本發(fā)明涉及顯示裝置技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種液晶面板及制造方法。

背景技術(shù)：

在常規(guī)(norml)的設(shè)計中，光阻(ps)材料為透明材料，通過灰階(gtm)或者半灰階(htm)的光罩工藝做出高度不同的主間隔物(minps)和副間隔物(subps)。黑色矩陣層(mb)和主間隔物、副間隔物分成兩道獨立的制程，效率低下，成本高的缺陷。

多透過率掩膜板/光罩(mtm)復(fù)雜且昂貴，主間隔物、副間隔物通過黃光工藝較難調(diào)節(jié)，需要兼顧三個高度，三個透過率材料的光罩制作是瓶頸，以及制作成本高。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

針對上述問題中存在的不足之處，本發(fā)明提供一種液晶面板及制造方法。

為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供一種液晶面板，所述液晶面板的黑色矩陣層和設(shè)于所述黑色矩陣層上的間隔物一體形成，所述間隔物包括間隔設(shè)置的主間隔物和副間隔物。

如上所述的液晶面板，其中，所述主間隔物的高度大于所述副間隔物的高度。

如上所述的液晶面板，其中，還包括玻璃基板，所述玻璃基板上設(shè)有柵極，所述柵極由位于所述玻璃基板上的柵極絕緣層覆蓋，所述柵極絕緣層上設(shè)有半導(dǎo)體層，所述半導(dǎo)體層的兩側(cè)設(shè)有源極和漏極，所述柵極和所述漏極上設(shè)有鈍化層，所述鈍化層上設(shè)有色阻單元。

如上所述的液晶面板，其中，聚合物有機平坦層構(gòu)造在所述鈍化層和所述色阻單元的上部，所述黑色矩陣層構(gòu)造于所述聚合物有機平坦層上。

如上所述的液晶面板，其中，所述色阻單元具有呈島狀的結(jié)構(gòu)。

如上所述的液晶面板，其中，所述主間隔物和所述副間隔物分別與所述色阻單元的島狀的結(jié)構(gòu)相對設(shè)置。

如上所述的液晶面板，其中，還包括位于所述主間隔物和所述副間隔物上的ito層，所述主間隔物與所述ito層相抵接，所述ito層上設(shè)有玻璃板。

本發(fā)明還提供了一種液晶面板的制造方法，其中，所述方法包括以下步驟：

s1)在玻璃基板上依次構(gòu)造有柵極、柵極絕緣層、半導(dǎo)體層、源極、漏極和鈍化層；

s2)在所述鈍化層的上部構(gòu)造有色阻單元；

s3)聚合物有機平坦層構(gòu)造于所述鈍化層和所述色阻單元的上部；

s4)在所述聚合物有機平坦層上一體形成黑色矩陣層和間隔物，所述間隔物位于所述黑色矩陣層的上部，所述間隔物包括間隔設(shè)置的主間隔物和副間隔物，所述副間隔物位于所述主間隔物的一側(cè)；

s5)在所述間隔物上從下至上依次設(shè)置ito層和玻璃板。

如上所述的制造方法，其中，在所述步驟s4)中，，在所述聚合物有機平坦層上形成黑色層，所述黑色層上凸設(shè)有間隔設(shè)置的第一凸部和第二凸部，光通過全透過率掩膜照射所述第一凸部以形成所述主間隔物，光通過半透過率掩膜照射所述第二凸部以形成所述副間隔物，光通過全透過率掩膜或半透過率掩膜照射所述黑色層以形成所述黑色矩陣層。

如上所述的制造方法，其中，所述主間隔物的高度大于所述副間隔物的高度，所述主間隔物與所述ito層相抵接。

在上述技術(shù)方案中，本發(fā)明提供的液晶面板，與現(xiàn)有技術(shù)相比，通過將黑色矩陣層和主間隔物、副間隔物設(shè)計成材質(zhì)相同并通過一道工序制成；在主間隔物和副間隔物位置墊上島狀的色阻單元，主間隔物和副間隔物分別采用全透過率掩膜(ftm)和半透過率掩膜(htm)調(diào)控段差，形成兩個透過率的光罩從而形成本發(fā)明的主間隔物、副間隔物和黑色矩陣層的三段差結(jié)構(gòu)，本發(fā)明的液晶面板的制造過程中能有效地降低制程和材料開發(fā)難度，且節(jié)約光罩成本和制程成本。

附圖說明

在下文中將基于實施例并參考附圖來對本發(fā)明進(jìn)行更詳細(xì)的描述。

圖1為本申請的一個實施例中液晶面板的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2為本申請的色阻單元的俯視圖。

具體實施方式

下面將結(jié)合附圖對本發(fā)明作進(jìn)一步說明。

如圖1所示，圖1示意性地顯示一種液晶面板，包括：黑色矩陣層6和間隔物，其中，間隔物包括主間隔物9和副間隔物7，在本發(fā)明中，主間隔物9的高度大于副間隔物7的高度；并且主間隔物9和副間隔物7和黑色矩陣層6采用同一種材料一體制成，采用這樣的結(jié)構(gòu)設(shè)計可以通過全透過率掩膜和半透過率掩膜調(diào)控黑色矩陣層的段差，及通過形成兩個透過率的光罩來形成本發(fā)明的主間隔物、副間隔物和黑色矩陣層的三段差結(jié)構(gòu)，本發(fā)明的液晶面板的制造過程中能有效地降低制程和材料開發(fā)難度，且節(jié)約光罩成本和制程成本。

在一個實施例中，還包括玻璃基板1(glass)，在玻璃基板1上依次構(gòu)造有柵極10、柵極絕緣層2(gateinsulator)和鈍化層3(passivation)，柵極10由柵極絕緣層2覆蓋，柵極絕緣層2上設(shè)有半導(dǎo)體層21，半導(dǎo)體層21的兩側(cè)分別設(shè)有源極22和漏極23，鈍化層3覆蓋源極22和漏極23。柵極絕緣層2為了絕緣柵極10，鈍化層3鈍化的機理可用薄膜理論來解釋，即認(rèn)為鈍化是由于金屬與氧化性物質(zhì)作用，作用時在金屬表面生成一種非常薄的、致密的、覆蓋性能良好的、牢固地吸附在金屬表面上的鈍化膜，這層膜成獨立相存在，通常是氧化金屬的化合物。它起著把金屬與腐蝕介質(zhì)完全隔開的作用，防止金屬與腐蝕介質(zhì)接觸，從而使金屬基本停止溶解形成鈍態(tài)達(dá)到防腐蝕的作用。色阻單元4構(gòu)造在鈍化層3上部，在一具體實施例中，如圖2所示，色阻單元4采用島狀設(shè)計，島狀與條狀設(shè)計相區(qū)別，條狀設(shè)計在對于紅(r)或綠(g)或藍(lán)(b)是整條連續(xù)的，而島狀在柵極線(gateline)處是斷開的，色阻在面板當(dāng)中是一個像素、一個像素的孤島，因此稱為島狀設(shè)計，另外，色阻單元4的島狀結(jié)構(gòu)的凸出部41與主間隔物9和副間隔物7上下相對設(shè)置，也即主間隔物9和副間隔物7正下方的色阻單元4是處于保留的狀態(tài)。在本申請中，色阻單元4由r、g、b構(gòu)成，在柵極線處r、g、b斷開，與主間隔物9和副間隔物7相對的位置，色阻單元上設(shè)有凸出部41，也可稱為在主間隔物9和副間隔物7位置下方墊上色阻。

在一個實施例中，聚合物有機平坦層5(有機高分子膜)構(gòu)造在鈍化層3和色阻單元4的上部。聚合物有機平坦層5以有機高分子聚合物為材料制成的薄膜。可是選擇性分離膜，如離子交換膜、微孔過濾膜、超過濾膜、液膜或液晶膜等，應(yīng)用范圍廣泛。

在一個實施例中，黑色矩陣層6設(shè)置在聚合物有機平坦層5上，其中在本發(fā)明中黑色矩陣層6與主間隔物9、副間隔物7一體形成，具體地，黑色層成形時設(shè)計為臺階形，也即黑色層上突起部分別對應(yīng)本發(fā)明的主間隔物和副間隔物，在一具體實施例中，在聚合物有機平坦層5上形成黑色層，黑色層上凸設(shè)有第一凸部(也可稱為第一突起部)和第二凸起部(也可稱為第一突起部)，兩個凸起部的高度約為1微米，光通過全透過率掩膜(ftm)照射第一凸部以形成主間隔物9，光通過半透過率掩膜(htm)照射所述第二凸部以形成所述副間隔物，光通過全透過率掩膜(ftm)或半透過率掩膜(htm)照射所述黑色層以形成黑色矩陣層6，也即臺階形的黑色矩陣層與間隔物之間的高度差大于1微米，因此使用光罩對臺階形的黑色層進(jìn)行處理時，與主間隔物9相對應(yīng)的光罩為全透過率掩膜，與副間隔物7相對應(yīng)的光罩區(qū)域為半透過率掩膜，由于成形初期，黑色層為臺階形，且臺階形的黑色矩陣層與間隔物之間的高度差大于1微米，因此與黑色矩陣層6相對應(yīng)的光罩區(qū)域既可以使用全透過率掩膜，也可以使用與副間隔物7一樣的半透過率掩膜，從而降低本發(fā)明的液晶面板的制造過程中能有效地降低制程和材料開發(fā)難度，且節(jié)約光罩成本和制程成本。

在一個實施例中，還包括設(shè)置在主間隔物9、副間隔物7上的ito層15，ito層15上設(shè)有玻璃板8(cfglass)，在一具體實施例中，主間隔物9與ito層相抵接，從而起到支撐上下玻璃基板的作用。

進(jìn)一步地，如圖1所示，黑色矩陣層6下部延伸的部分的外側(cè)也由ito層15包圍，從而避免黑色矩陣層6與源極22接觸，起到隔絕保護的作用。

主間隔物9與副間隔物7為黑色矩陣層6一體形成，其可以看作是黑色矩陣層6上的凸起，其中與主間隔物9和副間隔物7位置底下的色阻單元4有保留，主間隔物9采用全透過率掩膜，副間隔物7采用半透過率掩膜，可調(diào)整半透過率掩膜的透過率來調(diào)控副間隔物7高度。

在一具體實施例中，本發(fā)明的主間隔物9、副間隔物7和黑色矩陣層6均采用bps材料制成，其中bps材料為現(xiàn)有技術(shù)中制備bm層所使用的材料與制備透明的ps擋墻所需的材料相混合在一起而制成的材料，在一實施例中，bps材料為摻入黑色材料(主要是碳)的丙烯樹脂和玻璃纖維混合制成的材料。

進(jìn)一步地，bps材料在柵極線呈條狀覆蓋，起到黑色矩陣層6遮光的作用。黑色矩陣層6可以選擇采用全透過率掩膜(ftm)，此時由于設(shè)計的臺階黑色矩陣層6與主間隔物9段差>1微米，黑色矩陣層6也可以選擇與副間隔物7一樣的半透過率掩膜(htm)。以上結(jié)構(gòu)可以使光罩使用了兩個透過率的掩膜，實現(xiàn)主間隔物9、副間隔物7和黑色矩陣層6三個段差，主間隔物9和副間隔物7底下墊的色阻單元4不局限顏色。彩色濾光片(rgb)三種顏色的色阻單元4均可使用。

在一個實施例中，一種液晶面板的制造方法，該方法包括以下步驟：

s1)在玻璃基板上依次構(gòu)造有柵極、柵極絕緣層、半導(dǎo)體層、源極、漏極和鈍化層；

s2)在鈍化層的上部構(gòu)造有色阻單元；

s3)聚合物有機平坦層構(gòu)造于鈍化層和色阻單元的上部；

s4)在聚合物有機平坦層上一體形成黑色矩陣層和間隔物，間隔物位于黑色矩陣層的上部；

s5)在間隔物上依次設(shè)置ito層和玻璃板，玻璃板位于所述ito層的上方。

進(jìn)一步地，在步驟s4)中，在聚合物有機平坦層上形成黑色層，黑色層上凸設(shè)有間隔設(shè)置的第一凸部和第二凸部，光通過全透過率掩膜照射第一凸部以形成主間隔物，光通過半透過率掩膜照射第二凸部以形成副間隔物，光通過全透過率掩膜或半透過率掩膜照射黑色層以形成所述黑色矩陣層。

進(jìn)一步地，所述間隔物包括間隔設(shè)置的主間隔物和副間隔物，所述副間隔物位于所述主間隔物的一側(cè)，所述主間隔物的高度大于所述副間隔物的高度，所述主間隔物與所述ito層相抵接。。

雖然已經(jīng)參考優(yōu)選實施例對本發(fā)明進(jìn)行了描述，但在不脫離本發(fā)明的范圍的情況下，可以對其進(jìn)行各種改進(jìn)并且可以用等效物替換其中的部件。尤其是，只要不存在結(jié)構(gòu)沖突，各個實施例中所提到的各項技術(shù)特征均可以任意方式組合起來。本發(fā)明并不局限于文中公開的特定實施例，而是包括落入權(quán)利要求的范圍內(nèi)的所有技術(shù)方案。