本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域,且特別涉及一種彩膜基板及其制作方法和液晶顯示面板。
背景技術(shù):
液晶面板包括陣列基板、彩膜基板以及夾設(shè)在彩膜基板和陣列基板之間的液晶層。陣列基板包括柵線、數(shù)據(jù)線、像素電極和薄膜晶體管,相互垂直的柵線和數(shù)據(jù)線定義了像素區(qū)域,薄膜晶體管和像素電極形成在像素區(qū)域內(nèi),柵線用于向薄膜晶體管提供開啟信號(hào),數(shù)據(jù)線用于向像素電極提供數(shù)據(jù)信號(hào),通過控制液晶的偏轉(zhuǎn)程度實(shí)現(xiàn)灰度顯示。彩膜基板(也稱彩色濾光片,colorfilter)包括黑矩陣、彩色濾光膜、平坦層和透明導(dǎo)電層,彩色濾光膜包括紅色、藍(lán)色和綠色三色濾光膜,彩膜基板上設(shè)置黑矩陣的主要目的是隔離彩色濾光膜,同時(shí)遮擋漏光區(qū)域的光線。
如圖1和2所示,現(xiàn)有技術(shù)的彩膜基板是在襯底1a上依次層疊黑矩陣2a、彩色濾光膜3a、透明導(dǎo)電層9a和平坦層4a。透明導(dǎo)電層9a覆蓋黑矩陣2a和彩色濾光膜3a并且側(cè)面外露,然后通過點(diǎn)銀膠6a把透明導(dǎo)電層9a和陣列基板側(cè)的導(dǎo)電墊5a電連接,導(dǎo)電墊5a可以接通公共電壓vcom,這樣在透明導(dǎo)電層9a和陣列基板側(cè)的像素電極之間產(chǎn)生一個(gè)垂直的電場(chǎng),作用到負(fù)性液晶上,可以使液晶分子保持在水平的狀態(tài),防止其翹曲。但是,現(xiàn)有技術(shù)的彩膜基板需要制作一層透明導(dǎo)電層9a,這會(huì)增加制作工藝和成本。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
有鑒于此,本發(fā)明提供一種不具有透明導(dǎo)電層而能在彩膜基板和陣列基板之間產(chǎn)生一個(gè)垂直的電場(chǎng),防止液晶分子翹曲的彩膜基板及其制作方法和液晶顯示面板。
本發(fā)明提供一種彩膜基板,包括襯底、黑矩陣以及彩色濾光膜,黑矩陣和彩色濾光膜形成在襯底上,彩色濾光膜對(duì)應(yīng)位于各個(gè)子像素區(qū)域內(nèi),黑矩陣對(duì)應(yīng)位于各個(gè)子像素區(qū)域的四周邊緣,黑矩陣由導(dǎo)電材料制成,黑矩陣用于通過導(dǎo)電膠與陣列基板側(cè)的導(dǎo)電墊導(dǎo)電連接。
進(jìn)一步地,黑矩陣為摻雜了導(dǎo)電離子的樹脂材料。
進(jìn)一步地,黑矩陣靠近面板邊緣一側(cè)的側(cè)表面外露,外露的側(cè)表面用于通過導(dǎo)電膠與導(dǎo)電墊導(dǎo)電連接。
進(jìn)一步地,彩膜基板還包括平坦層,平坦層覆蓋黑矩陣和彩色濾光膜。
進(jìn)一步地,平坦層靠近面板邊緣一側(cè)的長(zhǎng)度小于黑矩陣的長(zhǎng)度,黑矩陣未被平坦層覆蓋的部分露出,露出部分的黑矩陣用于通過導(dǎo)電膠與導(dǎo)電墊導(dǎo)電連接。
進(jìn)一步地,彩膜基板還包括上偏光板和靠近液晶層的配向?qū)?,上偏光板設(shè)置在彩膜基板的上方;彩膜基板由襯底、黑矩陣、彩色濾光膜、平坦層、上偏光板和配向?qū)咏M成。
進(jìn)一步地,本發(fā)明還提供一種彩膜基板的制作方法,包括步驟:
提供襯底;
在襯底的一側(cè)表面上制作形成黑矩陣和彩色濾光膜,彩色濾光膜對(duì)應(yīng)位于各個(gè)子像素區(qū)域內(nèi),黑矩陣對(duì)應(yīng)位于各個(gè)子像素區(qū)域的四周邊緣;
在黑矩陣和彩色濾光膜上制作形成平坦層,平坦層覆蓋黑矩陣和彩色濾光膜;
其中,黑矩陣由導(dǎo)電材料制成,黑矩陣用于通過導(dǎo)電膠與陣列基板側(cè)的導(dǎo)電墊導(dǎo)電連接。
進(jìn)一步地,黑矩陣為摻雜了導(dǎo)電離子的樹脂材料。
進(jìn)一步地,本發(fā)明還提供一種液晶顯示面板,包括彩膜基板、陣列基板和設(shè)置在彩膜基板和陣列基板之間的液晶層,陣列基板上設(shè)有導(dǎo)電墊,彩膜基板為如上所述的彩膜基板,彩膜基板上的黑矩陣通過導(dǎo)電膠與陣列基板上的導(dǎo)電墊導(dǎo)電連接。
進(jìn)一步地,導(dǎo)電墊接入陣列基板側(cè)的公共電極的公共電壓,液晶層中的液晶為負(fù)性液晶。
綜上所述,本發(fā)明公開的實(shí)施例中,采用低阻抗的導(dǎo)電材料制作形成黑矩陣,并通過導(dǎo)電膠將黑矩陣和陣列基板側(cè)的公共電極導(dǎo)電連接,不但可以省略掉彩膜基板側(cè)的透明導(dǎo)電層,在不改變效果的同時(shí),減小工藝制程和成本,而且還可以在顯示時(shí),在陣列基板側(cè)的像素電極和彩膜基板的黑矩陣之間產(chǎn)生一個(gè)垂直的電場(chǎng),使負(fù)性液晶保持在水平狀態(tài),防止其出現(xiàn)翹起,可以有效提升液晶的穿透率。
附圖說明
圖1為現(xiàn)有技術(shù)的液晶顯示面板的部分截面結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2為圖1中的彩膜基板的部分截面結(jié)構(gòu)示意圖。
圖3為本發(fā)明一實(shí)施例中的液晶顯示面板的部分截面結(jié)構(gòu)示意圖。
圖4為圖3中的彩膜基板的部分截面結(jié)構(gòu)示意圖。
圖5為本發(fā)明另一實(shí)施例中的彩膜基板的部分截面結(jié)構(gòu)示意圖。
圖6為本發(fā)明一實(shí)施例的彩膜基板的制作方法的流程圖。
具體實(shí)施方式
為更進(jìn)一步闡述本發(fā)明為達(dá)成預(yù)定發(fā)明目的所采取的技術(shù)方式及功效,以下結(jié)合附圖及實(shí)施例,對(duì)本發(fā)明的具體實(shí)施方式、結(jié)構(gòu)、特征及其功效,詳細(xì)說明如后。
圖3為本發(fā)明一實(shí)施例中的液晶顯示面板的部分截面結(jié)構(gòu)示意圖;圖4為圖3中的彩膜基板的部分截面結(jié)構(gòu)示意圖。
如圖3-4所示,本發(fā)明的一實(shí)施例的彩膜基板11由襯底1、黑矩陣2、彩色濾光膜3、平坦層4、上偏光板7和配向?qū)?組成,黑矩陣2由導(dǎo)電材料制成。
本實(shí)施例中,襯底1為玻璃基板;黑矩陣2為摻雜了導(dǎo)電離子的樹脂材料,具體地,黑矩陣2的材料為低阻抗的導(dǎo)電材料。
陣列基板12側(cè)設(shè)有導(dǎo)電墊5,導(dǎo)電墊5可以和陣列基板12側(cè)的公共電極(圖未示)導(dǎo)電連接。換言之,導(dǎo)電墊5可以接通公共電壓vcom,該公共電壓信號(hào)可以是直流電信號(hào)也可以是交流電信號(hào)。上偏光板7設(shè)置在彩膜基板11的上方;即設(shè)置于襯底1的遠(yuǎn)離黑矩陣2的一側(cè),配向?qū)?靠近于液晶層(圖未示)。
黑矩陣2和彩色濾光膜3形成在襯底1的內(nèi)側(cè)表面上,彩色濾光膜3對(duì)應(yīng)位于各個(gè)子像素區(qū)域內(nèi)。黑矩陣2對(duì)應(yīng)位于各個(gè)子像素區(qū)域的四周邊緣,用于遮光。平坦層4覆蓋黑矩陣2和彩色濾光膜3,使彩膜基板11靠近液晶層的一側(cè)表面平整。
黑矩陣2靠近面板邊緣一側(cè)的側(cè)表面21外露,外露的側(cè)表面21用于通過導(dǎo)電膠6,例如銀膠與導(dǎo)電墊5導(dǎo)電連接。
圖5為本發(fā)明另一實(shí)施例中的彩膜基板的部分截面結(jié)構(gòu)示意圖。
如圖5所示,本發(fā)明的另一實(shí)施例的彩膜基板11的平坦層4靠近面板邊緣一側(cè)的長(zhǎng)度小于黑矩陣2的長(zhǎng)度,這樣黑矩陣2有一部分未被平坦層4覆蓋而露出,該露出部分的黑矩陣2的底面可以通過導(dǎo)電膠6與導(dǎo)電墊5導(dǎo)電連接,增加了導(dǎo)電連接的穩(wěn)定性和導(dǎo)電效果。
圖6為本發(fā)明一實(shí)施例的彩膜基板的制作方法的流程圖。
如圖6所示,本發(fā)明還提供一種彩膜基板11的制作方法,包括如下步驟:
提供襯底1,其可以為玻璃基板;
在襯底1的一側(cè)表面上制作形成由導(dǎo)電材料例如摻雜了導(dǎo)電離子的樹脂材料制成的黑矩陣2和制作形成彩色濾光膜3,彩色濾光膜3對(duì)應(yīng)位于各個(gè)子像素區(qū)域內(nèi),黑矩陣2對(duì)應(yīng)位于各個(gè)子像素區(qū)域的四周邊緣,黑矩陣2和彩色濾光膜3的制作順序不限,可以是先制作黑矩陣2,再制作彩色濾光膜3,也可以是先制作彩色濾光膜3,再制作黑矩陣2;黑矩陣2采用摻雜了導(dǎo)電離子的樹脂材料,可以沿用現(xiàn)有制程來制作黑矩陣2,不會(huì)增加工藝難度;
在黑矩陣2和彩色濾光膜3上制作形成平坦層4,平坦層4覆蓋黑矩陣2和彩色濾光膜3,其中,黑矩陣2用于通過導(dǎo)電膠6與陣列基板12側(cè)的導(dǎo)電墊5導(dǎo)電連接。
進(jìn)一步地,該彩膜基板11的制作方法還包括在襯底1的遠(yuǎn)離黑矩陣2的一側(cè)設(shè)置上偏光板7,并在靠近液晶層的一側(cè)設(shè)置配向?qū)?。
另外,本發(fā)明還提供一種液晶顯示面板,包括彩膜基板11、陣列基板12和設(shè)置在彩膜基板11和陣列基板12之間的液晶層,陣列基板12上設(shè)有導(dǎo)電墊5,彩膜基板11為上述的彩膜基板11,彩膜基板11上的黑矩陣2通過導(dǎo)電膠6與陣列基板12上的導(dǎo)電墊5導(dǎo)電連接。具體地,陣列基板12上的導(dǎo)電墊5可以接入陣列基板12側(cè)的公共電極(圖未示)的公共電壓vcom,液晶層中的液晶可以為負(fù)性液晶。
由于液晶層中的液晶使用負(fù)性液晶,負(fù)性液晶的特性是在電場(chǎng)作用下將沿著垂直于電場(chǎng)線的方向旋轉(zhuǎn)。當(dāng)彩膜基板11與陣列基板12之間存在垂直電場(chǎng)時(shí),該垂直電場(chǎng)作用在負(fù)性液晶上,將使負(fù)性液晶保持在水平狀態(tài),而不發(fā)生傾斜方向偏轉(zhuǎn),防止其翹起。本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解,當(dāng)液晶的傾斜角度增大即翹起時(shí),液晶的穿透率將降低,會(huì)對(duì)顯示造成不利影響。
本實(shí)施例中,采用低阻抗的導(dǎo)電材料制作形成黑矩陣2,并通過導(dǎo)電膠6將黑矩陣2和陣列基板12側(cè)的公共電極導(dǎo)電連接,可以在顯示時(shí),在彩膜基板11側(cè)的黑矩陣2與陣列基板12側(cè)的像素電極之間產(chǎn)生一個(gè)垂直的電場(chǎng),使負(fù)性液晶保持在水平狀態(tài),防止其出現(xiàn)翹起,可以有效提升液晶的穿透率,本實(shí)施例不但可以省略掉彩膜基板11側(cè)的透明導(dǎo)電層,在不改變效果的同時(shí),減小工藝制程和成本。
以上僅是本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已,并非對(duì)本發(fā)明作任何形式上的限制,雖然本發(fā)明已以較佳實(shí)施例揭露如上,然而并非用以限定本發(fā)明,任何熟悉本專業(yè)的技術(shù)人員,在不脫離本發(fā)明技術(shù)方案范圍內(nèi),當(dāng)可利用上述揭示的技術(shù)內(nèi)容作出些許更動(dòng)或修飾為等同變化的等效實(shí)施例,但凡是未脫離本發(fā)明技術(shù)方案內(nèi)容,依據(jù)本發(fā)明的技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所作的任何簡(jiǎn)單修改、等同變化與修飾,均仍屬于本發(fā)明技術(shù)方案的范圍內(nèi)。