1報空時，所述第一檢測器51檢測到第一管道5內(nèi)沒有光刻膠或者光刻膠少于一定量，立即發(fā)出第一控制信號，控制第一閥門22開啟。工作人員更換第一存儲裝置1或者在第一存儲裝置1內(nèi)添加了光刻膠后，第一檢測器51檢測到第一管道5內(nèi)有光刻膠，再發(fā)出第一控制信號控制第一閥門22關(guān)閉。當(dāng)然，為了達(dá)到同樣的目的，第一檢測器51也可設(shè)置于第一存儲裝置1底部或者內(nèi)側(cè)壁，此時的第一檢測器51可以是精密的壓力傳感器、光電傳感器等，只要能夠根據(jù)第一存儲裝置1裝載情況發(fā)出第一控制信號控制第一閥門22的開合即可。

所述第二管道6上設(shè)置有第二檢測器61，所述第二檢測器61檢測到第二管道6上沒有光刻膠時，可以判斷出光刻膠供應(yīng)裝置的前段出了故障，于是發(fā)出第二控制信號，控制第二閥門32開啟，第三閥門33關(guān)閉，利用第二存儲裝置3中的光刻膠繼續(xù)作業(yè)。工作人員將故障解除后，第二檢測器61檢測到第二管道6上有光刻膠，再發(fā)出第二控制信號，控制第二閥門32關(guān)閉，第三閥門33開啟，整個裝置繼續(xù)正常工作。

參閱圖3，為了簡化整個光刻膠供應(yīng)裝置，可將第一氣體通道11與第二氣體通道21相連，連接方式可以采用焊接、膠接等固定連接，也可以選擇卡扣、螺紋等可拆卸連接，不限于此。并且，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解的是，第三氣體通道31也可以與第一氣體通道11和第二氣體通道21相連，避免了整個裝置需要多個接氣口的問題。

參閱圖4，優(yōu)選的，在第一管道5上設(shè)置第四閥門52，當(dāng)?shù)谝淮鎯ρb置1報空時，第一閥門22打開，第四閥門52關(guān)閉，在更換第一存儲裝置1或者在第一存儲裝置1內(nèi)添加光刻膠時，可避免大氣進(jìn)入消耗偵測裝置2污染光刻膠。同時，為了整個裝置的完善性和穩(wěn)定性，也可在第一氣體通道11上設(shè)置第五閥門12，整個裝置不在工作狀態(tài)時，可關(guān)閉第五閥門12，避免第一存儲器1內(nèi)光刻膠被污染。

如圖5，在消耗偵測裝置2上設(shè)置第一排泡管道23，在第二存儲裝置3上設(shè)置第二排泡管道34，并且，為了精簡結(jié)構(gòu)，將第一排泡管道23和第二排泡管道34連接，整個裝置中產(chǎn)生的氣泡可通過排泡管道排進(jìn)廢液處理裝置中，由此可以將消耗偵測裝置2和第二存儲裝置3中的氣泡排除，從而提高光刻膠工藝裝置內(nèi)的光刻膠的質(zhì)量與可靠性。當(dāng)然，第一排泡管道23和第二排泡管道34也可以不連接，兩個排泡管道上分別設(shè)置閥門，閥門在整個裝置工作時開啟。

優(yōu)選的，所述第二存儲裝置的容量遠(yuǎn)大于所述第一存儲裝置。光刻膠供應(yīng)裝置的前段出現(xiàn)故障無法繼續(xù)工作時，第二存儲裝置存儲了足夠的光刻膠繼續(xù)作業(yè)，為工作人員排除故障留出了足夠的時間。

為了提高光刻膠的性能，可以在消耗偵測裝置與第三閥門之間設(shè)置過濾裝置，濾除光刻膠中的微粒。

優(yōu)選的，第一閥門可以設(shè)計為一單向閥門，避免了消耗偵測裝置中氣泡進(jìn)入第二氣體通道，造成污染。

綜上，在本發(fā)明實施例提供的光刻膠供應(yīng)裝置中，具有如下的優(yōu)點(diǎn)：當(dāng)?shù)谝淮鎯ρb置報空時，第一閥門開啟，使泵浦能正常抽取光刻膠，避免了大氣通過第二氣體通道與消耗偵測裝置內(nèi)的光刻膠直接接觸，大氣中的灰塵、微粒、水蒸氣等污染光刻膠而產(chǎn)生缺陷，并且，光刻膠也不能通過第二氣體通道流出污染機(jī)臺；當(dāng)光刻膠供應(yīng)裝置前段發(fā)生故障無法工作時，第二閥門開啟，第三閥門關(guān)閉，利用第二存儲裝置中的光刻膠繼續(xù)作業(yè)，在工作人員排除故障時機(jī)臺產(chǎn)量不減少。

上述僅為本發(fā)明的優(yōu)選實施例而已，并不對本發(fā)明起到任何限制作用。任何所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的技術(shù)方案的范圍內(nèi)，對本發(fā)明揭露的技術(shù)方案和技術(shù)內(nèi)容做任何形式的等同替換或修改等變動，均屬未脫離本發(fā)明的技術(shù)方案的內(nèi)容，仍屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。