本發(fā)明涉及蓋板技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種蓋板。本發(fā)明還涉及一種電子設(shè)備。

背景技術(shù)：

目前，陶瓷被廣泛的應(yīng)用到蓋板行業(yè)，同時行業(yè)內(nèi)對陶瓷蓋板特性的研究也越來越多。以陶瓷制作的蓋板呈現(xiàn)出亮色，具有良好的外觀色澤效果，因而深受用戶青睞。然而，陶瓷蓋板制作工藝和流程控制要求高，其生產(chǎn)成本高。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

鑒于此，本發(fā)明的目的是提供一種蓋板，能夠達到陶瓷蓋板的外觀色澤效果，且相比陶瓷蓋板可降低成本。本發(fā)明還提供一種電子設(shè)備。

為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供如下技術(shù)方案：

一種蓋板，包括基板和鍍膜層；

所述鍍膜層覆蓋在所述基板一側(cè)表面，所述鍍膜層由至少兩種氧化物材料膜層疊加形成，所述至少兩種氧化物材料膜層具有不同的折射率；

所述鍍膜層使入射光入射到所述蓋板，經(jīng)過各膜層折射后形成的反射光呈現(xiàn)的色度區(qū)域在cielab表色系統(tǒng)中滿足：40≤l坐標值≤50，-2≤a坐標值≤2，-2≤b坐標值≤2。

可選地，所述鍍膜層覆蓋在所述基板背向觀察一側(cè)的表面上。

可選地，所述鍍膜層覆蓋在所述基板朝向觀察一側(cè)的表面上。

可選地，所述氧化物材料包括氧化硅、氧化鈦、氧化鋁、氧化鈮或者氧化鉭。

可選地，所述鍍膜層包括按層依次覆蓋在所述基板表面上的氧化鈦膜層、氧化硅膜層、氧化鈦膜層、氧化硅膜層、氧化鈦膜層和氧化硅膜層。

可選地，各膜層的厚度依次為3nm-16nm、64nm-86nm、28nm-48nm、5nm-17nm、18nm-37nm和120nm-140nm。

可選地，所述鍍膜層包括按層依次覆蓋在所述基板表面上的氧化鈦膜層、氧化硅膜層和氧化鈦膜層。

可選地，各膜層的厚度依次為3nm-16nm、32nm-51nm和16nm-34nm。

可選地，還包括覆蓋在所述蓋板朝向觀察一側(cè)表面上的防指紋膜。

一種電子設(shè)備，包括以上所述的蓋板。

由上述技術(shù)方案可知，本發(fā)明所提供的蓋板及電子設(shè)備，蓋板包括基板和鍍膜層，所述鍍膜層覆蓋在基板一側(cè)表面，所述鍍膜層由至少兩種氧化物材料膜層疊加形成，并且所述至少兩種氧化物材料膜層各自具有不同的折射率?；诙鄬咏橘|(zhì)膜層對入射光的干涉作用，通過采用折射率滿足要求的介質(zhì)膜層，并調(diào)整膜層厚度和膜層數(shù)，使入射光入射到蓋板，經(jīng)過鍍膜層折射后形成的反射光呈現(xiàn)的色度區(qū)域在cielab表色系統(tǒng)中滿足：40≤l坐標值≤50，-2≤a坐標值≤2，-2≤b坐標值≤2，從而使所述蓋板表現(xiàn)出陶瓷色澤效果。與陶瓷蓋板相比，本發(fā)明蓋板能夠達到陶瓷蓋板的外觀色澤效果，且相比可降低成本。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為本發(fā)明實施例提供的一種蓋板的示意圖；

圖2為本發(fā)明又一實施例提供的一種蓋板的示意圖。

具體實施方式

本發(fā)明提供一種蓋板，能夠達到陶瓷蓋板的外觀色澤效果，且相比陶瓷蓋板可降低成本。

本發(fā)明所提供的一種蓋板，包括基板和鍍膜層；

所述鍍膜層覆蓋在所述基板一側(cè)表面，所述鍍膜層由至少兩種氧化物材料膜層疊加形成，所述至少兩種氧化物材料膜層具有不同的折射率；

所述鍍膜層使入射光入射到所述蓋板，經(jīng)過各膜層折射后形成的反射光呈現(xiàn)的色度區(qū)域在cielab表色系統(tǒng)中滿足：40≤l坐標值≤50，-2≤a坐標值≤2，-2≤b坐標值≤2。

本發(fā)明所述蓋板，在基板一側(cè)表面覆蓋有鍍膜層，所述鍍膜層由至少兩種氧化物材料膜層交替疊加形成，并且至少兩種氧化物材料膜層各自具有不同的折射率?；诙鄬咏橘|(zhì)膜層對入射光的干涉作用，通過采用折射率滿足要求的介質(zhì)膜層，并調(diào)整膜層厚度和膜層數(shù)，使入射光入射到蓋板，經(jīng)過鍍膜層折射后形成的反射光呈現(xiàn)的色度區(qū)域在cielab表色系統(tǒng)中滿足：40≤l坐標值≤50，-2≤a坐標值≤2，-2≤b坐標值≤2，從而使所述蓋板表現(xiàn)出陶瓷色澤效果。與陶瓷蓋板相比，本發(fā)明蓋板能夠達到陶瓷蓋板的外觀色澤效果，且相比可降低成本。

為了使本技術(shù)領(lǐng)域的人員更好地理解本發(fā)明中的技術(shù)方案，下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒景l(fā)明中的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都應(yīng)當(dāng)屬于本發(fā)明保護的范圍。

其次，本發(fā)明結(jié)合示意圖進行詳細描述，在詳述本發(fā)明實施例時，為便于說明，表示結(jié)構(gòu)的剖面圖會不依一般比例作局部放大，而且所述示意圖只是示例，其在此不應(yīng)限制本發(fā)明保護的范圍。此外，在實際制作中應(yīng)包含長度、寬度及深度的三維空間尺寸。

在本發(fā)明蓋板的一種實施例中，請參考圖1，所述蓋板包括基板10和鍍膜層11。

其中，所述基板10可以是玻璃基板、塑膠基板或者金屬基板，可以理解的是，也可以是其它種類的基板，均在本發(fā)明保護范圍內(nèi)。優(yōu)選的，基板10采用高硬度基板，可提高蓋板硬度。

本實施例中，所述鍍膜層11覆蓋在所述基板10背向觀察一側(cè)的表面上，即在將所述蓋板安裝到電子設(shè)備時所稱的背面。

所述鍍膜層11由至少兩種氧化物材料膜層疊加形成，所述至少兩種氧化物材料膜層具有不同的折射率。入射光照射到蓋板上，通過基板后入射至鍍膜層，入射光經(jīng)過各介質(zhì)膜層折射，發(fā)生多膜層光干涉，通過調(diào)節(jié)膜層厚度和層數(shù)，使出射的反射光表現(xiàn)出陶瓷色澤，即使形成的反射光呈現(xiàn)的色度區(qū)域在cielab表色系統(tǒng)中滿足：40≤l坐標值≤50，-2≤a坐標值≤2，-2≤b坐標值≤2。

所述氧化物材料膜層可以是金屬氧化物材料膜層或者非金屬氧化物材料膜層。可選的，所述氧化物材料包括氧化硅、氧化鈦、氧化鋁、氧化鈮或者氧化鉭，或者也可以采用其它種類的氧化物介質(zhì)材料，也均在本發(fā)明保護范圍內(nèi)。

本鍍膜層11中可采用兩種折射率不同的氧化物材料膜層，或者也可采用三種或者更多種類的具有不同折射率的氧化物材料膜層。

所述蓋板還設(shè)置有油墨層12，所述油墨層12覆蓋在所述蓋板10背向觀察一側(cè)表面，用于達到遮光效果?？蛇x的，所述油墨層12可以是黑色油墨層或者白色油墨層。通過鍍膜層11與油墨層12色澤搭配，可以更加凸顯出陶瓷般的優(yōu)雅色澤效果。

在實際制作過程中，可先測量出陶瓷固有的顏色參數(shù)l*a*b*值，例如，黑陶瓷l*44.2，a*0，b*-1；白陶瓷l*87.8，a*-0.2，b*-1.1。然后，通過鍍膜工藝在基板表面鍍制膜層，根據(jù)陶瓷顏色參數(shù)值，調(diào)節(jié)鍍制膜層厚度和層數(shù)，使蓋板表現(xiàn)出陶瓷色澤。再進一步鍍制油墨層。

可選的，所述鍍膜層11的厚度范圍為100～300nm，層數(shù)在2～5之間。在一種具體實例中，所述鍍膜層11包括按層依次覆蓋在所述基板10表面上的氧化鈦膜層、氧化硅膜層、氧化鈦膜層、氧化硅膜層、氧化鈦膜層和氧化硅膜層。其中，各膜層的厚度依次為3nm-16nm、64nm-86nm、28nm-48nm、5nm-17nm、18nm-37nm、120nm-140nm。經(jīng)過顏色效果測試，本實施例蓋板從不同角度觀察，可達到與陶瓷蓋板顏色一致。

在本發(fā)明蓋板的又一種實施例中，請參考圖2，所述蓋板包括基板20和鍍膜層21。

其中，鍍膜層21覆蓋在所述基板20朝向觀察一側(cè)的表面上，即在將所述蓋板安裝到電子設(shè)備時所稱的正面。

所述鍍膜層21由至少兩種氧化物材料膜層疊加形成，所述至少兩種氧化物材料膜層具有不同的折射率。入射光入射到鍍膜層21，入射光經(jīng)過各介質(zhì)膜層折射，發(fā)生多膜層光干涉，通過調(diào)節(jié)膜層厚度和層數(shù)，使出射的反射光表現(xiàn)出陶瓷色澤，具體使形成的反射光呈現(xiàn)的色度區(qū)域在cielab表色系統(tǒng)中滿足：40≤l坐標值≤50，-2≤a坐標值≤2，-2≤b坐標值≤2。

所述氧化物材料膜層可以是金屬氧化物材料膜層或者非金屬氧化物材料膜層?？蛇x的，所述氧化物材料包括氧化硅、氧化鈦、氧化鋁、氧化鈮或者氧化鉭，或者也可以采用其它種類的氧化物介質(zhì)材料，也均在本發(fā)明保護范圍內(nèi)。

本鍍膜層21中可采用兩種折射率不同的氧化物材料膜層，或者采用三種或者更多種類的具有不同折射率的氧化物材料膜層。

本實施例蓋板，還設(shè)置油墨層22，油墨層22覆蓋在蓋板20背向觀察一側(cè)表面，用于達到遮光效果。

本實施例中，所述基板20、所述油墨層22的材料及具體設(shè)置方式可參考上一實施例所述，在此不再贅述。

可選的，所述鍍膜層21的厚度范圍為100～300nm，層數(shù)在2～5之間。在一種具體實例中，所述鍍膜層21包括按層依次覆蓋在所述基板20表面上的氧化鈦膜層、氧化硅膜層和氧化鈦膜層。其中，各膜層的厚度依次為3nm-16nm、32nm-51nm和16nm-34nm。經(jīng)過顏色效果測試，本實施例蓋板從不同角度觀察，可達到與陶瓷蓋板顏色一致。

優(yōu)選的，在上述各實施例中，所述蓋板還包括覆蓋在所述蓋板朝向觀察一側(cè)表面上的防指紋膜。防指紋膜af通過化學(xué)反應(yīng)與基板或者鍍膜層反應(yīng)并完美結(jié)合，從而獲得順滑的觸摸感和防指紋效果，指紋更容易去除。

本發(fā)明蓋板能夠達到陶瓷蓋板的外觀色澤效果，滿足用戶使用需要，并且極大限度地降低了生產(chǎn)成本，相對陶瓷蓋板性價比更高。

相應(yīng)的，本發(fā)明實施例還提供一種電子設(shè)備，包括以上所述的蓋板。

本實施例電子設(shè)備，其蓋板包括基板和鍍膜層，所述鍍膜層覆蓋在基板一側(cè)表面，所述鍍膜層由至少兩種氧化物材料膜層疊加形成，并且所述至少兩種氧化物材料膜層各自具有不同的折射率，基于多層介質(zhì)膜層對入射光的干涉作用，通過采用折射率滿足要求的介質(zhì)膜層，并調(diào)整膜層厚度和膜層數(shù)，使入射光入射到蓋板，經(jīng)過鍍膜層折射后形成的反射光呈現(xiàn)的色度區(qū)域在cielab表色系統(tǒng)中滿足：40≤l坐標值≤50，-2≤a坐標值≤2，-2≤b坐標值≤2，從而使蓋板表現(xiàn)出陶瓷色澤效果。因此本電子設(shè)備蓋板能夠達到陶瓷蓋板的外觀色澤效果，并且降低了成本。

以上對本發(fā)明所提供的一種蓋板及電子設(shè)備進行了詳細介紹。本文中應(yīng)用了具體個例對本發(fā)明的原理及實施方式進行了闡述，以上實施例的說明只是用于幫助理解本發(fā)明的方法及其核心思想。應(yīng)當(dāng)指出，對于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明原理的前提下，還可以對本發(fā)明進行若干改進和修飾，這些改進和修飾也落入本發(fā)明權(quán)利要求的保護范圍內(nèi)。