技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供了一種陣列基板，包括基板、多條掃描線、設(shè)于掃描線上的有源層、與掃描線交錯(cuò)設(shè)置的多條數(shù)據(jù)線、與有源層接觸的漏電極、形成于漏電極上的鈍化層及形成于鈍化層上的像素電極，所述掃描線上位于數(shù)據(jù)線交錯(cuò)的位置處分別開有掃描線孔，所述數(shù)據(jù)線上與掃描線交錯(cuò)的這部分線體中，線體的一部分線體與掃描線孔重疊，線體的另一部分線體與有源層重疊并相互搭接。本發(fā)明還提供了一種陣列基板的制作方法。與現(xiàn)有技術(shù)相比，通過在掃描線上與數(shù)據(jù)線交錯(cuò)的位置處開設(shè)掃描線孔，使掃描線與數(shù)據(jù)線重疊的面積減小，從而減小了寄生電容進(jìn)而減小真空電壓對(duì)面板顯示的影響，這樣還可以在提高像素電極開口率的同時(shí)，保持掃描線的電阻阻值不變。

技術(shù)研發(fā)人員：林碧芬;甘啟明
受保護(hù)的技術(shù)使用者：深圳市華星光電技術(shù)有限公司
技術(shù)研發(fā)日：2017.06.19
技術(shù)公布日：2017.09.12