技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開了一種窄帶濾光片鍍膜工藝，其包括如下步驟：在空白玻璃基底的一側(cè)表面鍍制主膜膜堆，使所述主膜膜堆與空白玻璃基底構(gòu)成等效基底，所述等效基底在中心波長處的等效折射率與所述空白玻璃基底折射率相等；在所述等效基底的一側(cè)表面鍍制第一副膜膜堆、在另一側(cè)表面鍍制第二副膜膜堆。本發(fā)明能夠避免副膜膜層厚度相對主膜膜層的厚度過厚，使得基底兩側(cè)的應(yīng)力基本平衡，減少基片變形，保證成像的質(zhì)量。

技術(shù)研發(fā)人員：羅新華
受保護的技術(shù)使用者：上海兆九光電技術(shù)有限公司
技術(shù)研發(fā)日：2017.06.07
技術(shù)公布日：2017.09.22