本發(fā)明涉及成像裝置技術領域，尤其涉及一種處理盒的密封方法。

背景技術：

在諸如激光打印機之類的電子照相成像裝置中，通過激光器發(fā)出的激光束掃描感光鼓并在感光鼓上形成靜電潛像，由處理盒利用其內(nèi)儲存的碳粉將靜電潛像變?yōu)榭梢姷奶挤蹐D像，然后將碳粉圖像通過轉印裝置轉印到打印介質上。在此過程中，感光鼓是通過充電裝置(如充電輥)在其表面形成靜電電位，被激光束曝光位置的感光鼓表面的電位低于未經(jīng)曝光位置的電位從而形成靜電潛像。附著在顯影輥上的碳粉顆粒通過顯影偏壓轉到靜電潛像上，從而形成可見的碳粉圖像。

圖1為現(xiàn)有技術所采用的處理盒的剖面示意圖，由圖知，處理盒100包括：顯影框架10和清潔框架20，顯影框架10和清潔框架20均為注塑成型；顯影框架10包括儲存碳粉t1的粉倉14、顯影輥11、將碳粉t1送到顯影輥11表面上的送粉輥12和調節(jié)顯影輥11上碳粉層厚度的出粉刀13，顯影輥11、送粉輥12和出粉刀13均可拆卸地安裝在顯影框架10上，出粉刀13包括出粉刀刀片13a和出粉刀固定架13b，如圖5所示，出粉刀13通過出粉刀固定架13b與顯影框架10固定安裝；清潔框架20包括儲存從感光鼓21表面清潔下來的廢粉t2的廢粉倉24、感光鼓21、給感光鼓21充電的充電輥22和清潔經(jīng)轉印后殘留在感光鼓21表面上碳粉的清潔刮刀23，感光鼓21、充電輥22和清潔刮刀23均可拆卸地安裝在清潔框架20上，清潔刮刀23包括清潔刮刀刀片23a和清潔刮刀固定架23b，如圖7所示，清潔刮刀23通過清潔刮刀固定架23b與清潔框架20固定安裝。

圖2和圖3分別為顯影框架和清潔框架的立體示意圖，由圖知，10a為出粉刀13的安裝端面，10b為顯影輥11的安裝端面，20a為清潔刮刀固定架23b的安裝位，20b為清潔刮刀兩側端部安裝位。在現(xiàn)有技術中，為防止出粉刀安裝端面10a與出粉刀固定架13b之間、顯影輥安裝端面10b與顯影輥11之間、清潔刮刀兩側端部安裝位20b與清潔刮刀兩側端部之間和清潔刮刀固定架安裝位20a與清潔刮刀固定架23b之間漏粉，在出粉刀安裝端面10a、顯影輥安裝端面10b、清潔刮刀安裝位20a和20b處設置密封件防止漏粉。

圖4為現(xiàn)有技術中顯影框架所采用的密封方法的部分結構示意圖，由圖知，在出粉刀安裝端面10a上設置密封件16(通常采用海綿條)，在顯影輥安裝端面上設置密封件15(通常采用毛氈)，圖5為顯影輥11與出粉刀13安裝到設置有密封件的顯影框架上的立體示意圖；圖6為現(xiàn)有技術中清潔框架所采用的密封方法的部分結構示意圖，由圖知，清潔刮刀固定架23a與清潔框架20之間是通過在清潔刮刀固定架安裝位20a設置密封件25(通常采用海綿條)進行密封的，因海綿、毛氈只能根據(jù)密封位置的大小沖切成規(guī)則形狀，所以清潔刮刀23兩端部與清潔框架20之間及清潔刮刀刀片兩端部拐角處必須采用分段式密封，即密封清潔刮刀23兩端是通過在清潔刮刀安裝位20b設置密封件26(通常采用海綿條)進行密封、兩端拐角處設置密封件27(通常采用毛氈)進行密封，密封件27的形狀需與清潔刮刀刀片的兩端拐角的形狀相同，圖7為清潔刮刀23安裝在設置有密封件的清潔框架上的立體示意圖。

上述密封件通常是通過背膠或者打膠的方式粘貼在所要密封的位置面上。

現(xiàn)有技術采用海綿、毛氈的密封方法存在的缺點：

為達到好的密封效果，要求密封件在框架的密封位置的周圍與框架無縫隙接觸才能有效地防止碳粉泄露，因海綿、毛氈只能根據(jù)密封位置的大小沖切成規(guī)則形狀，且海綿、毛氈在受到壓力時只能上下彈，在粘貼端部、與框架其他連接的位置很容易產(chǎn)生縫隙而導致漏粉；而且，在存在重疊部分的不同密封位置也只能采用分段式的密封，這種分段式密封中，不同的密封件之間同樣會存在縫隙而導致漏粉；且要求粘貼面平整，否則也會產(chǎn)生縫隙。

因為處理盒的密封位置空間通常都較窄小，為防止與注塑件之間產(chǎn)生縫隙，海綿在粘貼時必須拉直使其保持平整且注塑件粘貼表面要提前清潔干凈，而海綿受力拉伸易產(chǎn)生不可復原的變形，海綿變形就會嚴重影響密封效果，變形的海綿就必須更換掉造成浪費，這樣在窄小的空間操作又要達到理想的密封效果，對生產(chǎn)工藝及操作人員提出了更高的要求，不利于生產(chǎn)效率的提高及生產(chǎn)成本的控制。

技術實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于提供一種處理盒的密封方法，用以解決現(xiàn)有技術中處理盒中因密封件的制作不良而導致密封不嚴而容易漏粉的技術問題。

本發(fā)明提供一種處理盒的密封方法，包括：

將可注塑的密封材料按照所要密封位置的形狀同尺寸一次注塑形成一體的密封件；

將所述一體的密封件安裝到處理盒需要密封的位置進行密封，當受到被密封元件的擠壓時，所述密封件可向四周擴散。

進一步的，所述密封件由熱縮性彈性體材料制成。

進一步的，所述密封件至少包括顯影框架密封件和清潔框架密封件中的一個。

進一步的，所述密封件包括顯影架密封件時，所述顯影框架密封件一體成型。

進一步的，所述被密封元件為清潔刮刀。

進一步的，所述密封件包括清潔框架密封件時，所述清潔框架密封件一體成型。

進一步的，所述被密封元件為出粉刀。

本發(fā)明提供的處理盒的密封方法，由于密封件采用了一體注塑成型的制作方法，可以與被密封元件隨形匹配，使密封嚴密而不容易出現(xiàn)泄露，解決了現(xiàn)有處理盒中因密封件的制作而導致密封不嚴而容易漏粉的技術問題。

本發(fā)明的附加方面的優(yōu)點將在下面的描述中部分給出，部分將從下面的描述中變得明顯，或通過本發(fā)明的實踐了解到。

附圖說明

本發(fā)明上述的和/或附加的方面和優(yōu)點從下面結合附圖對實施例的描述中將變得明顯和容易理解，其中：

圖1為現(xiàn)有處理盒的剖面示意圖。

圖2為現(xiàn)有處理盒中顯影框架的立體示意圖。

圖3為現(xiàn)有處理盒中清潔框架的立體示意圖。

圖4為現(xiàn)有處理盒中顯影框架所采用的密封方法的部分結構示意圖。

圖5為現(xiàn)有處理盒中顯影輥與出粉刀安裝到設置有密封件的顯影框架上的立體示意圖。

圖6為現(xiàn)有處理盒中清潔框架所采用的密封方法的部分結構示意圖。

圖7為現(xiàn)有處理盒中清潔刮刀安裝在設置有密封件的清潔框架上的立體示意圖。

圖8為本發(fā)明中顯影框架所采用的密封件的立體示意圖。

圖9為本發(fā)明中清潔框架所采用的密封件的立體示意圖。

圖10為本發(fā)明中所采用的密封方法的顯影框架的立體示意圖。

圖11為本發(fā)明中所采用的密封方法的清潔框架的立體示意圖。

圖12為本發(fā)明所采用的密封方法的清潔框架安裝示意圖。

圖13為本發(fā)明所采用的密封方法的清潔框架安裝后的立體示意圖。

具體實施方式

下面詳細描述本發(fā)明的實施例，所述實施例的示例在附圖中示出，其中自始至終相同或類似的標號表示相同或類似的元件或具有相同或類似功能的元件。下面通過參考附圖描述的實施例是示例性的，旨在用于解釋本發(fā)明，而不能理解為對本發(fā)明的限制。

一種可拆地卸安裝在電子照相成像裝置中的處理盒包括：處理盒主框架和密封件，所述處理盒主框架至少包括顯影框架和、清潔框架中的一個和密封件，密封件包括顯影框架密封件和清潔框架密封件，顯影框架和清潔框架均為注塑成型；顯影框架包括儲存碳粉t1的粉倉、顯影輥、將碳粉t1送到顯影輥表面上的送粉輥和調節(jié)顯影輥上碳粉層厚度的出粉刀，顯影輥、送粉輥和出粉刀均可拆卸地安裝在顯影框架上，出粉刀包括出粉刀刀片和出粉刀固定架，出粉刀通過出粉刀固定架與顯影框架固定安裝；清潔框架包括儲存從感光鼓表面清潔下來的廢粉t2的廢粉倉、感光鼓、給感光鼓充電的充電輥和清潔經(jīng)轉印后殘留在感光鼓表面上碳粉的清潔刮刀，感光鼓、充電輥和清潔刮刀均可拆卸地安裝在清潔框架上，清潔刮刀包括清潔刮刀刀片和清潔刮刀固定架。顯影框架密封件包括與出粉刀安裝端面匹配的部分和與顯影輥兩端安裝的端面分別匹配的部分，與出粉刀安裝段面匹配的部分和與顯影輥兩端安裝的端面分別匹配的部分均一體成型。清潔框架密封件包括與清潔刮刀固定架匹配的部分和與清潔刮刀兩端匹配的部分，與清潔刮刀固定架匹配的部分和與清潔刮刀兩端匹配的部分均一體成型。

圖8和圖9分別為本發(fā)明中顯影框架和清潔框架所采用的密封件的立體示意圖，由圖知，顯影框架密封件30包括出粉刀密封部分30a和顯影輥端部密封部分30b，清潔框架密封件50為清潔刮刀端部密封件，顯影框架密封件30和清潔框架密封件50是通過將可注塑的密封材料按照所要密封位置的形狀同尺寸一體注塑成型，相比于現(xiàn)有技術而言，通過一體注塑密封方法可得到復雜形狀的密封件，能更好地保證密封件與密封位置尺寸的一致性，且在相互之間存在連接關系的不同密封位置可以通過注塑形成一體的密封件，避免不同的密封件之間因為存在縫隙而導致漏粉。當受到被密封元件的擠壓時，密封件可向四周擴散，使密封件與部件之間完全密封。顯影框架密封件30可以設置有定位突起30c，清潔框架密封件50的端部可以設置有定位突起50a，顯影框架10和清潔框架20上與定位突起30c和50a相對應的位置設置有定位孔(圖中未示出)，定位突起30c和50a塞到相應的定位孔(圖中未示出)內(nèi)，一方面可以在顯影框架密封件30和清潔框架密封件50安裝時起定位作用，另一方面可以使顯影框架密封件30和清潔框架密封件50與注塑件(顯影框架、清潔框架)之間貼合更緊密，使密封效果更好。清潔框架密封件50上還設置有密封槽50b，清潔刮刀刀片23a的兩端部的拐角處于密封槽50b內(nèi)實現(xiàn)密封，如圖12和圖13所示。

圖10和圖11分別為本發(fā)明所采用的密封方法的顯影框架和清潔框架的立體示意圖，由圖知，顯影框架密封件30和清潔框架密封件50直接放在所要密封的位置，因為顯影框架密封件30和清潔框架密封件50的形狀及尺寸是根據(jù)所要密封的位置的形狀和尺寸一體注塑的，所以在安裝密封件的時候不需要嚴格調整密封件的位置和形狀來滿足密封要求，且密封件的一體結構可以在滿足密封要求的前提下簡化密封步驟從而降低生產(chǎn)工藝要求，使生產(chǎn)效率提高。

圖12和圖13分別為本發(fā)明所采用的密封方法的清潔框架安裝示意圖和安裝后的立體示意圖。

本發(fā)明采用的密封材料為熱縮性彈性體，相比于現(xiàn)有技術所采用的密封材料(海綿、毛氈)，一方面，熱縮性彈性體具有可注塑加工的特性，可以按照密封要求注塑成復雜的形狀；另一方面，熱縮性彈性體是具有高回彈性的軟體材料，當受到處理盒中的部件(顯影輥、出粉刀、清潔刮刀等)的壓力時，不僅是上下彈，還可以向四周溢出、擴散，使密封件與被密封元件(顯影輥、出粉刀、清潔刮刀等)和注塑件(顯影框架、清潔框架)之間完全密封，從而有效地防止碳粉泄露。

在本發(fā)明的描述中，參考術語“一個實施例”、“一些實施例”、“示例”、“具體示例”、或“一些示例”等的描述意指結合該實施例或示例描述的具體特征、結構、材料或者特點包含于本發(fā)明的至少一個實施例或示例中。在本說明書中，對上述術語的示意性表述不必須針對的是相同的實施例或示例。而且，描述的具體特征、結構、材料或者特點可以在任一個或多個實施例或示例中以合適的方式結合。此外，在不相互矛盾的情況下，本領域的技術人員可以將本說明書中描述的不同實施例或示例以及不同實施例或示例的特征進行結合和組合。

最后應說明的是：以上各實施例僅用以說明本發(fā)明的技術方案，而非對其限制；盡管參照前述各實施例對本發(fā)明進行了詳細的說明，本領域的普通技術人員應當理解：其依然可以對前述各實施例所記載的技術方案進行修改，或者對其中部分或者全部技術特征進行等同替換；而這些修改或者替換，并不使相應技術方案的本質脫離本發(fā)明各實施例技術方案的范圍。