本實(shí)用新型涉及光刻技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種低壓干燥設(shè)備。

背景技術(shù)：

液晶顯示技術(shù)日趨成熟，液晶顯示面板以成為目前市場(chǎng)上各種尺寸顯示面板中的主流產(chǎn)品。在液晶顯示面板制程中，光刻工藝是基板制作中的關(guān)鍵制程。光刻工藝是在基板表面薄膜上涂布一層光刻膠，光刻膠經(jīng)過干燥、曝光、顯影和烘烤等步驟，形成抗刻蝕的圖形，再將基板刻蝕后，使基板表面薄膜形成相應(yīng)的圖形的工藝。在光刻工藝中，通常采用低壓干燥設(shè)備對(duì)光刻膠進(jìn)行干燥，以去除光刻膠內(nèi)含有的有機(jī)溶劑，使光刻膠固化?，F(xiàn)有低壓干燥設(shè)備，包括能夠密封的腔室、抽真空裝置和多個(gè)呈矩陣排布的頂指，在腔室內(nèi)，頂指水平支撐待干燥基板。抽真空裝置對(duì)本體內(nèi)部抽氣，以去除光刻膠內(nèi)含有的有機(jī)溶劑。

現(xiàn)有低壓干燥設(shè)備的頂指與待干燥基板的接觸面積較小，使待干燥基板在自身重力的作用下發(fā)生較大形變，影響光刻膠在待干燥基板上的均勻分布，從而在頂指對(duì)應(yīng)的位置產(chǎn)生mura不良。而且，在抽真空裝置抽氣過程中，較大形變的待干燥基板極易破損，降低產(chǎn)品良率。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中存在的上述不足，提供一種低壓干燥設(shè)備，用以至少部分解決待干燥基板形變較大的問題。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供一種低壓干燥設(shè)備，包括用于容置待干燥基板的腔室，所述腔室包括腔室本體，所述腔室本體的底壁上設(shè)置有多個(gè)用于水平支撐待干燥基板的頂指，所述頂指上設(shè)置有用于增大支撐面積的支撐部件。

優(yōu)選的，所述支撐部件設(shè)置在位于所述腔室本體的中間位置的頂指上。

優(yōu)選的，所述支撐部件包括支撐條，所述支撐條設(shè)置于所述頂指的頂端。

優(yōu)選的，所述支撐條為至少兩根，且交叉設(shè)置于所述頂指的頂端。

優(yōu)選的，所述各支撐條交叉設(shè)置的交叉點(diǎn)與所述各支撐條的中點(diǎn)重合,且相鄰的所述支撐條的夾角相同。

優(yōu)選的，所述支撐條的上表面呈圓弧狀。

優(yōu)選的，所述低壓干燥設(shè)備還包括吹氣裝置和第一氣孔，所述第一氣孔貫穿所述支撐部件和頂指，并與位于頂指底端的所述第一氣孔的一端相連。

優(yōu)選的，所述低壓干燥設(shè)備還包括抽真空裝置，所述腔室本體底壁上設(shè)置有多個(gè)第二氣孔，所述第二氣孔與所述抽真空裝置相連，且位于所述頂指之間。

優(yōu)選的，所述低壓干燥設(shè)備還包括用于校正所述待干燥基板位置的對(duì)位裝置，所述對(duì)位裝置設(shè)置于所述腔室本體的外側(cè)。

優(yōu)選的，所述對(duì)位裝置包括第一伸縮部、用于夾持所述待干燥基板的邊緣的夾持部和水平帶動(dòng)所述夾持部進(jìn)出所述腔室的第二伸縮部，所述第一伸縮部和第二伸縮部與所述夾持部相連；

所述夾持部包括垂直設(shè)置的第一限位件和第二限位件；

所述第一伸縮部用于，同時(shí)帶動(dòng)所述第一限位件與第二限位件與所述待干燥基板的邊緣相抵靠。

本實(shí)用新型具有以下有益效果：

本實(shí)用新型提供一種低壓干燥設(shè)備，通過在頂指上設(shè)置用于增大支撐面積的支撐部件，增大頂指與待干燥基板的接觸面積，減小頂指作用在待干燥基板上的壓強(qiáng)，避免待干燥基板發(fā)生形變，使光刻膠在待干燥基板上均勻分布，從而改善頂指mura不良。而且，在抽真空裝置抽氣過程中，也可以避免因待干燥基板發(fā)生形變導(dǎo)致的破損，進(jìn)而提高產(chǎn)品良率。

附圖說明

圖1為本實(shí)施例提供的低壓干燥設(shè)備的側(cè)視結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本實(shí)施例提供的低壓干燥設(shè)備的俯視結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為本實(shí)施例提供的頂指與支撐部件的結(jié)構(gòu)放大示意圖。

圖例說明：

1、腔室 2、腔室本體 3、蓋體 4、頂指 5、待干燥基板

6、支撐部件 7、支撐條 8、第一氣孔 10、第二氣孔

11、升降裝置 12、對(duì)位裝置 13、第一伸縮部 14、第二伸縮部

15、夾持部 16、第一限位件 17、第二限位件 18、連接件

19、密封件

具體實(shí)施方式

為使本領(lǐng)域的技術(shù)人員更好地理解本實(shí)用新型的技術(shù)方案，下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型提供的一種低壓干燥設(shè)備進(jìn)行詳細(xì)描述。

本實(shí)用新型提供一種低壓干燥設(shè)備，結(jié)合圖1和圖2所示，所述低壓干燥設(shè)備包括腔室1，腔室1用于容置待干燥基板5。腔室1包括腔室本體2，腔室本體2的底壁上設(shè)置有多個(gè)頂指4，頂指4用于水平支撐待干燥基板5。頂指4上設(shè)置有支撐部件6，支撐部件6用于增大支撐待干燥基板5的面積。具體的，腔室1還包括蓋體3，腔室本體2和蓋體3可以形成密閉的空間，待干燥基板5容置在該密閉的空間內(nèi)。設(shè)置于頂指4頂端的支撐部件6與待干燥基板5的下表面接觸，用于水平支撐待干燥基板5。

本實(shí)用新型提供的低壓干燥設(shè)備，通過在頂指4上設(shè)置支撐部件6，增大與待干燥基板5的接觸面積，減小頂指4作用在待干燥基板5上的壓強(qiáng)，避免待干燥基板5發(fā)生形變，使光刻膠在待干燥基板5上均勻分布，從而改善頂指mura不良。而且，在低壓干燥過程中，也可以避免因待干燥基板5形變較大導(dǎo)致的破損，進(jìn)而提高產(chǎn)品良率。

為了保證腔室1的密閉性，如圖1所示，在蓋體3上與腔室本體2相對(duì)的表面設(shè)置有密封件19，優(yōu)選的，密封件19可以選用密封膠圈。

如圖2所示，頂指4呈矩陣均勻分布于腔室本體2上，優(yōu)選的，位于腔室本體2中間位置的頂指4上設(shè)置有支撐部件6，而位于腔室本體2邊緣位置的頂指4上不再設(shè)置支撐部件6，這樣，可以避免支撐部件6與腔室本體2的側(cè)壁發(fā)生干涉。需要說明的是，如果位于腔室本體2邊緣位置的頂指4與腔室本體2的邊緣的距離大于支撐部件6的長度，全部的頂指4上均可以設(shè)置支撐部件6。

優(yōu)選的，支撐部件6均勻分布在腔室本體2的底壁上，以便待干燥基板5均勻受力，減小待干燥基板5整體形變的效果更佳。

以下結(jié)合圖2和圖3對(duì)支撐部件6的具體結(jié)構(gòu)進(jìn)行詳細(xì)說明。

如圖2和圖3所示，支撐部件6包括支撐條7，支撐條7設(shè)置于頂指4的頂端。具體的，支撐條7水平設(shè)置于頂指4的頂端，支撐條7的上表面與待干燥基板5的下表面接觸。優(yōu)選的，支撐條7的中點(diǎn)位于頂指4的頂端，這樣，支撐部件6對(duì)待干燥基板5的支撐效果更佳。

優(yōu)選的，支撐條7的長度為15-20cm。

優(yōu)選的，支撐條7至少兩根，且交叉設(shè)置于頂指4的頂端，設(shè)置多根支撐條7可以增加支撐部件6與待干燥基板5的接觸面積，減小待干燥基板5形變的效果更好。在本實(shí)用新型實(shí)施例中，如圖2、3所示，支撐條7為兩根。

優(yōu)選的，各支撐條7交叉設(shè)置的交叉點(diǎn)與各支撐條7的中點(diǎn)重合，且相鄰的支撐條7的夾角相同。具體的，各支撐條7的中點(diǎn)均與頂指4的頂點(diǎn)重合，且各支撐條7以該中點(diǎn)中心對(duì)稱，這樣可以均勻分散支撐部件6作用在待干燥基板5上的壓力，進(jìn)一步的，減小支撐部件6作用在待干燥基板5上的壓強(qiáng)。

支撐條7的材質(zhì)可以選用耐磨性好且成本低的材質(zhì)，例如，合金、石英或陶瓷等。

為了避免支撐部件6與待干燥基板5發(fā)生真空吸附，影響待干燥基板5的卸載。結(jié)合圖1和圖3所示，支撐條7的上表面呈圓弧狀。具體的，如圖3所示，支撐條7為圓柱體。需要說明的是，未設(shè)置支撐部件6的頂指4的上表面呈圓弧狀，以避免頂指4與待干燥基板5發(fā)生真空吸附。

進(jìn)一步的，為了解決支撐部件6與待干燥基板5發(fā)生真空吸附問題，結(jié)合圖2和圖3所示，本實(shí)施例提供的低壓干燥設(shè)備還包括吹氣裝置(圖中未繪示)和第一氣孔8，第一氣孔8貫穿支撐部件6和頂指4，并與位于頂指4底端的第一氣孔8的一端相連。具體的，吹氣裝置將氣體輸送至位于頂指4底端的第一氣孔8的一端，氣體從位于支撐部件6頂端的第一氣孔8的另一端吹出，使待干燥基板5上浮。

由于待干燥基板5在低壓干燥過程中會(huì)產(chǎn)生抖動(dòng)，使待干燥基板5的位置發(fā)生偏移，在后續(xù)制程中極易產(chǎn)生破損，影響產(chǎn)品良率。為避免待干燥基板5位置發(fā)生偏移，需要將待干燥基板5固定在腔室1內(nèi)。在本實(shí)用新型中，通過抽真空裝置產(chǎn)生的負(fù)壓實(shí)現(xiàn)待干燥基板5的固定。

如圖2所示，本實(shí)施例提供的低壓干燥設(shè)備還可以包括抽真空裝置(圖中未繪示),腔室本體2的底壁上設(shè)置有多個(gè)第二氣孔10，第二氣孔10與抽真空裝置相連，且位于頂指4之間。具體的，第二氣孔10均勻的設(shè)置在腔室本體2的底壁上，抽真空裝置通過第二氣孔10對(duì)腔室1內(nèi)部進(jìn)行抽氣，使待干燥基板5處于低壓環(huán)境。在真空裝置抽氣過程中，由于第二氣孔10位于待干燥基板5的下方，待干燥基板5上表面的壓力大于下表面的壓力，從而將待干燥基板5牢固固定在支撐部件6上，避免待干燥基板5發(fā)生位置偏移。而且，第二氣孔10位于待干燥基板5的下方，還可以避免第二氣孔10附近不均勻的氣流影響上表面光刻膠的均勻分布，進(jìn)而提高產(chǎn)品良率。

需要說明的是，本實(shí)用新型實(shí)施例提供的低壓干燥設(shè)備還可以包括填充裝置(圖中未繪示)，填充裝置與第二氣孔10相連。在待干燥基板5低壓干燥完成后，填充裝置通過第二氣孔10向腔室1內(nèi)充氣，以使腔室1內(nèi)恢復(fù)標(biāo)準(zhǔn)大氣壓。

進(jìn)一步的，如圖1所示，本實(shí)施例提供的低壓干燥設(shè)備還可以包括升降裝置11，升降裝置11設(shè)置于腔室本體2的下方，且與頂指4的下端固定連接，用于帶動(dòng)頂指4沿豎直方向運(yùn)動(dòng)。具體的，升降裝置11可以帶動(dòng)頂指4和待干燥基板5沿豎直方向上升，待干燥基板5放置在支撐部件6上之后，升降裝置11可以帶動(dòng)頂指4沿豎直方向下降，使待干燥基板5鄰近腔室本體2的底壁，蓋體3與腔室本體2密封后，可以開始對(duì)待干燥基板5進(jìn)行干燥。

通過設(shè)置升降裝置11，可以減小腔室1內(nèi)部的空間，從而可以降低低壓干燥設(shè)備的功耗，還可以提高待干燥基板5上光刻膠的均勻性。

為了進(jìn)一步避免待干燥基板5發(fā)生位置偏移，結(jié)合圖1和圖2所示，本實(shí)施例提供的低壓干燥設(shè)備還可以包括對(duì)位裝置12，對(duì)位裝置12設(shè)置于腔室本體2的外側(cè)，用于校正待干燥基板5的位置。

以下結(jié)合圖2對(duì)對(duì)位裝置12的具體結(jié)構(gòu)進(jìn)行詳細(xì)說明。

如圖2所示，對(duì)位裝置12包括第一伸縮部13、第二伸縮部14和夾持部15，夾持部15包括垂直設(shè)置的第一限位件16和第二限位件17。夾持部15用于夾持待干燥基板5的邊緣，第二伸縮部14用于水平帶動(dòng)夾持部15進(jìn)出腔室1，第一伸縮部13用于同時(shí)帶動(dòng)第一限位16與第二限位件17與待干燥基板5的邊緣相抵靠。具體的，第一伸縮部13為兩個(gè)，第二伸縮部14通過連接件18同時(shí)與兩個(gè)第一伸縮部13連接。第一限位件16和第二限位件17分別與待干燥基板5的兩個(gè)相互垂直的邊緣對(duì)應(yīng)，兩個(gè)第一伸縮部13分別與第一限位件16和第二限位件17對(duì)應(yīng)連接。

優(yōu)選的，如圖2所示，對(duì)位裝置12可以為兩個(gè)，沿待干燥基板5的對(duì)角線方向設(shè)置，兩個(gè)對(duì)位裝置12的第一限位件16和第二限位件17同時(shí)與待干燥基板5的四個(gè)邊緣相抵靠，通過同時(shí)調(diào)整待干燥基板5的四個(gè)邊緣的位置，校正待干燥基板5的位置。

需要說明的是，為避免對(duì)位裝置12在校正待干燥基板5位置的過程中，待干燥基板5的下表面與支撐部件6和頂指4發(fā)生摩擦，可以先利用吹氣裝置使待干燥基板5上浮，再利用對(duì)位裝置12校正待干燥基板5的位置。

在本實(shí)施例中，頂指4的個(gè)數(shù)、間距和分布，以及第一氣孔8和第二氣孔10的大小和分布，需要根據(jù)待干燥基板5的尺寸而設(shè)定。為了適應(yīng)不同外部關(guān)聯(lián)設(shè)備和完成不同工藝過程，上述參數(shù)均可以在一定范圍內(nèi)進(jìn)行調(diào)整，該可控的調(diào)整范圍也屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。

為了清楚說明本實(shí)用新型的技術(shù)方案，以下結(jié)合圖1和圖2對(duì)本實(shí)施例提供的低壓干燥設(shè)備的工作過程進(jìn)行詳細(xì)說明。

控制蓋體3打開，并利用升降裝置11帶動(dòng)頂指4上升，將待干燥基板5放置于支撐部件6上。需要說明的是，在將待干燥基板5放置在支撐部件6上之后，可以利用吹氣裝置和對(duì)位裝置12對(duì)待干燥基板5的位置進(jìn)行校準(zhǔn)，但為提高產(chǎn)能，也可以省略該校準(zhǔn)步驟。利用升降裝置11帶動(dòng)頂指4以及上方的待干燥基板5下降，將蓋體3與腔室本體2形成密閉的腔室1，并通過抽真空裝置對(duì)待干燥基板5進(jìn)行低壓干燥。在低壓干燥完成后，利用填充裝置將腔室1恢復(fù)標(biāo)準(zhǔn)大氣壓，控制蓋體3打開，利用升降裝置11帶動(dòng)頂指4以及上方的待干燥基板5上升，利用吹氣裝置和對(duì)位裝置12對(duì)待干燥基板5的位置進(jìn)行校準(zhǔn)，并將待干燥基板5從支撐部件6上卸載。

低壓干燥設(shè)備的工藝參數(shù)，例如抽真空裝置的抽氣速率和保持氣壓，以及填充裝置充入氣體的種類等，可以根據(jù)不同外部關(guān)聯(lián)設(shè)備和完成不同工藝過程，在一定范圍內(nèi)進(jìn)行調(diào)整，該可控參數(shù)的調(diào)整范圍也屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。

可以理解的是，以上實(shí)施方式僅僅是為了說明本發(fā)明的原理而采用的示例性實(shí)施方式，然而本發(fā)明并不局限于此。對(duì)于本領(lǐng)域內(nèi)的普通技術(shù)人員而言，在不脫離本發(fā)明的精神和實(shí)質(zhì)的情況下，可以做出各種變型和改進(jìn)，這些變型和改進(jìn)也視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。